JP2000315648A - 走査型フォトリソグラフィにおける照明フィールド調節装置および方法 - Google Patents

走査型フォトリソグラフィにおける照明フィールド調節装置および方法

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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】走査露光において矩形照明フィールドの均一性
を高める。 【解決手段】ブレードは矩形照明フィールド幅を制御可
能に調節して、感光性基板に照射される照明強度または
エネルギーを修正する。ブレードは走査露光の際に動的
に制御されて、照明強度またはエネルギーを所定のやり
方で調節する。その結果得られる露光線量の選択的な変
化は、局部的な線幅変動を補正する。フォトリソグラフ
ィシステムを使用してパターンを再現する際の種々のエ
ラーは、比較的容易に補正される。これは、半導体製造
に使用される走査型リソグラフィシステムにおいて特に
有利である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は概して半導体デバイス製造におい
て使用されるリソグラフィ用レチクルの照明に関し、よ
り詳細には照明フィールドを動的に調節して所望の露光
を得て、局部中の線幅変動を制御し、かつ低減すること
に関する。
【０００２】半導体製造プロセスにおいて、典型的には
リソグラフィまたはフォトリソグラフィにより光がレチ
クルを通して投影され、感光性レジストの塗布されたシ
リコンウェハの特定の領域が露光されることにより、回
路素子が描かれる。ＭＩＣＲＡＳＣＡＮという登録商標
で SVG Lithography Systems, Inc., Wilton, Connetic
ut から販売されている走査ステップ式フォトリソグラ
フィ装置において、照明系が使用される。このフォトリ
ソグラフィ装置では、レチクルとウェハは異なる速度で
移動し、この異なる速度の比率は投影レンズの倍率に等
しい。照明装置により画定される矩形またはスリット状
のフィールドがレチクル上およびウェハ上で走査され
る。垂直フィールド画定器により垂直フィールド高さが
規定され、水平規定ブレードにより水平フィールド幅が
規定される。露光フィールドは出来るだけ均一であるの
が望ましい。照明レベルは走査方向におけるウェハ上の
照明の積分である。照明はたいてい、十分に均一でな
い。矩形露光フィールドの上から下へと長手方向に沿っ
て均一な露光すなわち一定レベルの照明を得るために、
調節可能スリットが多くの場合必要となる。照明ビーム
と直交する一連のネイルまたは突起物を使用した調節可
能スリットが公知である。この公知の手段では、個々の
ネイルまたは突起物を照明ビーム内に押し入れることに
より照明レベルまたはエネルギーの均一性が高められ
る。また、照明ビームに対して所定の角度で配設された
金属帯をロッドにより曲げるまたは反らせることによ
り、照明レベルまたはエネルギーが調節され、より均一
にされる。柔軟性を有する部材または調節可能スリット
の一例が、 Liu 等に１９８５年５月１４日に発行され
た米国特許出願 4516852 号明細書に "Method and Appa
ratus for Measuring IntensityVariations in a Light
Source" と題して開示されている。前記明細書に記載
の円弧状スリットは可変形バンドで調節できる。これら
公知の調節可能スリット装置は照明フィールドの均一性
を高めるために有用であったが、半導体デバイスの形状
寸法（ feature size ）微細化および歩留まり向上の要
求が一層高まるにつれ、より均一性の高い照明フィール
ドが必要とされている。
【０００３】本発明は、走査型リソグラフィにおいて使
用される均一または所望の照明フィールドを得るための
矩形照明フィールドまたはスリットを調節する装置に関
する。複数のブレードが相互に結合またはリンクされ、
矩形照明フィールドの長手方向に沿って移動可能なエッ
ジが形成される。それぞれのブレードの端部はピボット
ピンによりリンクに取り付けられている。リンクは別の
ピボットピンによりプッシュロッドに取り付けられてい
る。リンクは固定リンク、可撓リンクのいずれでも良
い。プッシュロッドは個別に調節可能であり、ブレード
を矩形照明フィールドに対して出し入れ制御できる。各
ブレードのエッジの隅には、ピボットピンからブレード
エッジ間の距離に等しいアールが付けられている。本発
明はまた、の方法によれば、転写すべきパターン形状の
線幅に依存して照明フィールドの長手方向に沿って所定
の露光線量を得る方法に関する。本発明の別の実施例で
は、長手方向に沿った照明フィールドの幅は動的に、す
なわち感光性基板またはウェハ上を照明フィールドが走
査する間に調節される。補正露光線量は記憶されている
フォトリソグラフィシステムまたは装置のシグネチャ、
特定のレチクル、およびレジスト応答関数に関する情報
に基づいて計算される。照明フィールドの幅は補正露光
線量を得るために調節される。
【０００４】従って、本発明の課題は矩形照明フィール
ドの均一性を高めることである。
【０００５】本発明の別の課題は、矩形照明フィールド
の長手方向に沿って一定の照明光束を得ることである。
【０００６】本発明の別の実施例の課題は、照明光束ま
たはエネルギーを局部的に調節して、局部的な線幅変動
を補償することである。
【０００７】本発明の利点は、矩形照明フィールドをス
ムースに連続的に調節することが可能となることであ
る。
【０００８】本発明の別の利点は、矩形照明フィールド
の調節が容易であることである。
【０００９】本発明の別の利点は、線幅対露光線量比を
一定に保持できることによりシステム性能が向上するこ
とである。
【００１０】本発明の別の実施例の利点は、照明強度ま
たはエネルギーを照明フィールドに沿った異なる場所に
おいて、走査中に連続的に変動できることである。
【００１１】本発明の特徴は、複数のブレードがピボッ
トにより相互に結合されて可調節エッジを形成すること
である。
【００１２】本発明の別の特徴は、ブレードとプッシュ
ロッドとの間にリンクが使用されることである。
【００１３】本発明の実施例の特徴は、露光線量が照明
アジャスタにより計算され、かつ制御されることであ
る。
【００１４】図１に、図示しない照明装置により形成さ
れた照明プロファイル１０を示す。矩形照明フィールド
またはスリット１２が形成される。照明フィールド１２
はＹ軸方向に長さを、Ｘ軸方向に幅を有する。波形１４
は矩形照明フィールド１２の幅すなわちＸ方向に沿った
強度分布を示す。照明プロファイル１０は不均一部分を
有することがある。波形１６は不均一部分を表す。この
不均一部分により、ウェハ等感光性レジスト被覆基板の
露光が不均一となると、品質が低下したり歩留まりが悪
化する。本発明を概略的に調節可能スリット装置２０と
して図示する。調節可能スリット装置２０は複数の調節
可能ブレードを有し、該ブレードは選択的に、矩形照明
フィールドまたはスリット１２の長さ方向に沿って照明
プロファイル１０に挿入される。こうして矩形照明フィ
ールドの照明エネルギーまたは光束を調節することによ
り、矩形照明フィールドの長さ方向に沿った照明エネル
ギーまたは光束が補正され均一性が高められる。よっ
て、矩形照明フィールド１２をＸ方向に矢印１８で示す
ように走査する際、所望の均一性の高い露光が得られ
る。
【００１５】図２に本発明により得られる、均一性の改
善された照明エネルギーまたは光束を示す。図２の波形
２２は、図１の矩形照明フィールドの幅方向に沿った補
正前の照明エネルギーまたは光束の合計すなわち積分
を、Ｙ軸すなわち長手方向に沿って示している。波形２
２の一部２６は、図１に示された不均一部分１６の結果
生じた照明エネルギーまたは光束の低下を表す。波形２
４は、図１の調節可能スリット装置２０のブレードを選
択的に照明プロファイル１０に挿入した結果得られた、
より均一な照明エネルギーまたは光束を表している。こ
れにより、図１の矩形照明フィールドまたはスリット１
２のＹ方向すなわち長さ方向に沿ったエネルギーレベル
または光束がより一定すなわち均一になっているのが分
かる。このため、感光性レジスト被覆基板を、所望する
ように、より均一に露光することが可能となる。
【００１６】図３に本発明の実施例を概略的に示す。フ
レーム２８は上部支持体３０と下部支持体３２を有す
る。上部支持体３０は内部に上部孔３６を有する。下部
支持体３２は内部に下部孔３８を有する。それぞれの孔
３６、３８内にはプッシュロッド３４が配設されてい
る。孔３６と３８は、内部でプッシュロッド３４を摺動
可能な直径を有する。個々のプッシュロッド３４の一端
はねじ切りされ、フレーム２８のフレーム孔４０内を貫
通する。下部支持体３２とフレーム２８の一部と間には
ナット３９が配置され、該ナットはプッシュロッド３４
のネジ切り部３５に螺装されている。プッシュロッド３
４の他端はリンクピボットピン４２により結合リンク４
４に取り付けられている。結合リンク４４の他端はブレ
ードピボットピン４６によりブレード４８の一端に取り
付けられている。よって、終端のブレード５０以外は、
ブレード４８それぞれの一端にプッシュロッド４４が１
つ結合されている。終端ブレード５０は一端がプッシュ
ロッド４４に結合され、他端は終端ピボットピン５１に
よりフレーム２８に結合されている。終端ブレード５０
には内部にスロット５３を設けることができる。ブレー
ド４８は概して、または実質的に矩形であるが、２隅に
アールが付けられている。このアールは実質的にピボッ
トピン４６とブレード４８のエッジ間の距離に等しい。
延長支持体５２はフレーム２８の側面に沿って摺動する
ように取り付けられている。延長支持体５２は図示しな
い固定支持体に取り付けることもできる。セットねじ５
４は摺動延長支持体５２を固定するのに使用される。延
長支持体５４は、ブレード４８の列を含むフレーム２８
全体を一斉に、すなわち全て同時に移動または持ち上げ
るために使用される。これにより、ブレード４８を個別
に移動することなくブレード４８の列を所定の位置に上
げたり下げたりできる。これは最初の位置合わせ時や、
大きな調節量が必要な場合にブレードを素早く移動させ
るために行われる。
【００１７】図４には調節可能スリット装置の一部がよ
り詳細に図示されており、いくつかのブレード４８とそ
の動きが示されている。ブレード４８の隅のアール５６
により、隣接するブレード４８間の移行部がスムーズに
形成されている。２つのブレード４８の交差部５８には
鋸歯状の形を形成することもある。さらに、個々のブレ
ード４８の一端にはスロット６０を設けることもある。
スロット６０はブレードピボットピン４６に１つおきに
配設される。
【００１８】装置の動作は図３および図４を参照すれば
容易に理解できる。照明エネルギーの制御はプッシュロ
ッド３４を動かして、ブレード４８を選択的に照明エネ
ルギーまたは光束内に動かすことにより行われる。プッ
シュロッド３４はナット３９を回転させることにより各
々個別に調節できる。プッシュロッド３４が上部支持体
３０および下部支持体３２内で上下に移動すると、それ
ぞれのブレードが動く。ブレード４８にとりつけられた
リンク４４により、横方向すなわち横向きの柔軟性が得
られる。この柔軟性は、複数のブレード４８が直線を崩
すように動く際に、プッシュロッド３４間の間隔に僅差
横方向移動（ nominal differential sideways movemen
t ）が生じるため必要となる。この横方向移動柔軟性が
ないと、プッシュロッド３４またはブレード４８に不必
要な応力または歪みが加わってしまう。ブレード４８内
のスロット６０によりさらに、ブレード４８の移動によ
る応力または歪みが低減される。スロット５３は終端部
５０にも設けることができる。また、ピボットピン４２
の代わりに可撓性部材でリンク４４を取り付けることに
より柔軟性を得ることもできる。また、固定リンク４４
の代わりに可撓性部材を利用して横方向柔軟性を得るこ
ともできる。摩擦力だけではしっかりとブレード４８を
所定位置に留めることが出来ない場合は、一連のブレー
ドの一端にばねを設けて、所定の張力またはバイアスを
ブレード４８にかけることもできる。
【００１９】上記の説明ではプッシュロッド３４はねじ
切り部分とナットにより移動されたが、その他の手段ま
たは装置、例えば当業者には公知の機械的または電気機
械的手段等によりプッシュロッド３４を移動させること
も可能である。また、上記以外のねじ式のプッシュロッ
ドも、本発明の実施におけるブレード４８の移動のため
に容易に適用することができる。調節可能スリット装置
の精細度は用いるブレード４８の数のみに依存するが、
わずか１５個程度のブレード４８を用いて十分な効果が
得られる。
【００２０】図５Ａおよび図５Ｂは本発明の別の実施例
の部分断面図である。図５Ａおよび図５Ｂは、本発明の
実施において使用できるプッシュロッドの別の構造を示
している。ここで留意すべきことは、図５Ａおよび図５
Ｂは、図１および図３に示されたのと類似の多数または
複数のブレードを有する多数または複数のプッシュロッ
ドのうちの１つを示しているに過ぎないということであ
る。図５Ａおよび図５Ｂでは、ブレード１４８はブレー
ドピボットピン１４６により相互に回動自在に結合され
ている。ピボットピン１４６はプッシュロッドねじ切り
延長部１３７を貫通する。プッシュロッド延長部１３７
は二またになっており、この間にブレード１４８が挿入
される。プッシュロッド延長部１３７は軸方向孔と雌ね
じ１３９を内部に有する。プッシュロッド１３４表面に
は雄ねじ１３５が切られている。プッシュロッド１３４
はまた小径部１３１を有し、該小径部には支持体１３０
が配設される。小径部１３１はプッシュロッド１３４が
軸方向に移動することを防止する。プッシュロッド１３
０の下半分を囲うように螺旋スプリング１６２が配設さ
れている。螺旋スプリング１６２は一端が支持体１３０
により、他端はプッシュロッド１３４に取り付けられた
ばね止め１６４により制限される。プッシュロッド１３
４の一端にはノブ１６６を設けることもできる。プッシ
ュロッドねじ切り延長部１３７の軸方向孔１４１の内部
には可撓性リンク１４４が少なくとも１つ配設されてい
る。可撓性リンク１４４はプッシュロッド延長部１３７
にピン１４６により取り付けられ、該ピンはブレード１
４８内のスロット１６０を貫通している。スロット１６
０はブレード１４８内に設けられた長形の孔である。す
べてのブレード１４８にこの長形孔すなわちスロット１
６０を設ける必要はない。可撓性リンク１４４の他端は
ピン１４２によりプッシュロッドねじ切り延長部１３７
に取り付けられている。可撓性リンク１４４がもたらす
柔軟性結合によりブレード１４８の横方向の移動が可能
になる。このように、ブレード１４８は、プッシュロッ
ド１３４に螺合されたプッシュロッドねじ切り延長部１
３７に可撓的に結合されている。図５Ｂは、図５Ａから
約９０度回転されたプッシュロッドねじ切り延長部１３
７の部分断面図である。図５Ｂでは、可撓性リンク１４
４がより明確に示されている。この図では可撓性リンク
が２個あり、ブレード１４８のそれぞれの面に１つ配設
されている。ただし、実施の態様によっては２個が好適
な場合もあるが、１つでも十分である。可撓性リンク１
４４の断面を矩形として、ブレード列の横方向移動は可
能であるが、ブレード列の面から逸脱する動きは可撓性
リンク１４４のより大きい矩形断面長さにより制限され
るよう構成することもできる。
【００２１】図５Ａと図５Ｂに示す実施例の動作は以下
の通りである。ノブ１６６を回すとプッシュロッド１３
４が矢印１６８で示すようにいずれかの方向に回転し、
プッシュロッドねじ込み延長部１３７が矢印１７０で示
すように上または下に移動する。つまり、ブレード１４
８の端部が上下に動く。したがって、ブレード１４８は
図１において概して参照番号１０で示された照明内に出
し入れされる。ばね１６２により雄ねじ１３５と雌ねじ
１３９にはわずかに張力が加えられるため、遊びが無く
なると同時に不要な回転が防止される。複数のブレード
１４８が結合されたシステムにおいてプッシュロッドを
複数使用すると、プッシュロッド１３４の上下移動によ
りブレード１４８が上下し、ブレード１４８を結合して
いるピン１４６に横方向の力が加わる。この横方向応力
のほとんどは可撓性リンク１４４の水平移動により補償
される。したがって、図５Ａと図５Ｂに示した実施例は
図３と図４の実施例と類似しているが、図３と図４の固
定リンク４４の代わりに可撓性リンク１４４が使用され
ている点で異なる。図３、図４のリンク４４と、図５
Ａ、図５Ｂの可撓性リンク１４４は、いずれもブレード
４８、１４８をプッシュロッド３４、１３４に結合して
同様の機能、即ち図１の照明内に複数のブレード４８、
１４８を出し入れする際の水平移動をもたらすという機
能を果たすリンクである。
【００２２】図６は本発明の組立済みすなわちリソグラ
フィ装置内に搭載可能な状態を示す斜視図である。フレ
ーム２２８はマウント２７４に取り付けられている。複
数、すなわち本実施例では１５本のプッシュロッド２３
４がフレーム２２８により所定位置に固定されている。
複数のプッシュロッド２３４の一端には複数のプッシュ
ロッドねじ込み延長部２３７が螺合している。プッシュ
ロッド延長部２３４はそれぞれブレードピボットピン２
４６により２枚のブレード２４８に結合されている。ブ
レードピボットピン２４６によりまた、図示しないリン
クの一端がプッシュロッドねじ込み延長部２３７とブレ
ード２４８に結合する。このリンクは固定リンクでも可
撓性部材による可撓性リンクでも良い。リンクピボット
ピン２４８は該図示しないリンクの他端をプッシュロッ
ドねじ込み延長部材２４６に取り付ける。その構造は図
５Ａと図５Ｂに示したものと非常に似ている。結合され
たブレード２４８の列端はそれぞれ延長支持体２５２に
取り付けられている。延長支持体２５２はフレーム２２
８内で摺動可能で、固定ネジ２５４により所定の位置に
固定される。延長支持体２５２により、結合されたブレ
ード２４８の列をまとめて同時に持ち上げることができ
る。これにより、結合されたブレード２４８の列の初期
位置合わせが可能となる。それぞれのプッシュロッド３
４にはスプリング２６２が配設される。プッシュロッド
２３４の他端にはノブ２６６が設けられる。ノブ２６６
はプッシュロッド２３４を個別に回転させて個々のブレ
ード２４８を上下、すなわち図示しない矩形照明フィー
ルド内に出し入れするために使用される。固定シールド
２７２はブレード２４８の列の近くに配設される。
【００２３】実施の態様によっては感光性レジスト被覆
基板またはウェハに対し、所定の不均一な露光を行うこ
とが望まれる場合がある。これは例えば、感光性レジス
ト被覆基板に転写する形状の線幅が単一でない場合であ
る。このような異なる線幅は照明フィールドの長手方向
に沿った様々な場所にあるかもしれない。通常は矩形照
明フィールドの長手方向にわたる均一性を一定にするこ
とが望ましい。しかし、様々な線幅を転写する必要があ
る場合には、露光線量を線幅の関数として変化させるこ
とが有利である。一定の線幅対露光線量比を維持するこ
とにより、転写およびシステム能力を向上させることが
できる。つまり、線幅が比較的大きい時には照明フィー
ルド内の対応する長手方向位置における露光線量を増大
し、線幅が比較的小さい時には照明フィールド内の対応
する長手方向位置において露光線量を減少させるのであ
る。選択または補正された露光線量は、例えば線が垂直
または水平に方向付けられているといった形状の方向付
けとは無関係である。照明フィールドの長手方向に沿っ
ての露光線量の増大または減少は本発明の装置により容
易に達成できる。シミュレーションの結果、このような
方法はシステムの線形応答範囲において形状寸法および
種類に依存しないことが分かっている。さらに、グルー
プ形状と個別形状間のバイアスも影響されない。
【００２４】図７のブロック図は本発明の方法を示して
いる。ブロック３１０は複数の結合されたプッシュロッ
ドを照明フィールドに挿入するステップである。結合さ
れたプッシュロッドは図３〜図６に示した構成を有する
ことができる。ブロック３１２は転写形状の線幅の関数
として所望の露光線量を決定するステップである。所望
の露光線量は周知の技術により計算でき、その際レジス
トタイプ、基板材料、照明エネルギー、照明波長走査速
度等を考慮することができる。この計算はコンピュー
タ、または線幅の関数としての露光線量のルックアップ
テーブルから得ることもできる。或いは又、所望の露光
線量は、実際の実験結果すなわち一連のテスト露光によ
り得ることもできる。ブロック３１４は個別の結合プッ
シュロッドを調節して所定量の電磁放射光を遮断するた
めのステップである。これにより照明フィールドの長手
方向に沿った所定の位置において所定の露光線量を得る
ことができる。ブロック３１８は基板上で照明フィール
ドを走査することにより感光性レジスト被覆基板を露光
するステップである。本発明の方法の実施において、照
明フィールドの長手方向に沿って露光線量が、レチクル
上の対応場所でのパターン線幅の関数として調節され
る。レチクル上の線幅の変化に従って、照明フィールド
沿いの対応する位置が調節されて、所望すなわち最適化
された露光線量が得られる。この露光線量調節は、結合
されたプッシュロッドに取り付けたモータにより自動的
に行うよう構成してもよい。照明フィールドの露光線量
調節は使用する種々異なるレチクル毎に行うが、その調
節は容易である。
【００２５】本発明の別の実施例では、様々な形状のパ
ターンを個別に転写することにより、感光性レジストす
なわちフォトレジストで被覆されたウェハ等の感光性基
板上における像形成が最適化される。図８Ａおよび図８
Ｂには様々なタイプの形状を有したレチクルが示されて
いる。図示の垂直レチクル４１０は垂直形状タイプ４１
２を有している。水平レチクル４１２は水平形状タイプ
４１６を有する。垂直レチクル４１０上に示されている
垂直形状タイプ４１２は例示のため単純化されている。
実際には垂直レチクル４１０は、感光性基板すなわちフ
ォトレジスト被覆基板に転写するための多数の素子から
構成されていることに注意されたい。ただし、垂直レチ
クル４１２がその上部に有する形状タイプは大多数が、
垂直に方向付けられた線等の垂直形状タイプである。同
様に、図８Ｂには水平形状タイプ４１６を有した水平レ
チクル４１４が示されている。垂直レチクル４１０と同
様、水平レチクル４１４が上部に有する形状タイプは比
較的多数の水平形状タイプ４１６、すなわち主として水
平方向に方向付けされた線である。垂直形状タイプ４１
２は水平形状タイプ４１６に直交している。水平および
垂直という用語はここでは相対的に用いられており、単
に利便性のためである。形状タイプの水平および垂直方
向性は図９Ａおよび図９Ｂに示したように、レチクルに
対して回転させることができる。図９Ａでは、第１レチ
クル４１８は上部に第１形状タイプ４２０を有してい
る。図９Ｂでは、第２レチクル４２２が上部に第２形状
タイプ４２４を有している。第１形状タイプ４２０と第
２形状タイプ４２４とはレチクルの方向に対して異なっ
た角度で配置することもできるが、互いに直交させるの
が望ましい。
【００２６】図１０にはリソグラフィ技術により製造さ
れた半導体デバイスの一部の断面図が示されている。基
板４２６の上には第１の線４２８と第２の線４３０が配
設されている。図１０には一層しか示されてないが、典
型的には製造される半導体デバイスの種類に応じて様々
な層が付加される。第１線４２８は水平幅Ｗと隣接する
線間の間隔を有する。ただし、線幅という用語は隣接す
る線４２８、４３０間の間隔を指す場合もある。
【００２７】図１１は、図１０の基板４２６上に形成さ
れた第１線４２８の平面図である。第１線４２８は第１
エッジ４３２と第２エッジ４３４を有する。エッジ４３
２と４３４は直線として線幅を均一にするのが一般的に
は望ましい。既存の技術では１２０ｎｍ程度の微細な線
幅の場合、均一な線幅、よって真っ直ぐなエッジを得る
のが非常に難しい。従って、線の途中の幅が図示の幅
Ｗ’のように狭くなったり、幅Ｗ”のように広くなった
りすることがある。本発明の本実施例によれば、形状タ
イプに関わらず線幅の変動が低減される。
【００２８】図１２は本発明による照明フィールド、従
って露光を調節することにより様々な選択された形状タ
イプが使用された線幅をより均一にするための実施例を
ブロック図で表したものである。ブロック４３６は例え
ば垂直または水平方向性の形状等、最適化する形状タイ
プを１つ選択するステップである。ブロック４３８は最
適化するために選択された形状タイプのレチクルを使用
するステップである。ブロック４４８は、照明フィール
ドを調節して露光を最適化し、変動の少ない、より均一
な線幅を得るためのステップである。照明フィールドを
調節するステップは本発明の調節可能スリットを使用し
て行うのが好適である。例えば、線幅が比較的狭い場
合、調節可能スリットを線幅の狭い部分の場所において
照明フィールドに挿入することにより電磁放射照明を遮
断し、露光を低減して、処理後に得られる線幅を増大さ
せる。線幅が比較的広い場合、調節可能スリットを調節
して該線幅の広い部分における電磁放射光を増大するこ
とにより露光線量を増やし、該幅広部分の線幅を低減す
る。ブロック４４２は調節された照明フィールドから得
られる露光線量で感光性基板を露光するステップであ
る。結果として、線幅均一性が大幅に改善される。図１
２に示した方法は所望の形状タイプの数だけ繰り返す
が、直交した２つだけの選択形状タイプを選択するのが
好適である。該２個の選択形状タイプは好適には垂直お
よび水平方向性で互いに直交しているのが好ましいが、
どのような角度方向性を有していても構わない。本発明
の実施により、１２０ｎｍ程度の線幅の微小素子または
形状を、線幅の５０％にもわたって調節できる。
【００２９】本発明は特に遠紫外線走査ステップ式リソ
グラフィシステムに好適である。走査システムにおいて
は、様々な変数や要素によりリソグラフィ装置が特有の
シグネチャを有するようになることがある。このシグネ
チャにより、線幅の転写またはプリントが変動すること
がある。本発明は照明フィールドまたはスロットを調節
してリソグラフィ装置のシグネチャを補償するが、線幅
を最適化するためには異なる形状タイプに応じて様々な
調節が必要である。照明フィールドまたはスロットに沿
った位置の関数としての線幅変動は様々な形状タイプ方
向性に依存して変化する。つまり、形状の方向性に依存
して焦点面シフトが異なることを意味する。一般に、こ
の差は同相焦点面シフトと異相焦点面シフトの組み合わ
せとして表される。同相焦点面シフトでは、水平と垂直
の両方の形状タイプが共通に同様に影響すなわち調節さ
れる。異相モード焦点面シフトでは水平と垂直それぞれ
の形状タイプが別個に影響される。同相焦点面シフトは
光学的フィールド開口部、レチクル／ステージ平面度お
よびその他の変数から生じる。異相モード焦点面シフト
は非点収差と水平垂直バイアスから生ずる。様々な形状
タイプを有する様々なレチクルの使用により処理時間が
増大することもあるが、そのような付加的な処理時間
は、実際にはデバイスの製造に必要な層全体のわずかな
部分から成る臨界的に重要な層のみに必要である。よっ
て、処理時間の増大は比較的小さく抑えられる。本発明
の本実施例の方法を実施する際には、線幅補正を要する
形状タイプの１つ１つについて、照明フィールド即ちス
ロットの長手方向に沿った場所において線幅変動を測定
する。これはまず最初に測定値の取られたテストパター
ン等の公知の方法で行うことができる。測定された線幅
変動補正の必要量は、それぞれの形状タイプ用の必要露
光線量プロファイルに変換される。この露光線量プロフ
ァイルに基づいて、それぞれの形状タイプの線幅に必要
とされる調節可能スリットの設定値が決定される。本発
明のこの実施例の方法においては、既述の調節可能スリ
ットかそれと同等または類似の構造を利用して、照明フ
ィールドすなわちスロットに沿った照明エネルギーを変
化させることができる。多重露光技術により感光性基板
を複数回露光するが、その際露光の度毎に、１つの形状
タイプを有した異なるレチクルが使用される。個々の露
光中、照明フィールドが、それぞれの形状タイプ用に測
定または計算された線幅変動補正量に従って調節可能ス
リットにより調節される。一般的には２個のレチクルが
使用されて２回の異なる露光が行われる。それぞれのレ
チクルが特定の形状タイプのみを有し、水平および垂直
バイアスが補正される。レチクルのデザイン内に特別な
線終端形状を挿入して、互いに異なる方向性の形状を突
き合わせる必要のある場所での良好な綴じ合わせを得る
ことができる。
【００３０】調節可能スリットは異なる形状タイプを異
なるレチクルで露光する度毎に手動で交換することがで
きる。調節可能スリットはさらに、適当な周知のモー
タ、センサ、および調節可能スリットの様々な位置を設
定するためのソフトウェア操作により容易に自動化でき
る。よって、調節可能スリットを素早く正確に設定する
ことができ、スリット並びに照明フィールドエネルギー
を調節するための時間を大幅に縮小できる。レチクル交
換時間を低減するために、水平と垂直の２種類の形状タ
イプを有するレチクルを１つの基板に配設することもで
きる。これは通常のレチクルでフィールドサイズを失う
ことなく可能である。
【００３１】したがって、本発明の本実施例によれば走
査型リソグラフィ装置におけるシステム性能が大幅に改
善され、微細な形状寸法または線幅の製造制御が可能と
なる。
【００３２】また、本発明によれば、矩形照明フィール
ドまたはスリットの調節が非常に容易になり、特に走査
型リソグラフィシステムにおいて有用な均一性の改善さ
れた照明が得られる。結合されたブレードの組により滑
らかな移行が得られるため、照明エネルギーの調節機能
が大幅に向上し、その結果半導体ウェハ等、感光性レジ
スト被覆基板の露光が均一化される。さらに、本発明の
実施例による照明フィールドの調節方法によれば、比較
的形状寸法の小さい素子の線幅の制御が大幅に容易とな
る。
【００３３】図１３〜図１７に示す本発明の別の実施例
は、照明フィールドの幅を動的に調節して、露光された
感光性基板の局部における露光線量を制御するものであ
る。従って、局部的な線幅変動は、動的調節可能照明フ
ィールドの走査中にわたって補償される。本発明の実施
例では、調節可能スリットを走査動作中にわたり動的に
制御して、転写性能を改善し、線幅変動を低減させる。
露光フィールド内の任意の局部に照射される照明強度ま
たはエネルギーは、調節可能スリットの幅を動的に調節
することにより変動させられる。
【００３４】図１３に本発明の実施例の斜視図を示す。
実質的に矩形である照明フィールド５１０の最大幅はＷ
maxであり最小幅はＷminである。照明アジャスタ５２０
は、実質的に矩形である照明フィールド５１０の１辺に
沿って長手方向に沿って伸びている。照明フィールド５
１０を矩形として図示するが、他の形状を使用してもよ
い。照明アジャスタ５２０は複数の調節可能な長さから
形成され、これは既に図示し説明したとおりである。照
明アジャスタ５２０は所定の輪郭５２４を、照明フィー
ルド５１０の長手方向に沿って形成する。有利には、照
明の輪郭５２４は、比較的細かい刻みをもって長手方向
および横方向の両方において調節される。長手方向には
わずか１ｍｍの刻みを容易に達成でき、水平方向にはさ
らに細かい寸法を達成できる。長手方向の制限は、照明
フィールド内に挿入されるブレードのサイズだけであ
る。横方向すなわち幅方向の寸法を制限するのは、ドラ
イブアクチュエータの動きだけである。可調節輪郭ドラ
イブ５３３は複数のソレノイド、またはこれに同等なも
のからなっており、選択的または所定のように可調節輪
郭５２４を調節または変化させる。従って、実質的に矩
形である照明フィールド５１０は長さ方向に沿って所定
のやり方で、最大幅Ｗmaxと最小幅Ｗminとの間の範囲内
で調節される。調節可能照明フィールド５１０はステー
ジ５３５上に配置されたレチクル５３７を、ステージ制
御部５３９の制御により走査する。矢印５１８は走査方
向Ｘを表す。調節可能スリット制御部５４１は照明アジ
ャスタ制御部５３３に結合され、それにより可調節輪郭
を所定のやり方で変動させ、長手方向に沿って照明フィ
ールドを修正する。それにより走査中、感光性基板に照
射される露光線量を修正、または調節することができ
て、線幅の変動が補償される。露光計算器５４３は所望
の露光線量を得るために調節可能スリット制御部５４１
に情報を供給して、感光性基板上に複写されるレチクル
５３７のイメージを改善する。
【００３５】動作中は、照明フィールド５１０がレチク
ル５３７を端から端まで走査するのに伴って照明フィー
ルド５１０の幅は連続的に調節かつ制御されるが、これ
は調節可能スリット制御部５４１により露光計算器５４
３から供給される情報に基づいて行われる。従って感光
性基板に照射される照明エネルギーまたは照明強度は、
種々の局部または領域にわたって動的に調節されて、感
光性基板上のイメージの質に影響しうる線幅変動、照明
フィールドの不均一性、レチクルのばらつき又はでこぼ
こ、ならびに投影光学系の特性（ particularity ）の
いずれをも補償する。特定のフォトリソグラフィシステ
ムまたは装置に関連するすべての変数を、一般的にシグ
ネチャと呼ぶ。システムシグネチャはテスト用レチクル
を露光することにより容易に決定できて、感光性基板上
へのイメージの最適な複写を保持または提供するため
に、特定の露光線量に対して必要とされるように個別に
適応させる。高性能フォトリソグラフィシステムまたは
装置に関連した種々の変数に加えて、補償しなければな
らない変化が時と共に生じる。例えば光源がゆらいだ
り、光学系が老化して転写性能が低下したり、レチクル
が一様でなかったりする。本発明の実施例による動的調
節可能スリットは照明フィールドを細かく調節すること
ができ、その結果得られる走査露光中の露光線量は、感
光性基板上のイメージの複写を改善する。調節または補
正された露光線量は、テスト用レチクルの露光に基づい
て露光され処理された基板の線幅の測定結果に基づき、
容易に計算することができる。
【００３６】図１４に示すのは、処理後の感光性基板５
６０上の、線幅変動または不均一部分を含む種々の局部
５４５である。線幅変動または不均一部分を含むこれら
の局部５４５は、既知または未知である複数の変数のう
ちの任意の１つの変数により生じてしまう。しかし通
常、線幅変動に関する局部５４５はテスト用レチクルを
露光することにより決定および測定される。それらの場
所および変動の測定値を決定後、補正露光線量が公知の
技術により計算される。
【００３７】図１５に図示するのは感光性基板に照射さ
れる照明エネルギーであり、これには本発明による調節
可能照明フィールドが用いられている。通常または理想
的な状況では、照明強度または露光線量は均一である。
しかし、照明エネルギー５２１は種々の局部において調
節され、それにより複写またはプリントされるイメージ
の質が改善する。例えば場所５１５では照明エネルギー
または露光線量を増加させるが、これはポジ形レジスト
を用いている場合ならば、感光性基板上の線幅を細くす
るためである。同様に、場所５１９は別の局部における
照明エネルギーまたは強度の増加を表す。場所５１７は
別の局部における照明強度またはエネルギーの減少を表
す。本発明による調節可能スリットを走査動作中に動的
に用いることにより任意の局部の照明エネルギーまたは
露光線量が調節されて、イメージの質が改善される。パ
ターンの複写またはプリントも改善される。
【００３８】図１６はポジ型フォトレジストに対する感
光性レジストまたはフォトレジストの露光、転写、また
は応答の関数５３２を示すグラフである。ポジ型フォト
レジストについては露光または線量を増加させると、得
られる処理済みフォトレジスト被覆基板の線幅、すなわ
ちレチクル上の不透明な線が縮小される。また露光また
は線量を減少させると、得られる処理済みフォトレジス
ト被覆基板の線幅が増加する。波形５３４はこの関係を
表す；つまり、露光または線量を増加すると得られる処
理済みフォトレジスト被覆基板の線幅が拡大し、露光ま
たは線量を減少すると得られる処理済みフォトレジスト
被覆基板の線幅が縮小する。公称中心点５３８は、特定
のフォトレジストに対して幅Ｗが得られる線量ｄを示
す。点５３６は拡大した線幅Ｗ+が得られる減少した線
量ｄ-を表す。点５４０は縮小または減少した線幅Ｗ-が
得られる増加した線量ｄ+を表す。従って、レチクル上
の所定の線幅Ｗを感光性基板上に転写したとしても、得
られる処理された線幅は線量または露光線量の関数とし
て変動する。結果的に、フォトリソグラフィ装置のシグ
ネチャ、およびレジスト応答関数に基づいて補正された
局部的な露出線量を決定することができて、局部におけ
る線幅変動が大幅に低減される。
【００３９】図１７に示すブロック図は、照明フィール
ドひいては露光線量をレチクルのイメージを感光性基板
により正確に複写するために動的に調節する、本発明の
実施例である。ブロック５５０のステップまたは作用
は、局部的に線幅変動する場所を決定するものであり、
線幅変動は投影光学系によるレチクルのイメージの投影
から生じる。ブロック５５２のステップまたは作用は、
線幅変動を補償するために補正露光線量を計算するもの
である。この計算は、図１６に示すような使用される特
定のフォトレジストに対するフォトレジスト応答関数に
基づく。ブロック５５４のステップまたは作用は、補正
露光線量を得るために、縮小された照明フィールド幅を
計算するものである。これは照明フィールドの面積の縮
小、および結果的に得られる感光性基板に照射される照
明エネルギーに基づいて容易に決定される。ブロック５
５６のステップまたは作用は、照明フィールドの長さ方
向に沿った幅を動的に調節するものであり、これは照明
フィールドがレチクルを走査し、レチクルのイメージを
感光性基板に投影する間に行う。上記ステップまたは作
用を本発明の実施例に従って実行することにより、感光
性基板に複写されるレチクルのイメージまたはパターン
は顕著に改善される。
【００４０】図１８に、感光性基板に照射する露光線量
を局部的に調節できるフォトリソグラフィシステムまた
は装置を示す。光源５６２は、レチクルステージ５３５
に支えられたレチクル５３７のイメージを感光性基板５
６０に投影する。レチクル５３７のイメージは、投影光
学系５４９により感光性基板５６０上に投影される。投
影光学系５４９の倍率は１より小さい。感光性基板５６
０はウェハステージ５５８上に配置されている。レチク
ル５３７はレチクルステージ５３５に配置されている。
レチクルステージ５３５およびウェハステージ５５８は
平行な平面内を動き、それにより照明フィールド５１０
の平行な走査を矢印５１８が示す方向に提供する。レチ
クルステージ５３５およびウェハステージ５５８はステ
ージ制御部５３９により同期または制御される。投影光
学系とレチクル５３７との間には、照明アジャスタ５２
０が配置され、所望の照明フィールドを提供する。照明
アジャスタ５２０は照明アジャスタ制御部５３３により
調節される。従って、実質的に矩形である照明フィール
ド５１０の幅は制御される。これは図１３に示すとおり
である。データ記憶装置５４７は、投影光学系、フォト
レジスト、レチクル、そしてその他任意の情報に関す
る、イメージの質またはパターンの複写に影響するデー
タを記憶する。データ記憶装置５４７内のデータは露光
計算器５４３に供給される。露光計算器は図１６に示す
フォトレジスト応答関数を含む、公知の技法に基づいて
最適な露光を計算する。露光計算器４３２は有利な、ま
たは最適化された露光線量についての計算された情報を
調節可能スリット制御部５４１に供給する。調節可能ス
リット制御部５４１は照明アジャスタ制御部５３３に指
示して照明アジャスタ５２０を駆動させ、その結果レチ
クル５３７および感光性基板５６０を矢印５１８が示す
方向に走査するのに伴い、照明フィールド５１０の幅は
動的に修正される。
【００４１】図１３〜図１８に示す本発明の実施例は、
フォトリソグラフィシステムまたは装置の性能の向上を
促進する。走査中に感光性基板に照射される照明フィー
ルドの幅、ひいては照明エネルギーまたは露光線量を動
的に調節することにより、局部的な変動は補償される。
このように照明強度または照明エネルギーをスロットま
たはスリット位置に沿って長手方向に、かつ走査動作中
の所定の時点で制御することにより照明強度の制御が可
能になるが、照明強度の制御は少なくとも２つのファク
タを補正するために使用される。第１のファクタは、ト
ランスミッションにおいてレチクル上の位置に伴うレチ
クルのブランク変動であり、第２のファクタは正規のパ
ターンから局部的に変動するパターン、すなわちレチク
ルのパターンをプリントする際の偏りにより生じた誤差
である。適切な調節可能エレメントを正しい量だけ出し
入れして、局部的なずれを補償するのに必要である正確
な量だけ照明レベルを局部的に変化させる。調節可能エ
レメントを制御するための電子技術または駆動システム
は簡単であり、当業者に公知の多くの手法で実現するこ
とができる。必要なエラー信号補正は様々な手法で発生
される。有利には、ワンオフ（ one off ）校正手法を
使用する。ここで、使用すべきレチクルは特定のフォト
リソグラフィ装置にプリントされている。関連のある局
部内のプリントされた線幅は検査され、線幅エラーマッ
プが作成される。露光に対する線幅の感度に関するリソ
グラフィについての知識により、作成されたエラーマッ
プは露光マップに変換される。露光マップは所望の線幅
を得るために必要な露光の差を示す。このリソグラフィ
についての知識およびシステムに関する知識により、露
光マップはレチクルの全範囲および相応する感光性レジ
スト基板にわたるアクチュエータ位置マップに移され
る。関連のあるエラー補正情報はシステムのコンピュー
タメモリに記憶され、特定のレチクルをプリントに使用
するときに使用できるようになっている。レチクル情報
のライブラリは記憶され、選択されたレチクルに依存し
て有用される。
【００４２】従って、本発明の実施例により、種々異な
る局部の露光が容易に調節され、フォトリソグラフィシ
ステムの性能を向上させる。局所化されたエリアの露光
をより強力に制御することにより、フォトリソグラフィ
システムを最適化することができ、レチクル上のパター
ンをより良好に複写できるようになる。従って、露光す
るために照射される照明強度またはエネルギーを動的に
調節することで、より安価かつ単純な照明系の使用が可
能になり、また製造中のフォトリソグラフィ装置の保守
をより容易なメンテナンスをもって行うことが可能にな
るが、これは照明強度またはエネルギーの制御を迅速か
つ容易に行うことができ、これにより通常は稼働休止期
間が必要となるシステム交換を補償するためである。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の矩形照明フィールドの照明プ
ロファイルと本発明の適用を示す図である。
【図２】図２は、照明エネルギーを示す図である。
【図３】図３は、本発明の実施例を示す図である。
【図４】図４は、本発明によるブレードの動きを示す図
である。
【図５】図５Ａは、本発明の実施例の一部の部分断面図
である。図５Ｂは、図５Ａに示す構成を９０度回転させ
た、部分断面図である。
【図６】図６は、本発明の斜視図である。
【図７】図７は、本発明の方法のステップを示すブロッ
ク図である。
【図８】図８Ａは、垂直形状を有するレチクルの図であ
る。図８Ｂは、水平形状を有するレチクルの図である。
【図９】図９Ａは、第１の形状を有するレチクルの図で
ある。図９Ｂは、図９Ａに示す第１の形状に直交する、
第２の形状を有するレチクルの図である。
【図１０】図１０は、基板上にリソグラフィにより形成
された線の断面図である。
【図１１】図１１は、リソグラフィにより形成された線
の一部の平面図である。
【図１２】図１２は、本発明の別の実施例の方法ステッ
プを示すブロック図である。
【図１３】図１３は、本発明の別の実施例による動的な
調節可能照明フィールドを示す図である。
【図１４】図１４は、局部的な線幅変動の平面図であ
る。
【図１５】図１５は、感光性基板に照射される照明強度
またはエネルギーを示す図である。
【図１６】図１６は、ポジ型レジストの応答関数を示す
図である。
【図１７】図１７は、本発明の実施例の方法ステップを
示すブロック図である。
【図１８】図１８は、本発明の実施例が組み込まれたフ
ォトリソグラフィシステムまたは装置を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル エヌ ガルバート アメリカ合衆国 コネチカット ウィルト ン ブレデン ヒル ロード 520 (72)発明者 デイヴィッド カラン アメリカ合衆国 コネチカット ノーウォ ーク イースト アヴェニュー ３

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 走査型フォトリソグラフィにおいて使用
    される照明フィールドを調節するための装置において、 複数のブレードと、複数のプッシュロッドと、駆動部
    と、制御部と、露光計算器と、データ記憶装置とを有
    し、 前記複数のブレードはそれぞれ端部において枢動自在に
    接続されており、 前記複数のプッシュロッドのそれぞれは前記複数のブレ
    ードの２個が接続された端部に結合されており、 前記駆動部は複数のプッシュロッドのそれぞれに結合さ
    れており、 前記駆動部はプッシュロッドを運動させ、それにより前
    記複数のブレードは照明フィールドに出し入れされ、 前記制御部は駆動部に結合され、該駆動部の運動を制御
    し、 前記露光計算器は制御部に結合され、補正露光線量およ
    び該補正露光線量を得るために複数のブレードを照明フ
    ィールドに出し入れする所要の運動を計算し、 前記データ記憶装置は露光計算器に結合され、該露光計
    算器が補正露光線量を計算するために必要とする情報を
    記憶し、 それにより照明フィールドは感光性基板の走査中、動的
    に調節されて線幅変動を低減させることを特徴とする装
    置。
  2. 【請求項２】 前記データ記憶装置はフォトリソグラフ
    ィシステムのシグネチャを表すデータを含む、請求項１
    記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記データ記憶装置はレジスト応答関数
    を表すデータを含む、請求項１記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記データ記憶装置はレチクルを表すデ
    ータを含む、請求項１記載の装置。
  5. 【請求項５】 走査型フォトリソグラフィにおいて使用
    される、感光性基板の露光線量を制御するための装置に
    おいて、 複数の調節可能リンクと、駆動部と、駆動制御部と、露
    光計算器と、データ記憶装置とを有し、 前記複数の調節可能リンクは照明フィールドの長手方向
    のディメンジョンに沿って配置され、 前記リンクが照明フィールドに出し入れされる動きには
    範囲があり、 前記駆動部は複数の調節可能リンクに結合され、該複数
    の調節可能リンクそれぞれを個別に動かし、 前記駆動制御部は駆動部に結合され、前記複数の調節可
    能リンクそれぞれが照明フィールドへ出入りする動きを
    制御し、 それにより感光性基板に照射される露光線量は、照明フ
    ィールドが感光性基板を走査する間調節され、 前記露光計算器は駆動制御部に結合され、該駆動制御部
    に駆動信号を供給し、 該駆動信号は、所定の調節された露光線量が照射される
    ように、前記複数の調節可能リンクが照明フィールドへ
    出入りする動きを制御し、 前記データ記憶装置は露光計算器に結合され、所定の調
    節された露光線量を計算するために記憶された情報を露
    光計算器に供給し、 それにより感光性基板を走査する間照明フィールドが修
    正されて、感光性基板の局部の露光を調節して線幅変動
    を低減させる、ことを特徴とする装置。
  6. 【請求項６】 前記データ記憶装置はフォトレジスト応
    答関数、線幅変動する場所、およびレチクルを表すデー
    タを含む、請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】 フォトリソグラフィにおいて使用される
    レチクルを走査する照明フィールドを制御するための装
    置において、 照明アジャスタと、露光計算器と、照明アジャスタ制御
    部とを有し、 前記照明アジャスタは照明フィールドの１つのディメン
    ジョンに沿って伸び、該照明フィールドのエッジを前記
    ディメンジョンに沿って修正し、 前記露光計算器は感光性基板の一部に対する補正露光線
    量を計算し、 前記照明アジャスタ制御部は露光計算器および照明アジ
    ャスタに結合されており、感光性基板を走査露光する間
    照明フィールドのエッジを制御して補正露光線量を得、 それによりレチクルから複写されるパターンの局部的な
    変動は補償されて、イメージの複写が改善される、こと
    を特徴とする装置。
  8. 【請求項８】 照明フィールドを動的に制御する方法で
    あって、該制御は所定の線幅のレチクルのイメージをも
    って感光性基板を走査露光する間行われる方法におい
    て、 線幅変動する場所を決定し、 前記線幅変動を補償するための補正露光線量を計算し、 前記補正露光線量を得るための修正照明フィールドを計
    算し、 走査露光の間に線幅変動する場所において照明フィール
    ドを修正照明フィールドに調節し、 それにより線幅変動を低減させる、ことを特徴とする方
    法。
  9. 【請求項９】 照明フィールドを動的に制御する方法で
    あって、該制御は所定の線幅のレチクルのイメージをも
    って感光性基板を走査露光する間行われる方法におい
    て、 処理された感光性基板において線幅変動する複数の場所
    を決定し、 前記複数の場所それぞれに対して補正露光線量を計算し
    て線幅変動を補償し、 前記複数の場所それぞれに対する補正露光線量を得るた
    めの修正照明フィールドを計算し、 走査露光の間に、線幅変動する複数の場所において照明
    フィールドを修正照明フィールドに調節し、 それにより線幅変動を低減させ、かつレチクルのイメー
    ジを感光性基板上により正確に複写する、ことを特徴と
    する方法。
  10. 【請求項１０】 感光性基板上にパターンを複写する方
    法において、 フォトリソグラフィシステムを用いて感光性基板にレチ
    クルのイメージを投影し、 複写されたレチクルのパターンを得るために感光性基板
    を処理し、 線幅エラーマップを作成し、 該エラーマップは、複写されたパターンの線幅がレチク
    ルのものから異なっている局部を同定し、 露光マップを作成し、 該露光マップは、局部において所望の線幅を得るために
    必要な露光の差を示し、 アクチュエータ位置マップを作成し、 該アクチュエータ位置マップは、露光マップに示された
    露光の差を得るために調整可能照明フィールドにおいて
    アクチュエータを制御するために使用され、 レチクルに関連するアクチュエータ位置マップを表すデ
    ータを記憶し、 感光性基板を露光するためにアクチュエータ位置マップ
    のデータを使用し、 それにより走査露光の際に照明フィールドを動的に調節
    して、レチクルのイメージの複写を改善する、ことを特
    徴とする方法。
  11. 【請求項１１】 走査型フォトリソグラフィにおいて使
    用される転写方法において、 処理された感光性基板上で線幅変動する複数の場所を決
    定し、 複数の場所それぞれにおいて感光性基板の露光を最適化
    するために必要な露光線量を計算し、 露光線量に基づいてレチクルのイメージをもって感光性
    基板を露光し、 それによりレチクル上のパターンの線幅変動を低減させ
    る、ことを特徴とする方法。
  12. 【請求項１２】 フォトリソグラフィ装置において、 光源と、調節可能照明フィールド開口部と、照明アジャ
    スタと、レチクルステージと、投影光学系と、ウェハス
    テージと、ステージ制御部と、データ記憶装置と、露光
    計算器と、照明アジャスタ制御部とを有し、 前記調節可能照明フィールド開口部は、光源からの電磁
    放射光を受け取るように配置され、 前記照明アジャスタは前記調節可能照明フィールド開口
    部の１つのディメンジョンに隣接して配置され、 前記照明アジャスタは、照明フィールドの内外へ伸びる
    可調節輪郭を有し、 前記レチクルステージは照明アジャスタからの電磁放射
    光を受け取るように配置され、 前記投影光学系は、レチクルステージに保持されたレチ
    クルからの電磁放射光を受け取るように配置され、 前記ウェハステージは投影光学系からの電磁放射光を受
    け取るように配置され、 前記ステージ制御部はレチクルステージおよびウェハス
    テージに結合され、該レチクルステージとウェハステー
    ジとの同期運動を走査動作の間制御して、レチクルステ
    ージに配置された感光性基板をレチクルのイメージをも
    って露光し、 前記データ記憶装置は、感光性基板の事前の露光から得
    た、露光線量および線幅変動する場所についての情報を
    記憶し、 前記露光計算器はデータ記憶装置に結合されており、補
    正露光線量を計算して線幅変動を低減させ、 前記照明アジャスタ制御部は露光計算器および照明アジ
    ャスタに結合され、走査動作の際に、可調節輪郭の動き
    を制御し、 それにより照明フィールドは動的に調節され、その結果
    補正露光線量が感光性基板に照射され、それにより線幅
    変動が低減され、かつレチクルのパターンを感光性基板
    に正確に複写する、ことを特徴とする装置。
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