JP2000291800A - ピストンリング - Google Patents
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Abstract
テンレス鋼からなる。ピストンリング1の外周面を除く
上下面と内周面に、ビッカース硬さでHV700以上の
窒化層2を形成し、その下にビッカース硬さでHV70
0未満の窒化層3を形成する。そしてピストンリング1
の外周面にのみイオンプレーティングによる硬質皮膜4
を被覆する。HV700以上の窒化層2とイオンプレー
ティングによる硬質皮膜4は、上下面と外周面とで形成
されるコーナ部の少なくとも片方のコーナ部付近で、接
しておらず、互いに離間して設け、その離間間隔は、
0.001〜0.3mmの範囲にある。窒化層2,3は
ピストンリング1の上下面にのみ形成することもでき
る。
Description
ンに装着されるピストンリングに関する。
制の対応に伴って、ピストンリングの使用環境は益々過
酷になっている。特に、耐久性を増すために全面窒化し
たマルテンサイト系ステンレス鋼の母材にイオンプレー
ティングによる硬質皮膜を被覆したピストンリングにお
いては、疲労強度が低下することが問題となっている。
そこで、特開平5−172248号や特公平6−255
97号(特開昭62−120471号)において、鋼製
ピストンリングの上下面と内周面のみに窒化層を形成
し、外周面にイオンプレーティングによる硬質皮膜を被
覆したピストンリングが提案されている。なお、これら
の公報には、ピストンリングの上下面と外周面とで形成
されるコーナ部付近で、イオンプレーティングによる硬
質皮膜と窒化層とが接していないという記載はない。
は、過酷なエンジン条件下においては、疲労強度不足が
指摘されている。
度を向上することにある。
るいは上下面と内周面のみに窒化層が形成され、外周面
にイオンプレーティングによる硬質皮膜が被覆されてい
るピストンリングにおいて、前記上下面のうちの少なく
とも片面におけるビッカース硬さHV700以上の窒化
層と、前記外周面のイオンプレーティングによる硬質皮
膜とが接しておらず、互いに離間して設けられているこ
とを特徴とする。
ングには特に曲げ応力がかかる。曲げ応力はピストンリ
ングの外周側のコーナ部に特にかかる。燃焼圧が高いエ
ンジンにおいてはピストンリングの下面側のコーナ部に
負荷がかかり、回転数の高いエンジンにおいてはピスト
ンリングにフラッタリングが起こることにより上面側の
コーナ部に負荷がかかる。そこで、ピストンリングの外
周側のコーナ部においてHV700以上の窒化層とイオ
ンプレーティングによる硬質皮膜とが上下面のうちの少
なくとも片面側で接していないようにすることにより負
荷を緩和でき、ピストンリングの疲労強度を向上するこ
とができる。ピストンリングの外周側のコーナ部におい
て上下面のうちのどちらの側をHV700以上の窒化層
とイオンプレーティングによる硬質皮膜とが接しないよ
うにするかは、エンジンの種類により異なるが、上下面
のどちらの側においても接していないようにするのがよ
り好ましい。
ーティングによる硬質皮膜の離間間隔は、疲労強度向上
の点から0.001mm以上が望ましく、耐摩耗性の点
から0.3mm以下が望ましい。
テンサイト系ステンレス鋼が望ましい。
成される。
は、CrN、Cr2N、CrNとCr2Nの混合、ある
いはこれらとCrとの混合、もしくはTiN等からな
り、皮膜結晶中に、酸素及び炭素のうちの少なくとも1
種が固溶されているのが望ましい。
の厚さは、1〜80μmの範囲にあるのが望ましい。
に基づいて説明する。
る。図1(a)において、ピストンリング1はマルテン
サイト系ステンレス鋼からなる。ピストンリング1の外
周面を除く上下面と内周面には、ビッカース硬さでHV
700以上の窒化層2が形成され、その下にビッカース
硬さでHV700未満の窒化層3が形成されている。そ
してピストンリング1の外周面にのみイオンプレーティ
ングによる硬質皮膜4が被覆されている。イオンプレー
ティングによる硬質皮膜4は、例えばCrNからなり、
皮膜厚さは1〜80μmの範囲にある。HV700以上
の窒化層2の厚さは1〜110μmの範囲にある。
ティングによる硬質皮膜4は、上下面と外周面とで形成
されるコーナ部付近で、接しておらず、互いに離間して
設けられている。図1(b)は上面側の部分を代表して
示しているが、下面側も同じように形成されている。H
V700以上の窒化層2とイオンプレーティングによる
硬質皮膜4の離間間隔は、0.001〜0.3mmの範
囲にある。
説明する。
ィングし、その後窒化処理した後、上下面を研磨加工す
ることにより製造される。
被覆方法 ピストンリングをアセトン溶液中で超音波洗浄後、アー
クイオンプレーティング装置の炉内にセットし、真空引
きを行う。炉内圧力が1×10−3Pa以下に排気され
た後、シースヒータによりピストンリングを493〜7
23°Kまで加熱する。加熱直後は、ピストンリングに
吸着していたガスが放出されて炉内圧力が上昇するが、
再び圧力が低下する。圧力が低下して5×10−3Pa
以下になった後、ピストンリングにバイアス電圧を−8
00〜−1000V印加し、陰極のCrターゲットと陽
極との間で真空アーク放電を発生させてCrを蒸気化、
イオン化し、プロセスガスである窒素ガスを導入して、
メタルボンバードを行った。10分間メタルボンバード
を行った後、窒素ガスを4×10−1〜1.5Paにな
るまで導入し、バイアス電圧を−20〜−70V印加し
て、所定時間被覆してCrN皮膜を形成する。
少なくとも1種を固溶させるには、プロセスガスとし
て、酸素のみを固溶させるには窒素ガスと酸素ガスの混
合ガスを使用し、炭素のみを固溶させるには窒素ガスと
CH4、C2H4及びC2H2ガスの中の少なくとも1
種とを含む混合ガスを使用し、酸素及び炭素を固溶させ
るには窒素ガスと酸素ガスとCH4、C2H4及びC2
H2ガスの中の少なくとも1種とを含む混合ガスを使用
すればよい。
る。窒化処理後のピストンリングの一部分の縦断面図を
図2の(a)及び(b)に示す。2はピストンリング1
の上下面と内周面にのみ形成されたHV700以上の窒
化層、3はHV700以上の窒化層2の下に形成されて
いるHV700未満の窒化層、4はピストンリング1の
外周面のみに被覆されたイオンプレーティングによる硬
質皮膜(CrN皮膜)である。図2(a)は、HV70
0以上の窒化層2とイオンプレーティングによる硬質皮
膜(CrN皮膜)4とが、上下面と外周面とで形成され
るコーナ部付近で接している例を示しており、図2
(b)は、HV700以上の窒化層2とイオンプレーテ
ィングによる硬質皮膜(CrN皮膜)4とが、上下面と
外周面とで形成されるコーナ部付近で重なっている例を
示している。
研磨加工して、図1に示されているように、HV700
以上の窒化層2とイオンプレーティングによる硬質皮膜
4とが、上下面と外周面とで形成されるコーナ部付近
で、接せず、互いに離間して設けられているようにす
る。なお、図1は、上下面におけるHV700以上の窒
化層2と外周面のイオンプレーティングによる硬質皮膜
4とが、接しておらず、互いに離間して設けられている
例を示したが、エンジンによっては、上下面のうちの片
面におけるHV700以上の窒化層と外周面のイオンプ
レーティングによる硬質皮膜とが接していないように構
成することもある。上下面のそれぞれの研磨加工量を調
整することによって、窒化層2と硬質皮膜4とが、上下
面のうちの少なくとも片面のコーナ部付近で、接せず、
互いに離間しているように形成することができる。
プレーティングによる硬質皮膜4とが、上下面と外周面
とで形成されるコーナ部付近で、接しておらず、互いに
離間して設けられているのは、次の方法によって分か
る。
ッチングすると、HV700以上の窒化層2とイオンプ
レーティングによる硬質皮膜4がナイタールにより腐食
して、互いに異なる色に変色するので、両者の境界が明
瞭になる。したがって、ピストンリング1の上下面と外
周面とで形成されるコーナ部付近を顕微鏡でみれば、H
V700以上の窒化層2とイオンプレーティングによる
硬質皮膜4が互いに離間していることが分かり、かつ、
両者の離間間隔を測定することができる。なお、ナイタ
ールは、硝酸5体積%とエチルアルコール又はメチルア
ルコール95体積%とから構成されている。
る。本実施形態が上記実施形態と相違する点は、窒化層
2,3が形成されている部位のみであり、その他の点は
上記実施形態で説明したピストンリングと同一である。
すなわち、ピストンリング1の外周面及び内周面を除く
上下面には、ビッカース硬さでHV700以上の窒化層
2が形成され、その下にビッカース硬さでHV700未
満の窒化層3が形成されている。そしてピストンリング
1の外周面にのみイオンプレーティングによる硬質皮膜
4が被覆されている。
労試験を行った結果を説明する。
表1に示すピストンリングの疲労試験を行った。
間間隔の欄における+の数値は、イオンプレーティング
による硬質皮膜と窒化層とが離間しており、その離間間
隔の長さl(図1(b)参照)を示し、0の数値は、イ
オンプレーティングによる硬質皮膜と窒化層とが接して
いることを示し、−の数値は、イオンプレーティングに
よる硬質皮膜と窒化層とが重なっており、その重なった
部分の長さl(図2(b)参照)を示している。 イオンプレーティングによる硬質皮膜の膜厚は、全て
30μmであり、同一の皮膜特性である。 ピストンリングの母材は、全て17Crマルテンサイ
ト系ステンレス鋼である。 ピストンリングは全てイオンプレーティング後に窒化
を行った。 ピストンリングはφ88×軸方向幅1.5×半径方向
長さ2.5(mm)である。
いる。ねじり疲労試験機は、評価するピストンリング1
0の呼称径を内径に持つシリンダ11を有し、シリンダ
11の上面に押さえプレート12が固定されている。押
さえプレート12は、評価するピストンリング10の呼
称径よりも小さい内径を有しており、シリンダ11内に
配置されたピストンリング10の外周側の上面を押さえ
る役目をする。シリンダ11内に配置されたピストンリ
ング10の内周側の上下面は、ホルダ13,14,15
で構成される環状溝16に挿入されて保持される。ホル
ダ13,14,15は、シャフト17に固定されたホル
ダ固定部材18に固定されている。シャフト17は図示
外の油圧シリンダによって上下動するように構成されて
いる。したがって、シャフト17が上下動すると、ピス
トンリング10の外周側は押さえプレート12で押さえ
られたまま、ピストンリング10の内周側が上下動する
ため、ピストンリング10のコーナR部にねじり応力が
与えられる。
閉じた状態で、ピストンリング10のコーナR部にねじ
り応力を与え、ピストンリング10が折損したときの繰
り返し数を測定した。ピストンリング10の内周側の変
位量を変化させることにより、ピストンリング10のコ
ーナR部にかかるねじり応力を変化させた。 回転数:3500rpm 変位量:0.1〜0.6mm
較例1〜5は折損強度が低く、実施例1〜3は折損強度
が高い。
ングは疲労強度が向上する。
リングの一部分の縦断面図、(b)は(a)の要部拡大
図である。
す縦断面図で、(a)はHV700以上の窒化層とイオ
ンプレーティングによる硬質皮膜とが接している場合を
示し、(b)はHV700以上の窒化層とイオンプレー
ティングによる硬質皮膜とが重なっている場合を示して
いる。
ンリングの一部分の縦断面図、(b)は(a)の要部拡
大図である。
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 上下面のみあるいは上下面と内周面のみ
に窒化層が形成され、外周面にイオンプレーティングに
よる硬質皮膜が被覆されているピストンリングにおい
て、 前記上下面のうちの少なくとも片面におけるビッカース
硬さHV700以上の窒化層と、前記外周面のイオンプ
レーティングによる硬質皮膜とが接しておらず、互いに
離間して設けられていることを特徴とするピストンリン
グ。 - 【請求項2】 前記HV700以上の窒化層とイオンプ
レーティングによる硬質皮膜の離間間隔が、0.001
〜0.3mmの範囲にあることを特徴とする請求項1記
載のピストンリング。 - 【請求項3】 前記ピストンリングがマルテンサイト系
ステンレス鋼からなることを特徴とする請求項1又は2
記載のピストンリング。 - 【請求項4】 前記イオンプレーティングによる硬質皮
膜が、CrN、Cr 2N、CrNとCr2Nの混合、あ
るいはこれらとCrとの混合、もしくはTiNからなっ
ていることを特徴とする請求項1,2,又は3記載のピ
ストンリング。 - 【請求項5】 前記イオンプレーティングによる硬質皮
膜の結晶中に、酸素及び炭素のうちの少なくとも1種が
固溶されていることを特徴とする請求項4記載のピスト
ンリング。 - 【請求項6】 前記イオンプレーティングによる硬質皮
膜の厚さが、1〜80μmの範囲にあることを特徴とす
る請求項1〜5の何れかに記載のピストンリング。
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