JP2000271471A - 液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器 - Google Patents
液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器Info
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 適切なメンテテナンス時期や供給ソースの状
態を知る。 【解決手段】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
のポンプ２と、このポンプ２より送り出された液体を気
化する気化器６とを備え、液体を前記気化器６により気
化して反応室へ導入する液体ソース供給システムであ
り、前記のポンプ２から前記気化器６へ至る経路に圧力
計７が設けられ、この圧力計７の出力に基づき圧力を表
示するモニタ装置８が備えられている。
態を知る。 【解決手段】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
のポンプ２と、このポンプ２より送り出された液体を気
化する気化器６とを備え、液体を前記気化器６により気
化して反応室へ導入する液体ソース供給システムであ
り、前記のポンプ２から前記気化器６へ至る経路に圧力
計７が設けられ、この圧力計７の出力に基づき圧力を表
示するモニタ装置８が備えられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造工程に用
いることのできる液体ソース供給システム及びその洗浄
方法、更には上記システムに用いる気化器に関するもの
である。
いることのできる液体ソース供給システム及びその洗浄
方法、更には上記システムに用いる気化器に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体の製造にあっては、固体を
溶媒に溶かした溶液を気化してシステムへ供給するＤＬ
Ｉ（ダイレクトリキッドインジェクション）が注目され
ている。このＤＬＩによる液体供給を行うシステムとし
ては、本願発明者による論文（タイトル「ダイレクトリ
キッドインジェクションシステム」 日本工業出版社
「計測技術」第２５巻第１２号（１９９７年１月）、特
開平５−２５３４０２号公報、米国特許第5,361,800 号
公報、米国特許第5,371,828 号公報に開示のシステムが
ある。
溶媒に溶かした溶液を気化してシステムへ供給するＤＬ
Ｉ（ダイレクトリキッドインジェクション）が注目され
ている。このＤＬＩによる液体供給を行うシステムとし
ては、本願発明者による論文（タイトル「ダイレクトリ
キッドインジェクションシステム」 日本工業出版社
「計測技術」第２５巻第１２号（１９９７年１月）、特
開平５−２５３４０２号公報、米国特許第5,361,800 号
公報、米国特許第5,371,828 号公報に開示のシステムが
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
システムにおいては、ＤＬＩによる液体供給を行うこと
から、ある程度の使用時間が経過するとシステムに固体
が残存したり、供給する固体を溶媒に溶かした溶液の状
態に変化が生じ、プロセスに悪影響を与えることが考え
られる。また、固体を溶解させていない液体においても
熱分解等により固体成分が生じシステムに固体が残存す
る場合もある。
システムにおいては、ＤＬＩによる液体供給を行うこと
から、ある程度の使用時間が経過するとシステムに固体
が残存したり、供給する固体を溶媒に溶かした溶液の状
態に変化が生じ、プロセスに悪影響を与えることが考え
られる。また、固体を溶解させていない液体においても
熱分解等により固体成分が生じシステムに固体が残存す
る場合もある。
【０００４】本発明はこのような従来における液体ソー
ス供給システムの問題点を解決せんとしてなされたもの
で、その目的は、適切なメンテテナンス時期や供給ソー
スの状態を知ることができる液体ソース供給システムを
提供することである。また、他の目的は、メンテナンス
を適切に行うことの可能な液体ソース供給システム及び
その洗浄方法更には、気化器を提供することである。
ス供給システムの問題点を解決せんとしてなされたもの
で、その目的は、適切なメンテテナンス時期や供給ソー
スの状態を知ることができる液体ソース供給システムを
提供することである。また、他の目的は、メンテナンス
を適切に行うことの可能な液体ソース供給システム及び
その洗浄方法更には、気化器を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液体ソース
供給システムは、供給すべき液体を高圧で送り出すため
の第１のポンプと、この第１のポンプより送り出された
液体を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器によ
り気化して反応室へ導入する液体ソース供給システムで
あり、前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には
圧力計が設けられ、この圧力計の出力に基づき圧力を表
示するモニタ装置が備えられていることを特徴とする。
これにより第１のポンプから気化器へ至る経路の圧力を
モニタして気化器内の分解生成物の蓄積量を推定し、洗
浄すべき時期やメンテナンスの時期を推定することが可
能である。供給すべき液体を高圧で送り出すための第１
のポンプと、この第１のポンプより送り出された液体を
気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により気化
して反応室へ導入する液体ソース供給システムであり、
前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には液体流
量計が設けられ、この液体流量計の出力に基づき流量を
表示するモニタ装置が備えられていることを特徴とす
る。これにより、第１のポンプから気化器へ至る経路の
流体流量をモニタして気化器における詰まりやポンプの
故障を検出することが可能である。
供給システムは、供給すべき液体を高圧で送り出すため
の第１のポンプと、この第１のポンプより送り出された
液体を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器によ
り気化して反応室へ導入する液体ソース供給システムで
あり、前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には
圧力計が設けられ、この圧力計の出力に基づき圧力を表
示するモニタ装置が備えられていることを特徴とする。
これにより第１のポンプから気化器へ至る経路の圧力を
モニタして気化器内の分解生成物の蓄積量を推定し、洗
浄すべき時期やメンテナンスの時期を推定することが可
能である。供給すべき液体を高圧で送り出すための第１
のポンプと、この第１のポンプより送り出された液体を
気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により気化
して反応室へ導入する液体ソース供給システムであり、
前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には液体流
量計が設けられ、この液体流量計の出力に基づき流量を
表示するモニタ装置が備えられていることを特徴とす
る。これにより、第１のポンプから気化器へ至る経路の
流体流量をモニタして気化器における詰まりやポンプの
故障を検出することが可能である。
【０００６】本発明に係る液体ソース供給システムは、
供給すべき液体を高圧で送り出すための第１のポンプ
と、この第１のポンプより送り出された液体を気化する
気化器とを備え、液体を前記気化器により気化して反応
室へ導入する液体ソース供給システムにおいて、洗浄用
の溶剤または洗浄液を供給する溶剤供給系であって、前
記溶剤または洗浄液を高圧で送り出すための第２のポン
プを備える溶剤供給系と、気体を前記第１のポンプ及び
前記気化器へ導入する流量コントローラを含む気体供給
系とを備え、前記溶剤供給系から前記第１のポンプ及び
前記気化器に溶剤または洗浄液を導入して満たす経路
と、前記気体供給系から気体を前記第１のポンプ及び前
記気化器へ導入する経路とを具備することを特徴とす
る。これにより、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶
剤または洗浄液を導入して満たし、更に流量コントロー
ラを介して気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導
入して洗浄を行うことが可能である。
供給すべき液体を高圧で送り出すための第１のポンプ
と、この第１のポンプより送り出された液体を気化する
気化器とを備え、液体を前記気化器により気化して反応
室へ導入する液体ソース供給システムにおいて、洗浄用
の溶剤または洗浄液を供給する溶剤供給系であって、前
記溶剤または洗浄液を高圧で送り出すための第２のポン
プを備える溶剤供給系と、気体を前記第１のポンプ及び
前記気化器へ導入する流量コントローラを含む気体供給
系とを備え、前記溶剤供給系から前記第１のポンプ及び
前記気化器に溶剤または洗浄液を導入して満たす経路
と、前記気体供給系から気体を前記第１のポンプ及び前
記気化器へ導入する経路とを具備することを特徴とす
る。これにより、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶
剤または洗浄液を導入して満たし、更に流量コントロー
ラを介して気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導
入して洗浄を行うことが可能である。
【０００７】本発明に係る液体ソース供給システムの洗
浄方法は、供給すべき液体を高圧で送り出すための第１
のポンプと、該第１のポンプより送り出された液体を気
化する気化器とを備え、液体を前記気化器により気化し
て反応室へ導入する液体ソース供給システムの洗浄方法
であり、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶剤または
洗浄液を導入して満たし、更に流量コントローラを介し
て気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導入して洗
浄を行うことを特徴とする。これにより溶剤または洗浄
液に泡を送り込むようにして洗浄を行うことが可能であ
る。
浄方法は、供給すべき液体を高圧で送り出すための第１
のポンプと、該第１のポンプより送り出された液体を気
化する気化器とを備え、液体を前記気化器により気化し
て反応室へ導入する液体ソース供給システムの洗浄方法
であり、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶剤または
洗浄液を導入して満たし、更に流量コントローラを介し
て気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導入して洗
浄を行うことを特徴とする。これにより溶剤または洗浄
液に泡を送り込むようにして洗浄を行うことが可能であ
る。
【０００８】本発明に係る気化器は、中央部に穴が設け
られた複数のディスクが、ラジアル方向に液体の出口を
有する中空パイプを軸として積層され弾性部材により付
勢されており、前記中空パイプへ到来した液体を前記出
口から前記ディスク間へ送出しこのディスク間において
気化させる気化器であり、前記付勢に対し、流体制御に
より付勢に抗して付勢力を解除させる手段が備えられて
いることを特徴とする。これにより、ディスクの間を広
げた状態を作り出すことができ、洗浄の場合に便利であ
る。
られた複数のディスクが、ラジアル方向に液体の出口を
有する中空パイプを軸として積層され弾性部材により付
勢されており、前記中空パイプへ到来した液体を前記出
口から前記ディスク間へ送出しこのディスク間において
気化させる気化器であり、前記付勢に対し、流体制御に
より付勢に抗して付勢力を解除させる手段が備えられて
いることを特徴とする。これにより、ディスクの間を広
げた状態を作り出すことができ、洗浄の場合に便利であ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下添付図面を参照して本発明に
係る液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器
を説明する。各図において同一の構成要素には同一の符
号を付して重複する説明を省略する。図１には、本発明
に係る液体ソース供給システムの構成図が示されてい
る。このシステムにおいては、反応室へ供給する気体の
原料である液体が試料タンク１に蓄積されている。試料
タンク１には、バルブＶＭ１〜ＶＭ３が設けられてお
り、使用状態及び不使用状態に応じてこれらのバルブＶ
Ｍ１〜ＶＭ３が適宜開閉される。使用状態においては、
バルブＶＭ１及びＶＭ２は開状態とされ、バルブＶＭ３
は閉状態とされる。バルブＶＭ１、ＶＭ３の入口側には
レギュレータＲＧ１が接続され、図示せぬエアー供給源
から到来する高圧のエアーがレギュレータＲＧ１により
圧力調整されてバルブＶＭ１を介して試料タンク１へ供
給される。
係る液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器
を説明する。各図において同一の構成要素には同一の符
号を付して重複する説明を省略する。図１には、本発明
に係る液体ソース供給システムの構成図が示されてい
る。このシステムにおいては、反応室へ供給する気体の
原料である液体が試料タンク１に蓄積されている。試料
タンク１には、バルブＶＭ１〜ＶＭ３が設けられてお
り、使用状態及び不使用状態に応じてこれらのバルブＶ
Ｍ１〜ＶＭ３が適宜開閉される。使用状態においては、
バルブＶＭ１及びＶＭ２は開状態とされ、バルブＶＭ３
は閉状態とされる。バルブＶＭ１、ＶＭ３の入口側には
レギュレータＲＧ１が接続され、図示せぬエアー供給源
から到来する高圧のエアーがレギュレータＲＧ１により
圧力調整されてバルブＶＭ１を介して試料タンク１へ供
給される。
【００１０】バルブＶＭ２、ＶＭ３の出口側にはバルブ
Ｖ３が接続され、このバルブＶ３の出口側にはポンプ２
が設けられている。このポンプ２は、前述した本願発明
者による論文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェ
クションシステム」 日本工業出版社「計測技術」第２
５巻第１２号（１９９７年１月）、特開平５−２５３４
０２号公報、米国特許第5,361,800 号公報、米国特許第
5,371,828 号公報に開示のポンプである。このポンプ２
は、コントローラ３により制御され、高圧により液体を
出力する。
Ｖ３が接続され、このバルブＶ３の出口側にはポンプ２
が設けられている。このポンプ２は、前述した本願発明
者による論文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェ
クションシステム」 日本工業出版社「計測技術」第２
５巻第１２号（１９９７年１月）、特開平５−２５３４
０２号公報、米国特許第5,361,800 号公報、米国特許第
5,371,828 号公報に開示のポンプである。このポンプ２
は、コントローラ３により制御され、高圧により液体を
出力する。
【００１１】ポンプ２の出力側には、三方弁Ｖ５を介し
て液体流量計４が設けられている。この液体流量計４と
しては、日本エム・ケー・エス（株）製のフローモニタ
と称される流量計を用いることができる。この液体流量
計４としては、本願発明者の発明に係る特許出願（特願
平７−１４７０１８号）に開示の、接液部（液体に接触
する部分）を持たないタイプの流量検出装置が採用する
機構を持つ液体流量計を用いることができる。液体流量
計４の出力はモニタ装置５へ送出され、モニタ装置５は
液体流量計４の出力に基づき液体の流量を表示する。
て液体流量計４が設けられている。この液体流量計４と
しては、日本エム・ケー・エス（株）製のフローモニタ
と称される流量計を用いることができる。この液体流量
計４としては、本願発明者の発明に係る特許出願（特願
平７−１４７０１８号）に開示の、接液部（液体に接触
する部分）を持たないタイプの流量検出装置が採用する
機構を持つ液体流量計を用いることができる。液体流量
計４の出力はモニタ装置５へ送出され、モニタ装置５は
液体流量計４の出力に基づき液体の流量を表示する。
【００１２】液体流量計４の出力側にはバルブＶ６を介
して気化器６が設けられる。気化器６の入口側には、ポ
ンプ２から気化器６へ至る経路の圧力を検出する圧力計
７が設けられている。この圧力計７としては、例えば、
ストレーンゲージ等を用いることができる。圧力計７の
出力はモニタ装置８へ送出され、モニタ装置８は圧力計
７の出力に基づき液体の圧力を表示する。
して気化器６が設けられる。気化器６の入口側には、ポ
ンプ２から気化器６へ至る経路の圧力を検出する圧力計
７が設けられている。この圧力計７としては、例えば、
ストレーンゲージ等を用いることができる。圧力計７の
出力はモニタ装置８へ送出され、モニタ装置８は圧力計
７の出力に基づき液体の圧力を表示する。
【００１３】上記気化器６は、前述した本願発明者によ
る論文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェクショ
ンシステム」 日本工業出版社「計測技術」第２５巻第
１２号（１９９７年１月）、特開平５−２５３４０２号
公報、米国特許第5,361,800号公報、米国特許第5,371,8
28 号公報に開示のベーパライザによることもできる
が、ここでは図２に示される構成の気化器６を用いる。
る論文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェクショ
ンシステム」 日本工業出版社「計測技術」第２５巻第
１２号（１９９７年１月）、特開平５−２５３４０２号
公報、米国特許第5,361,800号公報、米国特許第5,371,8
28 号公報に開示のベーパライザによることもできる
が、ここでは図２に示される構成の気化器６を用いる。
【００１４】この気化器６は、ケーシング２０内にイン
レット部２１から液体を導き、アウトレット部２２から
気化されたソースを送出する。インレット部２１から導
入される液体は、ワンウエイバルブ２３を介して結合部
２４から、ラジアル方向に液体の出口を有する中空パイ
プ２５へ到るように流路が形成されている。
レット部２１から液体を導き、アウトレット部２２から
気化されたソースを送出する。インレット部２１から導
入される液体は、ワンウエイバルブ２３を介して結合部
２４から、ラジアル方向に液体の出口を有する中空パイ
プ２５へ到るように流路が形成されている。
【００１５】ワンウエイバルブ２３の開制御は、エアー
供給路２６から間隙部２８へエアーを供給し、供給され
るエアーの圧力によりバネ２７の付勢力に抗してシリン
ダ２９をワンウエイバルブ２３におけるオリフィスが開
く方向へ移動させることにより行われる。
供給路２６から間隙部２８へエアーを供給し、供給され
るエアーの圧力によりバネ２７の付勢力に抗してシリン
ダ２９をワンウエイバルブ２３におけるオリフィスが開
く方向へ移動させることにより行われる。
【００１６】中空パイプ２５は、気化室３０に設けられ
たフィットブロック３１に埋設されており、中空パイプ
２５を軸として複数枚のディスク３２が積層されてい
る。このディスク３２は、前述した本願発明者による論
文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェクションシ
ステム」 日本工業出版社「計測技術」第２５巻第１２
号（１９９７年１月）の第３図に示されているディスク
である。
たフィットブロック３１に埋設されており、中空パイプ
２５を軸として複数枚のディスク３２が積層されてい
る。このディスク３２は、前述した本願発明者による論
文（タイトル「ダイレクトリキッドインジェクションシ
ステム」 日本工業出版社「計測技術」第２５巻第１２
号（１９９７年１月）の第３図に示されているディスク
である。
【００１７】フィットブロック３１は、バネ３３により
ディスク３２方向へ付勢され、各ディスク間を極めて狭
い間隙に保つ。気化室３０を取り巻くベースブロック３
４、３５には、コネクタ３６から供給される電力を受け
て発熱するヒータ３７が設けられ、ヒータ３７が発熱す
ることによりベースブロック３４、３５が熱せられ、デ
ィスク３２も熱せられる。この結果、中空パイプ２５へ
到来した液体は中空パイプ２５の出口からディスク３２
の間隙へ送出され、このディスクの間隙において気化さ
れ、気化室３０からアウトレット部２２を介して反応室
へ気体の供給が行われる。図１では、アウトレット部２
２にバルブＶ９が接続され、このバルブＶ９を介して反
応室へ気体の供給が行われる。
ディスク３２方向へ付勢され、各ディスク間を極めて狭
い間隙に保つ。気化室３０を取り巻くベースブロック３
４、３５には、コネクタ３６から供給される電力を受け
て発熱するヒータ３７が設けられ、ヒータ３７が発熱す
ることによりベースブロック３４、３５が熱せられ、デ
ィスク３２も熱せられる。この結果、中空パイプ２５へ
到来した液体は中空パイプ２５の出口からディスク３２
の間隙へ送出され、このディスクの間隙において気化さ
れ、気化室３０からアウトレット部２２を介して反応室
へ気体の供給が行われる。図１では、アウトレット部２
２にバルブＶ９が接続され、このバルブＶ９を介して反
応室へ気体の供給が行われる。
【００１８】この気化器６は、希釈用のガスを受け入れ
るようになっており、希釈ガスは、ベースブロック３４
に形成されたキャビティ３８へ導かれる。図１において
は、希釈ガスは流量制御装置９を介してバルブＶ７を通
って供給される。更に気化器６は、気化ガスを排気でき
るようになっており、気化ガスは、ベースブロック３４
に形成されたキャビティ３８から排出される。図１にお
いては、気化ガスはバルブＶ８を介して排出され廃棄さ
れる。
るようになっており、希釈ガスは、ベースブロック３４
に形成されたキャビティ３８へ導かれる。図１において
は、希釈ガスは流量制御装置９を介してバルブＶ７を通
って供給される。更に気化器６は、気化ガスを排気でき
るようになっており、気化ガスは、ベースブロック３４
に形成されたキャビティ３８から排出される。図１にお
いては、気化ガスはバルブＶ８を介して排出され廃棄さ
れる。
【００１９】三方弁Ｖ５には、ポンプ１０及びバルブＶ
１０が接続されている。ポンプ１０は、ポンプ２と同一
の構成を有しており、コントローラ１１によりにより制
御され、高圧により液体を出力する。このシステムにお
いては、ポンプ２及び気化器６へ供給する洗浄用の溶剤
または洗浄液である液体が試料タンク１２に蓄積されて
いる。
１０が接続されている。ポンプ１０は、ポンプ２と同一
の構成を有しており、コントローラ１１によりにより制
御され、高圧により液体を出力する。このシステムにお
いては、ポンプ２及び気化器６へ供給する洗浄用の溶剤
または洗浄液である液体が試料タンク１２に蓄積されて
いる。
【００２０】試料タンク１２には、バルブＶＭ１１〜Ｖ
Ｍ１３が設けられており、使用状態及び不使用状態に応
じてこれらのバルブＶＭ１１〜ＶＭ１３が適宜開閉され
る。使用状態においては、バルブＶＭ１１及びＶＭ１２
は開状態とされ、バルブＶＭ１３は閉状態とされる。バ
ルブＶＭ１１、ＶＭ１３の入口側にはレギュレータＲＧ
２が接続され、図示せぬエアー供給源から到来する高圧
のエアーがレギュレータＲＧ２により圧力調整されてバ
ルブＶＭ１１を介して試料タンク１２へ供給される。バ
ルブＶＭ１２、ＶＭ１３の出口側にはバルブＶ１１が接
続され、このバルブＶ１１の出口側には前述のポンプ１
０が設けられている。エアー供給源からこのポンプ１０
の入口側までの構成は、洗浄用の溶剤または洗浄液を供
給する溶剤供給系を構成する。
Ｍ１３が設けられており、使用状態及び不使用状態に応
じてこれらのバルブＶＭ１１〜ＶＭ１３が適宜開閉され
る。使用状態においては、バルブＶＭ１１及びＶＭ１２
は開状態とされ、バルブＶＭ１３は閉状態とされる。バ
ルブＶＭ１１、ＶＭ１３の入口側にはレギュレータＲＧ
２が接続され、図示せぬエアー供給源から到来する高圧
のエアーがレギュレータＲＧ２により圧力調整されてバ
ルブＶＭ１１を介して試料タンク１２へ供給される。バ
ルブＶＭ１２、ＶＭ１３の出口側にはバルブＶ１１が接
続され、このバルブＶ１１の出口側には前述のポンプ１
０が設けられている。エアー供給源からこのポンプ１０
の入口側までの構成は、洗浄用の溶剤または洗浄液を供
給する溶剤供給系を構成する。
【００２１】バルブＶ１０には、流量制御装置１３が接
続され、この流量制御装置１３に対しては、図示せぬエ
アー供給源から到来する高圧のエアーがレギュレータＲ
Ｇ３により圧力調整されて供給されている。エアー供給
源からこの流量制御装置１３までの構成は、気体供給系
を構成する。
続され、この流量制御装置１３に対しては、図示せぬエ
アー供給源から到来する高圧のエアーがレギュレータＲ
Ｇ３により圧力調整されて供給されている。エアー供給
源からこの流量制御装置１３までの構成は、気体供給系
を構成する。
【００２２】以上のように構成された液体ソース供給シ
ステムでは、通常動作状態では、バルブＶ４，Ｖ１０，
Ｖ１１が閉じられ、溶剤供給系と気体供給系が関与しな
い状態で動作が行われる。このとき、試料タンク１に蓄
積されている液体はポンプ２により高圧とされ気化器６
へ送られて気体とされ、反応室へ送られる。
ステムでは、通常動作状態では、バルブＶ４，Ｖ１０，
Ｖ１１が閉じられ、溶剤供給系と気体供給系が関与しな
い状態で動作が行われる。このとき、試料タンク１に蓄
積されている液体はポンプ２により高圧とされ気化器６
へ送られて気体とされ、反応室へ送られる。
【００２３】ここで、液体流量計４の出力はモニタ装置
５へ送出され、モニタ装置５は液体流量計４の出力に基
づき液体の流量を表示するので、ポンプ２から気化器６
へ至る経路の流量を知ることができ、気化器６における
詰まりやポンプ２の故障を検出することが可能である。
つまり、定常運転を続けるうちに流量が低下してきた場
合には、気化器６における詰まりが原因で流量低下して
いると推定でき、また、ポンプ２の故障により適切な流
量が得られないことが推定でき、これらを点検し、必要
な洗浄などのメンテナンスを行うことができる。
５へ送出され、モニタ装置５は液体流量計４の出力に基
づき液体の流量を表示するので、ポンプ２から気化器６
へ至る経路の流量を知ることができ、気化器６における
詰まりやポンプ２の故障を検出することが可能である。
つまり、定常運転を続けるうちに流量が低下してきた場
合には、気化器６における詰まりが原因で流量低下して
いると推定でき、また、ポンプ２の故障により適切な流
量が得られないことが推定でき、これらを点検し、必要
な洗浄などのメンテナンスを行うことができる。
【００２４】また、モニタ装置５として、流量の経時的
変化を表示する装置を採用するときには、液体の粘性の
変化による脈動を捕らえることができ、液体ソースの変
質状況を把握することができる。例えば、モニタ装置５
として、図３に示されるように、横方向に時間軸を取
り、縦方向に流量を取って表示を行う装置を採用する。
係る構成において、同図３に示されるように周期的に流
量の落ち込みが見られる場合には、液体ソースの粘性が
高くなったこと、つまり、溶液ソースの溶媒が蒸発した
り、溶液ソース内の溶質の解離が生じたこと又は液体ソ
ース自体の変質が考えられ、係る場合には動作を停止さ
せて試料タンク２の試料を取り換えるなどの対策を採る
ことができる。尚、図３の周期的落ち込みは、ポンプ２
の２つのピストンによる送り出しの継目に相当し、モニ
タ装置５がこのサイクルを捕らえるための図３に示す程
度の時間経過に対応する表示を行う。
変化を表示する装置を採用するときには、液体の粘性の
変化による脈動を捕らえることができ、液体ソースの変
質状況を把握することができる。例えば、モニタ装置５
として、図３に示されるように、横方向に時間軸を取
り、縦方向に流量を取って表示を行う装置を採用する。
係る構成において、同図３に示されるように周期的に流
量の落ち込みが見られる場合には、液体ソースの粘性が
高くなったこと、つまり、溶液ソースの溶媒が蒸発した
り、溶液ソース内の溶質の解離が生じたこと又は液体ソ
ース自体の変質が考えられ、係る場合には動作を停止さ
せて試料タンク２の試料を取り換えるなどの対策を採る
ことができる。尚、図３の周期的落ち込みは、ポンプ２
の２つのピストンによる送り出しの継目に相当し、モニ
タ装置５がこのサイクルを捕らえるための図３に示す程
度の時間経過に対応する表示を行う。
【００２５】また、モニタ８によりポンプ２から気化器
６へ至る経路の圧力をモニタして気化器６内の分解生成
物の蓄積量を推定し、洗浄すべき時期やメンテナンスの
時期を推定することが可能である。つまり、定常運転を
続けるうちに圧力が高くなってくると、気化器６内の分
解生成物の蓄積が原因であると推定され、洗浄やメンテ
ナンス等の対策を採ることが可能である。
６へ至る経路の圧力をモニタして気化器６内の分解生成
物の蓄積量を推定し、洗浄すべき時期やメンテナンスの
時期を推定することが可能である。つまり、定常運転を
続けるうちに圧力が高くなってくると、気化器６内の分
解生成物の蓄積が原因であると推定され、洗浄やメンテ
ナンス等の対策を採ることが可能である。
【００２６】システムの洗浄を行う場合には、システム
の動作を止め、バルブＶ３を閉じてバルブＶ４、Ｖ１１
を開放し、ポンプ１０を介してポンプ２及び気化器６に
溶剤または洗浄液を導入して満たす。次に、バルブＶ１
１を閉じてバルブＶ１０を流量制御装置１３を介してエ
アーをポンプ２及び気化器６へ導入して洗浄を行う。こ
れによりポンプ２及び気化器６の溶剤または洗浄液に泡
を送り込むようにして洗浄を行うことができ、単に溶剤
または洗浄液による洗浄に比べて激しく適切な洗浄がで
きる。
の動作を止め、バルブＶ３を閉じてバルブＶ４、Ｖ１１
を開放し、ポンプ１０を介してポンプ２及び気化器６に
溶剤または洗浄液を導入して満たす。次に、バルブＶ１
１を閉じてバルブＶ１０を流量制御装置１３を介してエ
アーをポンプ２及び気化器６へ導入して洗浄を行う。こ
れによりポンプ２及び気化器６の溶剤または洗浄液に泡
を送り込むようにして洗浄を行うことができ、単に溶剤
または洗浄液による洗浄に比べて激しく適切な洗浄がで
きる。
【００２７】本発明では、上記の気化器６よりも適切に
ディスク３２の洗浄を行うことの可能な図４に示す気化
器６Ａを提供する。この気化器６Ａは、ディスク３２に
対する付勢の構成が気化器６と異なっている。付勢部４
０は、バネ４１によってブロック４３をディスク３２方
向へ付勢する。アウトレット部２２は、ディスク３２の
ラジアル方向に設けられる。
ディスク３２の洗浄を行うことの可能な図４に示す気化
器６Ａを提供する。この気化器６Ａは、ディスク３２に
対する付勢の構成が気化器６と異なっている。付勢部４
０は、バネ４１によってブロック４３をディスク３２方
向へ付勢する。アウトレット部２２は、ディスク３２の
ラジアル方向に設けられる。
【００２８】気化室３０に設けられたフィットブロック
３１にはバネが埋設されていない。気化室３０を構成す
るベースブロック３５Ａの段部には、ブロック４６から
突き出した突部が臨み、この突部にベローズ４４が設け
られ、ベローズ４４には板体４５が接続されている。こ
の板体４５は、バネ４１に付勢されるブロック４３と結
合したシリンダ４１に押圧され、結局、フィットブロッ
ク３１Ａが、バネ３３によりディスク３２方向へ付勢さ
れ、各ディスク間を極めて狭い間隙に保つ。
３１にはバネが埋設されていない。気化室３０を構成す
るベースブロック３５Ａの段部には、ブロック４６から
突き出した突部が臨み、この突部にベローズ４４が設け
られ、ベローズ４４には板体４５が接続されている。こ
の板体４５は、バネ４１に付勢されるブロック４３と結
合したシリンダ４１に押圧され、結局、フィットブロッ
ク３１Ａが、バネ３３によりディスク３２方向へ付勢さ
れ、各ディスク間を極めて狭い間隙に保つ。
【００２９】バネ４２による付勢の解除は、エアー供給
路４７から間隙部４８へエアーを供給し、供給されるエ
アーの圧力によりバネ４２の付勢力に抗してブロック４
３及びシリンダ４１を反付勢方向へ移動させることによ
り行われる。
路４７から間隙部４８へエアーを供給し、供給されるエ
アーの圧力によりバネ４２の付勢力に抗してブロック４
３及びシリンダ４１を反付勢方向へ移動させることによ
り行われる。
【００３０】以上のように構成された気化器６Ａにあっ
ては、通常の状態では、フィットブロック３１Ａが、バ
ネ３３によりディスク３２方向へ付勢され、各ディスク
間を極めて狭い間隙に保ち、気化器６と同様に液体がデ
ィスクの間隙において気化され、気化室３０からアウト
レット部２２から反応室へ気体の供給が行われる。
ては、通常の状態では、フィットブロック３１Ａが、バ
ネ３３によりディスク３２方向へ付勢され、各ディスク
間を極めて狭い間隙に保ち、気化器６と同様に液体がデ
ィスクの間隙において気化され、気化室３０からアウト
レット部２２から反応室へ気体の供給が行われる。
【００３１】既に説明した洗浄の場合に先立って、エア
ー供給路４７からエアーを供給を行う。この結果、エア
ーが間隙部４８へ到り、供給されるエアーの圧力により
間隙部４８が広げられ、ブロック４３及びシリンダ４１
がバネ４２の付勢力に抗して移動し、ディスク３２の間
を広げる。この状態において、前述の通りの溶剤または
洗浄液を満した後にエアーを供給して洗浄を行う。
ー供給路４７からエアーを供給を行う。この結果、エア
ーが間隙部４８へ到り、供給されるエアーの圧力により
間隙部４８が広げられ、ブロック４３及びシリンダ４１
がバネ４２の付勢力に抗して移動し、ディスク３２の間
を広げる。この状態において、前述の通りの溶剤または
洗浄液を満した後にエアーを供給して洗浄を行う。
【００３２】斯して、気化器６Ａのディスク３２の間隙
が広がった状態において、溶剤または洗浄液に泡を送り
込むようにして洗浄を行うことができ、ディスク３２の
間隙を適切に洗浄することができる。
が広がった状態において、溶剤または洗浄液に泡を送り
込むようにして洗浄を行うことができ、ディスク３２の
間隙を適切に洗浄することができる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る液体ソ
ース供給システムによれば、第１のポンプから気化器へ
至る経路の圧力をモニタすることができ、このモニタに
より気化器内の分解生成物の蓄積量を推定し、洗浄すべ
き時期やメンテナンスの時期を推定することが可能であ
る。
ース供給システムによれば、第１のポンプから気化器へ
至る経路の圧力をモニタすることができ、このモニタに
より気化器内の分解生成物の蓄積量を推定し、洗浄すべ
き時期やメンテナンスの時期を推定することが可能であ
る。
【００３４】また、本発明に係る液体ソース供給システ
ムによれば、第１のポンプから気化器へ至る経路の流体
流量をモニタしているので、このモニタ結果を見て気化
器における詰まりやポンプの故障を検出することが可能
である。
ムによれば、第１のポンプから気化器へ至る経路の流体
流量をモニタしているので、このモニタ結果を見て気化
器における詰まりやポンプの故障を検出することが可能
である。
【００３５】また、本発明に係る液体ソース供給システ
ムによれば、溶剤または洗浄液を高圧で送り出すための
第２のポンプを備える溶剤供給系と、気体を前記第１の
ポンプ及び前記気化器へ導入する流量コントローラを含
む気体供給系とを備え、前記溶剤供給系から前記第１の
ポンプ及び前記気化器に溶剤または洗浄液を導入して満
たす経路と、前記気体供給系から気体を前記第１のポン
プ及び前記気化器へ導入する経路とを具備するので、前
記第１のポンプ及び前記気化器に溶剤または洗浄液を導
入して満たし、更に流量コントローラを介して気体を前
記第１のポンプ及び前記気化器へ導入して洗浄を行うこ
とが可能である。
ムによれば、溶剤または洗浄液を高圧で送り出すための
第２のポンプを備える溶剤供給系と、気体を前記第１の
ポンプ及び前記気化器へ導入する流量コントローラを含
む気体供給系とを備え、前記溶剤供給系から前記第１の
ポンプ及び前記気化器に溶剤または洗浄液を導入して満
たす経路と、前記気体供給系から気体を前記第１のポン
プ及び前記気化器へ導入する経路とを具備するので、前
記第１のポンプ及び前記気化器に溶剤または洗浄液を導
入して満たし、更に流量コントローラを介して気体を前
記第１のポンプ及び前記気化器へ導入して洗浄を行うこ
とが可能である。
【００３６】本発明に係る液体ソース供給システムの洗
浄方法によれば、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶
剤または洗浄液を導入して満たし、更に流量コントロー
ラを介して気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導
入して洗浄を行うので、溶剤または洗浄液に泡を送り込
むようにして洗浄を行うことが可能であり、激しく適切
な洗浄を行うことが可能となる。
浄方法によれば、前記第１のポンプ及び前記気化器に溶
剤または洗浄液を導入して満たし、更に流量コントロー
ラを介して気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導
入して洗浄を行うので、溶剤または洗浄液に泡を送り込
むようにして洗浄を行うことが可能であり、激しく適切
な洗浄を行うことが可能となる。
【００３７】本発明に係る気化器によれば、複数のディ
スクが積層されて付勢され各ディスク間の間隙が狭めら
れて使用されている状態から、流体制御により付勢に抗
して付勢力を解除させ、ディスクの間を広げた状態を作
り出すことができ、洗浄の場合に便利である。
スクが積層されて付勢され各ディスク間の間隙が狭めら
れて使用されている状態から、流体制御により付勢に抗
して付勢力を解除させ、ディスクの間を広げた状態を作
り出すことができ、洗浄の場合に便利である。
【図１】本発明の実施の形態に係る液体ソース供給シス
テムの構成図。
テムの構成図。
【図２】本発明の実施の形態に係る液体ソース供給シス
テムに用いられる気化器の構成図。
テムに用いられる気化器の構成図。
【図３】本発明の実施の形態に係る液体ソース供給シス
テムにおける流量のモニタ画面を示す図。
テムにおける流量のモニタ画面を示す図。
【図４】本発明の実施の形態に係る気化器の構成図。
１、１２ 試料タンク ２、１０ ポ
ンプ ４ 液体流量計 ５、８ モニ
タ装置 ６、６Ａ 気化器 ７ 圧力計 ９、１３ 流量制御装置 ３、１３ コ
ントローラ
ンプ ４ 液体流量計 ５、８ モニ
タ装置 ６、６Ａ 気化器 ７ 圧力計 ９、１３ 流量制御装置 ３、１３ コ
ントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G068 AA02 AB11 AC01 AC05 AD21 AD49 AE01 AF20 AF28 AF29 AF31 DA04 DB04 DD03 DD11 DD14 DD15
Claims (7)
- 【請求項１】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
第１のポンプと、この第１のポンプより送り出された液
体を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により
気化して反応室へ導入する液体ソース供給システムにお
いて、 前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には圧力計
が設けられ、 この圧力計の出力に基づき圧力を表示するモニタ装置が
備えられていることを特徴とする液体ソース供給システ
ム。 - 【請求項２】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
第１のポンプと、この第１のポンプより送り出された液
体を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により
気化して反応室へ導入する液体ソース供給システムにお
いて、 前記第１のポンプから前記気化器へ至る経路には液体流
量計が設けられ、 この液体流量計の出力に基づき流量を表示するモニタ装
置が備えられていることを特徴とする液体ソース供給シ
ステム。 - 【請求項３】 前記モニタは、流量の経時的変化を表示
することを特徴とする請求項２に記載の液体ソース供給
システム。 - 【請求項４】 液体流量計は、非接液型のセンサ部によ
り流量検出を行う液体流量計であることを特徴とする請
求項２または請求項３に記載の液体ソース供給システ
ム。 - 【請求項５】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
第１のポンプと、この第１のポンプより送り出された液
体を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により
気化して反応室へ導入する液体ソース供給システムにお
いて、 洗浄用の溶剤または洗浄液を供給する溶剤供給系であっ
て、前記溶剤または洗浄液を高圧で送り出すための第２
のポンプを備える溶剤供給系と、 気体を前記第１のポンプ及び前記気化器へ導入する流量
コントローラを含む気体供給系とを備え、 前記溶剤供給系から前記第１のポンプ及び前記気化器に
溶剤または洗浄液を導入して満たす経路と、 前記気体供給系から気体を前記第１のポンプ及び前記気
化器へ導入する経路とを具備することを特徴とする液体
ソース供給システム。 - 【請求項６】 供給すべき液体を高圧で送り出すための
第１のポンプと、該第１のポンプより送り出された液体
を気化する気化器とを備え、液体を前記気化器により気
化して反応室へ導入する液体ソース供給システムの洗浄
方法において、 前記第１のポンプ及び前記気化器に溶剤または洗浄液を
導入して満たし、 更に流量コントローラを介して気体を前記第１のポンプ
及び前記気化器へ導入して洗浄を行うことを特徴とする
液体ソース供給システムの洗浄方法。 - 【請求項７】 中央部に穴が設けられた複数のディスク
が、ラジアル方向に液体の出口を有する中空パイプを軸
として積層され弾性部材により付勢されており、前記中
空パイプへ到来した液体を前記出口から前記ディスク間
へ送出しこのディスク間において気化させる気化器にお
いて、 前記付勢に対し、流体制御により付勢に抗して付勢力を
解除させる手段が備えられていることを特徴とする気化
器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079380A JP2000271471A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | 液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器 |
| US09/533,439 US6581625B1 (en) | 1999-03-24 | 2000-03-23 | Liquid supply system, method for cleaning the same and vaporizer |
| US10/364,357 US6715507B2 (en) | 1999-03-24 | 2003-02-12 | Vaporizer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079380A JP2000271471A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | 液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000271471A true JP2000271471A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13688277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11079380A Pending JP2000271471A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | 液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6581625B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000271471A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6953047B2 (en) * | 2002-01-14 | 2005-10-11 | Air Products And Chemicals, Inc. | Cabinet for chemical delivery with solvent purging |
| EP1566464B1 (de) * | 2004-02-20 | 2011-04-13 | Cs Clean Systems Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Nachfüllen eines Blasenverdampfers |
| JP5137366B2 (ja) * | 2006-01-24 | 2013-02-06 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理システム及び液体材料供給装置 |
| US20070251585A1 (en) * | 2006-04-28 | 2007-11-01 | David Paul Edwards | Fluid distribution system |
| JP4256884B2 (ja) * | 2006-06-23 | 2009-04-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 気化器への原料液供給ユニット |
| US8122903B2 (en) | 2007-07-26 | 2012-02-28 | Parker-Hannifin Corporation | Close-coupled purgeable vaporizer valve |
| US7883745B2 (en) | 2007-07-30 | 2011-02-08 | Micron Technology, Inc. | Chemical vaporizer for material deposition systems and associated methods |
| TWI478665B (zh) | 2008-08-19 | 2015-04-01 | Dow Agrosciences Llc | 含有聚胺甲酸酯發泡體之誘餌材料、害蟲監控裝置及其他的害蟲管控裝置 |
| US8430112B2 (en) * | 2010-07-13 | 2013-04-30 | Siemens Industry, Inc. | Slurry feed system and method |
| US9089883B2 (en) * | 2010-10-07 | 2015-07-28 | Boehringer Ingelheim International Gmbh | Method for washing a microfluidic cavity |
| JP5573666B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2014-08-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給装置及び成膜装置 |
| US9289803B1 (en) * | 2013-05-24 | 2016-03-22 | Steve A. Parks | Dispenser apparatus and method |
| US10006656B1 (en) | 2013-05-24 | 2018-06-26 | Steve A. Parks | Dispenser apparatus and method |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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