JP2000319386A - シリコーン含有ポリイミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法 - Google Patents
シリコーン含有ポリイミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法Info
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Abstract
イミド樹脂、該ポリイミド樹脂の原料となるシリコーン
含有ポリアミック酸およびそれらの製造方法を提供す
る。 【解決手段】 環状オルガノシロキサンを含有してなる
シリコーン含有ポリイミド樹脂、該ポリイミド樹脂の原
料となるシリコーン含有ポリアミック酸およびそれらの
製造方法。
Description
イミド樹脂、シリコーン含有ポリアミック酸およびそれ
らの製造方法に関し、詳しくは、耐熱性と可撓性に優れ
たシリコーン含有ポリイミド樹脂、該ポリイミド樹脂の
原料となるシリコーン含有ポリアミック酸およびそれら
の製造方法に関する。
優れていることから、成形材料,フィルム,コーティン
グ剤として広く使用されている。しかしポリイミド樹脂
は、一般に、成形加工性、可撓性、溶剤溶解性に劣るた
め、ソフトセグメントとして分子鎖両末端にアミノ基を
有するポリオルガノシロキサンを共重合させる方法が提
案されている(特開平4−36321号公報参照)。し
かし、このようにして得られたシリコーン含有ポリイミ
ド樹脂は、ポリオルガノシロキサン鎖が長いために、高
温環境下ではポリオルガノシロキサン鎖の解裂反応によ
り低分子量の環状シロキサンが発生し、その結果、耐熱
性が低下するという問題点があった。このため、ケイ素
原子数が2個のジシロキサン鎖を共重合させたシリコー
ン含有ポリイミド樹脂が提案されている(特開昭58−
27722号公報および特開昭61−118424号公
報参照)が、2個のケイ素原子では可撓性の改善効果が
不十分であるという欠点があった。これらのことから、
優れた耐熱性と可撓性を有するポリイミド樹脂が望まれ
ていた。
した結果、特定の化学構造を有するオルガノシロキサン
を共重合させることにより上記問題点を解決できること
を見出し、本発明に到達した。即ち、本発明の目的は、
耐熱性と可撓性に優れたシリコーン含有ポリイミド樹
脂、該ポリイミド樹脂の原料となるシリコーン含有ポリ
アミック酸およびそれらの製造方法を提供することにあ
る。
(1)で表わされる構成単位0.1〜100モル%と構
造式(2)で表わされる構成単位99.9〜0モル%か
らなるシリコーン含有ポリイミド樹脂と、 構造式(1):
価の有機基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同
種もしくは異種の1価炭化水素基であり、Xは炭素原子
数2以上のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、mおよびnは0または1〜3の整数であ
り、かつ、(m+n)は1〜6の整数である。) 構造式(2):
価の有機基であり、Ar3は少なくとも1個の芳香族環
を有する2価の有機基である。) 下記構造式(A)で表わされる構成単位0.1〜100
モル%と構造式(B)で表わされる構成単位99.9〜
0モル%からなるシリコーン含有ポリアミック酸、およ
び、それらの製造方法に関する。 構造式(A):
り、Zは水素原子または式:−SiR3(式中、Rは前
記と同じである。)で表されるシリル基である。] 構造式(B):
ポリイミド樹脂について説明する。本発明のシリコーン
含有ポリイミド樹脂は、下記構造式(1)で表わされる
構成単位のみ、または下記構造式(1)および(2)で
表わされる構成単位から構成される。 構造式(1):
を有する4価の有機基であり、下記式で表される基が例
示される。
基であり、下記式で示される基が例示される。
価炭化水素基であり、具体的には、メチル基,エチル
基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基等
のアルキル基;フェニル基,トリル基,キシリル基等の
アリール基;ベンジル基,フェネチル基等のアラルキル
基が例示される。Xは炭素原子数2以上のアルキレン基
またはアルキレンオキシアルキレン基であり、具体的に
は、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ペンチレ
ン基,ヘキシレン基,エチレンオキシプロピレン基,エ
チレンオキシブチレン基が例示される。 mおよびnは
0または1〜3の整数であり、かつ、(m+n)は1〜
6の整数であることが必要である。中でも(m+n)は
2であることが好ましく、このときのmとnは1である
ことがより好ましい。
おいて、上記構成単位の共重合比率は、構造式(1)で
表される構成単位:構造式(2)で表される構成単位
が、0.1〜100:99.9〜0モル%の範囲であ
り、好ましくは1〜100:99〜0モル%の範囲であ
る。またこのシリコーン含有ポリイミド樹脂の25℃に
おける性状は固体状であるが、使用時に溶媒に溶解させ
て液状としてもよい。その固有粘度(N−メチルピロリ
ドン溶液の25℃における測定値)は、通常、0.1〜
3.0dl/gの範囲であり、好ましくは、0.2〜
2.0dl/gの範囲である。
は、例えば、下記構造式(A)で表わされる構成単位
0.1〜100モル%と構造式(B)で表わされる構成
単位99.9〜0モル%からなる本発明のシリコーン含
有ポリアミック酸を、加熱脱水環化してイミド化するこ
とにより製造することができる。 構造式(A):
前記と同じである。Zは水素原子または式:−SiR3
(式中、Rは前記と同じである。)で表されるシリル基
である。加熱脱水環化する方法としては、該ポリアミッ
ク酸の溶液を直接基材に塗布して加熱処理してフィルム
状にする方法や、該ポリアミック酸に水と相溶しない非
極性の有機溶媒を配合して共沸脱水を行った後、生成し
た水を除去してから基材に塗布して加熱処理する方法が
挙げられる。このときの加熱処理条件は50〜400℃
の温度範囲であることが好ましい。またこのシリコーン
含有ポリアミック酸の固有粘度(N−メチルピロリドン
溶液の25℃における測定値)は、通常、0.1〜3.
0dl/gの範囲であり、好ましくは、0.2〜2.0
dl/gの範囲である。
ク酸は、例えば、下記構造式(C)で表されるテトラカ
ルボン酸2無水物と、構造式(D)および(E)で表さ
れる2価アミン系化合物とを重合させることにより製造
することができる。 構造式(C):
価の有機基であり、前記Ar1およびAr2で例示したの
と同じ基が挙げられる。Ar5は少なくとも1個の芳香
族環を有する2価の有機基であり、前記Ar3で例示し
たのと同じ基が挙げられる。R,X,Z,mおよびnは
前記と同じである。
ン酸2無水物としては、例えば、下記式で表される化合
物が挙げられる。
2価アミン系化合物としては、例えば、下記式で表され
る化合物が挙げられる。
る。]で表されるケイ素原子結合水素原子含有環状オル
ガノシロキサンとトリメチルシリルアリルアミンとを白
金系触媒の存在下で付加反応させた後、脱トリメチルシ
リル化することにより製造することができる(特開平4
−323222号公報参照)。
化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙
げられる。
ン酸2無水物と構造式(D)および(E)で表される2
価アミン系化合物との重合反応は従来周知の方法で行う
ことができる。例えば、0〜80℃の低温度条件下、該
テトラカルボン酸2無水物と2価アミン系化合物とを極
性溶媒中で反応させる方法が挙げられる。このときの添
加順序は特に限定されないが、例えば、テトラカルボン
酸2無水物を極性溶媒中に投入し、次いで構造式(D)
で表されるシリコーン系2価アミン系化合物を加えて反
応させた後、構造式(E)で表される2価アミン系化合
物をそのまま、または極性溶媒溶液として投入して反応
させる方法が好ましい。上記反応において使用される極
性溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン,N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルア
セトアミド,ジメチルスルホキシド,テトラヒドロフラ
ン等またはそれらの混合物が用いられる。またこれらの
不活性溶媒に加えて、構造式(D)で表されるシリコー
ン系2価アミン系化合物の溶解性を高める目的で、非極
性の溶媒、例えば、トルエン,キシレン等を適宜加えて
もよい。また、本発明の目的を損なわない範囲であれ
ば、さらに下記構造式(F)で表される直鎖状のシリコ
ーン系2価アミン系化合物等を加えてもよい。 構造式(F):
の置換もしくは非置換の2価炭化水素基であり、pは0
〜80である。さらに、末端停止剤あるいは分子量調節
剤として、無水フタル酸等の2価カルボン酸無水物やア
ニリン等の1価アミン系化合物を使用してもよい。
イミド樹脂は、ポリイミド樹脂本来の優れた機械特性,
耐熱性,可撓性を有する上に、撥水性,密着性,溶剤溶
解性,成形加工性が良好であるという利点を有する。特
に、共重合成分である特定の環状オルガノシロキサンが
高温環境下でも揮発しないため、耐熱性と可撓性の両方
に優れるという特徴を有する。このため、本発明のシリ
コーン含有ポリイミド樹脂は、コーテイング用,フィル
ム用,成形用,接着剤として好適に使用される。
施例中、粘度は25℃における測定値である。尚、得ら
れたポリイミド樹脂の熱分解温度,接触角,弾性率は下
記の方法に従って測定した。 ○熱分解温度 熱重量分析装置[島津製作所製;TGA
−50]を用いて、窒素気流下、15℃/分の昇温速度
でポリイミド樹脂を加熱し、加熱減量が1重量%となっ
た温度と5重量%となった温度を測定して、これらを熱
分解温度とした。 ○接触角 厚さ約60μmの試料を作製し、これの水に
対する接触角を、自動接触角計(協和界面科学社製;C
A−Z型)を用いて測定した。 ○弾性率 厚さ約60μm、幅1mmの試料を作製し、
これを引張試験機(オリエンテック社製;RTC−13
25A)を用いてクロスヘッド50mm/分で引っ張
り、変位が1%での弾性率を測定した。
を備えた500mlの4つ口フラスコに、3,3',4,
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物17.5
9gを仕込み、乾燥したN−メチルピロリドン120g
を加えて溶解した。次いで室温下、乾燥した式:
8.00g(混合比率 50:50 mol%)を滴下し
た。滴下終了後、室温下で1時間攪拌した。次いでこれ
に、2,2−ビス(2−ジアミノフェノキシフェニル)
プロパン14.52gを乾燥したN−メチルピロリドン
80gに溶解した溶液を、氷冷下で徐々に滴下した。滴
下終了後、氷冷下で1時間攪拌し、さらに室温下で4時
間攪拌を行って、下記構造式(A−1)、(A−2)お
よび(B)で表される構成単位からなるシリコーン含有
ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液を得た。
−2)で表される構成単位:構造式(B)で表される構
成単位の共重合比(モル%)は17.5:17.5:6
5であった。このようにして得られたシリコーン含有ポ
リアミック酸のN−メチルピロリドン中の固有粘度を測
定したところ、0.35dl/gであった。このシリコ
ーン含有ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液を
テフロン基板上に塗布して、窒素気流下で100℃から
180℃まで徐々に加熱してフィルムを作成した。次い
でこのフィルムをテフロン板からはがしてガラス支持台
上に移し、窒素気流下で200℃から300℃まで徐々
に加熱して、下記構造式(1)、(2)および(3)で
表される構成単位からなるフィルム状のシリコーン含有
ポリイミド樹脂を得た。
表される構成単位:構造式(3)で表される構成単位の
共重合比(モル比)は17.5:17.5:65であっ
た。このようにして得られたシリコーン含有ポリイミド
樹脂フィルムの外観を目視にて測定した。またその熱分
解温度、接触角および弾性率を測定し、これらの結果を
表1に示した。
を備えた500mlの4つ口フラスコに、3,3',4,
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物19.
9gを仕込み、乾燥したN−メチルピロリドン120g
を加えて溶解した。次いで、室温下にて、式:
を徐々に滴下した。滴下終了後、1時間攪拌した。次い
でこれに、2,2−ビス(2−ジアミノフェノキシフェ
ニル)プロパン12.10gを乾燥したN−メチルピロ
リドン80gに溶解した溶液を、氷冷下で徐々に滴下し
た。滴下終了後、氷冷下で1時間攪拌し、さらに室温下
で4時間攪拌を行って、下記構造式(A)および(B)
で表される構成単位からなるシリコーン含有ポリアミッ
ク酸のN−メチルピロリドン溶液を得た。
表される構成単位の共重合比(モル比)は52:48で
あった。このようにして得られたシリコーン含有ポリア
ミック酸のN−メチルピロリドン中の固有粘度を測定し
たところ、0.4dl/gであった。このシリコーン含
有ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液をテフロ
ン基板上に塗布して、窒素気流下で100℃から180
℃まで徐々に加熱してフィルムを作成した。次いでこの
フィルムをテフロン板からはがしてガラス支持台上に移
し、窒素気流下で200℃から300℃まで徐々に加熱
して、下記構造式(1)および(2)で表される構成単
位からなるフィルム状のシリコーン含有ポリイミド樹脂
を得た。
表される構成単位の共重合比(モル比)は52:48で
あった。このようにして得られたシリコーン含有ポリイ
ミド樹脂フィルムの外観を目視にて測定した。またその
熱分解温度、接触角および弾性率を測定し、これらの結
果を表1に示した。
を備えた500mlの4つ口フラスコに、3,3',4,
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物16.
12gを仕込み、乾燥したN−メチルピロリドン120
gを加えて溶解した。次いでこれに、2,2−ビス(2
−ジアミノフェノキシフェニル)プロパン20.52g
を乾燥したN−メチルピロリドン80gに溶解した溶液
を、氷冷下で徐々に滴下した。滴下終了後、氷冷下で1
時間攪拌し、さらに室温下で4時間攪拌を行って、下記
構造式(A)で表される構成単位からなるポリアミック
酸のN−メチルピロリドン溶液を得た。
ロリドン中の固有粘度を測定したところ、 0.4 d
l/gであった。このポリアミック酸のN−メチルピロ
リドン溶液をテフロン基板上に塗布して、窒素気流下で
100℃から180℃まで徐々に加熱してフィルムを作
成した。次いでこのフィルムをテフロン板からはがして
ガラス支持台上に移し、窒素気流下で200℃から30
0℃まで徐々に加熱して、下記構造式(1)で表される
構成単位からなるフィルム状のポリイミド樹脂を得た。
を目視にて測定した。またその熱分解温度、接触角およ
び弾性率を測定し、これらの結果を表1に示した。
を備えた500mlの4つ口フラスコに、3,3',4,
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物15.5
9gを仕込み、乾燥したN−メチルピロリドン120g
を加えて溶解した。次いで、室温下にて、式:
を徐々に滴下した。滴下終了後、1時間攪拌した。次い
でこれに、2,2−ビス(2−ジアミノフェノキシフェ
ニル)プロパン16.41gを乾燥したN−メチルピロ
リドン80gに溶解した溶液を、氷冷下で徐々に滴下し
た。滴下終了後、氷冷下で1時間攪拌し、さらに室温下
で4時間攪拌を行って、下記構造式(A)および(B)
で表される構成単位からなるシリコーン含有ポリアミッ
ク酸のN−メチルピロリドン溶液を得た。
表される構成単位の共重合比(モル比)は17:83で
あった。このようにして得られたシリコーン含有ポリア
ミック酸のN−メチルピロリドン中の固有粘度を測定し
たところ、 0.35 dl/gであった。このシリコー
ン含有ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液をテ
フロン基板上に塗布して、窒素気流下で100℃から1
80℃まで徐々に加熱してフィルムを作成した。次いで
このフィルムをテフロン板からはがしてガラス支持台上
に移し、窒素気流下で200℃から300℃まで徐々に
加熱して、下記構造式(1)および(2)で表される構
成単位からなるフィルム状のシリコーン含有ポリイミド
樹脂を得た。
表される構成単位の共重合比(モル比)は17:83で
あった。このようにして得られたシリコーン含有ポリイ
ミド樹脂フィルムの外観を目視にて測定した。またその
熱分解温度、接触角および弾性率を測定し、これらの結
果を表1に示した。
を備えた500mlの4つ口フラスコに、3,3',4,
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物17.4
2gを仕込み、乾燥したN−メチルピロリドン120g
を加えて溶解した。次いで室温下、乾燥した式:
2.00g(混合比率50:50 mol%)を滴下し
た。滴下終了後、室温下で1時間攪拌した。次いでこれ
に、2,2−ビス(2−ジアミノフェノキシフェニル)
プロパン10.58gを乾燥したN−メチルピロリドン
80gに溶解した溶液を、氷冷下で徐々に滴下した。滴
下終了後、氷冷下で1時間攪拌し、さらに室温下で4時
間攪拌を行って、下記構造式(A−1)、(A−2)お
よび(B)で表される構成単位からなるシリコーン含有
ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液を得た。
−2)で表される構成単位:構造式(B)で表される構
成単位の共重合比(モル%)は26:26:48であっ
た。このようにして得られたシリコーン含有ポリアミッ
ク酸のN−メチルピロリドン中の固有粘度を測定したと
ころ、0.3dl/gであった。このシリコーン含有ポ
リアミック酸のN−メチルピロリドン溶液をテフロン基
板上に塗布して、窒素気流下で100℃から180℃ま
で徐々に加熱してフィルムを作成した。次いでこのフィ
ルムをテフロン板からはがしてガラス支持台上に移し、
窒素気流下で200℃から300℃まで徐々に加熱し
て、下記構造式(1)、(2)および(3)で表される
構成単位からなるフィルム状のシリコーン含有ポリイミ
ド樹脂を得た。
表される構成単位:構造式(3)で表される構成単位の
共重合比(モル比)は26:26:48であった。この
ようにして得られたシリコーン含有ポリイミド樹脂フィ
ルムの外観を目視にて測定した。またその熱分解温度、
接触角および弾性率を測定し、これらの結果を表1に示
した。
は、上記構造式(1)で表される構成単位のみ、または
上記構造式(1)および(2)で表される構成単位から
なり、分子中に環状のオルガノシロキサンを含有してい
るので、耐熱性と可撓性に優れるという特徴を有する。
そしてこのシリコーン含有ポリイミド樹脂は、本発明の
シリコーン含有ポリアミック酸をイミド化することによ
り効率よく製造できるという特徴を有する。
ポリイミド樹脂のIRチャートである。
Claims (6)
- 【請求項1】 下記構造式(1)で表わされる構成単位
0.1〜100モル%と構造式(2)で表わされる構成
単位99.9〜0モル%からなるシリコーン含有ポリイ
ミド樹脂。 構造式(1): 【化1】 (式中、Ar1は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同
種もしくは異種の1価炭化水素基であり、Xは炭素原子
数2以上のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、mおよびnは0または1〜3の整数であ
り、かつ、(m+n)は1〜6の整数である。) 構造式(2): 【化2】 (式中、Ar2は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Ar3は少なくとも1個の芳香族環
を有する2価の有機基である。) - 【請求項2】 Ar1およびAr2の4価の有機基が下記
式で示される基から選択される基であり、 【化3】 Ar3の2価の有機基が下記式で示される基から選択さ
れる基である、請求項1に記載のシリコーン含有ポリイ
ミド樹脂。 【化4】 - 【請求項3】 下記構造式(A)で表わされる構成単位
0.1〜100モル%と構造式(B)で表わされる構成
単位99.9〜0モル%からなるシリコーン含有ポリア
ミック酸。 構造式(A): 【化5】 [式中、Ar1は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同
種もしくは異種の1価炭化水素基であり、Xは炭素原子
数2以上のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、Zは水素原子または式:−SiR3(式
中、Rは前記と同じである。)で表されるシリル基であ
り、mおよびnは0または1〜3の整数であり、かつ、
(m+n)は1〜6の整数である。] 構造式(B): 【化6】 (式中、Ar2は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Ar3は少なくとも1個の芳香族環
を有する2価の有機基である。) - 【請求項4】 Ar1およびAr2の4価の有機基が下記
式で示される基から選択される基であり、 【化7】 Ar3の2価の有機基が下記式で示される基から選択さ
れる基である、請求項3に記載のシリコーン含有ポリア
ミック酸。 【化8】 - 【請求項5】 下記構造式(A)で表わされる構成単位
0.1〜100モル%と構造式(B)で表わされる構成
単位99.9〜0モル%からなるシリコーン含有ポリア
ミック酸を加熱脱水環化してイミド化することを特徴と
する、請求項1に記載のシリコーン含有ポリイミド樹脂
の製造方法。 構造式(A): 【化9】 [式中、Ar1は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同
種もしくは異種の1価炭化水素基であり、Xは炭素原子
数2以上のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、Zは水素原子または式:−SiR3(式
中、Rは前記と同じである。)で表されるシリル基であ
り、mおよびnは0または1〜3の整数であり、かつ、
(m+n)は1〜6の整数である。] 構造式(B): 【化10】 (式中、Ar2は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基であり、Ar3は少なくとも1個の芳香族環
を有する2価の有機基である。) - 【請求項6】 構造式(C): 【化11】 (式中、Ar4は少なくとも1個の芳香族環を有する4
価の有機基である。)で表されるテトラカルボン酸2無
水物と、構造式(D): 【化12】 [式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種もしくは
異種の1価炭化水素基であり、Xは炭素原子数2以上の
アルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であ
り、Zは水素原子または式:−SiR3(式中、Rは前
記と同じである。)で表されるシリル基であり、mおよ
びnは0または1〜3の整数であり、かつ、(m+n)
は1〜6の整数である。]で表されるシリコーン系2価
アミン系化合物と、構造式(E):H2N−Ar5−NH
2(式中、Ar5は少なくとも1個の芳香族環を有する2
価の有機基である。)で表される2価アミン系化合物と
を重合させることを特徴とする、請求項3に記載のシリ
コーン含有ポリアミック酸の製造方法。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002012666A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリイミドシリコーン樹脂、その製造方法およびその組成物 |
US8491997B2 (en) * | 2006-06-22 | 2013-07-23 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Conductive wire comprising a polysiloxane/polyimide copolymer blend |
US8071693B2 (en) * | 2006-06-22 | 2011-12-06 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polysiloxane/polyimide copolymers and blends thereof |
US8168726B2 (en) * | 2006-06-22 | 2012-05-01 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Process for making polysiloxane/polymide copolymer blends |
US7847023B2 (en) * | 2007-03-12 | 2010-12-07 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polysiloxane/polyimide copolymer blends |
US20080236864A1 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | General Electric Company | Cross linked polysiloxane/polyimide copolymers, methods of making, blends thereof, and articles derived therefrom |
SG11201501112TA (en) * | 2012-08-16 | 2015-04-29 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Resin sheet, support with resin layer, laminate and metal foil-clad laminate |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04323222A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
JPH0673074A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-03-15 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ヒドロシリル基含有イミド化合物 |
JPH09255780A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-09-30 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH115844A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 有機樹脂改質剤および有機樹脂 |
JP2002501925A (ja) * | 1998-02-03 | 2002-01-22 | クラリアント・ライフ・サイエンス・モレキユールズ(フロリダ)・インコーポレイテツド | 新規なアミノ有機官能シロキサン類 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5827722A (ja) | 1981-08-10 | 1983-02-18 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミドアミド酸シロキサンならびにポリイミドシロキサン共重合体及び/又はポリイミドイソインドロキナゾリンジオンシロキサン共重合体の製造法 |
US4586997A (en) | 1984-10-19 | 1986-05-06 | General Electric Company | Soluble silicone-imide copolymers |
US4670497A (en) | 1984-10-19 | 1987-06-02 | General Electric Company | Soluble silicone-imide copolymers |
US4609700A (en) * | 1985-06-19 | 1986-09-02 | Chisso Corporation | Soluble imide oligomer and a method for producing the same |
DE3927312A1 (de) * | 1989-08-18 | 1991-02-21 | Wacker Chemie Gmbh | Anhydridfunktionelle organo(poly)siloxane, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung dieser organo(poly)siloxane |
US5252703A (en) | 1990-06-01 | 1993-10-12 | Ube Industries, Ltd. | Polyimidosiloxane resin and composition thereof and method of applying same |
JP2597215B2 (ja) | 1990-06-01 | 1997-04-02 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドシロキサン組成物および固化膜 |
US5300627A (en) * | 1991-10-17 | 1994-04-05 | Chisso Corporation | Adhesive polyimide film |
JP2764674B2 (ja) * | 1993-03-24 | 1998-06-11 | 信越化学工業株式会社 | ポリイミドシリコ−ン樹脂前駆体組成物 |
JP3395269B2 (ja) * | 1993-07-16 | 2003-04-07 | チッソ株式会社 | 低熱伝導率ポリイミドシロキサンフィルム |
EP0781815B1 (en) * | 1995-07-13 | 2010-11-17 | AZ Electronic Materials USA Corp. | Composition for forming ceramic substances and process for producing ceramic substances |
JP3986143B2 (ja) * | 1997-12-25 | 2007-10-03 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | シリコーン含有ポリイミド樹脂およびシリコーン含有ポリアミック酸 |
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-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04323222A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
JPH0673074A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-03-15 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ヒドロシリル基含有イミド化合物 |
JPH09255780A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-09-30 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH115844A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 有機樹脂改質剤および有機樹脂 |
JP2002501925A (ja) * | 1998-02-03 | 2002-01-22 | クラリアント・ライフ・サイエンス・モレキユールズ(フロリダ)・インコーポレイテツド | 新規なアミノ有機官能シロキサン類 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7282257B2 (en) | 2003-06-27 | 2007-10-16 | Ajinomoto Co., Inc. | Resin composition and adhesive film for multi-layered printing wiring board |
KR100817914B1 (ko) | 2006-02-27 | 2008-04-15 | 주식회사 케맥스 | 실리콘계 난반사 방지막 형성용 고분자와 이를 포함하는조성물 및 이를 이용한 반도체 소자 패턴의 형성방법 |
US8357443B2 (en) | 2007-03-01 | 2013-01-22 | Ajinomoto Co., Inc. | Laminate including water soluble release layer for producing circuit board and method of producing circuit board |
US8533942B2 (en) | 2007-11-22 | 2013-09-17 | Ajinomoto Co., Inc. | Production method of multilayer printed wiring board and multilayer printed wiring board |
US9060456B2 (en) | 2007-11-22 | 2015-06-16 | Ajinomoto Co., Inc. | Production method of multilayer printed wiring board and multilayer printed wiring board |
US8584352B2 (en) | 2008-02-27 | 2013-11-19 | Ajinomoto Co., Inc. | Process for producing multilayer printed wiring board |
WO2017145874A1 (ja) | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 日産自動車株式会社 | リチウムイオン二次電池用電極及びその製造方法 |
WO2020075745A1 (ja) | 2018-10-10 | 2020-04-16 | 味の素株式会社 | 磁性ペースト |
WO2022224473A1 (ja) | 2021-04-21 | 2022-10-27 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 配線基板 |
WO2023068032A1 (ja) | 2021-10-19 | 2023-04-27 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
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