JP2000316999A - レーザ光照射プローブ - Google Patents

レーザ光照射プローブ

Info

Publication number
JP2000316999A
JP2000316999A JP11131891A JP13189199A JP2000316999A JP 2000316999 A JP2000316999 A JP 2000316999A JP 11131891 A JP11131891 A JP 11131891A JP 13189199 A JP13189199 A JP 13189199A JP 2000316999 A JP2000316999 A JP 2000316999A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
adjuster
irradiation probe
beam irradiation
probe according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11131891A
Other languages
English (en)
Inventor
Iwao Yamazaki
岩男 山崎
Yoshihiro Izawa
良弘 井沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ya Man Ltd
Original Assignee
Ya Man Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ya Man Ltd filed Critical Ya Man Ltd
Priority to JP11131891A priority Critical patent/JP2000316999A/ja
Publication of JP2000316999A publication Critical patent/JP2000316999A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】トリートメントに応じてエネルギー密度を適切
に切換えることができるレーザ光照射プローブを提供す
る。 【解決手段】アジャスタ18のスクリューねじbの側面
に通孔を穿ち、これにばねで付勢して球形の先端部を内
側に突出するピンdを挿嵌する。また、ヘッド部12の
スクリューねじbには、ねじ溝の途中にピンdに嵌合す
る3つの凹部eを穿つ。これにより、ピンdを3つの凹
部eに係止してアジャスタ18の開口端面の高さを3段
階に調節する。3つの凹部eは、育毛、美肌、脱毛など
のトリートメントに対応して位置決めし、それぞれのト
リートメントに最適なアジャスタ18の開口端面の高さ
を決定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を皮膚に
照射して美肌、脱毛、育毛などのトリートメントを行う
レーザ光照射プローブに関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】レーザ光を皮膚に照射
して起こる生体反応には、36°C以下で起こる非熱反
応と、ジュール熱を発生して組織の温度を上昇させる光
熱反応がある。非熱反応は、血行や新陳代謝を促す作用
があり、育毛などのトリートメントに応用される。光熱
反応は、アザ・シミ・ソバカスなどのメラニンを取り除
く作用や、毛母細胞のたんぱく変性を起こして毛の成長
を抑制する作用があり、美肌や脱毛などのトリートメン
トに応用される。
【0003】育毛は、頭皮表面の広い部分に比較的パワ
ー密度の低いレーザ光を照射する。これにより、頭皮の
血行を促進して毛穴を開き、毛穴に詰まった皮脂や汚れ
を洗浄する。
【0004】美肌は、皮膚の表皮や真皮に散在するアザ
・シミ・ソバカスなどの部分に比較的パワー密度の高い
レーザ光を照射する。これにより、メラニン色素細胞を
正常細胞から分離し、老廃物として血液中に排出し、あ
るいは、皮膚の表面に浮き上がらせて取り除く。
【0005】脱毛は、毛穴の根元の毛乳頭と毛穴の途中
にあり、たんぱく質の一種で毛の因子となるケラチンを
供給する皮脂腺などの皮下組織にパワー密度の高いレー
ザ光を照射する。これにより、ケラチンの変性分解を促
進して毛の成長を抑制する。
【0006】このように、トリートメントによってパワ
ー密度の低いレーザ光を皮膚表面に広く照射する場合
と、パワー密度の高いレーザ光を表皮や真皮など皮膚の
浅い部分に照射する場合と、皮下組織など皮膚の深い部
分に照射する場合がある。
【0007】一方、レーザ光をレンズで集光すると焦点
の位置でくびれたウエストのようなビームウエストを形
成する。ビームウエスト部分のビーム径は同じ波長のレ
ーザ光の場合、使用するレンズの焦点距離が短いほど小
さくなり、焦点深度もごくわずかになって狭い範囲に光
パワーが集中する。また、焦点を過ぎた位置からは逆に
同じ角度で広がり、広い範囲に光パワーが分散する。こ
のため、絞り込み角度が大きいほど焦点部分のエネルギ
ー密度が高くなって光パワーも強くなるが、逆に焦点部
分から離れると急激にエネルギー密度が低くなって光パ
ワーも衰える。
【0008】そこで本発明は、レーザ光のビームウエス
トの前後にできるエネルギー密度の高低差を利用して、
トリートメントに応じてエネルギー密度を適切に切換え
ることができるレーザ光照射プローブを提供することを
目的になされたものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は以下のように構成した。
【0010】すなわち、請求項1の発明は、プローブの
前方に、レーザ光を照射する半導体レーザダイオード
と、レーザ光を集光して焦点にビームウエストを形成す
る集光レンズと、開口端面を皮膚に接触して前記集光レ
ンズと皮膚面との間の距離を一定の隔離間隔で離間する
アジャスタと、前記アジャスタを前後に移動して前記隔
離間隔を段階的に切換える隔離間隔切換手段と、を備
え、前記隔離間隔を段階的に切換えて前記ビームウエス
トを前記アジャスタの開口端面の前後に位置付けること
を特徴とするレーザ光照射プローブである。請求項2の
発明は、前記隔離間隔を3段階に切換えることを特徴と
する請求項1記載のレーザ光照射プローブである。請求
項3の発明は、前記隔離間隔をトリートメントに応じて
設定することを特徴とする請求項1記載のレーザ光照射
プローブである。請求項4の発明は、前記アジャスタが
透明な材質により形成されていることを特徴とする請求
項1記載のレーザ光照射プローブである。請求項5の発
明は、前記集光レンズが球レンズであることを特徴とす
る請求項1記載のレーザ光照射プローブである。請求項
6の発明は、前記半導体レーザダイオードのピーク波長
が600〜1600nmとする請求項1記載のレーザ光
照射プローブである。請求項7の発明は、前記半導体レ
ーザダイオードの光出力が5mW〜3Wとする請求項1
記載のレーザ光照射プローブである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。
【0012】図1と図2に、本発明を実施したレーザ光
照射プローブの正面図と一部を切り欠いた側面図を示
す。レーザ光照射プローブ1は、レーザ光の照射時間を
タイマによって制御する制御回路と電源(図示しない)
を内臓し、ケース11の正面にヘッド部12を突設して
その下方に押しスイッチ13とタイマ表示LED14を
配置する。
【0013】押しスイッチ13は、1つのスイッチを操
作して電源のオン・オフと照射時間の設定を行う。すな
わち、始めに押しスイッチ13を押すと、電源がオンと
なり、照射時間1秒が設定される。このときタイマ表示
LED14が緑色点灯する。次に押しスイッチ13を押
すと、照射時間2秒が設定され、タイマ表示LED14
が緑色点滅する。さらに押しスイッチ13を押していく
と、照射時間3〜6秒が順次設定され、タイマ表示LE
D14が設定秒数に応じて橙色点灯、橙色点滅、赤色点
灯、赤色点滅に切換わる。最後に押しスイッチ13を押
すと、電源がオフとなる。照射時間の設定は、皮膚に一
過性のダメージを与えないために、このようにタイマに
ごく短い1〜6秒のカウント値を設定する。
【0014】ヘッド部12は、先端を開口して球レンズ
15を挿嵌し、その後方にヘッド部12の先端に内接す
るヒートシンク16を設置する。ヒートシンク16は、
軸心にレーザ孔aを穿ってレーザダイオード17を挿嵌
する。また、球レンズ15の外周にスクリューねじbを
形成してアジャスタ18を着脱自在に取り付ける。
【0015】球レンズ15は、焦点距離が通常のレンズ
より短いので、焦点深度もわずかで狭い範囲に光パワー
を絞り込むことができる。
【0016】アジャスタ18は、図3に示すように、透
明アクリルで形成し、レーザ光の照射面が外側から直視
できるようにする。また、先端の開口の一部を切り欠い
て通風用の切り込みcを設ける。
【0017】アジャスタ18は、スペーサとしての役割
を果たし、スクリューねじbを廻して球レンズ15と皮
膚に接するアジャスタ18の開口端面との間の距離を接
離自在に調節する。
【0018】アジャスタ18のスクリューねじbは、図
4に示すように、側面に通孔を穿ち、これにばねで付勢
して球形の先端部を内側に突出するピンdを挿嵌する。
また、ヘッド部12のスクリューねじbには、ねじ溝の
途中にピンdに嵌合する3つの凹部eを穿つ。これによ
り、ピンdを3つの凹部eに係止してアジャスタ18の
開口端面の高さを3段階に調節する。
【0019】3つの凹部eは、育毛、美肌、脱毛などの
トリートメントに対応して位置決めし、それぞれのトリ
ートメントに最適なアジャスタ18の開口端面の高さを
決定する。また、3つの凹部eには対応するトリートメ
ントを識別するためのマーカを付与する。
【0020】レーザダイオード17は、GaAs(ガリ
ウムアルセナイド)などの化合物半導体を用いたPN接
合ダイオードに直接電流を流して励起し、ピーク波長6
00〜1600nm、光出力5mW〜3Wのレーザ光を
出力し、皮膚に十分な光熱反応を起こす。また、熱反応
のほかに、光電気反応、光磁気反応、光力学反応、光化
学反応、光免疫反応、光酵素反応などを起こし、光生物
学的活性化により生体組織の新陳代謝を促して皮膚血行
を高め、適正なパワー密度で生体組織を損傷する作用は
なく、皮膚に障害を起こす危険性はない。
【0021】レーザダイオード17の光出力が不足する
場合は、複数のレーザダイオード17を同一円周上に配
列して光軸を内側に傾け、複数のレーザ光のビームウエ
ストを一点に集中させてもよい。
【0022】ヒートシンク16は、レーザダイオード1
7の動作時の発熱を熱伝導によって拡散させて性能の低
下を抑える。このため、熱伝導効率のよいアルミあるい
はその合金で鋳造し、ダミーの通孔をいくつか設けて放
熱効率を高める。
【0023】本発明のレーザ光照射プローブは以上のよ
うな構成で、トリートメントを行うときは、まず、アジ
ャスタ18の開口端面の高さを所望のトリートメントに
合わせ、次に、押しスイッチ13を押して電源をオンに
する。これにより、レーザダイオード17が既定の1秒
間点灯し、その後1秒間休止する。そして、以降はこの
照射と休止を繰り返す。照射時間を変更する場合は、押
しスイッチ13を押しながら1〜6秒の範囲で所望の照
射時間を設定する。レーザダイオード17が点灯した
ら、アジャスタ18の開口端面を皮膚面に押し当て、位
置を移動させながらトリートメントを行う。
【0024】アジャスタ18の開口端面の高さは、スク
リューねじbを廻して3段階に調節する。最初にスクリ
ューねじbを廻すと、ピンdが一番目の凹部eに係止し
てレーザ光のビームウエストをアジャスタ18の開口端
面の手前に位置付ける。これにより、光パワーを皮膚表
面に広く分散させ、育毛などのトリートメントに対応さ
せる。
【0025】次にスクリューねじbを廻すと、ピンdが
二番目の凹部eに係止してレーザ光のビームウエストを
アジャスタ18の開口端面に位置付ける。これにより、
光パワーを表皮や真皮など皮膚の浅い部分に絞り込み、
美肌などのトリートメントに対応させる。
【0026】さらにスクリューねじbを廻すと、ピンd
が三番目の凹部eに係止してレーザ光のビームウエスト
をアジャスタ18の開口端面の先に位置付ける。これに
より、光パワーを皮下組織など皮膚の深い部分に絞り込
み、脱毛などのトリートメントに対応させる。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明のレーザ光照
射プローブは、隔離間隔を段階的に切換えてレーザ光の
ビームウエストをアジャスタの開口端面の前後に位置付
ける。従って、本発明によれば、アジャスタを前後に切
換えてレーザ光の光パワーを皮膚面に広く分散させた
り、皮膚の浅い部分や深い部分に集中させたりすること
ができるので、トリートメントに応じてレーザ光のエネ
ルギー密度を簡単に調節できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施したレーザ光照射プローブの正面
図である。
【図2】図1の一部を切り欠いた側面図である。
【図3】本発明を実施したアジャスタの斜視図である。
【図4】本発明を実施したアジャスタのねじ部の部分拡
大図である。
【符号の説明】
1 レーザ光照射プローブ 11 ケース 12 ヘッド部 13 押しスイッチ 14 タイマ表示LED 15 球レンズ 16 ヒートシンク 17 レーザダイオード 18 アジャスタ a レーザ孔 b スクリューねじ c 切り込み d ピン e 凹部

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プローブの前方に、 レーザ光を照射する半導体レーザダイオードと、 レーザ光を集光して焦点にビームウエストを形成する集
    光レンズと、 開口端面を皮膚に接触して前記集光レンズと皮膚面との
    間の距離を一定の隔離間隔で離間するアジャスタと、 前記アジャスタを前後に移動して前記隔離間隔を段階的
    に切換える隔離間隔切換手段と、を備え、 前記隔離間隔を段階的に切換えて前記ビームウエストを
    前記アジャスタの開口端面の前後に位置付けることを特
    徴とするレーザ光照射プローブ。
  2. 【請求項2】 前記隔離間隔を3段階に切換えることを
    特徴とする請求項1記載のレーザ光照射プローブ。
  3. 【請求項3】 前記隔離間隔をトリートメントに応じて
    設定することを特徴とする請求項1記載のレーザ光照射
    プローブ。
  4. 【請求項4】 前記アジャスタが透明な材質により形成
    されていることを特徴とする請求項1記載のレーザ光照
    射プローブ。
  5. 【請求項5】 前記集光レンズが球レンズであることを
    特徴とする請求項1記載のレーザ光照射プローブ。
  6. 【請求項6】 前記半導体レーザダイオードのピーク波
    長が600〜1600nmとする請求項1記載のレーザ
    光照射プローブ。
  7. 【請求項7】 前記半導体レーザダイオードの光出力が
    5mW〜3Wとする請求項1記載のレーザ光照射プロー
    ブ。
JP11131891A 1999-05-12 1999-05-12 レーザ光照射プローブ Pending JP2000316999A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11131891A JP2000316999A (ja) 1999-05-12 1999-05-12 レーザ光照射プローブ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11131891A JP2000316999A (ja) 1999-05-12 1999-05-12 レーザ光照射プローブ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000316999A true JP2000316999A (ja) 2000-11-21

Family

ID=15068577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11131891A Pending JP2000316999A (ja) 1999-05-12 1999-05-12 レーザ光照射プローブ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000316999A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002306230A (ja) * 2001-04-18 2002-10-22 Ya Man Ltd レーザー処理装置
JP2002315621A (ja) * 2001-04-19 2002-10-29 Ya Man Ltd レーザトリートメント装置
JP2006116088A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Ya Man Ltd レーザトリートメント装置
WO2006051985A1 (ja) * 2004-11-15 2006-05-18 Firm J.B.Ltd. 美顔育毛器
WO2006064811A1 (ja) * 2004-12-13 2006-06-22 Ekbo Inc. 指先刺激装置
JP2007159684A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Ekbo Kk 指先刺激装置
JP2016533252A (ja) * 2013-10-04 2016-10-27 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 皮膚組織の光ベースの処理のための皮膚処理装置
CN112274784A (zh) * 2020-10-20 2021-01-29 咸阳秦永睿生物科技有限公司 一种能够促进创面愈合和减轻疼痛的红外治疗装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002306230A (ja) * 2001-04-18 2002-10-22 Ya Man Ltd レーザー処理装置
JP2002315621A (ja) * 2001-04-19 2002-10-29 Ya Man Ltd レーザトリートメント装置
JP2006116088A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Ya Man Ltd レーザトリートメント装置
WO2006051985A1 (ja) * 2004-11-15 2006-05-18 Firm J.B.Ltd. 美顔育毛器
WO2006064811A1 (ja) * 2004-12-13 2006-06-22 Ekbo Inc. 指先刺激装置
JP2007159684A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Ekbo Kk 指先刺激装置
JP2016533252A (ja) * 2013-10-04 2016-10-27 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 皮膚組織の光ベースの処理のための皮膚処理装置
CN112274784A (zh) * 2020-10-20 2021-01-29 咸阳秦永睿生物科技有限公司 一种能够促进创面愈合和减轻疼痛的红外治疗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3188437B2 (ja) レーザ光照射プローブ
JPWO2005092438A1 (ja) トリートメント装置
JP2004159666A (ja) レーザ脱毛器
WO2001087109A1 (fr) Appareil d'epilation laser
JP2001238968A (ja) レーザ光照射プローブ
KR100778257B1 (ko) 레이저광 조사장치
JP3340090B2 (ja) レーザ脱毛プローブ
JP2000316999A (ja) レーザ光照射プローブ
JP2006116088A (ja) レーザトリートメント装置
JP2005278724A (ja) トリートメント装置
JP2001252363A (ja) レーザ光照射プローブ
JP2002306230A (ja) レーザー処理装置
JP2004141327A (ja) 美容処理装置
JP2000316998A (ja) レーザ光照射プローブ
JP4537630B2 (ja) レーザトリートメント装置
JP2000202044A (ja) レ―ザ育毛装置
JP3542519B2 (ja) レーザ光照射プローブ
JP2000079172A (ja) 焦点移動式レーザ装置
JP2000217938A (ja) 美容レーザ装置におけるレーザ光照射プローブ
JP3807906B2 (ja) レーザ光照射プローブ
JP2002010825A (ja) レーザ脱毛装置
JP3658538B2 (ja) レーザ光照射プローブ
JP2005211689A (ja) レーザ脱毛装置
US20090234372A1 (en) Epilation Method
JP4485252B2 (ja) レーザ光照射プローブ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040105

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040323

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040524

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040720