JP2002315621A - レーザトリートメント装置 - Google Patents

レーザトリートメント装置

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JP2002315621A JP2001121792A JP2001121792A JP2002315621A JP 2002315621 A JP2002315621 A JP 2002315621A JP 2001121792 A JP2001121792 A JP 2001121792A JP 2001121792 A JP2001121792 A JP 2001121792A JP 2002315621 A JP2002315621 A JP 2002315621A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多機能で操作性が良くかつ安価なトリートメ
ント装置を提供する。 【解決手段】 このレーザトリートメント装置は、レー
ザ光照射プローブ1と、このレーザ光照射プローブ1が
接続されたコントロールボックス2とからなり、コント
ロールボックス2は、脱毛用のレーザ光照射パターンと
育毛用のレーザ光照射パターンとを記憶したメモリ30
と、育毛と脱毛などのモードを切り替えるための切替ス
イッチ7と、この切替スイッチ7によって切り替えられ
たモードに応じたレーザ光照射パターンをメモリ30か
ら読み出してレーザ光照射プローブ1の駆動回路20を
制御するCPU26とを有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱毛、育毛、美
顔、針灸などのレーザトリートメントを行うためのレー
ザトリートメント装置に関する。
【従来の技術】人体に対してトリートメントを行うトリ
ートメント装置としては、レーザ光を用いて脱毛を行う
レーザ脱毛装置が代表的であるが、この他、レーザ光を
用いて育毛を行うレーザ育毛装置等がある。
【0002】レーザ光照射装置から照射されるレーザ光
は、通常の光源に比べてエネルギー密度が桁違いに大き
いため、レーザ光が生体組織に照射されると、大きな光
エネルギーが吸収され、パワーが集中する部分では高温
になり、蛋白質の変成が起こる。
【0003】このレーザ光のパワーを人体の有効部位、
例えば脱毛対象の体毛の毛根などに対して、蛋白質の変
成が起こる程度の強いパワーでレーザ光を照射するもの
がレーザ脱毛装置である。
【0004】一方、蛋白質の変成が起こるほどの強いパ
ワーではなく、育毛対象の皮膚面、例えば頭皮などに対
して、レーザ光を、例えば40°Cを越えない適度のパワ
ーで照射し穏やかな熱エネルギーを与え、適度な刺激を
与え、血流を促進すると共に、毛穴の皮脂の詰まりを改
善するものが、レーザ育毛装置である。
【0005】このようなレーザトリートメント装置は、
それぞれ適用部位や効能が異なることから、商品として
は、別個のものとして開発および販売されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなレーザトリートメント装置の場合、装置を購入する
ユーザが例えば家族などの場合、父は育毛装置、娘は脱
毛装置をそれぞれ購入するようなことも想定され、家族
で別個のものを購入するには経済的な負担が多いという
問題があった。
【0007】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、育毛、脱毛、美顔、針灸などの異なる
レーザトリートメントの機能を備えた安価なレーザトリ
ートメント装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、請求項1記載の発明のレーザトリートメント装
置は、所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレーザ
光照射手段と、前記レーザ光照射手段により照射される
レーザ光の照射パターンが複数記憶された記憶手段と、
複数のトリートメントモードの中からいずれか一つのモ
ードを選択するための選択手段と、前記選択手段により
選択されたモードに対応するレーザ光の照射パターンを
前記記憶手段から読み出して前記レーザ光照射手段を制
御する制御手段とを具備したことを特徴とを具備したこ
とを特徴としている。
【0009】請求項2記載の発明のレーザトリートメン
ト装置は、所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレ
ーザ光照射手段と、前記レーザ光照射手段により照射さ
れるレーザ光の照射パターンとして、脱毛用、育毛用、
美顔用、鍼灸用の少なくとも二つの照射パターンが記憶
された記憶手段と、脱毛、育毛、美顔、鍼灸の少なくと
も二つのモードのうち、いずれか一つのモードを選択す
るための選択手段と、前記選択手段により選択されたモ
ードに対応するレーザ光の照射パターンを前記記憶手段
から読み出して前記レーザ光照射手段を制御する制御手
段とを具備したことを特徴としている。
【0010】請求項3記載の発明のレーザトリートメン
ト装置は、所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレ
ーザ光照射手段と、前記レーザ光照射手段が照射するレ
ーザ光の照射パターンのデータを記憶したチップを着脱
自在に装着したソケットと、前記ソケットに装着された
チップからレーザ光の照射パターンデータを読み出して
前記レーザ光照射手段を制御する制御手段とを具備した
ことを特徴としている。
【0011】請求項4記載の発明のレーザトリートメン
ト装置は、所望の部位に対する育毛用の照射パターンが
プログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照
射手段と、所望の部位に対する脱毛用の照射パターンが
プログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照
射手段と、これら第1および第2のレーザ光照射手段を
切り替えていずれか一つを制御する制御手段とを具備し
たことを特徴としている。
【0012】本発明のレーザトリートメント装置は、レ
ーザ光のパワーや照射時間などを育毛および脱毛などの
目的毎にパターン化してそれぞれの目的に最適なレーザ
光を出力する。
【0013】例えば脱毛を行う場合、事前準備として、
脱毛対象の皮膚の所望の部位の毛を剃る。そして、レー
ザ光照射プローブのモード選択スイッチにてトリートメ
ントのモードを脱毛モードに切り替える。そして、所望
のレベルを選択して、その部位にレーザ光照射プローブ
の先端を当てレーザ光を照射して脱毛のトリートメント
を行う。
【0014】また、例えば育毛を行う場合は、レーザ光
照射プローブのモード選択スイッチにてトリートメント
のモードを育毛モードに切り替える。そして、所望のレ
ベルを選択して、育毛対象の所望の部位にレーザ光照射
プローブの先端を当てレーザ光を照射して育毛のトリー
トメントを行う。
【0015】このように脱毛および育毛に関する一連の
トリートメントを1つのプローブで行えるので、ユーザ
としては、家族で一台購入するだけで、異なる部位およ
び効能を必要な人がそれぞれのトリートメントを行うこ
とができる。
【0016】また、レーザトリートメント装置を商品と
して開発および販売する側も、育毛用も脱毛用も、レー
ザ光を照射する部分(レーザ光照射プロープ)自体は、
ほぼ同じ構成で済むことから、内部構造の共通化が図
れ、製造コストを削減できる。つまり、異なるトリート
メントの機能を一台の装置に集約することで装置を安価
に提供できる。
【0017】この結果、育毛および脱毛などの異なるレ
ーザトリートメントの機能を備えた安価なレーザトリー
トメント装置を提供することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1は本発明を実施したレ
ーザトリートメント装置の概要構成図、図2は図1のレ
ーザトリートメント装置の光照射プローブの正面図、図
3は図2のレーザ光照射プローブの縦断面図、図4は図
1のレーザトリートメント装置の制御系の構成を示すブ
ロック図である。
【0019】図1に示すように、このレーザトリートメ
ント装置は、ユーザが自分自身で、体毛の脱毛、育毛な
どを行うための装置であり、コントローラ兼器具収容ボ
ックス2(以下コントロールボックス2と称す)と、レ
ーザ光照射プローブ1と、これらを接続する接続ケーブ
ル3とから構成されている。
【0020】コントロールボックス2は、フロント面
に、表示パネルPと、接続ケーブル3の接続端子(プラ
グ)を取り付けるソケット4を配置し、内部にレーザ光
照射プローブ1の電源と、タイマ制御によりレーザ光照
射プローブ1のレーザ光照射を制御する制御回路とを備
えている。表示パネルPには、この装置が操作された内
容や動作モードの状態が表示される。
【0021】また、このコントロールボックス2のフロ
ント面には、このレーザトリートメント装置の電源をオ
ン・オフする電源スイッチ5と、電源の状態を示すLE
D6と、レーザ光出力の調節、照射時間などのレベルの
設定、トリートメント時間の設定、レーザ光の照射モー
ドのモード設定などを行う切替スイッチ7と、各設定状
態を示すLED8とが設けられている。
【0022】光出力の調節は、育毛モードと脱毛モード
の各モード状態において、例えば複数段階(1〜6レベ
ル)の選択によるものと、マニュアルによるものとがあ
り、マニュアル調整の場合、電源を連続出力からパルス
出力に切り替え、さらにパルスのオンタイムを変更して
行う。すなわち、光出力を強くするときは、パルスのオ
ンタイムを長くして単位時間当たりの照射時間を長く
し、弱くするときはパルスのオンタイムを短くして単位
時間当たりの照射時間を短くする。そして、光出力を最
大にするときは、一定の強さのレーザ光を送り続ける連
続出力に切り替える。
【0023】照射時間の設定は、皮膚に一過性のダメー
ジを与えないために、レーザの出力に応じたカウント値
をタイマに設定する。
【0024】タイマのカウント値としては、半導体レー
ザの出力の可変範囲が例えば0.01w〜3w程度であ
れば、0.01秒〜30秒程度の範囲が良く、好ましく
は、0.05w〜5秒の範囲が良い。また、半導体レー
ザの出力の上限が、例えば1w〜1.5w程度であれ
ば、0.1秒〜3秒程度の範囲内でタイマを設定するこ
とが好ましい。
【0025】トリートメント時間の設定は、皮膚あるい
は筋肉に長時間の使用によるダメージを与えないため
に、タイマに通常の使用に適正な値、例えば5分〜60
分のカウント値を設定する。
【0026】図2、図3に示すように、レーザ光照射プ
ローブ1は、ケースCの正面にへッド部1aを突設する
と共に、ケースCの内部に、駆動回路20、ファン1
8、LEDランプ17および押しスイッチ15を取り付
けた基板Kを取り付けて構成したものである。
【0027】LEDランプ17と押しスイッチ15は、
ケースCの対向面を開口して先端を外側に露出させるよ
うに配置している。
【0028】ヘッド部1aには、中心を開口して球レン
ズ11を挿嵌し、球レンズ11を取り巻く周縁部に2本
の接触子12、12’を植立させている。
【0029】なお、接触子12、12’は、いずれか1
つだけでもタッチセンサとしての機能は果たすが、接点
が1箇所だけの場合、プローブの先端が目標部位(皮膚
の毛根部分)に向かった場合だけでなく、接触子が皮膚
に触れただけでも、また斜めに当っただけでも簡単にレ
ーザ光が照射されてしまうため、不用意に人体の目標以
外の部位にレーザ光が照射されたり、角度によっては遠
く離れた所にレーザ光が照射されることもある。
【0030】そこで、このレーザトリートメント装置で
は、レーザ光照射プローブ1の先端には、プローブ先端
が当接部位の肌部分に向いたときだけレーザ光を照射す
るようにレーザ光照射口を挟むように2つのピン形状の
導電性電極12、12’(以下接触子12、12’と称
す)を設けている。これにより、互いの接触子12、1
2’が共に皮膚との当接を検知したとき、つまりレーザ
光照射方向が皮膚の目標部分に向いたときでなければ、
レーザ光が照射されなくなり、タッチセンサ付きレーザ
光照射プローブ1の安全性をさらに高めることができ
る。
【0031】接触子12、12’は、金属などの導電体
からなるロッドの先端に平坦面あるいは凸曲面を形成
し、表面を金メッキする。これら接触子12、12’の
数は、この例のように2本に限定するものではなく、3
本以上設けても良い。
【0032】球レンズ11の後方にはヒートシンク13
を設置し、軸心に通孔を穿って半導体レーザダイオード
14を挿嵌している。
【0033】球レンズ11は、半導体レーザダイオード
14のレーザ光を集光して前方の焦点にビームウエスト
を形成するが、焦点距離が通常のレンズより短いので、
焦点深度もわずかで狭い範囲に光パワーを絞り込むこと
ができる。
【0034】また、焦点を過ぎた位置からは逆に同じ角
度で広がり、広い範囲に光パワーが分散する。このた
め、焦点を過ぎた位置ではエネルギー密度が低くなって
光パワーが衰えるので、誤って生体に照射しても生体を
損傷するようなことが少なくなる。
【0035】ヒートシンク13は、半導体レーザダイオ
ード14の動作時の発熱を熱伝導によって拡散させて性
能の低下を抑える。このため、熱伝導効率の良いアルミ
あるいはその含金で鋳造し、ダミーの通孔をいくつか設
けて表面積をかせぎ放熱効率を高める。
【0036】半導体レーザダイオード14は、GaAs
(ガリウムアルセナイド)などの化合物半導体を用いた
PN接合ダイオードに直接電流を流して励起し、レーザ
発振を得る。また、メラニンを吸収できるピーク波長が
例えば600nm〜1600nmとすると、その範囲内
の波長を出力可能なもので良い。半導体レーザダイオー
ド14は、ピーク波長800nm程度のレーザ光を出力
し、光出力としては5mW以上のレーザ光を出力し、熱
効率が良くて皮膚に十分な光熱反応を起こす。なお、光
出力の上限は、年々、増加しており、現在では、一つの
半導体レーザダイオードで1.5W以上出力できるもの
も開発されている。
【0037】さらに、半導体レーザダイオード14が照
射するレーザ光によって、熱反応の他、光電気反応、光
磁気反応、光力学反応、光化学反応、光免疫反応、光酵
素反応などが生じる。つまり、レーザ光の皮膚に対する
照射は、光生物学的活性化により生体組織の新陳代謝を
促して皮膚血行を促進する効果がある。また、レーザ光
は、水分や血液に吸収されにくいため、優れた皮膚深部
への到達性を持つ。
【0038】このレーザトリートメント装置の制御系
は、図4に示すように、接触子12、12’の皮膚への
接触を検出するタッチセンサ回路と、接触子12、1
2’に数Hzから数百Hz程度の低周波の微弱電流を通
電するパルス発生回路と、脱毛用のレーザ光照射パター
ンと育毛用のレーザ光照射パターンとが記憶されたメモ
リ30と、半導体レーザダイオード14の間欠照射のオ
ンタイムをメモリ30から読み出したレーザ光照射パタ
ーンとタイマで制御するCPU26、基準クロック発生
器31、I/Oインタフェース25などからなる制御回
路20と、この制御回路20によってI/Oインタフェ
ース25を通じて制御される半導体レーザダイオード1
4の駆動回路27などから構成されている。
【0039】メモリ30に記憶されている脱毛用のレー
ザ光照射パターンは、レーザ光を照射するタイミングパ
ラメータであり、一回毎のレーザ光照射時間(ワンショ
ット)として、0.1秒、0.2秒、0.3秒、0.4
秒、0.5秒、1秒、1.5秒、2秒、3秒で、1回照
射後、次の照射までの待ち時間が1秒、それぞれのショ
ットに応じて皮膚の単位面積に14〜40J/cm2
の範囲のエネルギー密度が得られるように出力が設定さ
れている。14〜40J/cm2の範囲は、スポットサ
イズに応じて設定するものとする。
【0040】また、育毛用のレーザ光照射パターンとし
ては、ワンショット0.1秒×3回、0.1秒×4回、
0.3秒×3回、0.5秒×3回、0.7秒×3回、1
秒×3回などが6段階のレベルに分けて設定されてお
り、各レベルとも皮膚表面の温度が40°Cを超えない
範囲でレーザ光を出力するよう設定されている。
【0041】タッチセンサ回路は、接触子12、12’
が皮膚に接触したときに発生する微弱な交流電圧をそれ
ぞれ帯域フィルタ21、整流回路22、増幅器23を介
して直流電圧に変換し、波形整形、レベル調整、オフセ
ット調整した後、A/D変換器24、I/Oインタフェ
ース25を介してCPU26に入力するよう構成されて
いる。
【0042】CPU26には、I/Oインタフェース2
5を介して半導体レーザダイオード14の駆動回路27
が接続されている。
【0043】タッチセンサ回路は、接点式の他、静電容
量や抵抗などのインピーダンス変化を検知するものや、
圧電素子によって圧力変化を検知するものでも良い。
【0044】タッチセンサ回路は、以上のような構成
で、接触子12、12’の電圧値を読み込んで所定の交
流電圧が発生しているかどうかを検出してCPU26へ
通知し、CPU26は、接触子12、12’の両方に所
定の交流電圧が発生しているとき、半導体レーザダイオ
ード14の駆動回路27にオン信号を出力する。
【0045】なお、この例のように接触子を2本、ある
いはそれ以上設けるときは、それぞれの接触子12、1
2’に所定の交流電圧が発生しているかどうかを判定
し、すべての接触子12、12’に所定の交流電圧が発
生しているとき、初めて半導体レーザダイオード14の
駆動回路27にオン信号を出力する。
【0046】駆動回路27は、タッチセンサ回路とタイ
マ制御回路の両方の指令に基づいて半導体レーザダイオ
ード14の点灯をオン・オフする。
【0047】すなわち、タッチセンサ回路とタイマ制御
回路の両方がオン信号を出力しているとき、初めて半導
体レーザダイオード14を点灯する。
【0048】従って、タッチセンサ回路がオン信号を出
力していないときは、タイマ制御回路がオン信号を出力
していても半導体レーザダイオード14は点灯されな
い。
【0049】ファン18は、へッド部1の後方に設置さ
れており、ヒートシンク13を空冷するものである。
【0050】LEDランプ17は、赤と緑のLEDチッ
プを1つのランプの中に入れ、それぞれ片方ずつ、ある
いは両方同時に点灯して赤、緑、黄色、または、橙色
(アンバー)の3色発光ができるものを使用する。
【0051】押しスイッチ15は、電源のオン・オフと
間欠照射のオンタイムを切り替える操作を行う。
【0052】押しスイッチ15を1回押す毎に、電源オ
ンと、オンタイムの切り替え(1秒〜6秒)と、電源オ
フの順にモードが切換わる。
【0053】このとき、LEDランプ17は1秒1〜6
秒のオンタイムに対応して緑色点灯から緑色点滅、橙色
点灯、橙色点減、赤色点灯、赤色点滅の順に表示が切換
わる。
【0054】最後に押しスイッチ15をロングオン
(1.5秒)すると、電源がオフとなり、レーザ光の照
射が停止する。
【0055】オンタイムは、皮膚に一過性のダメージを
与えないために、このようにタイマにごく短い1〜6秒
のカウント値を設定する。
【0056】一方、パルス発生回路では、ユーザがカラ
ー液晶の表示パネルPを操作して指定したレーザトリー
トメントモードの種類(脱毛モードあるいは育毛モード
など)に対応するレーザ光照射パターン(給電パター
ン)がCPU26によってメモリ30から読み出され、
各トリートメントモードに基づいて基準クロック発生器
31のクロックパルスを分周したデジタルトリガ信号を
I/Oインタフェース25とD/A変換器32を介して
パルス発生器33に入力し、所定の幅と周波数のパルス
を生成してトランスT3の一次側に供給する。
【0057】トランスT3にはトランスT4が並列に接
続されている。トランスT4には電流検出回路34が接
続されている。電流検出回路34は、トランスT4の電
流値を測定し、過電流が流れていないかどうかを監視す
る。電流検出回路34が検出した検出電流は、A/D変
換器35とI/Oインタフェース25を介してCPU2
6に入力し、電流値が基準をオーバーしているときは、
電流保護回路36によって遮断スイッチ37を作動させ
て回路を遮断する。トランスT3の二次側の一端と遮断
スイッチ37の一端には、それぞれスイッチ38A、3
8Bの一端が接続されている。
【0058】また、スイッチング回路38A、38Bの
一端には接触子12、12’が接続され、他端にはタッ
チセンサ回路の帯域フィルタ21が接続されている。こ
のスイッチング回路38A、38Bによって、接触子1
2、12’の機能がタッチセンサとしての機能と低周波
刺激のための機能とに切り替えられる。
【0059】また、このスイッチング回路38A、38
Bは、パルス発生する際にはフォトカプラ接続のスイッ
チング回路として動作し、対応する切換ユニット39
A、39Bの出力信号によって任意のフォトカプラを通
電してスイッチングを行う。
【0060】これにより、表示パネルPで指定されたト
リートメントの種類と、この種類に応じてメモリ30か
ら読み出した給電パターンとに基づいて接触子12、1
2’に所定のパルス電流を通電する。
【0061】トリートメントモードとしては、脱毛モー
ドと育毛モードと、その他、低周波刺激モード(トーニ
ングとドレナージュ)などがある。トーニングは、例え
ば1〜10Hz程度の低い周波数のパルスで身体の深部
(筋肉など)を刺激し、骨格筋などを運動させて血液の
循環を促し、筋肉を揉みほぐす効果がある。ドレナージ
ュは、トーニングよりも高い、例えば20〜100Hz
の周波数のパルスで身体の表部を刺激し、表皮近い部分
の筋肉などを運動させてリンパ液の流れを助長し、浮腫
などを取り除く効果がある。
【0062】ドレナージュとトーニングには、パルス電
圧をサイクリックに上下して刺激を変化させるスペシャ
ル・ドレナージュとスペシャル・トーニングがある。ま
た、同時に複数の電極間にパルスを流す通常のドレナー
ジュとトーニングの他に、時系列で時間を分けて複数の
電極間にパルスを流す時系列ドレナージュと時系列トー
ニング、あるいは時分割で同時に複数の電極間にパルス
を流す時分割ドレナージュと時分割トーニングがある。
【0063】以下、このレーザトリートメント装置の動
作を説明する。まず、脱毛モードでのトリートメントを
行う場合について説明する。
【0064】脱毛を行うときは、事前準備として、脱毛
箇所の体毛を剃って、皮膚表面の毛穴(毛の断面が黒い
点となる)が解る状態にしておく。
【0065】まず、レーサ光照射プローブ1の押しスイ
ッチ5を押して電源をオンにする。
【0066】コントロールボックス2の電源スイッチを
オンすると、コントロールボックス2は、始め低周波刺
激モードで起動する。なお、最後に操作したモードを記
憶しておき、そのモードで起動させても良いが、ここで
は、安全のため、低周波刺激モードで起動するものとす
る。
【0067】ここで、ユーザがスイッチ7を操作するこ
とで、トリートメントのモード設定を、トーニングに設
定する。
【0068】そして、ヘッド部1aを脱毛すべき皮膚部
分(皮膚面)に2本の接触子12、12’を当接する
と、接触子12、12’から低周波の微弱電流がパルス
状(極性反転など)で通電されてその部分の皮膚を通じ
て皮下の筋肉が刺激を受け、筋肉運動(収縮と緩み)が
起こる。これにより、脱毛部位がマッサージされ、外的
刺激に対して痛覚が鈍くなる。
【0069】次に、ユーザがスイッチ7を操作して動作
モードをレーザ光照射モードとすることで、コントロー
ルボックス2の動作モードが、低周波刺激モードからレ
ーザ光照射モードに切り替わる。
【0070】そして、ヘッド部1aを脱毛すべき皮膚の
部位(皮膚面)に対してほぼ直角に向け、2本の接触子
12、12’を皮膚に押し当てる。
【0071】2本の接触子12、12’が皮膚に接触す
ると、半導体レーザダイオード14が既定の1秒間点灯
し、その後1秒間休止する。
【0072】そして、この照射と休止を繰り返しながら
間欠的にレーザ光を皮膚に照射する。
【0073】オンタイムを変更するときは、押しスイッ
チ15を押してオンタイムを切り替え、所望のオンタイ
ムのところで押しスイッチ5を押すのを止める。
【0074】このように、2本の接触子12、12’を
皮膚に接触させながらレーザ光を照射し、位置を移動さ
せて脱毛を行う。
【0075】接触子12、12’の少なくとも一方を皮
膚から離すと、レーザ光の照射が停止する。また、2本
の接触子12、12’を再び皮膚に接触させると、レー
ザ光の照射が再開される。
【0076】レーザ光照射後は、その時点で、トリート
メントを終了してもよく、また、レーザ光照射によって
脱毛部位に少し痛みが残るような場合は、上記低周波刺
激モードに切り換えて、再度、脱毛部位に低周波刺激を
与え、マッサージを行ってもよい。また、レーザ光照射
に際して、皮膚表面にクーリングジェルを塗布すると皮
膚表面の刺激が緩和されてさらに効果的である。
【0077】続いて、育毛モードでのトリートメントを
行う場合について説明する。育毛のトリートメントを行
う場合、まず、コントロールボックス2の切替スイッチ
7を操作してトリートメントモードを脱毛モードから育
毛モードに切替え、表示パネルPに表示されるメッセー
ジとの対話形式でユーザ自身の現在のレベル(毛髪の程
度や毛の密集度)を選択し設定する。つまり、光出力の
調節、照射時間の設定、トリートメント時間の設定、ト
リートメントモードの設定などを行う。
【0078】レベルには、六型:あまり目立たない
(0.1秒×3回)、五型:やや薄い(0.1秒×4
回)、四型:薄い(0.3秒×3回)、三型:かなり薄
い(0.5秒×3回)、二型:非常に薄い(0.7秒×
3回)、一型:ほとんどない(1秒×3回)などの6段
階があり、この他、ユーザが所望によりレーザ光照射時
間と照射回数を調整可能なマニュアル設定がある。
【0079】そして、レーザ光照射プローブ1を育毛対
象の部位、例えば頭皮などに当接し、レーザ光照射プロ
ーブ1の押しスイッチ15を押すことで上記照射パター
ンでレーザ光が照射される。
【0080】レーザ照射は、一週間以上の間隔を空け
て、一日の中では、例えば5分〜60分の間で設定した
トリートメント時間だけ照射と休止を繰り返えしながら
行う。1回の照射時間は、設定した0.1〜数秒で、そ
の後、3秒間程度休止し、その間にエアの吹き出しを行
う。このように、半導体レーザダイオード14の点灯を
休止する間にエアを吹き出すことで、レーザ光照射プロ
ーブ1内の冷却効率が高まる。
【0081】このように半導体レーザダイオード14の
レーザ光によるトリートメントを行うことで、レーザ光
の照射部位に対しては、かなりの血行促進作用があり、
局所の血行を促進して頭皮の温度を上昇し、毛根部を刺
激して毛嚢の活動を賦活させることができる。また、こ
のレーザ光は、毛穴を開いて頭皮表面と毛穴を洗浄して
老廃物を除去し、新陳代謝を活発にして固くなった頭皮
を元の弾力のある柔らかい頭皮に戻す働きがある。さら
に、発毛促進剤やマッサージと組み合わせてレーザ光を
照射することで、頭皮への薬の吸収がよくなり、栄養分
を導入して、血行の促進をさらに促すことができる。
【0082】次に、図5,図6を参照してレーザ光照射
プローブ1の第1の変形例について説明する。図5は接
触センサをアジャスタの先端に取り付けたレーザ光照射
プローブの正面図、図6はその縦断面図である。
【0083】このレーザ光照射プローブ1は、へッド部
1aの先端にスクリューねじaを介して皮膚面からの高
さを調節する絶縁性のアジャスタ16を取り付け、アジ
ャスタ16の開口端面から側面に沿って導電性の薄膜を
接着あるいは蒸着して上下2本の接触子12、12’を
形成する。これにより、アジャスタ16の開口端面全部
が皮膚に接触しないとレーザ光が照射されないようにす
る。
【0084】次に、図7,図8を参照してレーザ光照射
プローブ1の第2の変形例について説明する。図7は接
触センサをレーザ透過体の先端に取り付けたレーザ光照
射プローブの正面図、図8はその縦断面図である。
【0085】このレーザ光照射プローブ1は、へッド部
1aの先端に透明な誘電体からなるレーザ透過体16’
を取り付け、このレーザ透過体16’の先端面の緑部か
ら側面に沿って導電性の薄膜を接着あるいは蒸着して上
下2本の接触子12、12’を形成したものである。
【0086】これにより、レーザ透過体16’の先端面
全部が皮膚に接触しないとレーザ光が照射されないよう
にできる。レーザ透過体16’は、レーザ光を高密度に
拡散してエネルギー密度を平均化し、均一な光パワーを
皮膚に作用する働きをする。
【0087】このようにこの実施の形態のトリートメン
ト装置によれば、レーザ光照射プローブ1にタッチセン
サの機能と低周波パルスの発生機能とを兼用する接触子
12、12’を設けたことで、例えば脱毛を行う際に、
まず、脱毛箇所の筋肉のトーニングを行うことで毛穴を
拡げ、脱毛の準備をしてから、レーザ光の照射を行う、
といった一連の脱毛処理の手順を、1つのレーザ光照射
プローブ1で安全に行えるので、操作性を向上できると
共に、装置の低コスト化を図ることができる。
【0088】なお、本発明は上記実施の形態のみに限定
されるものではない。上記実施形態では、メモリ30に
脱毛用のレーザ光照射パターンと育毛用のレーザ光照射
パターンとを記憶しておき、モード切り替え時にCPU
26が対応するレーザ光照射パターンを読み出してレー
ザ光照射プローブ1によるレーザ光の照射を制御した
が、これ以外に、例えばメモリをコントロールボックス
2から取り外し可能なようなチップ化し、このチップを
着脱自在なソケットをコントロールボックス2に設け、
脱毛・育毛それぞれの用途に応じた専用のレーザ光照射
パターンを記憶したチップをコントロールボックス2の
ソケットに装着して脱毛あるいは育毛それぞれのトリー
トメントの機能を実現するようにしても良い。
【0089】つまり、コントロールボックス2の構成
を、レーザ光照射プローブ1が照射するレーザ光の照射
パターンのデータを記憶したチップを着脱自在に装着し
たソケットと、このソケットに装着されたチップからレ
ーザ光の照射パターンデータを読み出してレーザ光照射
プローブ1を制御するCPU26という構成とする。
【0090】また、上記実施の形態では、レーザ光照射
プローブ1を一つだけ用いたが、これ以外に、例えば育
毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射
する第1のレーザ光照射プローブと、脱毛用に照射パタ
ーンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレー
ザ光照射プローブとをコントロールボックス2に接続
し、これら第1および第2のレーザ光照射プローブを切
り替えて、いずれか一つをコントロールボックス2のC
PU26が制御するよう構成してもよい。
【0091】さらに、上記実施形態では、メモリ30に
脱毛用と育毛用のそれぞれのレーザ光照射パターンを記
憶した例について説明したが、さらに、メモリ30に、
美顔用、針灸用などのレーザ光照射パターンを記憶して
おき、これら多くのトリートメントモードの中からいず
れか一つを選択してトリートメントを行なえるようにし
てもよい。
【0092】また、例えば育毛用に照射パターンがプロ
グラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射プ
ローブと、脱毛用に照射パターンがプログラムされたレ
ーザ光を照射する第2のレーザ光照射プローブと、美顔
用にレーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光
を照射する第3のレーザ光照射プローブと、針灸用にレ
ーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射
する第4のレーザ光照射プローブとをコントロールボッ
クス2に接続し、これら第1〜第4のレーザ光照射プロ
ーブを切り替えて、いずれか一つをコントロールボック
ス2のCPU26が制御するよう構成してもよい。さら
に、これらのトリートメント用のレーザ光照射プローブ
の中から、所望のものを選択的に組み合わせてシステム
構成として販売してもよい。例えば美顔用にレーザ光照
射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第3
のレーザ光照射プローブと、脱毛用に照射パターンがプ
ログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射
プローブとを組み合わせることで、女性に好適な構成と
することができ、また、育毛用に照射パターンがプログ
ラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射プロ
ーブと、針灸用にレーザ光照射パターンがプログラムさ
れたレーザ光を照射する第4のレーザ光照射プローブと
を組み合わせることで男性に好適な構成とすることがで
きる。なお、このような構成例は一例にして過ぎず、こ
の他、さまざまな組み合わせで適用できることは言うま
でもない。
【0093】より具体的には、例えば図9に示すよう
に、コントロールボックス2に2つのソケット91,9
2を設け、それぞれのソケット91,92に各トリート
メント専用のプローブを接続、例えばタッチセンサ付き
レーザ光照射用のプローブ93をソケット91に接続
し、低周波刺激用のプローブ94をソケット92に接続
し、切り替えスイッチ95などでコントロールボックス
2の動作回路を切り替えて使用するようにしても良い。
【0094】また、図10に示すように、コントロール
ボックス2の1つのソケット105に、レーザ光照射用
のプローブ93および低周波刺激用のプローブ94のう
ち、いずれか1つを接続し、プローブからのプラグを挿
脱することで差し替えて使用するようにしても良い。
【0095】上記図9および図10の低周波刺激用のプ
ローブ94としては、例えば図11に示すように、接触
子12、12’の皮膚との接触面をほぼ平坦にし、各接
触子12、12’からプラス(+)イオンあるいはマイ
ナス(−)イオンを発生させることで、肌表面への刺激
効果をより向上させるようにしてもよい。また、レーザ
照射後に適用するモードとしてクールダウンモード、痩
身用のモードとして、引き締めモードなどを設定しても
よい。
【0096】さらに、上記実施の形態では、レーザ光照
射プローブ1の先端に設けた接触子12と接触子12’
とを別の極性(+/−)として通電したが、図12に示
すように、レーザ光照射プローブ1の先端に設けた接触
子12、12’を同じ極性とし、他の箇所、例えばレー
ザ光照射プローブ1のグリップ部に異なる極性となる電
極111を設け、接触子12、12’を当接した人体部
位を通じてグリップを持つ手の電極111へ直流電流を
通電(ガルマニック通電)することで、当接部位の皮
膚、特に真皮層付近の浅い部位に刺激を行うようにして
も良い。この場合、印加される電圧の極性で、例えば接
触子12、12’がマイナスとなったときに当接部分の
緊張が緩み、また、プラスになったときにその部位が緊
張するので、これを繰り返すことでマッサージ効果が得
られる。
【0097】上記実施の形態では、接触子12、12’
については、タッチセンサと通電刺激兼用としたが、そ
こからタッチセンサの機能を省き、トリートメント装置
を、例えば皮膚の所望の部位に対してレーザ光の照射を
行うレーザ光照射プローブ1と、このレーザ光照射プロ
ーブ1の先端に設けられ、当接した部位に作用する低周
波電流あるいは直流電流を通電する接触子12、12’
とからなる構成としてもよい。
【0098】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、一
つのレーザ光照射手段を異なるトリートメントに兼用さ
せることで、異なるトリートメントの機能を一台の装置
に集約することができ、製造および販売側としては、装
置の低コスト化が図れ、ユーザとしては安価なものを購
入および入手できる。この結果、多くの機能を備え、安
価なレーザトリートメント装置を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施したレーザトリートメント装置の
概要構成を示す斜視図である。
【図2】図1のレーザトリートメント装置のレーザ光照
射プローブの正面図である。縦断面図である。
【図3】図1のレーザトリートメント装置のレーザ光照
射プローブの縦断面図である。
【図4】図1のレーザトリートメント装置の制御系を示
すブロック図である。
【図5】第1の変形例のレーザ光照射プローブを示す正
面図である。
【図6】第1の変形例のレーザ光照射プローブを示す縦
断面図である。
【図7】第2の変形例のレーザ光照射プローブを示す正
面図である。
【図8】第2の変形例のレーザ光照射プローブを示す縦
断面図である。
【図9】レーザトリートメント装置の他の実施形態を示
す図である。
【図10】レーザトリートメント装置の他の実施形態を
示す図である。
【符号の説明】
1a…ヘッド部 2 …コントロールボックス 7 …切替スイッチ 11…球レンズ 14…半導体レーザダイオード 15…押しスイッチ 16…アジャスタ 16’…レーザ透過体 17…LEDランプ 20…制御回路 21…帯域フィルタ 22…整流回路 23…増幅器 24…A/D変換器 25…I/Oインタフェース 26…CPU 27…駆動回路 a …スクリューねじ C …ケース K …基板 P…表示パネル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C082 RA01 RA04 RA05 RC09 RE22 RJ03 RJ08 RL02 RL12 RL17 RL22 RL24 4C101 BA06 BC27

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所望の部位に対してレーザ光の照射を行
    うレーザ光照射手段と、 前記レーザ光照射手段により照射されるレーザ光の照射
    パターンが複数記憶された記憶手段と、 複数のトリートメントモードの中からいずれか一つのモ
    ードを選択するための選択手段と、 前記選択手段により選択されたモードに対応するレーザ
    光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レ
    ーザ光照射手段を制御する制御手段とを具備したことを
    特徴とするレーザトリートメント装置。
  2. 【請求項2】 所望の部位に対してレーザ光の照射を行
    うレーザ光照射手段と、 前記レーザ光照射手段により照射されるレーザ光の照射
    パターンとして、脱毛用、育毛用、美顔用、鍼灸用の少
    なくとも二つの照射パターンが記憶された記憶手段と、 脱毛、育毛、美顔、鍼灸の少なくとも二つのモードのう
    ち、いずれか一つのモードを選択するための選択手段
    と、 前記選択手段により選択されたモードに対応するレーザ
    光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レ
    ーザ光照射手段を制御する制御手段とを具備したことを
    特徴とするトリートメント装置。
  3. 【請求項3】 所望の部位に対してレーザ光の照射を行
    うレーザ光照射手段と、 前記レーザ光照射手段が照射するレーザ光の照射パター
    ンのデータを記憶したチップを着脱自在に装着したソケ
    ットと、 前記ソケットに装着されたチップからレーザ光の照射パ
    ターンデータを読み出して前記レーザ光照射手段を制御
    する制御手段とを具備したことを特徴とするレーザトリ
    ートメント装置。
  4. 【請求項4】 所望の部位に対する育毛用の照射パター
    ンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ
    光照射手段と、 所望の部位に対する脱毛用の照射パターンがプログラム
    されたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射手段と、 これら第1および第2のレーザ光照射手段を切り替えて
    いずれか一つを制御する制御手段とを具備したことを特
    徴とするレーザトリートメント装置。
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