JP2000299277A - 成形ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベクター型（成形ビーム型）ＥＢ描画装置を
用いたレチクル等のフォトマスクへの描画において、描
画品質を維持しつつ、描画時間を短縮できる方法を提供
する。 【解決手段】 処理対象である台形表示の図形データで
ある各台形について、以下の処理が可能なものは、元の
台形領域内に、１つ以上の、所定の高さＨｒの矩形領域
を設け、各矩形領域を、それぞれ、矩形データとして得
る矩形データ作成処理と、元の台形と前記矩形領域との
間に１個以上のｘ台形ないしｙ台形を設け、各ｘ台形な
いしｙ台形について、それぞれ、更に、照射するビーム
形状に対応した４５°の斜線を有するｘ台形、ｙ台形に
台形分割して、分割された台形データを得る台形データ
作成処理とを施すものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、成形ビーム型（シ
エイプドビーム型とも言う）の電子ビーム照射装置に用
いられる台形表示の図形データを、描画する際のビーム
形状に対応した矩形あるいは４５°の斜線を有する台形
により記述される描画データへ変換する際の、図形デー
タの処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体素子（チップ）の高密度化
は激しく、０．３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの
量産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５
６ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、
ウエハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するた
めの、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチ
クルについても、ますますその精度が求められるように
なってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチ
ップ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルー
ルまで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．
１８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されるさと
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２００
０年には０．１５μｍ設計ルールが開発完了予定とされ
ている。

【０００３】このような中、レチクル作製のためのパタ
ーン描画においても、その加工精度がますます厳しくな
るとともに、描画所要時間の短縮が求められている。パ
ターン描画としては、通常、ＥＢ描画装置が用いられる
が、所定径のビームをＯＮ−ＯＦＦしながら、全面走査
して描画するラスター型の電子ビーム描画装置（以下Ｅ
Ｂ描画装置とも言う）の場合、加工精度の要求が高くな
るに従い、その最小描画位置間隔（最小アドレスユニッ
トとも言う）をより細かくしていくことが必要で、これ
に伴い描画時間が格段に増えることとなり、０．１８μ
ｍ以下の設計ルールでは、実用レベルでなくなる。これ
に対して、矩形や４５°三角形に成形されたビームを用
い、パターン部のみを照射して描画を行うベクター型Ｅ
Ｂ描画装置は、描画速度の面でラスター型に比べ有利
で、レチクルの作製においても用いられるようになっで
きた。尚、このようなベクター型のＥＢ描画装置を、こ
こでは、成形ビーム型あるいはシエイプドビーム型のＥ
Ｂ描画装置とも言う。

【０００４】ここで、ベクター型（成形ビーム型）のＥ
Ｂ描画装置を図７に基づいて、簡単に説明しておく。先
ず、電子ビーム（ＥＢとも言う）の制御を説明する。電
子銃７１０から放出された電子は集光レンズ７２０によ
り集光され、矩形形状の開口を有する第１成形アパーチ
ャ７３０を通り、矩形形状に成形される。次いで成形さ
れたビームは投影レンズ７４０、成形偏向器７５０に
て、第２のアパーチャの所定位置に投影され、第１成形
アパーチャ７３０による成形形状と、第２のアパーチャ
７６０の開口形状により、第２成形アパーチャ７６０を
通過した時点では所定の形状（矩形ないし４５°三角形
等）に成形される。そして、副偏向器７５５、主偏向器
７５６により偏向された位置で、対物レンズ７８０によ
り焦点が制御され、被描画物７９０に照射される。副偏
向器７５５、主偏向器７５６による偏向はフィールド内
（図７の点線四角の範囲）７９１のみに対して行われ
る。このようにフィールド７９１内の描画は行われる
が、ステージ（図示していない）を相対的に移動するこ
とにより、被描画物７９０を移動して、被描画物７９０
の所定領域を描画できる。ステージ一方向移動７９５
（図７の直線矢印）方向に移動し、隣接する別のフィー
ルド内（図７の点線四角の範囲）を同様に偏向描画す
る。このような一方向移動が終えた段階でステップ移動
７９７を行い、併せて、被描画物７９０の所定領域全体
の描画を達成できる。

【０００５】成形された電子ビームの形状は、第１成形
アパーチャ７３０と第２成形アパーチャ７６０の開口形
状により、例えば図８（ａ）のようになる。図８（ａ）
において、８１０は第１の成形アパーチャの開口部の
像、８２０は第２成形アパーチャの開口部、８３１〜８
３５ビーム形状である。このように成形された電子ビー
ムにより、照射されて描画が行われるが、描画には、一
般に、矩形のビーム形状８３１と一方向の三角形のビー
ム８３２〜８３５が用いられている。

【０００６】ＥＢ描画装置用の台形データは、描画の
際、必要に応じて所定の高さの複数台形に分割され、各
台形に対応し、図８（ｂ）に示すように、三角形のビー
ム８３２、８３３と矩形のビーム８３１とで照射され
る。また、ＥＢ描画装置用の矩形データは、描画の際、
図８（ｃ）に示すように、必要に応じて所定の高さ、幅
の、１個以上の矩形のビーム８３１に分割され照射され
る。尚、図８中、８３１Ａは最大サイズの矩形ビームで
ある。

【０００７】ベクター型（成形ビーム型の）のＥＢ描画
装置用の図形データ（ＥＢ描画用データとも言う）につ
いて、以下、説明しておく。ＣＡＤソフトで処理され
た、ＥＢ描画装置用の図形データ（変換前）として、一
般に、図２（ｂ）、図２（ｃ）や、図３に示すような、
一方向に平行な対向辺（一方が０の場合も含む）を有す
る台形図形が用いられている。以降、ここでは、Ｘ方向
に平行な対向辺を有する場合ｘ台形、Ｙ方向に平行な対
向辺を有する場合ｙ台形と呼ぶ。この図形データの台形
は比較的大きく、照射する成形された電子ビームよりも
大きいため、前述のフィールド（図８（ａ）の描画領域
単位７９１）毎に、更に、台形の高さ方向を小さな描画
可能な所定幅に分割して、多数の照射するビームの形
状、サイズに対応した多数の描画データを作成し、各描
画データ毎にビーム照射を行っていた。即ち、所定の分
割幅（元の台形あるいは矩形の、高さ方向の所定の幅）
で分割を一意的に行うため、元の台形によっては、分割
数が極端に多くなり、描画時間が格段にかかってしまう
という問題もある。更に具体的には、図９（ａ）に示す
ような、斜辺の角度が４５°でない（α１、β１が４５
°でない）斜辺を有する図形データ９１０については、
ＥＢ描画装置用の図形データでできるだけ精確に近似し
て表現するには、通常、図９（ｂ）に示すように、４５
°台形または矩形を、分割幅小として、所定幅で表現し
ている。そして、描画の際に、これらの各台形データを
更に、図８（ｂ）に示すように、描画機に合った、高
さ、幅に分割しており、描画の際の照射するビームの数
が、非常に多くなり、描画時間がそれだけかかることと
なる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、レチクル
作成においては、描画時間短縮を目指して、ペクター型
（成形ビーム型）ＥＢ描画装置を採り入れたにもかかわ
らず、描画時間がかかることがあり、この対応が求めら
れていた。本発明は、これに対応するもので、ベクター
型（成形ビーム型）ＥＢ描画装置を用いたレチクル等の
フォトマスクへの描画において、描画品質を維持しつ
つ、描画時間を短縮できる方法を提供しようとするもの
である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の成形ビーム型電
子ビーム照射装置用の図形データ処理方法は、処理対象
である台形表示の図形データを、矩形あるいは４５°の
斜線を有する三角形に成形されたビームで照射する成形
ビーム型（シエイプドビーム型とも言う）の電子ビーム
照射装置に用いられるＥＢ描画装置用の図形データで、
且つ描画する際のビーム形状に対応した矩形あるいは４
５°の斜線を有する台形により記述されるＥＢ描画装置
用の図形データへ変換する際の、図形データの処理方法
であって、前記処理対象である台形表示の図形データで
ある各台形について、以下の処理が可能なものは、元の
台形領域内に、１つ以上の、所定の高さＨｒの矩形領域
を設け、各矩形領域を、それぞれ、矩形データとして得
る矩形データ作成処理と、元の台形と前記矩形領域との
間に１個以上のｘ台形ないしｙ台形を設け、各ｘ台形な
いしｙ台形について、それぞれ、更に、照射するビーム
形状に対応した４５°の斜線を有するｘ台形、ｙ台形に
台形分割して、分割された台形データを得る台形データ
作成処理とを施すものであることを特徴とするものであ
る。そして、上記において、所定のサイズの高さＨｒ
は、照射する矩形ビームの形状に対応した高さで、照射
する矩形ビームの最大高さＨｍの整数倍であることを特
徴とするものである。そしてまた、上記における矩形デ
ータ作成処理は、元の台形領域内に、台形の平行な２辺
の１辺より、該台形の高さ方向に、順に、描画の際の矩
形ビームの高さに対応した所定の高さＨｒ毎に分割し
て、各分割領域内に、分割領域のサイズに対応して矩形
領域を設けるものであることを特徴とするものである。
また、上記における台形分割は、分割される各ｘ台形な
いしｙ台形の斜辺の角度に対応し、角度が緩いものつい
ては細かく、角度が急のものついては粗く、分割するも
のであることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、元の台形と前記矩形領域との間に１個以上のｘ台
形ないしｙ台形を設ける際に、微小角台形を無くすよう
に、ｘ台形ないしｙ台形を選び、且つ、ｘ台形ないしｙ
台形をなるべく三角形にしないようにしていることを特
徴とするものである。また、上記において、図形データ
である各元台形について、対向する２つの斜辺の角度に
対応して、元図形を分割して、照射するビーム形状に対
応した、所定高さＨｒの矩形データ、および分割された
台形データを得る、分割処理方法（分割アルゴリズムと
も言う）がそれぞれ、予め区分けして決められており、
各元台形に対応した分割処理方法により、矩形データ作
成処理、台形データ作成処理が行われることを特徴とす
るものである。

【００１０】

【作用】本発明の成形ビーム型電子ビーム照射装置用の
図形データ処理方法は、このような構成にすることによ
り、ベクター型（成形ビーム型）ＥＢ描画装置を用いた
レチクル等のフォトマスクへの描画において、描画品質
を維持しつつ、描画時間を短縮できる方法の提供を可能
とするものである。具体的には、処理対象である台形表
示の図形データを、矩形あるいは４５°の斜線を有する
三角形に成形されたビームで照射する成形ビーム型（シ
エイプドビーム型とも言う）の電子ビーム照射装置に用
いられるＥＢ描画装置用の図形データで、且つ描画する
際のビーム形状に対応した矩形あるいは４５°の斜線を
有する台形により記述されるＥＢ描画装置用の図形デー
タへ変換する際の、図形データの処理方法であって、前
記処理対象である台形表示の図形データである各台形に
ついて、以下の処理が可能なものは、元の台形領域内
に、１つ以上の、所定の高さＨｒの矩形領域を設け、各
矩形領域を、それぞれ、矩形データとして得る矩形デー
タ作成処理と、元の台形と前記矩形領域との間に１個以
上のｘ台形ないしｙ台形を設け、各ｘ台形ないしｙ台形
について、それぞれ、更に、照射するビーム形状に対応
した４５°の斜線を有するｘ台形、ｙ台形に台形分割し
て、分割された台形データを得る台形データ作成処理と
を施すものであることにより、更に具体的には、所定の
サイズの高さＨｒは、照射する矩形ビームの形状に対応
した高さで、照射する矩形ビームの最大高さＨｍの整数
倍であることにより、また、矩形データ作成処理は、元
の台形領域内に、台形の平行な２辺の１辺より、該台形
の高さ方向に、順に、描画の際の矩形ビームの高さに対
応した所定の高さＨｒ毎に分割して、各分割領域内に、
分割領域のサイズに対応して矩形領域を設けるものであ
ることにより、これを達成している。詳しくは、矩形デ
ータ作成処理により、矩形データを得ることにより、実
質的に照射するビームの数を全体として、従来よりも減
らすことができ、結果、描画時間を短かくできる。ま
た、処理される元の各台形の斜辺形状を、４５°の分割
された複数の台形の４５°の斜辺または矩形で併せて表
すことにより、描画により元の台形図形を精度良く表現
することを可能としている。更にまた、分割される各ｘ
台形ないしｙ台形の斜辺の角度に対応し、角度が緩いも
のついては細かく、角度が急のものついては粗く、分割
することにより、分割数を減らし描画時間を減らすこと
ができるとともに、処理される元の台形の斜辺形状に近
い描画形状を得ることを可能としている。尚、この成形
ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法
は、描画時間と伴行して、あるいは描画に先き立ち行う
ことができ、データ処理作業時間自体が描画時間に影響
を与えるものではない。

【００１１】また、処理される元の台形と前記矩形領域
との間に１個以上のｘ台形ないしｙ台形を設ける際に、
微小角台形を無くすように、ｘ台形ないしｙ台形を選ぶ
ことにより、分割される各ｘ台形ないしｙ台形の斜辺の
角度が急になるようにでき、描画精度を維持しつつ、粗
く分割できるようにし、且つ、三角形による図形つなど
部の欠陥を防ぐようにしている。

【００１２】また、処理される元の台形と前記矩形領域
との間に１個以上のｘ台形ないしｙ台図形データである
各元台形について、対向する２つの斜辺の角度に対応し
て、元図形を分割して、照射するビーム形状に対応した
所定高さＨｒの矩形データ、分割された台形データを得
る、分割処理方法（分割アルゴリズムとも言う）がそれ
ぞれ、予め区分けして決められており、各元台形に対応
した分割処理方法により、矩形データ作成処理、台形デ
ータ作成処理が行われることにより、確実な図形データ
処理方法を可能としている。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の１例を挙
げ、図に基づいて説明する。図１は本発明の成形ビーム
型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法の実施の
形態の１例の概略フロー図で、図２（ａ）は台形の斜辺
の角度による区分けで、図２（ｂ）、図２（ｃ）は斜辺
の角度の定義を示した概略図で、図３は各タイプの台形
を示した概略図で、図４はタイプの台形を処理するフ
ロー図で、図５はタイプの台形を処理するフロー図
で、図１１はタイプの台形を処理するフロー図で、図
６は各タイプの分割を説明するための図で、図１０はタ
イプの台形で角βが所定角以下である場合の分割を説
明するための図である。

【００１４】本例の図形データ処理方法の概略フローを
図１に基づき説明する。図１中、Ｓ１１０〜Ｓ１８３
は、各処理ステップを示す。ここでは、説明を簡単にす
るため、ｙ台形を処理する場合についてのみ説明する。
尚、ｘ台形については、ｘ、ｙを交換した状態でｙ台形
として扱うことができので、ここでは説明を省略する。
図形データのｙ台形（Ｓ１１０）は、図２（ａ）のよう
な区分のテーブルに従い、タイプ、タイプ、タイプ
に区分けされ（Ｓ１２０）、区分けされたタイプに対
応した処理が施され、矩形データと４５°台形データか
らなる複数の描画用データに分割される。（Ｓ１６０か
らＳ１６１あるいは、Ｓ１４１、Ｓ１６０からＳ１６
１、あるいはＳ１７０、Ｓ１６０ＳからＳ１６１） 図２（ａ）はｙ台形を、上斜辺の角β、下斜辺の角αの
大きさの組み合わせにより、それぞれ区分けしたもの
で、左辺側から右辺側にみて、各斜辺が内側に傾いてい
る場合、内側がその角度を表し（図２（ｂ）に相当）、
各斜辺が外側に傾いている場合、外側がその角度を表
す。（図２（ｂ）に相当） これにより、タイプ、タイプ、タイプは、それぞ
れ、図３（ａ）、図３（ｂ）、図３（ｃ）のように表さ
れる。尚、図３（ａ）、図３（ｂ）、図３（ｃ）におい
て、ｘ軸に平行で左辺の中心を通る直線に対して対称な
図形も、それぞれ同じタイプであるが、ここでは省略し
て、図示していない。また、ｙ台形については、ここで
は、図３に示すように、左辺、右辺、上斜辺、左斜辺と
呼ぶ。

【００１５】本例は、簡単には、各タイプのｙ台形につ
いて、それぞれ所定の分割アルゴリズム（決められた分
割方法を意味する）に基づいて、基本的に、ステップＳ
１８１、Ｓ１８２、Ｓ１８３の処理を順に行い、元のｙ
台形を、複数個の、矩形と４５°台形に分割し、これを
描画用データとするものである。

【００１６】タイプのｙ台形については、図６（ａ）
に示すように、所定高さＨｒを持つ矩形領域Ｒａとそれ
以外の領域に分割され、それ以外の領域については、矩
形領域Ｒａの上側、下側、右側に、鋭角台形でない各ｙ
台形を設ける。矩形領域Ｒａの右側の台形については、
場合により、更に台形を分割しておく。（後述する図４
のステップＳ８０） 次いで、それぞれのｙ台形については、斜辺の角度に対
応して、所定の高さ幅の４５°ｙ台形または矩形に分割
しておく。

【００１７】タイプのｙ台形については、図６（ｂ）
に示すように、ｘ台形ａ、ｘ台形ｂ、ｘ台形ｃに分割
し、ｘ、ｙ座標を入れ換えることにより、タイプのｙ
台形として扱う。図５はこのタイプのｙ台形のデータ
処理の概略を示したフロー図である。Ｓ５１０〜Ｓ５７
１は各処理ステップを示す。

【００１８】タイプのｙ台形については、例えば、図
６（ｃ）に示すように、 元のｙ台形を、元のｙ台形の
左辺の下側から所定の距離を通り左辺と直交する直線Ｌ
１と、直線Ｌ１と元のｙ台形の上斜辺との交点Ｑを通
り、右辺に平行な直線Ｌ２とにより、ｘ台形、ｙ台形、
相似形の３つの図形に分割し、分割されたｘ台形、ｙ台
形については、タイプの場合と同様に扱い、図６
（ｄ）に示すように、更に、それぞれ、４５°の斜辺を
もつ高さ小のｘ台形、ｙ台形に分割する。相似形につい
ては上記の、ｘ台形、ｙ台形、相似形への分割を繰り返
すのが基本であるが、相似形が一定以下の大きさの場合
はｙ台形として扱い、分割を行わない。但し、角βが非
常に小さいとき（所定角以下のとき）、元のｙ台形図１
０（ａ）を図１０（ｂ）のように変形した後、ｙ台形と
ｘ台形に分割する。分割された各台形については、タイ
プと同様に分割を行う。図１１はこのタイプのｙ台
形のデータ処理の概略を示したフロー図である。Ｓ６１
０〜Ｓ６９０は各処理ステップを示す。

【００１９】タイプのｙ台形の処理の１例を、図４に
基づき、図６（ａ）を参照にしながら、更に詳しく説明
する。図４中、Ｓ１０〜Ｓ８０は各処理ステップを示
す。ｙ台形が処理対象とされる（Ｓ１０）と、先ず、タ
イプであるか否かがチエックされる。（Ｓ１１） タイプでない場合は、タイプであるか否かがチエッ
クされ（Ｓ１２） タイプである場合は、図５に示すフローで処理が行わ
れる。タイプでない場合は、タイプの処理が行われ
る。確認は図２（ａ）に示す区分（テーブル）にもとづ
きなされる。ここでは、処理対象のｙ台形がタイプの
場合で、次に、処理対象ｙ台形の高さｈが、そのｙ台形
の中に照射する大きいサイズの矩形データを作り得る、
所定の高さＨｒの矩形を得ることができる高さであるか
否かを確認する。ここでは、高さＨｒの矩形をｙ台形の
左辺からｎ個形成できる高さであるかを確認する。（Ｓ
２０）

【００２０】次いで、ｍ＝１からｎまで、左辺からの距
離ｍ×Ｈｒの（Ｘ方向距離）における、上斜辺、下斜辺
Ｙ座標位置ｙｍ１、ｙｍ２を求め、さらに、これらの点
からＣ１だけ、元のｙ台形の内側の座標位置（ｍ×Ｈ
ｒ、ｙｍ１−Ｃ１）、（ｍ×Ｈｒ、ｙｍ２＋Ｃ１）を求
め、この２点間の距離が、所定の長さ（幅）以上である
否かを確認し（Ｓ３３）、所定幅以上である場合、この
２点間を１辺として左辺側に高さＨｒの矩形照射領域Ｒ
ｍを抽出する。（Ｓ４０） そして、得られた矩形照射領域Ｒｍを描画用データして
蓄積する。（Ｓ４３）

【００２１】２点（ｍ×Ｈｒ、ｙｍ１−Ｃ１）、（ｍ×
Ｈｒ、ｙｍ２＋Ｃ１）の距離が所定幅以上でない場合に
は、元の図形のｍ−１において得られた矩形照射領域Ｒ
ｍ−１の右側の台形を、必要に応じ、元の台形の斜辺の
角度に応じて、更に上下２つのｙ台形に分割しておく。
（Ｓ８０） 尚、左辺からｍ×Ｈｒの距離で、これより右側の領域を
１つの台形として台形分割をしておく。

【００２２】更に、分割された各ｙ台形領域について、
それぞれ、対応する元の斜辺の各αないしβが所定角θ
０以上であるかを確認し（Ｓ５１）、θ０に応じた高さ
Ｈｌの４５°のｙ台形または矩形で分割し（Ｓ５２）、
得られた複数の分割図形を描画用データして蓄積する。
（Ｓ５３） 尚、４５°のｙ台形については、元のｙ台形形の斜辺側
を４５°の台形とする。

【００２３】一方、矩形照射領域Ｒｍを求めた後、Ｒｍ
と元のｙ台形の上斜辺、下斜辺との台形領域それぞれＴ
ｍｕ、Ｔｍｄを抽出し（Ｓ５０）、各台形Ｔｍｕ、Ｔｍ
ｄについて、対応する元の斜辺の角αないしβによるＭ
ｉｎ（α、β）に対応した分割高さＨの４５°のｙ台形
または矩形で分割し（Ｓ５２）、得られた複数の分割図
形を描画用データして蓄積する。（Ｓ５３） この場合も、４５°のｙ台形については、元のｙ台形形
の斜辺側を４５°の台形とする。

【００２４】ｍがｎになった場合、左辺からの距離ｎ×
Ｈｒの（Ｘ方向距離）の右側の台形（Ｓ６０）について
は、所定の高さＨ０の４５°ｙ台形または矩形に分割し
（Ｓ５２）、得られた分割台形を描画用データとして蓄
積する。（Ｓ５３） この場合も、４５°のｙ台形については、元のｙ台形形
の斜辺側を４５°の台形とする。

【００２５】このようにして、元のｙ台形は、複数の、
矩形と４５°ｙ台形に分割された状態で描画用データと
なる。

【００２６】図６（ａ）からも分かるように、下斜辺側
の分割の幅は、上斜辺側の分割の幅より大きく、この分
下斜辺側が上斜辺側に比べ、描画用データを分割の仕方
によりより少なくしていることが分かる。尚、図６
（ａ）では、αはβに比べ大きいため、このようにして
も、下斜辺側の描画精度を上斜辺側の描画精度と同等に
確保できるのである。

【００２７】

【発明の効果】本発明は、上記のように、ベクター型
（成形ビーム型）ＥＢ描画装置を用いたレチクル等のフ
ォトマスクへの描画において、描画品質を維持しつつ、
描画時間を短縮できる方法の提供を可能とした。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の成形ビーム型電子ビーム照射装置用の
図形データ処理方法の実施の形態の１例の概略フロー図

【図２】図２（ａ）は台形の斜辺の角度による区分けを
示した図で、図２（ｂ）、図２（ｃ）は斜辺の角度の定
義を示した概略図である。

【図３】各タイプの台形を示した概略図

【図４】タイプの台形の処理フロー図

【図５】タイプの台形の処理フロー図

【図６】各タイプの分割を説明するための図

【図７】ベクター型（成形ビーム型）電子ビーム描画装
置を説明するための図

【図８】ビーム形状を説明するための図

【図９】処理対象である台形表示の図形データとＥＢ描
画装置用の図形データとの関係を説明するための図

【図１０】所定角以下のβをもつタイプのｙ台形の分
割方法を説明するための図

【図１１】タイプのｙ台形の処理フロー図

【符号の説明】

７１０ 電子銃 ７２０ 集束レンズ ７３０ 第１成形アパーチャ ７４０ 投影レンズ ７５０ 成形偏向器 ７５５ 副偏向器 ７５６ 主偏向器 ７６０ 第２成形アパーチャ ７８０ 対物レンズ ７９０ 被描画物 ７９１ フィールド ７９５ ステージ一方向移動 ７９７ ステージステップ移動 ８１０ 第１成形アパーチャの開口部の
像 ８２０ 第２成形アパーチャの開口部 ８３１〜８３５ ビーム形状 ８３１Ａ 最大サイズの矩形ビーム ９１０ 処理対象の図形データ（台形デ
ータ） ９１５ 分割されたＥＢ装置用の各図形
データ（台形データ）

フロントページの続き (72)発明者 石田 洋平 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H095 BA08 BB01 5F056 AA22 CA02 CA21

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理対象である台形表示の図形データ
   を、矩形あるいは４５°の斜線を有する三角形に成形さ
   れたビームで照射する成形ビーム型（シエイプドビーム
   型とも言う）の電子ビーム照射装置に用いられるＥＢ描
   画装置用の図形データで、且つ描画する際のビーム形状
   に対応した矩形あるいは４５°の斜線を有する台形によ
   り記述されるＥＢ描画装置用の図形データへ変換する際
   の、図形データの処理方法であって、前記処理対象であ
   る台形表示の図形データである各台形について、以下の
   処理が可能なものは、元の台形領域内に、１つ以上の、
   所定の高さＨｒの矩形領域を設け、各矩形領域を、それ
   ぞれ、矩形データとして得る矩形データ作成処理と、元
   の台形と前記矩形領域との間に１個以上のｘ台形ないし
   ｙ台形を設け、各ｘ台形ないしｙ台形について、それぞ
   れ、更に、照射するビーム形状に対応した４５°の斜線
   を有するｘ台形、ｙ台形に台形分割して、分割された台
   形データを得る台形データ作成処理とを施すものである
   ことを特徴とする成形ビーム型電子ビーム照射装置用の
   図形データ処理方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、所定のサイズの高さ
   Ｈｒは、照射する矩形ビームの形状に対応した高さで、
   照射する矩形ビームの最大高さＨｍの整数倍であること
   を特徴とする成形ビーム型電子ビーム照射装置用の図形
   データ処理方法。
3. 【請求項３】 請求項１ないし２における矩形データ作
   成処理は、元の台形領域内に、台形の平行な２辺の１辺
   より、該台形の高さ方向に、順に、描画の際の矩形ビー
   ムの高さに対応した所定の高さＨｒ毎に分割して、各分
   割領域内に、分割領域のサイズに対応して矩形領域を設
   けるものであることを特徴とする成形ビーム型電子ビー
   ム照射装置用の図形データ処理方法。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３における台形分割は、
   分割される各ｘ台形ないしｙ台形の斜辺の角度に対応
   し、角度が緩いものついては細かく、角度が急のものつ
   いては粗く、分割するものであることを特徴とする成形
   ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法。
5. 【請求項５】 請求項１に４において、元の台形と前記
   矩形領域との間に１個以上のｘ台形ないしｙ台形を設け
   る際に、微小角台形を無くすように、ｘ台形ないしｙ台
   形を選び、且つ、ｘ台形ないしｙ台形をなるべく三角形
   にしないようにしていることを特徴とする成形ビーム型
   電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５において、図形データ
   である各元台形について、対向する２つの斜辺の角度に
   対応して、元図形を分割して、照射するビーム形状に対
   応した、所定高さＨｒの矩形データ、および分割された
   台形データを得る、分割処理方法（分割アルゴリズムと
   も言う）がそれぞれ、予め区分けして決められており、
   各元台形に対応した分割処理方法により、矩形データ作
   成処理、台形データ作成処理が行われることを特徴とす
   る成形ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理
   方法。