JP2000251493A - ヒューズ検出回路およびその集積回路メモリ - Google Patents
ヒューズ検出回路およびその集積回路メモリInfo
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Abstract
プン回路状態またはクローズ回路状態を検出するための
ヒューズ状態検出段202とを含む、集積回路メモリ1
00におけるヒューズおよび検出回路124を提供す
る。 【解決手段】 ヒューズ検出回路124は、ヒューズの
状態に応じた出力信号を与え、また検出時に、ヒューズ
の電圧降下を、集積回路メモリに印加される電源電圧と
は無関係な絶対値に制限する。ヒューズ検出回路124
は、集積回路メモリ100のパワーアップ時に動作し、
ヒューズの状態が検出・ラッチされ、かつ電源が集積回
路メモリ100の確実な動作のために十分になった後
に、ディセーブルされる。飛んだ銅ヒューズ208の電
圧降下を制限することにより、エレクトロマイグレーシ
ョン問題は軽減される。
Description
リに関し、さらに詳しくは、ヒューズ検出回路およびそ
の方法を有する集積回路メモリに関する。
体回路で利用されてきた。例えば、一般にメモリ回路は
メモリ冗長性(memory redundancy)を実施するためにヒ
ューズを利用する。行・列(row and column)冗長ハード
ウェアは、製造試験時に動作不良ビット・セルまたはワ
ード・ラインを置換するために存在する。メモリ冗長性
を利用する効果は、歩留りを向上させることである。歩
留りの改善は、メモリ・アレイの不良素子を置換するた
めに冗長素子を利用することによって達成される。ヒュ
ーズは、冗長関連情報を格納するための不揮発性メモリ
として利用される。
な利用では、電子チップ識別(electronic chip identif
ication)を実施する。チップ識別は、ロット,ウェハお
よびウェハ上のX/Y座標位置を含む各チップのソース
を固有に識別することによって達成され、製造業者は任
意の集積回路のプロセス・データを容易に検索・報告で
きる。ヒューズは、メモリ冗長性で用いられるのと同じ
ように、この目的を達成するために用いられる。例え
ば、識別ヒューズは、集積回路上のヒューズのバンクに
おいて実装される。特定の集積回路を識別するために、
固有のヒューズ・パターンはクローズのままにされ、他
のヒューズはオープンされる。このようなオープンおよ
びクローズすなわち導通状態のヒューズの識別パターン
は、集積回路の指紋または識別子となる。制御信号をア
サート(assert)すると、このようなヒューズの導通状態
は集積回路から容易に読み出され、走査チェーン(scann
ed chain)に格納できる。このとき、走査済み情報は、
従来の走査試験装置を利用して読むことができる。
金属のいずれかで半導体において実装される。従来利用
されてきた金属には、アルミニウムおよびタングステン
がある。ヒューズを実装するために利用される材料に関
係なく、ヒューズが飛んだかどうかを制御するため、ま
たヒューズ導通状態を指示するために、プログラミング
回路が必要とされる。このようなプログラム可能なヒュ
ーズ回路の例は、Frederick Smithによる米国特許第
4,446,534号「プログラマブル・ヒューズ回路
(Programmable Fuse Circuit)」において教示されてい
る。一般に、半導体ヒューズは、(電源電圧の大きさに
対して)大きな電圧を印加することにより、あるいはレ
ーザ光を利用することにより、非導通にする、すなわち
飛ばされる。飛んだヒューズは実質的にはオープン回路
であり、飛んでないヒューズはショート回路である。い
ずれにせよ、回路はヒューズがうまく非導通状態になっ
たかどうかの既存のステータスを指示する必要がある。
このような回路では、ヒューズが飛んだあるいは非導通
状態になった後に、非導通状態のヒューズの2端子間で
電圧差が存在できるようにすることが一般的である。ヒ
ューズ回路の出力は、ヒューズを飛ばすプログラミング
動作が成功したかどうかを示す。
て銅が利用でき、そのためヒューズとしても利用できる
ことが近年発見された。しかし、飛んだヒューズ両端に
て電圧降下を生じさせる回路で銅ヒューズを利用するに
は問題がある。時間の経過とともに、エレクトロマイグ
レーション(electro-migration)または絶縁破壊(dielec
tric breakdown)などの一般的な現象により、両端に電
圧降下のある飛んだヒューズに導通経路が再形成するこ
とがある。従って、エレクトロマイグレーションまたは
絶縁破壊を生じさせる十分に高い電圧降下をヒューズ両
端に生じさせずに、銅ヒューズが飛んだかどうかを検出
するための回路が必要とされる。
路124を有するメモリ100のブロック図を示す。ヒ
ューズおよび検出回路124は、メモリ100に電力を
印加したときに冗長ヒューズ(図2参照)の論理状態を
検出する。これらの冗長ヒューズは、メモリ100内の
動作不良行または列を示すために利用でき、メモリ10
0の動作を調整するために利用でき、メモリ100を識
別するためなどに利用できる。ヒューズおよび検出回路
124は、きわめて低い電圧をヒューズに短時間だけ印
加することにより、格納された論理状態を検出できる。
この検出方法にはいくつかの利点がある。第1に、低電
圧と短時間の組み合わせは、クローズ状態への再成長か
らのオープン・ヒューズまたは「飛んだ」ヒューズの可
能性を低減する。この現象は、ヒューズが銅プロセスを
利用して製造される場合に特に重要である。第2に、短
時間により、ヒューズおよび検出回路124によって消
費される電力が低減される。消費電力は、携帯性,熱散
逸および信頼性などのさまざまなパラメータに影響を及
ぼす。
アレイ102を含む。メモリ・アレイ102は、N(M
行列のビット・セルからなり、各セルは1ビットの情報
を格納できる。メモリ・アレイ102内の特定のビット
は、特定のアドレスによって指定される。アドレスの第
1部分、すなわち行アドレス(ROW ADDRESS)は、行デコ
ーディング回路104に入力される。行デコーディング
回路104は、メモリ・アレイ102内の一つの行を選
択するために、行アドレスを部分的にデコードする。行
デコーディング回路104の出力は、行選択回路106
に入力され、この行選択回路106は最終的なN分の1
デコーディング(one-of-N decoding)を生成する。同様
に、アドレスの第2部分、すなわち列アドレス(COLUMN A
DDRESS)は、列デコーディング回路108に入力され
る。列デコーディング回路108は、メモリ・アレイ1
02内の列を選択するために、列アドレスを部分的にデ
コードする。列デコーディング回路108の出力は、列
選択回路110に入力され、この列選択回路110は最
終的なM分の1デコーディング(one-of-M decoding)を
生成する。入力アドレス、すなわちデータ(DATA)によっ
て識別されるデータ・ビットは、入出力(I/O)回路
116を介して出力され、あるいはこの入出力回路11
6から入力される。
ットと、冗長列114のセットを含む。当技術分野で周
知なように、冗長列および冗長行を利用することによ
り、メモリ100の製造歩留りが改善される。冗長行1
12の一つは、ヒューズおよび検出回路124の出力に
よって選択される。ヒューズおよび検出回路124は、
入力行が不良として以前識別された行と一致する場合
に、冗長行の一つをイネーブルする。同様に、冗長列1
14の一つは、ヒューズおよび検出回路124の出力に
よって選択される。ヒューズおよび検出回路124は、
入力列が不良として以前識別された列と一致する場合
に、冗長列114の一つをイネーブルする。ヒューズお
よび検出回路124については、図2を参照して以下で
説明する。
up clear circuit)118は、電圧源VDDを受けて、
制御信号POKを生成する。ヒューズ制御回路120
は、制御信号POKを受けて、2つの制御信号LATC
HおよびDRIVEを生成する。ヒューズ制御回路12
0については、図3を参照して以下で説明する。LAT
CHおよびDRIVEは、ヒューズおよび検出回路12
4に入力される。
ケンス・モードおよび通常動作モードを参照して便宜的
に説明できる。ただし、いずれの動作モードの前に、メ
モリ100は、いずれかの列または行が不良であるかを
判定するために、製造後に検査される。メモリ100が
不良な列または行を含む場合には、製造業者はヒューズ
および検出回路124内の一つまたはそれ以上のヒュー
ズを飛ばす。本発明の一実施例では、銅ヒューズはレー
ザ・ビームを選択的に印加することによって飛ばされ
る。これらのヒューズは、メモリ100がその後使用さ
れるときに、不良行および/または不良列を識別する。
どの列または行も不良でない場合、ヒューズを飛ばす必
要はない。
ューズおよび検出回路124は各冗長ヒューズの論理状
態を検出する。短い遅延の後、パワーアップ・クリア回
路118は、この検出のために十分時間が経過したこと
を判断し、POKをアサートする。ヒューズ制御回路1
20は、POKを受信すると、制御信号LATCHをア
サートすることによって、ヒューズおよび検出回路12
4に各論理状態を保存させる。その直後、ヒューズ制御
回路120は、生後信号DRIVEをデアサート(de-as
sert)することによって、ヒューズおよび検出回路12
4の検出機能をディセーブルする。
スの交点によって識別される特定のメモリ・セルから、
データは読み出されるか、あるいはそこに書き込まれ
る。入力行アドレスがヒューズおよび検出回路124に
格納された行アドレスと一致すると、I/O回路116
は、冗長行および選択された列の交点に格納されたデー
タを出力する。同様に、入力列アドレスがヒューズおよ
び検出回路124に格納された列アドレスと一致する
と、I/O回路116は、冗長列および選択された行の
交点に格納されたデータを出力する。最後に、入力行ア
ドレスおよび入力列アドレスの両方がヒューズおよび検
出回路124に格納されたアドレスと一致すると、I/
O回路116は、冗長行および冗長列の交点に格納され
たデータを出力する。
路124の回路図を示す。図2は、一つのヒューズとそ
れに対応する検出回路を示す。当業者であれば、図2に
示す回路は冗長ヒューズの一例であることが容易に理解
されよう。ヒューズおよび検出回路124は、各ヒュー
ズについて3つの段、すなわち、ヒューズ状態検出段2
02,増幅段204およびラッチ段206を含む。一般
に、ヒューズ状態検出段202は、ヒューズ208が飛
んだ(論理状態0)か、飛んでいない(論理状態1)か
を検出し、ヒューズ状態を表す差電圧レベルを生成す
る。増幅段204は、差電圧レベルをフル・レール電位
(full rail voltage potential)まで増幅する。ラッチ
段206は、この状態を格納し、最初の2つの段をディ
セーブルさせる。
ド1およびノード2は、2つの回路経路に流れる電流に
基づいて、差電圧レベルを出力する。第1回路経路は、
2つの直列抵抗器に並列な一つのヒューズを含む。ヒュ
ーズ208は、ノード1と、n型金属酸化物半導体電界
効果トランジスタ(MOSFET)210の第1電流電
極との間に結合される。抵抗器212,214は、第1
ノードと、トランジスタ210の第1電流電極との間で
直列に接続される。ノード1は、p型トランジスタ21
6の第1電流電極に結合される。トランジスタ216の
第2電流電極は、電圧源VDDに結合される。ヒューズ
状態検出段202内の第2経路は、一つの抵抗器を含
む。抵抗器218は、第2ノードと、トランジスタ21
0の第1電流電極とに接続される。ノード2は、p型ト
ランジスタ220の第1電流電極に結合される。トラン
ジスタ220の第2電流電極は、電圧源VDDに結合さ
れる。また、ノード1は、トランジスタ216,220
の制御電極に結合される。トランジスタ210の制御電
極および第2電流電極は、制御信号DRIVEおよびn
型トランジスタ222の第1電流電極にそれぞれ結合さ
れる。トランジスタ222の制御電極および第2電流電
極は、バイアス電圧レベルBIASおよび電圧源VSS
にそれぞれ結合される。抵抗器212,214の抵抗値
の和は、抵抗器218の抵抗値よりも大きい。図示の実
施例では、抵抗器212,214の抵抗値の和は、抵抗
器218の2倍である。最後に、p型トランジスタ22
4の第1電流電極は、電圧レベルVDDを受け、制御電
極は制御信号DRIVEを受け、また第2電流電極はノ
ード1に結合される。
RIVEがデアサートされると、ディセーブルされる。
具体的には、トランジスタ210は非導通状態にされ
る。逆に、トランジスタ224は導通状態にされる。ト
ランジスタ224が導通状態のとき、トランジスタ21
6,220は非導通状態にされる。各トランジスタ21
0,216,220が非導通状態のとき、ヒューズ20
8または抵抗器212,214,218の両端に電位は
生じない。ヒューズ状態検出段202は、制御信号DR
IVEがアサートされると、イネーブルされる。トラン
ジスタ222は、ノード1およびノード2から少量の電
流を流すために、特定の電圧でバイアスされる。トラン
ジスタ216,220の制御電極は結合されているの
で、この流れた電流は2つのノード間で等しく分流され
る。ノード1およびノード2によって生成される差電圧
は、トランジスタ222への2つの回路経路の相対抵抗
値に依存する。一方、2つの回路経路の相対抵抗値は、
ヒューズ208が飛んだか、飛んでないかに依存する。
ヒューズ208が飛んでない場合、第1経路の抵抗値は
ほぼゼロである。第2経路の抵抗値は一定のままであ
る。ヒューズ208が飛んだ場合、第1経路の抵抗値は
抵抗器212,214の抵抗値の和である。上記のよう
に、抵抗器212,214の抵抗値の和は、抵抗器21
8の2倍である。従って、ヒューズ208の状態は、差
電圧の大きさによって検出できる。ヒューズ208が飛
んでない場合、ノード1における電圧レベルはノード2
における電圧レベルよりも小さい。逆に、ヒューズ20
8が飛んだ場合、ノード1における電圧レベルはノード
2における電圧レベルよりも高い。
226の第1電流電極は、電圧レベルVDDを受け、制
御電極は制御信号DRIVEに結合される。p型トラン
ジスタ228の第1電流電極は、電圧源VDDに結合さ
れ、制御電極はノード1に結合され、第2電流電極はn
型トランジスタ230の第1電流電極に結合される。ト
ランジスタ230の制御電極および第2電流電極は、ト
ランジスタ230の第1電流電極および電圧レベルVS
Sにそれぞれ結合される。n型トランジスタ232の第
1電流電極は、電圧源VSSに結合され、制御電極はト
ランジスタ230の制御電極に結合され、第2電流電極
はp型トランジスタ234の第1電流電極に結合され
る。トランジスタ234の第2電流電極は、電圧源VD
Dに結合される。トランジスタ234の制御電極は、ト
ランジスタ226の第2電流電極と、p型トランジスタ
236の制御電極と、ノード2とに結合される。トラン
ジスタ236の第1電流電極および第2電流電極は、第
1電圧源VDDおよびn型トランジスタ238の第1電
流電極にそれぞれ結合される。トランジスタ238の制
御電極および第2電流電極は、トランジスタ238の第
1電流電極および電圧レベルVSSにそれぞれ結合され
る。n型トランジスタ240の第1電流電極は、電圧源
VSSに結合され、制御電極はトランジスタ238の制
御電極に結合され、第2電流電極はp型トランジスタ2
42の第1電流電極に結合される。トランジスタ242
の第2電流電極および制御電極は、電圧源VDDおよび
ノード1にそれぞれ結合される。
よび第2電流電極は、電圧源VDDおよびn型トランジ
スタ246の第1電流電極にそれぞれ結合される。トラ
ンジスタ244の制御電極は、トランジスタ244の第
2電流電極に結合される。トランジスタ246の制御電
極および第2電流電極は、トランジスタ232の第2電
流電極および電圧源VSSにそれぞれ結合される。p型
トランジスタ248の第1電流電極は、電圧源VDDに
結合され、制御電極はトランジスタ244の制御電極に
結合され、第2電流電極はn型トランジスタ250の第
1電流電極に結合される。トランジスタ250の制御電
極および第2電流電極は、トランジスタ240の第2電
流電極および電圧源VSSにそれぞれ結合される。各n
型トランジスタ252,254の第1電流電極は、電圧
源VSSに結合される。各トランジスタ252,254
の制御電極は、インバータ256の出力に結合される。
インバータ256の入力は、制御信号DRIVEを受け
る。トランジスタ252の第2電流電極は、トランジス
タ232の第2電流電極に結合される。トランジスタ2
54の第2電流電極は、トランジスタ240の第2電流
電極に結合される。
アサートされると、ディセーブルされる。具体的には、
トランジスタ252,254は、それぞれトランジスタ
246,250の制御電極上に低論理値を乗せる。トラ
ンジスタ246の制御電極上の低論理値は、トランジス
タ248の制御電極上で高論理値にする。従って、トラ
ンジスタ248,250はともに非導通状態、すなわち
高インピーダンス状態となる。増幅段204は、制御信
号DRIVEがアサートされると、イネーブルされる。
上記のように、ヒューズ208が飛んでない場合、ノー
ド1<ノード2となる。逆に、ヒューズ208が飛んだ
場合、ノード1>ノード2となる。
ド2の場合。ノード1の電圧レベルがノード2の電圧レ
ベルよりも小さい場合、トランジスタ228はトランジ
スタ234よりも多く導通する。トランジスタ228に
よって流される電流は、トランジスタ230,232に
よって鏡映される。トランジスタ232は、トランジス
タ246の制御電極をVSSに向かわせ、それによりト
ランジスタ246を非導通状態にする。トランジスタ2
46が非導通状態のとき、このトランジスタはトランジ
スタ248を非導通状態、すなわち高インピーダンスに
する。同時に、トランジスタ242は、トランジスタ2
36よりも多く導通する。トランジスタ242によって
流される電流は、トランジスタ250の制御電極をVD
Dに向かわせ、それによりトランジスタ250を導通状
態にする。トランジスタ246が導通状態のとき、この
トランジスタは増幅段204を低論理レベルにする。
合。ノード2の電圧レベルがノード1の電圧レベルより
も小さい場合、トランジスタ234はトランジスタ22
8よりも多く導通する。トランジスタ234によって流
される電流は、トランジスタ246の制御電極をVDD
に向かわせ、それによりトランジスタ246を導通状態
にする。トランジスタ246が導通状態になると、この
トランジスタはトランジスタ248の制御電極を低にす
る。トランジスタ248の制御電極の低電圧レベルは、
トランジスタ248を導通状態にする。トランジスタ2
48が導通状態になると、このトランジスタは増幅段2
04の出力を高論理レベルにする。同時に、トランジス
タ246は、トランジスタ242よりも多く導通する。
トランジスタ236によって流される電流は、トランジ
スタ2338,240によって鏡映される。トランジス
タ240は、トランジスタ250の制御電極をVSSに
向かわせ、それによりトランジスタ250を非導通状
態、すなわち高インピーダンス状態にする。
258の入力は、増幅段204の出力を受ける。インバ
ータ258の出力は、第2インバータ260の入力に結
合される。インバータ260の出力は、ヒューズおよび
検出回路124の出力、すなわちヒューズ状態(FUSE STA
TE)を生成する。インバータ260の出力は、パス・ゲ
ート(pass gate)262を介してインバータ258の入
力に結合される。パス・ゲート262のn型デバイス
は、制御信号LATCHを受ける。パス・ゲート262
のp型デバイスは、第3インバータ264の出力に結合
される。また、インバータ264の入力は、制御信号L
ATCHを受ける。
と、パス・ゲート262は非導通状態となり、ラッチ段
206はその入力を出力に渡す。制御信号LATCHが
アサートされると、パス・ゲート262は導通状態とな
り、それによりラッチ段206の出力を入力に結合す
る。
0の回路図を示す。ヒューズ制御回路120は、インバ
ータ302,304,306,308,312,31
4,318,320,322,326,334,33
6,338,342,346,348,350,35
2,Nチャネル・トランジスタ316,NAND論理ゲ
ート310,330およびキャパシタ324,328,
340,344を含む。ヒューズ制御回路120は、イ
ンバータ314の入力端子にて、「POK」と記された
パワーアップ・クリア信号を受ける。Nチャネル・トラ
ンジスタ316およびインバータ312は、特定のヒス
テリシス量を有するバッファを形成する。このヒステリ
シスは、外部電源が不規則に上昇する場合に、ヒューズ
制御120の応答を調整する傾向がある。そうしない
と、この不規則な電源挙動により、POKで複数の遷移
が生じることになる。インバータ312の出力は、イン
バータ332およびNAND論理ゲート310の入力端
子に与えられる。直列接続されたインバータ352,3
50,348,346は、「LATCH」と記されたバ
ッファされた制御信号を与え、この信号は、すべてのヒ
ューズおよび検出回路124のラッチ206を制御する
ために送出される。同様に、直列接続されたインバータ
308,306,304,302は、すべてのヒューズ
および検出回路124に、「DRIVE」と記されたバ
ッファされた制御信号を与える。キャパシタ328,3
24とともに、直列接続されたインバータ326,32
2,320,318は、NANDゲート330の出力を
受け、所定の遅延をその出力に加え、それによって得ら
れた遅延信号をNANDゲート310の入力に結合す
る。インバータ318の出力は、NAND論理ゲート3
10の入力に結合される。キャパシタ344,340と
ともに、直列接続されたインバータ342,338,3
36,334は、NANDゲート310の出力を受け、
所定の遅延をその出力に加え、それによって得られた遅
延信号をNANDゲート330の入力に結合する。
に、供給電圧は有効レベル以下となり、パワーアップ・
クリア信号POKを低論理にさせる。また、インバータ
312の出力も低論理となり、NANDゲート310に
高論理電圧をインバータ308,306,304,30
2に与えさせる。インバータ302は、制御信号DRI
VE上で高論理を生成する。次に、高論理DRIVE信
号は、ヒューズ状態検出段202および検出増幅段20
4をイネーブルし、ヒューズ208の状態に応じた出力
信号を検出・増幅する。NAND論理ゲート310の出
力は、直列接続したインバータ342,338,33
6,334を伝播し、インバータ334に高論理をNA
ND論理ゲート330の入力に与えさせる。インバータ
334,332の両方からの高論理レベルは、NAND
ゲート330にあり、NANDゲート330に低論理を
生成させる。この低論理レベルは、インバータ352,
350,348,346に与えられる。インバータ34
6は、制御信号LATCH上で低論理を生成する。低論
理の制御信号LATCHは、ラッチ段206が検出増幅
段204の出力をラッチすることを防ぐ。また、NAN
D論理ゲート330からの低論理は、インバータ32
6,322,320,318を伝播し、キャパシタ32
8,324のキャパシタンスによって決まる遅延後に、
低論理をNAND論理ゲート310の入力に与えさせ
る。
値になり、電源電圧が集積回路メモリ100の確実な動
作を許すのに十分であることを示すと、インバータ31
2の出力は高論理になる。NAND論理ゲート330は
インバータ332から低論理を受け、NAND論理ゲー
ト330の出力を高論理電圧に変化させ、その結果、制
御信号LATCHは高論理になる。高論理のLATCH
信号は、増幅段204からの出力信号をラッチ段206
にラッチさせる。インバータ326,322,320,
318およびキャパシタ328,324によって決まる
遅延の後、高論理電圧はNAND論理ゲート310の入
力に与えられ、NAND論理ゲート310の出力を低論
理に変化させる。この低論理はインバータ308の入力
に与えられ、制御信号DRIVEを低論理にさせる。低
になると、制御信号DRIVEは増幅段204およびヒ
ューズ状態検出段202をディセーブルし、それによっ
て集積回路メモリ100の消費電力を低減する。キャパ
シタ328,324とともに、インバータ326,32
2,320,318は、増幅段204およびヒューズ状
態検出段202をディセーブルする前に、増幅段204
の出力がラッチされることを保証する。論理信号LAT
CHおよびDRIVEの論理状態は、信号POKが低論
理になるまで、それぞれ高倫理および低論理のままであ
る。
明してきたが、更なる修正および改善は当業者に想起さ
れる。例えば、開示のメモリはデータ・プロセッサまた
はデジタル信号プロセッサなどの他のデバイスに内蔵し
てもよい。また、開示のヒューズおよび検出回路は、メ
モリ・アレイから分離したデバイスに内蔵してもよい。
このような用途では、ヒューズおよび検出回路は、不良
行および列情報以外のデータを収容する。例えば、ヒュ
ーズのバンクは、集積回路のシリアル番号,バッチ処理
番号またはリビジョン番号を識別できる。さらに、図示
の特定の回路実施例の多くは、同じ機能を実施するため
に、本教示と組み合わせることで、当業者によって修正
できる。従って、本発明は、特許請求の範囲の範囲内の
このような一切の変形例および修正を網羅するものとす
る。
メモリを示すブロック図である。
図である。
る。
46,250,252,254 n型トランジスタ(M
OSFET) 212,214,218 抵抗器 216,220,224,226,228,234,2
36,242,244,248 p型トランジスタ 256,258,260,264 インバータ 262 パス・ゲート 302,304,306,308,312,314,3
18,320,322,326,334,336,33
8,342,346,348,350,352インバー
タ 316 Nチャネル・トランジスタ 310,330 NAND論理ゲート 324,328,340,344 キャパシタ
Claims (2)
- 【請求項1】 ヒューズ検出回路であって:ヒューズが
オープン回路であることを検出することに応答して、第
1論理状態の出力信号を与え、またヒューズがショート
回路であることを検出することに応答して、第2論理状
態の出力信号を与えるヒューズ状態検出段(202)で
あって、前記ヒューズ状態検出段は、前記ヒューズの電
圧降下を、前記ヒューズ検出回路に印加される電源電圧
とは無関係な絶対値に制限する、ヒューズ状態検出段
(202);および前記ヒューズ状態検出段に結合さ
れ、前記出力信号の論理状態をラッチするラッチ段(2
06);によって構成されることを特徴とするヒューズ
検出回路。 - 【請求項2】 集積回路メモリ(100)であって:複
数のメモリ・セル(102);複数の冗長メモリ・セル
(112,104);前記複数のメモリ・セルおよび前
記複数の冗長メモリ・セルに結合され、アドレスを受信
することに応答してメモリ・セルを選択するアドレス・
デコーディング回路(104,108);および前記複
数のメモリ・セルおよび前記複数の冗長メモリ・セルに
結合され、不良メモリ・セルを識別し、また前記複数の
冗長メモリ・セルのうちどの冗長メモリ・セルが前記不
良メモリ・セルを置換するのかを識別する複数のヒュー
ズ検出回路(124)であって、前記複数のヒューズ検
出回路のうち一つのヒューズ検出回路は:オープン回路
状態およびショート回路状態を有するヒューズ(20
8);および前記ヒューズの前記オープン回路状態また
は前記ショート回路状態を検出し、対応する出力信号を
与える回路(202,204)であって、検出時に、前
記回路は、前記ヒューズの電圧降下を、前記主鬱積回路
メモリに印加される電源電圧とは無関係な絶対値に制限
する、回路(202,204);からなる複数のヒュー
ズ検出回路(124);によって構成されることを特徴
とする集積回路メモリ(100)。
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000251493A true JP2000251493A (ja) | 2000-09-14 |
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SG (1) | SG124223A1 (ja) |
TW (1) | TW459240B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002298594A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Fujitsu Ltd | アドレス発生回路 |
KR100864741B1 (ko) * | 2000-10-05 | 2008-10-22 | 텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드 | 저전원 전압에서 cmos 처리와 호환가능한 퓨즈의상태를 검출하는 차동 전압 감지 회로 |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000182370A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
KR100317490B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2001-12-24 | 박종섭 | 안티퓨즈 회로 |
JP3636965B2 (ja) * | 2000-05-10 | 2005-04-06 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置 |
JP2002133895A (ja) * | 2000-08-17 | 2002-05-10 | Toshiba Corp | アンチフューズを用いたリダンダンシ回路及び半導体メモリにおける不良アドレス検索方法 |
JP2002074979A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | プログラム回路およびそれを用いた半導体記憶装置 |
DE10063683A1 (de) * | 2000-12-20 | 2002-03-14 | Infineon Technologies Ag | Schaltungsanordnung mit einer programmierbaren Verbindung |
US7569849B2 (en) * | 2001-02-16 | 2009-08-04 | Ignis Innovation Inc. | Pixel driver circuit and pixel circuit having the pixel driver circuit |
KR20030059408A (ko) * | 2001-12-29 | 2003-07-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 파워 세이빙 아날로그 퓨즈회로 |
US6859090B2 (en) * | 2002-01-31 | 2005-02-22 | Agere Systems Inc. | Buried fuse reading device |
US6968468B2 (en) * | 2002-02-25 | 2005-11-22 | O2 Micro, Inc. | Digital computer utilizing buffer to store and output data to play real time applications enabling processor to enter deep sleep state while buffer outputs data |
US6791367B2 (en) * | 2002-03-19 | 2004-09-14 | Broadcom Corporation | Hardware and software programmable fuses for memory repair |
CA2419704A1 (en) | 2003-02-24 | 2004-08-24 | Ignis Innovation Inc. | Method of manufacturing a pixel with organic light-emitting diode |
CA2472671A1 (en) | 2004-06-29 | 2005-12-29 | Ignis Innovation Inc. | Voltage-programming scheme for current-driven amoled displays |
CA2495726A1 (en) | 2005-01-28 | 2006-07-28 | Ignis Innovation Inc. | Locally referenced voltage programmed pixel for amoled displays |
US7233539B2 (en) * | 2005-05-24 | 2007-06-19 | Freescale Semiconductor, Inc. | Non-volatile fuse circuit |
JP5397219B2 (ja) | 2006-04-19 | 2014-01-22 | イグニス・イノベーション・インコーポレイテッド | アクティブマトリックス表示装置用の安定な駆動スキーム |
US7514982B2 (en) * | 2006-08-31 | 2009-04-07 | Micron Technology, Inc. | Methods, devices and systems for sensing the state of fuse devices |
KR101314037B1 (ko) * | 2007-04-26 | 2013-10-01 | 에이저 시스템즈 엘엘시 | 메모리 복구 회로, 집적 회로, 자동화 테스트 설비 장치 및 불량 복구 시스템 |
US8633873B2 (en) | 2009-11-12 | 2014-01-21 | Ignis Innovation Inc. | Stable fast programming scheme for displays |
US8633707B2 (en) | 2011-03-29 | 2014-01-21 | International Business Machines Corporation | Stacked via structure for metal fuse applications |
US9606607B2 (en) | 2011-05-17 | 2017-03-28 | Ignis Innovation Inc. | Systems and methods for display systems with dynamic power control |
CN103688302B (zh) | 2011-05-17 | 2016-06-29 | 伊格尼斯创新公司 | 用于显示系统的使用动态功率控制的系统和方法 |
US9070775B2 (en) | 2011-08-03 | 2015-06-30 | Ignis Innovations Inc. | Thin film transistor |
US8901579B2 (en) | 2011-08-03 | 2014-12-02 | Ignis Innovation Inc. | Organic light emitting diode and method of manufacturing |
US9385169B2 (en) | 2011-11-29 | 2016-07-05 | Ignis Innovation Inc. | Multi-functional active matrix organic light-emitting diode display |
US10089924B2 (en) | 2011-11-29 | 2018-10-02 | Ignis Innovation Inc. | Structural and low-frequency non-uniformity compensation |
US8867286B2 (en) * | 2011-12-20 | 2014-10-21 | Industrial Technology Research Institute | Repairable multi-layer memory chip stack and method thereof |
US9721505B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-08-01 | Ignis Innovation Inc. | Pixel circuits for AMOLED displays |
CN105247462A (zh) | 2013-03-15 | 2016-01-13 | 伊格尼斯创新公司 | Amoled显示器的触摸分辨率的动态调整 |
US9502653B2 (en) | 2013-12-25 | 2016-11-22 | Ignis Innovation Inc. | Electrode contacts |
US10997901B2 (en) | 2014-02-28 | 2021-05-04 | Ignis Innovation Inc. | Display system |
US10176752B2 (en) | 2014-03-24 | 2019-01-08 | Ignis Innovation Inc. | Integrated gate driver |
CN105097047B (zh) * | 2014-05-04 | 2017-12-29 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 存储器、存储阵列的检测电路及方法 |
CA2872563A1 (en) | 2014-11-28 | 2016-05-28 | Ignis Innovation Inc. | High pixel density array architecture |
US10373554B2 (en) | 2015-07-24 | 2019-08-06 | Ignis Innovation Inc. | Pixels and reference circuits and timing techniques |
CA2898282A1 (en) | 2015-07-24 | 2017-01-24 | Ignis Innovation Inc. | Hybrid calibration of current sources for current biased voltage progra mmed (cbvp) displays |
US10657895B2 (en) | 2015-07-24 | 2020-05-19 | Ignis Innovation Inc. | Pixels and reference circuits and timing techniques |
CA2909813A1 (en) | 2015-10-26 | 2017-04-26 | Ignis Innovation Inc | High ppi pattern orientation |
DE102017222059A1 (de) | 2016-12-06 | 2018-06-07 | Ignis Innovation Inc. | Pixelschaltungen zur Minderung von Hysterese |
US10714018B2 (en) | 2017-05-17 | 2020-07-14 | Ignis Innovation Inc. | System and method for loading image correction data for displays |
US11025899B2 (en) | 2017-08-11 | 2021-06-01 | Ignis Innovation Inc. | Optical correction systems and methods for correcting non-uniformity of emissive display devices |
US10971078B2 (en) | 2018-02-12 | 2021-04-06 | Ignis Innovation Inc. | Pixel measurement through data line |
KR20210085652A (ko) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치의 퓨즈 래치 |
US11296716B1 (en) * | 2020-12-04 | 2022-04-05 | Nxp Usa, Inc. | Analog multiplexer with current injection protection |
KR20230030175A (ko) | 2021-08-25 | 2023-03-06 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치의 퓨즈 래치 |
US11756641B2 (en) | 2022-01-04 | 2023-09-12 | Nanya Technology Corporation | Method for determining status of a fuse element |
US11749364B2 (en) | 2022-01-04 | 2023-09-05 | Nanya Technology Corporation | Semiconductor circuit and semiconductor device for determining status of a fuse element |
TWI803272B (zh) * | 2022-01-04 | 2023-05-21 | 南亞科技股份有限公司 | 確定一熔絲元件之狀態的半導體電路以及半導體元件 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582680B2 (ja) * | 1984-10-24 | 1993-11-19 | Hitachi Micro System Kk | |
JPH0744255A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-14 | Nec Corp | 基準電位発生回路 |
JPH1154020A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-26 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4446534A (en) * | 1980-12-08 | 1984-05-01 | National Semiconductor Corporation | Programmable fuse circuit |
US4670708A (en) * | 1984-07-30 | 1987-06-02 | Monolithic Memories, Inc. | Short detector for fusible link array using a pair of parallel connected reference fusible links |
US4625162A (en) * | 1984-10-22 | 1986-11-25 | Monolithic Memories, Inc. | Fusible link short detector with array of reference fuses |
US4639896A (en) * | 1984-11-30 | 1987-01-27 | Harris Corporation | Redundant row decoding for programmable devices |
US5345100A (en) * | 1991-03-29 | 1994-09-06 | Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor rectifier having high breakdown voltage and high speed operation |
KR0147194B1 (ko) * | 1995-05-26 | 1998-11-02 | 문정환 | 반도체 메모리 소자 |
US5583463A (en) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Micron Technology, Inc. | Redundant row fuse bank circuit |
US5731733A (en) * | 1995-09-29 | 1998-03-24 | Intel Corporation | Static, low current sensing circuit for sensing the state of a fuse device |
JPH10125742A (ja) * | 1996-10-22 | 1998-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路の良否判定方法及び半導体集積回路 |
US5859801A (en) * | 1997-03-28 | 1999-01-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Flexible fuse placement in redundant semiconductor memory |
-
1999
- 1999-03-02 US US09/261,876 patent/US6157583A/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
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- 2000-03-01 CN CNB001036629A patent/CN1246854C/zh not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582680B2 (ja) * | 1984-10-24 | 1993-11-19 | Hitachi Micro System Kk | |
JPH0744255A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-14 | Nec Corp | 基準電位発生回路 |
JPH1154020A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-26 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100864741B1 (ko) * | 2000-10-05 | 2008-10-22 | 텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드 | 저전원 전압에서 cmos 처리와 호환가능한 퓨즈의상태를 검출하는 차동 전압 감지 회로 |
JP2002298594A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Fujitsu Ltd | アドレス発生回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000062687A (ko) | 2000-10-25 |
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TW459240B (en) | 2001-10-11 |
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