JP2000294416A - 希土類ボンド磁石 - Google Patents

希土類ボンド磁石

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JP2000294416A
JP2000294416A JP11101270A JP10127099A JP2000294416A JP 2000294416 A JP2000294416 A JP 2000294416A JP 11101270 A JP11101270 A JP 11101270A JP 10127099 A JP10127099 A JP 10127099A JP 2000294416 A JP2000294416 A JP 2000294416A
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rare earth
bonded magnet
earth bonded
less
magnet
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Masahiro Tobise
飛世  正博
Katsunori Iwasaki
克典 岩崎
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Hitachi Metals Ltd
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    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/032Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials
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    • H01F1/053Alloys characterised by their composition containing rare earth metals
    • H01F1/055Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5
    • H01F1/059Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and Va elements, e.g. Sm2Fe17N2

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の等方性希土類ボンド磁石に比べて、同
等以上の室温における最大エネルギー積(BH)maxお
よび改善された不可逆減磁率(耐熱性)を有する等方性
の希土類ボンド磁石を提供する。 【解決手段】 原子%でRα100−(α+β+γ+δ)
βγδ(RはYを含む希土類元素の1種または2
種以上でありSmを必ず含む、TはFeまたはFeとC
o、MはAl、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、Z
r、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以
上、5≦α≦18,0≦β≦50,0≦γ≦5,4≦δ
≦30)で表される主成分組成を有する磁石粉末と結着
樹脂とからなり、室温における最大エネルギー積(B
H)maxが7.5MGOe以上であり、かつパーミアン
ス係数(Pc)=2において大気中で200℃×500
時間の加熱後室温に戻したときの不可逆減磁率が6.5
%以下であることを特徴とする希土類ボンド磁石。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、従来の等方性希土
類ボンド磁石に比べて、同等以上の室温における最大エ
ネルギー積(BH)maxおよび改善された不可逆減磁率
(耐熱性)を有する等方性の希土類ボンド磁石に関す
る。
【0002】
【従来の技術】希土類ボンド磁石に最も多用されている
のは、NdFe14B型金属間化合物を主相とする合
金組成に調整した溶湯を溶湯急冷法により超急冷し一端
非晶質合金を得、続いて必要に応じて粉砕後、熱処理を
施して結晶化したNdFe B型金属間化合物を主
相とする等方性の磁石粉末である。その他、前記合金組
成に調整後、溶解、鋳造した合金を粉砕し、続いていわ
ゆる水素化、相分解、脱水素、再結合反応処理法(特許
第1947332号参照)を適用して異方性を有する微
細再結晶組織のNdFe14B型金属間化合物を主相
とするボンド磁石用粉末としたものがある。あるいは前
記非晶質合金の薄片をホットプレス等により温間で加圧
成形し高密度化後、さらに温間で据込み加工等の塑性加
工を施すことにより異方性を有する微細結晶組織のNd
Fe14B型金属間化合物を主相とするボンド磁石用
粉末としたものがある。
【0003】昨今の希土類ボンド磁石には150℃を超
える高温環境下で高い磁気特性を具備することが求めら
れている。例えば移動体通信用の電子ブザーに組み込む
場合、希土類ボンド磁石を着磁後230℃付近のリフロ
ーはんだ槽内を通過させることが自動化ラインで行われ
る。本発明者らの調査の結果、リフローはんだ槽内を通
過時の加熱(約230℃×15分間の加熱に相当)によ
る熱減磁と、この加熱の際に希土類ボンド磁石に内在す
る新生面(希土類ボンド磁石の圧縮成形時に薄片が割れ
て、露呈した活性な面)が酸化して磁気特性が劣化する
問題があることが確認された。この問題はNdFe
14B型金属間化合物を主相とする磁石粉末を配合した
希土類ボンド磁石で顕著である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の課
題は、従来の等方性希土類ボンド磁石に比べて、同等以
上の室温における最大エネルギー積(BH)maxおよび
改善された不可逆減磁率(耐熱性)を有する等方性の希
土類ボンド磁石を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明は、原子%でRα100−(α+β+γ+δ)β γ
δ(RはYを含む希土類元素の1種または2種以上で
ありSmを必ず含む、TはFeまたはFeとCo、Mは
Al、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、Zr、N
b、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以上、5≦
α≦18,0≦β≦50,0≦γ≦5,4≦δ≦30)
で表される主成分組成を有し、平均結晶粒径が0.05
〜1.0μmでありThZn17型またはThNi
17型の硬質磁性相を磁石主相とする平均粒径が10〜
300μmのR−T−N系磁石粉末と結着樹脂とから実
質的になる希土類ボンド磁石であって、室温における最
大エネルギー積(BH)maxが7.5MGOe以上であ
り、かつパーミアンス係数(Pc)=2において大気中
で200℃×500時間の加熱後室温に戻したときの不
可逆減磁率が6.5%以下である希土類ボンド磁石であ
る。また本発明は、原子%でRα
100−(α+β+γ+δ)βγδ(RはYを含む希
土類元素の1種または2種以上でありSmを必ず含む、
TはFeまたはFeとCo、MはAl、Ti、V、C
r、Mn、Cu、Ga、Zr、Nb、Mo、Hf、T
a、Wの1種または2種以上、5≦α≦18,0≦β≦
50,0≦γ≦5,4≦δ≦30)で表される主成分お
よび不可避不純物として重量%で0.1%以下のCa
(0を含まず)、2000ppm以下の酸素を含有し、
平均結晶粒径が0.05〜1.0μmでありThZn
17型またはThNi17型の硬質磁性相を磁石主相
とする平均粒径が10〜300μmの還元・拡散法によ
るR−T−N系磁石粉末と結着樹脂とから実質的になる
希土類ボンド磁石であって、室温における最大エネルギ
ー積(BH)maxが6.5MGOe以上であり、かつパ
ーミアンス係数(Pc)=2において大気中で200℃
×500時間の加熱後室温に戻したときの不可逆減磁率
が7.0%以下である希土類ボンド磁石である。前記希
土類ボンド磁石に占める結着樹脂分が0.5%未満およ
び20%超では目標とする室温における(BH)maxお
よび耐熱性を具備することが困難である。圧縮成形法を
適用する場合、結着樹脂に熱硬化性樹脂を採用すること
が好ましい。結着樹脂が熱硬化性樹脂の場合、圧縮成形
体に加熱硬化処理を施す。加熱硬化処理の加熱条件は大
気中または不活性ガス雰囲気で100〜200℃×0.
5〜5時間が好ましい。100℃×0.5時間未満では
加熱硬化の重合反応が不十分であり、200℃×5時間
超では熱処理の効果が飽和する。特に、Arガス雰囲気
中で加熱硬化処理を行うと(BH)maxを高められるの
で好ましい。
【0006】本発明に有用なR−T−N系磁石粉末は、
原子%でRα100−(α+β+γ+ δ)βγ
δ(RはYを含む希土類元素の1種または2種以上であ
りSmを必ず含む、TはFeまたはFeとCo、MはA
l、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、Zr、Nb、
Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以上、5≦α≦
18,1≦β≦50,0.1≦γ≦5,4≦δ≦30)
で表される主成分組成を有する。RにはSmを必ず含
み、Sm以外にY、La、Ce、Pr、Nd、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの1種
または2種以上を含むことが許容される。Smミッシュ
メタルやジジム等の2種以上の希土類元素の混合物を用
いてもよい。Rとして、より好ましくはSmとY、C
e、Pr、Nd、Gd、Dy、Erの1種または2種以
上との組み合わせ、さらに好ましくはSmとY、Ce、
Pr、Ndの1種または2種以上との組み合わせ、特に
好ましくは実質的にSmのみがよい。Smの純度でいえ
ば、iHcを高めるために、Rに占めるSm比率を、好
ましくは50原子%以上、さらに好ましくは70原子%
以上とすることがよい。Rには、製造上混入が避けられ
ないO、H、C、Al、Si、Na、Mg、Ca等の不
可避不純物の含有が許容される。R含有量(α)は5〜
18原子%が好ましい。R含有量が5原子%未満ではi
Hcが低下し、18原子%超では(BH)maxが低下す
る。さらに好ましいR含有量は6〜12原子%である。
適量のM元素とB元素とを含有することにより、Th
Zn17型および/またはThNi17型でかつ平均
結晶粒径が0.05〜1.0μmの微細な硬質磁性相が
得られる。Al、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、
Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以
上からなるM元素の含有量(β)は1〜50原子%が好
ましく、1〜30原子%がより好ましく、1〜10原子
%が特に好ましい。M元素の含有量が50原子%超では
ThMn12型のSm(Fe,M)12相が生成し
てiHcが大きく低下する。1原子%未満では添加効果
が認められない。Bの含有量(γ)は0.1〜5原子%
が好ましい。0.1原子%未満では添加効果が認められ
ず、5原子%超ではiHcが大きく低下する。窒素の含
有量(δ)は4〜30原子%が好ましい。4原子%未満
および30原子%超ではiHc、飽和磁化が大きく低下
する。より好ましい窒素含有量は10〜20原子%であ
る。Feの0.01〜30原子%をCoで置換すること
が好ましい。Coの含有によりキュリー温度およびiH
cの温度係数が向上する。しかし、Co含有量が30原
子%超では飽和磁化、iHcが顕著に低下し、0.01
原子%未満では添加効果が認められない。より好ましい
Co含有量は1〜20原子%である。前記磁石粉末の硬
質磁性相の平均結晶粒径が0.05〜1.0μmのとき
に高い磁気特性が得られる。溶湯急冷法および後述の水
素化・分解反応処理、脱水素・再結合反応処理を行う場
合は、硬質磁性相の平均結晶粒径は溶湯急冷の冷却ロー
ルの周速、水素化・分解反応処理、脱水素・再結合反応
処理の条件および母合金の主成分組成にほぼ支配されて
決まる。R/D法(還元/拡散法)によりR−T−N系
磁石粉末の母合金を作製し、水素化・分解反応処理、脱
水素・再結合反応処理を行う場合は、硬質磁性相の平均
結晶粒径はR/D反応条件、水素化・分解反応処理、脱
水素・再結合反応処理の条件および母合金の主成分組成
にほぼ支配されて決まる。工業生産上、前記平均結晶粒
径が0.05μm未満のものを安定して製造することは
困難を伴う。1.0μm超ではボンド磁石のiHcが大
きく低下する。前記母合金に対し、窒素を含まない不活
性ガス雰囲気中で800〜1250℃×0.5〜10時
間加熱する均質化処理を施すと(BH)maxや減磁曲線
の角形が向上する場合がある。前記磁石粉末の平均粒径
は10〜300μmが好ましい。10μm未満では酸化
劣化および成形性劣化が顕著になる。300μm超では
窒化処理に長時間を要し、かつ磁気特性がばらつくとい
う問題を生じる。平均粒径は20〜100μmがより好
ましい。Nの一部をC、Si、S、Alの1種または2
種以上で置換可能である。その置換量はN含有量に対し
約10原子%以下が好ましい。これより多い添加量では
iHcが逆に低下する。
【0007】溶湯急冷法により作製した母合金に対し、
水素化・分解反応処理、脱水素・再結合反応処理、窒化
処理および熱処理を行う場合の一例について、以下に説
明する。まず原子%で Rα100−(α+β+γ+δ)
βγδ、5≦α≦18,0≦β≦50,0≦γ≦
5,4≦δ≦30 で表される主成分組成に対応した母
合金の溶湯を、冷却用ロールの周速を0.1〜10m/
秒とした条件で溶湯急冷し、αFeの析出を抑えた平均
厚み10〜500μmの母合金薄帯(薄片)を得る。必
要に応じて粉砕後、0.1〜10atmの水素ガス中ま
たは水素ガス分圧を有する不活性ガス(窒素を含まず)
中で700〜900℃×0.5〜8時間加熱する水素化
・分解反応処理と、続いて1×10−2〜9×10−6
Torrの真空中で700〜900℃×0.5〜10時
間加熱する脱水素・再結合反応処理を行う。その後、窒
化処理を施し、続いて真空中あるいは不活性ガス中(窒
素を含まず)で300〜600℃×0.5〜50時間の
均質化熱処理を施して1山粒径分布の窒化磁石粉末が得
られる。通常、粒径分布の異なる2種の粉砕粉末を混合
しない限り、1山粒径分布の窒化磁石粉末が得られる。
溶湯急冷法による母合金薄帯の平均結晶粒径は0.05
〜10μmが好ましい。0.05μm未満では母合金薄
帯が尖鋭形状となり、ボンド磁石とした場合の密度が
6.1g/cm以下に低下する。10μm超ではαF
e等の析出が起こり、溶体化処理が必要になる。より好
ましい母合金の平均結晶粒径は0.1〜8μmである。
水素化・分解反応処理により、母合金を希土類元素Rの
水素化物RHx、T−M相などに分解する。続いて脱水
素・再結合反応処理により、母合金相に再結合させて平
均再結晶粒径が0.05〜1.0μmの母合金を得る。
個々の再結晶粒子は通常ランダム方向に配向するが、前
記M元素の組み合わせによっては異方性が付与され得
る。水素化・分解反応処理の水素分圧が0.1atm未
満では分解反応が十分に起こらず、10atm超では処
理設備が大型化し設備コストが増加する。よって水素分
圧は0.1〜10atmが好ましく、0.5〜2.0a
tmがより好ましい。また、水素化・分解反応処理の加
熱条件が、700℃×0.5時間未満では母合金のRH
x、T-M相などへの分解がほとんど起こらず、900℃
×8時間超では脱水素後の母合金が粗大粒化してiHc
が低下する。よって、水素化・分解反応処理の加熱条件
は700〜900℃×0.5〜8時間が好ましく、72
5〜875℃×0.5〜8時間がより好ましい。脱水素
・再結合反応処理の水素分圧が1×10−2Torrよ
りも低真空では処理に長時間を要し、9×10−6To
rr超の高真空とすることは排気装置のコスト増を招
く。脱水素・再結合反応処理の加熱条件が700℃×
0.5時間未満ではRHx等の分解がほとんど進行せ
ず、900℃×10時間を超えると再結晶粒が粗大化し
てiHcが低下する。よって、平均再結晶粒径を0.0
5〜1.0μmとするために、脱水素・再結合反応処理
の加熱条件は700〜900℃×0.5〜10時間が好
ましく、725〜875℃×0.5〜10時間がより好
ましい。窒化前に必要に応じて粉砕、分級を行い粒径分
布を調整する。窒化処理は、0.2〜10atmの窒素
ガス、水素が1〜95モル%で残部が窒素からなる(水
素+窒素)の混合ガス、NHのモル%が1〜50%で
残部水素からなる(NH+水素)の混合ガスのいずれ
かの雰囲気中で300〜650℃×0.1〜30時間加
熱するガス窒化が実用性に富んでいる。ガス窒化の加熱
条件が、300℃×0.1時間未満では窒化がほとんど
進行せず、650℃×30時間を超えるとRNとFe−
M相を生成しiHcが顕著に低下する。ガス窒化の加熱
条件は400〜550℃×0.5〜30時間がより好ま
しく、400〜550℃×1〜10時間が特に好まし
い。窒化ガスの圧力は0.2〜10atmが好ましい。
0.2atm未満では窒化反応速度が遅く、10atm
超では高圧ガス設備によるコスト増を招く。より好まし
い窒化ガスの圧力は1〜10atmである。窒化処理後
の磁石粉末には0.01〜10原子%の水素の含有が許
容される。
【0008】結着樹脂として、熱硬化性樹脂、熱可塑性
樹脂またはゴム材料を用いることができる。圧縮成形法
による場合は熱硬化性樹脂がよく、特に熱硬化性液状樹
脂が適している。具体例を挙げれば、エポキシ樹脂、ポ
リイミド樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フ
ッ素樹脂、ケイ素樹脂またはポリフェニレンサルファイ
ド樹脂(PPS)の液状樹脂が利用できる。液状エポキ
シ樹脂は取り扱いが容易で良好な耐熱性を示し、安価で
あるため最もよい。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を説明
するが、これら実施例により本発明が限定されるもので
はない。 (実施例1) (溶湯急冷法によるR−T−N系磁石粉末の作製)純度
99.9%以上のSm、Fe、TiおよびBを用いて下
記の窒化磁石粉末に対応した母合金の主成分組成に調整
した溶湯を、直径300mmの銅製の冷却ロール2本を
設置した双ロール式ストッリップキャスターを用いて、
冷却用ロールの周速が1m/秒の条件で急冷凝固し、板
厚が150〜300μmの不定形板状の母合金を得た。
次に、母合金を1atmの水素ガス中で800℃×1時
間加熱する水素化・分解反応処理を施し、続いて水素分
圧(真空中)5〜8×10 Torrで800℃×1
時間加熱する脱水素・再結合反応処理を行った。次に、
ハンマーミルを用いて窒素ガス雰囲気中で粉砕後75μ
mアンダーに篩分した。次に、1atmの窒素ガス中で
450℃×5時間加熱する窒化処理を施し、冷却した。
その後、アルゴンガス気流中で400℃×30分間熱処
理して、主成分組成が原子%で Sm8.1Febal
Ti2.11.012.1 、平均粒径が52.1
μm、粒径が26〜74μmの1山粒径分布を有する窒
化磁石粉末を得た。平均粒径、粒径分布はSympatec社製
レーザー回折型粒径分布測定装置;ヘロス・ロードスを
用いて測定した。この窒化磁石粉末は実質的に平均結晶
粒径が0.30μmの硬質磁性相(ThZn17型)
からなっていた。この窒化磁石粉末を走査型電子顕微鏡
で撮影した写真を図3(a)に示す。図3(a)より、
各窒化磁石粉末粒子が比較的丸みを帯びており、高い密
度の希土類ボンド磁石を得るために好ましいことがわか
る。次に、この窒化磁石粉末とパラフィンワックスとを
所定比率で配合し、混合後、試料振動型磁力計(VS
M)の容器に所定量を充填した。続いて、容器を加熱、
冷却することにより、パラフィンワックスで窒化磁石粉
末を固定した状態(等方性状態)にし、VSMにより2
0℃で測定した飽和磁化は111emu/g、iHcは
10.01kOeだった。次に、前記R−T−N系磁石
粉末を所定量ずつサンプリングし、120℃から260
℃まで20℃間隔で1時間大気中に暴露した後室温まで
冷却した場合の含有酸素量(重量比)の変化を図1に、
iHcの変化を図2に示す。iHcはVSMにより室温
の等方性状態で測定した。図1より、暴露試験前の室温
における酸素含有量は620ppmであり、低かった。
酸素含有量は、大気中で120℃×1時間暴露後では7
30ppmになり、大気中で260℃×1時間暴露後で
は2100ppmになった。次に、図2より、暴露試験
前および大気中で140℃×1時間暴露後まではiHc
は10.01kOeであり変化がなかった。大気中で1
60℃×1時間の暴露後からiHcは低下する傾向を示
し、大気中で260℃×1時間暴露後でiHcは9.9
3kOeになったが、暴露試験前の対比でiHcの低下
率は0.8%であり、小さかった。 (希土類ボンド磁石の作製)前記R−T−N系磁石粉末
100重量部に対し、2.8重量部の液状エポキシ樹脂
および0.7重量部の硬化剤DDS(ジアミノジフェニ
ルスルフォン)を添加し混合した。次に、混合したもの
を約90℃に加熱した二軸混練機中に投入して混練し、
ペレットを得た。ペレットはやや粘性を帯びているため
120℃×1時間の加熱を加え、整粒した。次に、流動
性の向上のために、整粒したコンパウンド100重量部
とステアリン酸カルシウム(潤滑剤)0.05重量部と
をミキサーに投入し、混合して等方性の希土類ボンド磁
石用のコンパウンドとした。次に、前記コンパウンドを
用いて、圧縮成形圧力8トン/cmの条件で、パーミ
アンス係数(Pc)が2;(厚み)/(直径)=0.7
の中実円筒形状に圧縮成形した。次に、成形体を大気中
で200℃×2時間加熱硬化してNo.1の希土類ボン
ド磁石を得た。このボンド磁石の密度は6.20g/c
超だった。次に、No.1の希土類ボンド磁石(P
c=2)を、20℃において30kOeで着磁後、総磁
束量(φ)を測定した。続いて、自動ラインのリフロー
はんだ工程を想定し、着磁したNo.1の希土類ボンド
磁石試料を、大気中で230℃×15分間暴露した後室
温まで冷却して総磁束量(φ1)を測定した。また、着
磁したNo.1の希土類ボンド磁石試料を、大気中で2
00℃×500時間暴露した後室温まで冷却して総磁束
量(φ2)を測定した。次に、耐熱性の指標として、下
記式で定義した不可逆減磁率(総磁束量の変化率)を採
用し、評価した。結果を表1に示す。 (不可逆減磁率:α)=(φ−φ1)/(φ)×100(%) (不可逆減磁率:β)=(φ−φ2)/(φ)×100(%) (実施例2)粉砕条件を変えた以外は実施例1と同様に
して、平均粒径が10.0、90.2、170.4、3
00.0μmでありかつ1山粒径分布を有する4種の窒
化磁石粉末を得た。この4種の窒化磁石粉末はいずれも
実質的に平均結晶粒径が0.30〜0.35μmの硬質
磁性相(ThZn17型)からなっていた。以降は実
施例1と同様にして等方性の希土類ボンド磁石を作製
し、評価した。結果を表1のNo.2〜5に示す。N
o.2〜5のボンド磁石の密度はいずれも6.10g/
cm超6.30g/cm以下だった。 (比較例1)粉砕条件を変えた以外は実施例1と同様に
して、平均粒径が2.5、350.3μmの窒化磁石粉
末を得た。以降は実施例1と同様にして等方性の希土類
ボンド磁石を作製し、評価した。結果を表1のNo.1
1、12に示す。 (比較例2)冷却用ロールの周速を45m/秒の条件で
急冷凝固した以外は、実施例1と同様にして窒化磁石粉
末を作製した。この窒化磁石粉末はTbCu型の硬質
磁性相が主相であり、走査型電子顕微鏡で撮影した写真
を図3(b)に示す。図3(a)との比較から、図3
(b)の各窒化磁石粉末粒子が比表面積の大きい不定形
薄板形状を呈しており、高い密度のボンド磁石の実現に
は適していないことがわかる。以降は実施例1と同様に
して等方性の希土類ボンド磁石を作製し、評価した。結
果を表1のNo.21に示す。このボンド磁石の密度は
6.0g/cm未満だった。 (比較例3)磁石粉末として、マグネクエンチインター
ナショナル社製のNdFeB系磁石粉末(MQP−O
材)を用いた以外は実施例1と同様にして等方性ボンド
磁石を作製し、評価した。結果を表1のNo. 22に示
す。このNdFeB系磁石粉末に対し、前記R−T−N
系磁石粉末と同様にして評価した大気中での加熱暴露に
よる含有酸素量の変化を図1に、iHcの変化を図2に
示す。図1より、NdFeB系磁石粉末の室温における
酸素含有量は1040ppmであり、大気中で120℃
×1時間暴露後の含有酸素量は1140ppmに微増し
た。さらに、大気中で260℃×1時間暴露後の含有酸
素量は5430ppmになり、酸化の進行が顕著であ
る。また、図2より暴露試験前の室温のiHcは12.
90kOeだったが、大気中で120℃×1時間暴露後
のiHcは12.89kOeに低下した。さらに、大気
中で260℃×1時間暴露後のiHcは12.56kO
eとなり大きく低下した。暴露試験前の対比でiHcの
減少率は2.6%になり、前記R−T−N系磁石粉末に
比べてiHcの劣化が大きいことがわかる。
【0010】
【表1】
【0011】表1より、実施例1のNo.1では室温に
おける(BH)maxは8MGOe以上であり高く、
(α)は4.2%、(β)は6.2%であり小さかっ
た。また、実施例1、2より、窒化磁石粉末の平均粒径
が10〜300μmであり、かつ平均結晶粒径が1.0
μm未満のThZn17型の硬質磁性相を磁石主相と
する場合に、目標とする7.5MGOe以上の室温にお
ける(BH)maxと5.0%以下の(α)と6.5%以
下の(β)とを有する本発明の希土類ボンド磁石を得ら
れることがわかる。次に、比較例1より、平均粒径が1
0μm未満、300μm超では本発明の希土類ボンド磁
石を得られないことがわかる。次に、比較例2より、溶
湯急冷時の冷却ロールの周速を45m/秒として得られ
た母合金薄帯を用いて、窒化磁石粉末を作製し、ボンド
磁石を形成した場合では(α)、(β)が大きく、耐熱
性が悪かった。次に、NdFeB系磁石粉末(MQP−
O材)を配合した比較例3のものも室温における(B
H)maxは高かったが、(α)、(β)が大きく耐熱性
が悪かった。不可逆減磁率が大きい原因は、配合したN
dFeB系磁石粉末が超急冷法で作製された厚さ20〜
40μmの薄片状であるために、圧縮成形時に薄片が割
れて新生面が形成され、図1、2と略同様の傾向で酸化
劣化が顕著に進行したものと判断する。
【0012】(実施例3、比較例4)純度99.9%以
上の酸化Sm、100メッシュアンダーのFe−Ti系
合金粉末およびFe−B系合金粉末、さらに還元剤とし
て粒状金属Caを重量比で化学量論的必要量の1.1倍
になるように配合して、下記の窒化磁石粉末に対応した
母合金組成に調整した混合原料を作製した。次に、混合
原料をR/D反応容器に充填後、R/D炉にセットし、
Arガス雰囲気中で1150℃×4時間加熱後、室温ま
で冷却してR/D反応生成物を得た。次に、 R/D反応
生成物を粗砕後、洗浄液中に投入してCaO等のR/D
反応副生成物を洗い流した後、真空乾燥した。次に、1
atmの水素ガス中で800℃×1時間加熱する水素化
・分解反応処理を施し、続いて水素分圧(真空中)5〜
8×10−2Torrで800℃×1時間加熱する脱水
素・再結合反応処理を行った。続いて不活性ガス雰囲気
中で粉砕後、1atmの窒素ガス中で450℃×5時間
加熱する窒化処理を施し、冷却した。その後、アルゴン
ガス気流中で400℃×30分間熱処理して、主成分組
成が原子%で Sm8.0FebalTi2.0
1.012.0 であり、平均粒径が10.0μm、
重量%で含有酸素量が1860ppm、含有Ca量が
0.05%の窒化磁石粉末(表2のNo.31)を得
た。次に、前記粗砕および粉砕条件を変えた以外はN
o.31の場合と同様にして表2のNo.32、33、
34の窒化磁石粉末を作製した。各窒化磁石粉末はいず
れも実質的に硬質磁性相(ThZn17型)からな
り、平均結晶粒径は0.35〜0.40μmだった。次
に、No.31〜34の各窒化磁石粉末を各々用いて、
実施例1と同様にして等方性の希土類ボンド磁石を作製
し、評価した。結果を表2に示す。表2より、Ca還元
法により作製したR−T−N系磁石粉末の平均粒径が1
0μm以上60μm未満(含有酸素量が2000ppm
未満、Ca含有量が0.10%以下(0を含まず))の
ときに、目標とする6.5MGe以上の室温における
(BH)maxと5.0%以下の(α)と7.0%以下の
(β)とを有する本発明の希土類ボンド磁石を得られ
た。なお、No.31〜33の窒化磁石粉末の含有炭素
量はいずれも0.1重量%以下だった。
【0013】
【表2】
【0014】上記実施例では、R−T−N系磁石粉末と
して、溶湯急冷法による母合金またはR/D法による母
合金を用いて窒化磁石粉末を作製し、等方性ボンド磁石
を形成した場合を記載した。本発明は、これに限定され
ず、溶湯急冷法による母合金およびR/D法による母合
金を任意の比率で混合して窒化磁石粉末を作製し、本発
明の希土類ボンド磁石を形成することができる。
【0015】
【発明の効果】以上記述の通り、本発明によれば、従来
に比べて、同等以上の室温における(BH)maxおよび
改善された耐熱性を有する等方性の希土類ボンド磁石を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の希土類ボンド磁石に用いるR−T−N
系磁石粉末における大気中での加熱温度と含有酸素量の
変化の一例を示す図である。
【図2】本発明の希土類ボンド磁石に用いるR−T−N
系磁石粉末における大気中での加熱温度とiHcの変化
の一例を示す図である。
【図3】本発明の希土類ボンド磁石に用いるR−T−N
系磁石粉末(a)と、比較例の希土類ボンド磁石に配合
したR−T−N系磁石粉末(b)とを、走査型電子顕微
鏡により撮影した写真を示す図である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原子%でRα100−(α+β+γ+δ)
    βγδ(RはYを含む希土類元素の1種または2
    種以上でありSmを必ず含む、TはFeまたはFeとC
    o、MはAl、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、Z
    r、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以
    上、5≦α≦18,0≦β≦50,0≦γ≦5,4≦δ
    ≦30)で表される主成分組成を有し、平均結晶粒径が
    0.05〜1.0μmでありThZn17型またはT
    Ni17型の硬質磁性相を磁石主相とする平均粒径
    が10〜300μmのR−T−N系磁石粉末と結着樹脂
    とから実質的になる希土類ボンド磁石であって、 室温における最大エネルギー積(BH)maxが7.5M
    GOe以上であり、かつパーミアンス係数(Pc)=2
    において大気中で200℃×500時間の加熱後室温に
    戻したときの不可逆減磁率が6.5%以下であることを
    特徴とする希土類ボンド磁石。
  2. 【請求項2】 前記R−T−N系磁石粉末が1山の粒径
    分布を有し、希土類ボンド磁石に占める結着樹脂の重量
    比率が0.5%以上20%未満であるとともに密度が
    6.1g/cm超である請求項1に記載の希土類ボン
    ド磁石。
  3. 【請求項3】 結着樹脂が熱硬化性樹脂であり、圧縮成
    形法により成形後、加熱硬化処理を施したものである請
    求項1または2に記載の希土類ボンド磁石。
  4. 【請求項4】 原子%でRα100−(α+β+γ+δ)
    βγδ(RはYを含む希土類元素の1種または2
    種以上でありSmを必ず含む、TはFeまたはFeとC
    o、MはAl、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Ga、Z
    r、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以
    上、5≦α≦18,0≦β≦50,0≦γ≦5,4≦δ
    ≦30)で表される主成分および不可避不純物として重
    量%で0.1%以下のCa(0を含まず)、2000p
    pm以下の酸素を含有し、平均結晶粒径が0.05〜
    1.0μmでありThZn17型またはThNi
    17型の硬質磁性相を磁石主相とする平均粒径が10〜
    300μmの還元・拡散法によるR−T−N系磁石材料
    粉末と結着樹脂とから実質的になる希土類ボンド磁石で
    あって、 室温における最大エネルギー積(BH)maxが6.5M
    GOe以上であり、かつパーミアンス係数(Pc)=2
    において大気中で200℃×500時間の加熱後室温に
    戻したときの不可逆減磁率が7.0%以下であることを
    特徴とする希土類ボンド磁石。
  5. 【請求項5】 前記R−T−N系磁石粉末が1山の粒径
    分布を有し、希土類ボンド磁石に占める結着樹脂の重量
    比率が0.5%以上20%未満であるとともに密度が
    6.1g/cm超である請求項4に記載の希土類ボン
    ド磁石。
  6. 【請求項6】 結着樹脂が熱硬化性樹脂であり、圧縮成
    形法により成形後、加熱硬化処理を施したものである請
    求項4または5に記載の希土類ボンド磁石。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001035714A (ja) * 1999-05-19 2001-02-09 Toshiba Corp ボンド磁石とボンド磁石の製造方法、およびそれを用いたアクチュエータ
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JP2003017307A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Asahi Kasei Corp 磁石用固形材料及びその製造方法
WO2009005170A1 (ja) 2007-07-04 2009-01-08 Nippon Oil Corporation 電気二重層キャパシタ電極用活性炭の製造方法
WO2018184555A1 (zh) * 2017-04-06 2018-10-11 济南圣泉集团股份有限公司 活性炭微球、电极及超级电容器

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