JP2002306230A - レーザー処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の構造を複雑化することなく美肌、痩
身、脱毛、育毛などの複数のトリートメントを一台で行
え、しかも誤操作する虞れのないレーザー処理装置を提
供する。 【解決手段】 レーザー処理装置のヘッド部１２の先端
に装着するアタッチメント２０としてレーザー光線の光
軸方向の寸法の異なる複数のアタッチメント２０Ａ〜２
０Ｄを付随させ、美肌、痩身、脱毛、育毛などの各種ト
リートメントの中から希望するトリートメントの種類に
応じてアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄを選択して装着
し、トリートメントを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光を皮膚
面に照射して美肌、痩身(経絡点刺激) 、脱毛、育毛な
どのトリートメントを行うレーザー処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、レーザー光線を人体の皮膚に
照射して治療する方法やそのためのレーザー処理装置が
知られている。ここで、レーザー光を皮膚に照射して３
６°Ｃ以下で起こる生体反応を非熱反応といい、光化学
反応、電磁反応、圧反応、イオン化反応などがこれに含
まれる。非熱反応は、血行や新陳代謝を促す作用があ
り、痩身や育毛などのトリートメントに応用される。

【０００３】レーザー光を皮膚に照射すると、光熱反応
によって皮膚組織にジュール熱が発生し、組織の温度を
上昇させる。皮膚温度が上昇すると、皮膚に発赤、たん
ぱく変性、血液凝固、蒸化、炭化などさまざまな反応が
起こり、光熱反応は、アザ・シミ・ソバカスなどのメラ
ニンを取り除く美肌や、毛母細胞のたんぱく変性によっ
て毛の成長を抑制する脱毛などのトリートメントに応用
される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のレー
ザー処理装置は装置が大型で、用途が脱毛用、育毛用な
どの用途毎に分かれており、用途毎に装置を揃える必要
があった。この問題を解決するために例えば特許出願公
開２０００年第７９１７２号公報には、一台の携帯型の
レーザー処理装置の中に光源とレンズとの距離を変化さ
せる機械的機構を内蔵させて一台の装置で複数の処理が
行えるようにしたレーザー処理装置が提案されている。

【０００５】しかし、このレーザー処理装置では構造が
複雑化するという製造工程上の問題があり、製造コスト
が増大したり、故障しやすくなるという問題がある。ま
た、光源とレンズとの距離の調節を誤って行うことによ
り所期の目的とは異なる強さのレーザー光を照射しかね
ないという問題がある。

【０００６】本発明は上記従来の問題を解決するために
なされた発明である。即ち本発明は、装置の構造を複雑
化することなく、しかも誤操作の可能性の低いレーザー
処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のレーザー処理装置は、レーザー光源と前記
レーザー光源から発せられたレーザー光を集光するレン
ズとを備えたレーザー処理装置本体と、前記レーザー処
理装置本体の前記レンズの前方に着脱可能に取着され、
脱毛、育毛、その他の所望のトリートメントに適する照
射エネルギー密度の照射スポットを形成するための前記
レンズと前記レーザー光が照射される被照射体との距離
を画定する複数のアタッチメントとを具備する。

【０００８】上記レーザー処理装置において、前記アタ
ッチメントの例として、エネルギー密度が脱毛トリート
メントに適した値となる照射位置に前方端部を画定する
脱毛用アタッチメント、エネルギー密度が育毛トリート
メントに適した値となる照射位置に前方端部を画定する
育毛用アタッチメント、エネルギー密度が美肌トリート
メントに適した値となる照射位置に前方端部を画定する
美肌用アタッチメント、及び、エネルギー密度が経絡点
刺激に適した値となる照射位置に前方端部を画定する経
絡刺激用アタッチメント、からなる複数のアタッチメン
トを挙げることができる。

【０００９】本発明では、前記複数のアタッチメントを
所望のトリートメントに応じて交換することにより、レ
ンズで集光されるレーザー光線の照射位置でのエネルギ
ー密度を変化させるようになっているので、構造を複雑
化することなく、誤動作の可能性の低いレーザー処理装
置を提供することができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下に図面を
参照して本発明の実施の形態について説明する。図１と
図２に、本発明を実施したレーザー処理装置の正面図と
縦断面図を示す。レーザー処理装置１は、ケース１１前
面にヘッド部１２を突設し、ケース１１に内設する基板
１３に間欠照射のオンタイムをタイマで制御する制御回
路とレーザ駆動回路（図示しない）を備え、ファン１４
とＬＥＤランプ１５と押しスイッチ１６とが配設されて
いる。

【００１１】ＬＥＤランプ１５は、赤と緑のＬＥＤチッ
プを１つのランプの中に入れ、それぞれ片方ずつ、ある
いは両方同時に点灯して赤、緑、黄色、または、橙色
（アンバー）の３色発光ができるものを使用する。

【００１２】ファン１４は、ヘッド部１２の後方に配置
してヘッド部１２を空冷する。ＬＥＤランプ１５と押し
スイッチ１６は、ケース１１の対向面を開口して先端を
ケース１１外に臨ませている。ヘッド部１２には、中心
を開口して球レンズ１７が嵌合され、その後方にヘッド
部１２に内接するヒートシンク１８を備え、その軸心に
通孔を穿って半導体レーザダイオード１９の先端部が挿
通されている。ヒートシンク１８は、半導体レーザダイ
オード１９の動作時の発熱を熱伝導によって拡散させて
性能の低下を抑える。このため、熱伝導効率のよいアル
ミあるいはその合金で鋳造され、ダミーの通孔がいくつ
か設けされており放熱効率を高めている。

【００１３】半導体レーザダイオード１９は、ＧａＡｓ
（ガリウムアルセナイド）などの化合物半導体を用いた
ＰＮ接合ダイオードに、直接電流を流して励起し、レー
ザ発振させる構成となっている。半導体レーザダイオー
ド１９は、小型・軽量である、発振効率がよい、低電圧
での動作が可能である、長寿命である、大量生産が可能
で低価格である、などの特長があり、バッテリ駆動して
小型・軽量な携帯用レーザー処理装置の光源として適し
ている。上記レーザーダイオード１９は、熱効果が高く
て波長の長い赤外線領域の７８０ｎｍ程度の波長で、皮
膚に障害を起こす危険性がなく、単体で皮膚に十分な光
熱反応を起こすことのできる、最大出力が１Ｗ〜２Ｗの
高出力タイプのものを使用するのが好ましい。

【００１４】押しスイッチ１６は、電源のオン・オフと
間欠照射のオンタイムを切換える操作を行う。電源のオ
ン・オフは、アタッチメント２０に皮膚との接触を検出
するスイッチを取り付け、アタッチメント２０が皮膚に
接触すると電源をオンにし、皮膚から離れると電源をオ
フにしてもよい。これにより、アタッチメント２０が皮
膚に接触しているとき以外はレーザー光が照射されない
ので、レーザー光が目に入るなどの危険を防止して安全
性を高めることができる。

【００１５】押しスイッチ１６は、図３に示すように、
１回押す毎に電源オン、オンタイムの切換え、電源オフ
の順にモードが切換わる。このとき、ＬＥＤランプ１５
は０．１秒〜６秒のオンタイムに対応して緑色点灯から
緑色点滅、橙色点灯、橙色点滅、赤色点灯、赤色点滅の
順に表示が切換わる。最後に押しスイッチ１６をロング
オン（１．５秒）すると、電源がオフとなりレーザー光
の照射が停止する。オンタイムは、皮膚に一過性のダメ
ージを与えないために、このようにタイマにごく短いカ
ウント値を設定する。例えば、脱毛処理の場合であれ
ば、０．１秒〜６秒の範囲でカウント値を設定する。

【００１６】球レンズ１７の外周には、スクリューねじ
ａが形成され、スクリューねじａを介してアタッチメン
ト２０が着脱可能に取り付けられている。

【００１７】アタッチメント２０は、例えば透明アクリ
ルで形成されており、レーザー光の照射面が外側から直
視できるようになっている。また、先端の開口部の一部
に切欠部が設けられており通風用の切り込みｂが形成さ
れている。アタッチメント２０は、スペーサとしての役
割を果たし、レンズと皮膚照射部との距離を画定する。

【００１８】本実施形態に係るレーザー処理装置では、
形態の異なる複数のアタッチメント２０を備えており、
これらのアタッチメント２０の中から、脱毛、育毛、美
肌、痩身（経絡点刺激）の各用途に応じたアタッチメン
ト２０を選択して装着することにより各種のレーザート
リートメント（処置）を行うことができるようになって
いる。

【００１９】図３は本実施形態に係るレーザー処理装置
先端のアタッチメント取り付け部分の拡大斜視図であ
り、図４（ａ）は本実施形態に係るアタッチメント２０
の正面図であり、図４（ｂ）は同アタッチメント２０の
側面図である。図３に示したように、本実施形態に係る
レーザー処理装置では、レーザー処理装置本体の球レン
ズ１７の外周に、スクリューねじａ（雄ネジ）が形成さ
れており、一方アタッチメント２０の根元側内周面には
前記スクリューねじａと噛み合う雌ネジ２１が形成され
ており、これらの雄ネジａと雌ネジ２１とを介してアタ
ッチメント２０がレーザー処理装置本体側に着脱可能に
取り付けられている。

【００２０】図５は同アタッチメント２０の側面図であ
る。図５に示すように、本実施形態に係るレーザー処理
装置では、複数のアタッチメント、例えば４種類のアタ
ッチメント２０Ａ〜２０Ｄがセットされており、代表的
には、脱毛、育毛、美肌、痩身（経絡点刺激）の４種類
の異なる用途に応じてアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄを
使い分ける。これらのアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄ
は、図５に示したように全長即ち装着時のレーザー光の
光軸方向の寸法（図中横方向の寸法）が用途に応じて異
なっている。アタッチメント２０Ａは脱毛トリートメン
トに対応し、アタッチメント２０Ｂは痩身（経絡点刺
激）トリートメントに対応し、アタッチメント２０Ｃは
美肌トリートメントに対応し、アタッチメント２０Ｄは
育毛トリートメントに対応する。

【００２１】図６は各アタッチメントの前端部とレンズ
との位置関係を示した垂直断面図である。図中Ａ〜Ｄの
点線はそれぞれアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄをレーザ
ー処理装置本体に装着したときに各アタッチメント２０
Ａ〜２０Ｄの前端部（照射スポット）の位置を示してい
る。図６に示したように、点線Ａで示した、装着時のア
タッチメント２０Ａの前端位置はレンズ１７の焦点と一
致しており、この位置に照射スポットが形成される。こ
の場合、照射スポットは点状になり、脱毛トリートメン
ト時に最大のエネルギー密度の照射スポットが形成さ
れ、適切なエネルギー密度のレーザー光が被処置部位に
照射される。

【００２２】ここで、エネルギー密度の値は次式（１）
により与えられる。

【００２３】

【式１】 脱毛時のエネルギー密度は例えば１５Ｊ／ｃｍ^２以上で
あるのが好ましい。そのため脱毛時のエネルギー密度が
１５Ｊ／ｃｍ^２以上となるようにレーザー光の光源、レ
ンズ、及びアタッチメント２０Ａの全長が調整されてい
る。ここで脱毛時のエネルギー密度の好ましい範囲を１
５Ｊ／ｃｍ^２以上としたのは、１５Ｊ／ｃｍ^２未満のエ
ネルギー密度では脱毛できないからである。

【００２４】図中点線Ｂで示した、装着時のアタッチメ
ント２０Ｂの前端位置は、レンズ１７の焦点より光進行
方向下流側に少しずれた位置に形成されており、この位
置に照射スポットが形成される。この場合、痩身（経絡
点刺激）トリートメント時に最大値より少し低いエネル
ギー密度のレーザー光が被処置部位に照射される。この
ときのエネルギー密度は上記脱毛トリートメント時の１
５Ｊ／ｃｍ^２より若干低いエネルギー密度であるのが好
ましく、そのような値のエネルギー密度となるようにレ
ーザー光の光源、レンズ、及びアタッチメント２０Ｂの
全長が調整されている。ここで、痩身（経絡点刺激）ト
リートメント時のエネルギー密度の好ましい範囲を上記
脱毛トリートメント時より若干低い値としたのは、エネ
ルギー密度が低すぎると痩身（経絡点刺激）トリートメ
ントの効果が得られないからであり、エネルギー密度が
高すぎると、皮膚に与える刺激が強くなりすぎるからで
ある。

【００２５】点線Ｃで示した、装着時のアタッチメント
２０Ｃの前端位置Ｃは、前記痩身（経絡点刺激）トリー
トメント用アタッチメント２０Ｂの前端位置Ｂよりも更
に光進行方向下流側にずれた位置に形成されており、こ
の位置に照射スポットが形成される。この場合、美肌ト
リートメント時に前記痩身（経絡点刺激）トリートメン
ト時より更に低いエネルギー密度のレーザー光が被処置
部位に照射するのが好ましい。このときのエネルギー密
度は前記痩身（経絡点刺激）トリートメント時より更に
低いエネルギー密度となるようにレーザー光の光源、レ
ンズ、及びアタッチメント２０Ｃの全長が調整されてい
る。

【００２６】ここで、美肌トリートメント時のエネルギ
ー密度の好ましい範囲を前記痩身（経絡点刺激）トリー
トメント時より更に低いエネルギー密度の範囲としたの
は、エネルギー密度が低すぎると美肌トリートメントの
効果が得られないからであり、エネルギー密度が高すぎ
ると、皮膚に与える刺激が強くなりすぎるからである。

【００２７】点線Ｄで示した、装着時のアタッチメント
２０Ｄの前端位置Ｄは、前記美肌トリートメント用アタ
ッチメント２０Ｃの前端位置Ｃよりも更に光進行方向下
流側にずれた位置に形成されており、この位置に照射ス
ポットが形成される。この場合、育毛トリートメント時
に前記美肌トリートメント時より更に低いエネルギー密
度のレーザー光が被処置部位に照射される。このときの
エネルギー密度は１５Ｊ／ｃｍ^２未満であるのが好まし
く、このようなエネルギー密度の値となるようにレーザ
ー光の光源、レンズ、及びアタッチメント２０Ｄの全長
が調整されている。ここで、育毛トリートメント時のエ
ネルギー密度の好ましい範囲を上記範囲としたのは、エ
ネルギー密度がこの範囲を上回ると、皮膚に与える刺激
が強くなりすぎるからである。

【００２８】本発明のレーザー処理装置は以上のような
構成を備えており、本体に付随した複数のアタッチメン
ト２０Ａ〜２０Ｄの中から、脱毛、痩身、美肌、育毛の
所望のトリートメントに応じて対応しアタッチメント２
０を選択して装着する。これによりレンズ１７とアタッ
チメント前端のレーザー光照射位置との距離が画定さ
れ、所期のトリートメントに応じた距離がセットされ、
選択したトリートメントに適当なレーザー光の照射面積
とパワー密度が設定される。次に、焦点移動式レーザー
装置１の先端の開口部をトリートメントする皮膚面に押
し当て、押しスイッチ１３を作動して所定の秒数レーザ
ー光を照射する。

【００２９】美肌は、皮膚の表皮や真皮に散在するアザ
・シミ・ソバカスなどの部分に比較的パワー密度の高い
レーザー光を照射する。これにより、メラニン色素細胞
を正常細胞から分離し、老廃物として血液中に排出し、
あるいは、皮膚の表面に浮き上がらせて取り除く。

【００３０】脱毛は、毛穴の根元の毛乳頭と毛穴の途中
にあり、たんぱく質の一種で毛の因子となるケラチンを
供給する皮脂腺の部分にパワー密度の高いレーザー光を
照射する。これにより、ケラチンの変性分解を促進して
毛の成長を抑制する。

【００３１】育毛は、頭皮の広い部分に比較的パワー密
度の低いレーザー光を照射する。これにより、頭皮の血
行を促進して毛穴を開き、毛穴に詰まった皮脂や汚れを
洗浄する。

【００３２】痩身は、交感神経との関連が深く痩身効果
のあるツボの部分にパワー密度の低いレーザー光を照射
する。これにより、穏やかにツボを刺激して血行を促
し、細胞組織を活性化して全身をリラックスさせる。

【００３３】以上説明したように、本発明のレーザー処
理装置は、レーザー処理装置の光軸前方に配置したアタ
ッチメントを選択して装着することによりレーザー光の
照射面積とパワー密度を制御する。従って、本発明によ
れば、美肌、痩身、脱毛、育毛などのトリートメント毎
に最も効き目のある皮膚反応を起こすエネルギー密度の
レーザー光を照射するので、トリートメント効果をより
一層増大させることができる。

【００３４】（第２の実施形態）以下、本発明の第２の
実施形態について説明する。本実施形態に係るレーザー
処理装置では、複数のアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄを
着け替える代わりに、可変スペーサーを装着し、この可
変スペーサー前端とレンズ１７との距離を調節すること
により各種異なるトリートメントを行う構成を採用して
いる。図７は本実施形態に係るレーザー処理装置の垂直
断面図である。図７に示すように、本実施形態に係るレ
ーザー処理装置では、全長即ちレーザー光の光軸方向の
寸法が比較的長いスペーサー２２をレーザー処理装置本
体に装着する。このスペーサー２２は上記第１の実施形
態で説明したアタッチメント２０と同様の形態を備えて
おり、全長が長く、また根元部分の雌ネジの部分が長く
形成されている。本実施形態に係るレーザー処理装置で
は、スペーサー２２を回転させて前端とレンズ１７との
距離を調節することにより、被照射部に照射されるレー
ザー光のエネルギー密度を調節する。

【００３５】本実施形態に係るレーザー処理装置では、
スペーサー２２を回転させることにより前端部とレンズ
１７との距離が変化し、それにより前端で被照射体に照
射されるレーザー光のエネルギー密度が変化する。その
ため、複数のアタッチメント２０Ａ〜２０Ｄを用意した
り、付け替えたりする手間が不要になる。

【００３６】

【発明の効果】本発明では、前記複数のアタッチメント
を所望のトリートメントに応じて交換することにより、
レンズで集光されるレーザー光線の照射位置でのエネル
ギー密度を変化させるようになっているので、構造を複
雑化することなく、誤動作の可能性の低いレーザー処理
装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るレーザー処理装置の正面図であ
る。

【図２】本発明に係るレーザー処理装置の垂直断面図で
ある。

【図３】本発明に係るレーザー処理装置先端の部分拡大
図である。

【図４】本発明に係るアタッチメントの正面図と側面図
である。

【図５】本発明に係る複数のアタッチメントの側面図で
ある。

【図６】本発明に係る各アタッチメント前端とレンズと
の位置関係を示した垂直断面である。

【図７】本発明の変形例に係るレーザー処理装置の垂直
断面図である。

【符号の説明】

１…レーザー処理装置、１１…ケース、１２…ヘッド
部、１３…基板、１４…ファン、１５…ＬＥＤランプ、
１６…押しスイッチ、１７…球レンズ、１８…ヒートシ
ンク、１９…半導体レーザダイオード、２０…アタッチ
メント、ａ…スクリューねじ、ｂ…切り込み、２２…可
変スペーサー。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C026 AA01 BB08 FF01 FF22 FF23 FF33 FF36 FF43 4C082 RA01 RC09 RE01 RE22 RE23 RE34 RE36 RE43 RE44

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー光源と前記レーザー光源から発
   せられたレーザー光を集光するレンズとを備えたレーザ
   ー処理装置本体と、 前記レーザー処理装置本体の前記レンズの前方に着脱可
   能に取着され、脱毛、育毛、その他の所望のトリートメ
   ントに適する照射エネルギー密度の照射スポットを形成
   するための前記レンズと前記レーザー光が照射される被
   照射体との距離を画定する複数のアタッチメントと、を
   具備するレーザー処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のレーザー処理装置であ
   って、前記アタッチメントが、 エネルギー密度が脱毛トリートメントに適した値となる
   照射位置に前方端部を画定する脱毛用アタッチメント、 エネルギー密度が育毛トリートメントに適した値となる
   照射位置に前方端部を画定する育毛用アタッチメント、 エネルギー密度が美肌トリートメントに適した値となる
   照射位置に前方端部を画定する美肌用アタッチメント、
   及び、 エネルギー密度が経絡点刺激に適した値となる照射位置
   に前方端部を画定する経絡刺激用アタッチメント、から
   なることを特徴とするレーザー処理装置。