JP2000249531A - 平面度測定装置 - Google Patents

平面度測定装置

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JP2000249531A
JP2000249531A JP11049474A JP4947499A JP2000249531A JP 2000249531 A JP2000249531 A JP 2000249531A JP 11049474 A JP11049474 A JP 11049474A JP 4947499 A JP4947499 A JP 4947499A JP 2000249531 A JP2000249531 A JP 2000249531A
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JP
Japan
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light beam
coherent light
incident
light flux
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JP11049474A
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English (en)
Inventor
Fumio Kobayashi
富美男 小林
Hideo Kanda
秀雄 神田
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Fujinon Corp
Original Assignee
Fuji Photo Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 斜入射干渉法を用いた平面度測定装置におい
て、基準原器の入射面を基準平面に対して所定鋭角をな
すように形成して可干渉光線束を垂直入射させることに
より、該入射面に入射する可干渉光線束を干渉縞形成の
ために効率的に利用できるようにする。 【構成】 可干渉光線束Aを基準原器16の基準平面1
6aに対して斜入射させ、基準平面16aと対向配置さ
れた被検面2aで反射した可干渉光線束Cと基準平面1
6aで内面反射した可干渉光線束Bとにより形成される
干渉縞をスクリーン18に投影させる。その際、基準原
器16において可干渉光線束Aが入射する入射面16a
を基準平面16aに対して45°の鋭角で形成し、可干
渉光線束Aを入射面16aに垂直入射させる。これによ
り入射面16bにおける可干渉光線束Aの反射を最小限
に抑える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の干渉作用によ
って形成される干渉縞を利用して被検面の平面度を測定
する平面度測定装置に関し、詳しくは基準平面および被
検面に対して斜め方向から光を照射する斜入射干渉法を
用いた平面度測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、加工物表面の平面度を測定す
るための種々の干渉計装置が知られている。その中でも
凹凸差の大きい被検面の平面度を測定し得る装置とし
て、斜入射干渉法を用いた平面度測定装置が知られてい
る。
【0003】この平面度測定装置は、図3に示すよう
に、基準原器102の基準平面102aと被検体2の被
検面2aとを対向配置し、基準平面102aに斜め方向
から可干渉光を照射し、この基準平面102aと被検面
2aの距離に基づく光路差に応じた干渉縞をスクリーン
104に投影するようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の平面度測定装置は、その基準原器102における可
干渉光線束の入射面102bが基準平面102aと平行
に形成されており、入射面102bに対して可干渉光線
束が斜め方向から入射するので、該可干渉光線束が入射
面102bで少なからず反射してしまい、干渉縞形成の
ために利用される可干渉光線束がその分減少してしまう
という問題がある。そして、これを解決するためには、
光源を高出力のものとしたり、反射防止膜を入射面10
2bに形成する必要があり、その分だけ平面度測定装置
のコストが高くなってしまうという問題がある。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、可干渉光線束を干渉縞形成のために効
率的に利用することができる平面度測定装置を提供する
ことを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、基準原器の入
射面の角度に工夫を施すことにより、上記目的達成を図
るようにしたものである。
【0007】すなわち、本発明に係る平面度測定装置
は、可干渉光線束が入射する入射面と、この入射面から
入射した可干渉光線束が斜入射する基準平面とを有する
基準原器と、前記基準平面から射出され、該基準平面と
対向配置された被検面で反射した可干渉光線束と前記基
準平面で内面反射した可干渉光線束とにより形成される
干渉縞を投影するスクリーンとを備えてなる平面度測定
装置において、前記入射面が、該入射面に対して前記可
干渉光線束を垂直入射させるよう、前記基準平面に対し
て所定鋭角をなすように形成されていることを特徴とす
るものである。
【0008】また、前記スクリーンは、前記基準原器に
おいて前記基準平面と平行に形成された射出面に形成さ
れていることが好ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。
【0010】図1は、本実施形態に係る平面度測定装置
10を示す側面図である。
【0011】この平面度測定装置10は、光の干渉作用
によって形成される干渉縞を利用して被検体2の被検面
2aの平面度を測定する装置であって、半導体レーザ光
源12から射出され、コリメータレンズ14により平行
光とされた可干渉光線束Aが入射するように配置された
透明ガラス製の基準原器16を備えてなっている。
【0012】この基準原器16は、基準平面16aと、
この基準平面16aに対して45°の鋭角をなすように
形成された入射面16bと、基準平面16aと平行に形
成された射出面16cとが形成されてなっている。これ
ら基準平面16a、入射面16bおよび射出面16c
は、基準原器16における他の部位の表面に対して段上
がりで形成されており、これにより各面の平面度を容易
に高め得るようになっている。
【0013】また、基準平面16aは、図示しない被検
体ホルダ上に固定保持された被検体2の被検面2aとわ
ずかな空気間隔を隔てて対向するように配置されてお
り、コリメータレンズ14からの可干渉光線束Aが斜め
方向から入射するようになっている。その際、可干渉光
線束Aが入射面16bに対して垂直入射するよう、半導
体レーザ光源12およびコリメータレンズ14の配置が
設定されている。
【0014】また、射出面16cには砂ずり処理が施さ
れており、これにより該射出面16cに入射する光を乱
反射させるスクリーン18を形成するようになってい
る。
【0015】さらに、基準原器16において、射出面1
6cに対して入射面16b側の位置する部位の表面は、
入射面16bと直角の斜面(すなわち基準平面16aに
対して45°の斜面)16dで構成されている。
【0016】本実施形態に係る平面度測定装置10にお
いては、入射面16bに対して垂直入射した可干渉光線
束Aは、その一部が基準平面16aで内面反射する可干
渉光線束B(参照光)となり、残りは、基準平面16a
から外部へ射出して被検面2aで反射した後、基準平面
16aに再入射する可干渉光線束C(物体光)となる。
これら可干渉光線束Bおよび可干渉光線束Cの一部は互
いに干渉し、その光路差に応じた干渉縞がスクリーン1
8に投影される。
【0017】そして、このスクリーン18を図示2点鎖
線で示す方向(すなわち射出面16cがスクリーン18
として形成されていないとした場合に可干渉光線束Bお
よび可干渉光線束Cが射出する方向)からスクリーン1
8を観察することにより、干渉縞の全体像を見ることが
できる。なお、この2点鎖線で示す方向にテレビカメラ
等の撮像手段を配設すれば干渉縞画像を記録することも
可能である。
【0018】以上詳述したように、本実施形態において
は、基準原器16の入射面16bが、可干渉光線束Aを
垂直入射させるよう基準平面16aに対して45°の鋭
角をなすように形成されているので、入射面16bにお
ける可干渉光線束Aの反射を最小限に抑えることがで
き、これにより可干渉光線束Aを干渉縞形成のために効
率的に利用することができる。このため、従来のよう
に、光源を高出力のものとしたり、入射面における可干
渉光線束の反射を防止するための反射防止膜を入射面に
形成する必要がなくなり、その分だけ平面度測定装置の
コスト低減を図ることができる。
【0019】しかも、本実施形態においては、コリメー
タレンズ14が基準原器16の入射面16bと平行に配
置されるので両者を近接させることができ、これにより
平面度測定装置のコンパクト化を図ることができる。
【0020】また、本実施形態においては、基準平面1
6aで内面反射した可干渉光線束Bのうち、干渉縞形成
に寄与しないものについては、射出面16cに隣接する
斜面16dから外部へそのまま垂直に射出させることが
でき、したがって不要な可干渉光線束Bが干渉縞観察に
悪影響を与えてしまうのを未然に防止することができ
る。
【0021】ところで、本実施形態においては、入射面
16bが基準平面16aに対して45°の鋭角をなすよ
うに形成されたものとして説明したが、45°以外の鋭
角をなすように形成されたものとしてもよい。その際、
射出面16cに隣接する斜面16dについては、入射面
16bと直角の斜面で構成しておけば、上述した作用効
果を得ることができる。
【0022】また、本実施形態においては、射出面16
cに、砂ずり処理を施すことによりスクリーン18を形
成するように構成されているが、それ以外の粗面加工を
施すことによってスクリーン18を形成するようにして
もよい。あるいは、射出面16cを粗面加工した後もし
くは射出面16cの平面度を高く維持したまま、蒸着法
(あるいはスパッタリング法)によりアルミニウム等の
金属薄膜を半透明状態となる程度の厚さに形成するよう
にしてもよい。
【0023】さらに、本実施形態のように射出面16c
にスクリーン18を形成する代わりに、図2に示すよう
に、射出面16cは平滑面で形成する一方、該射出面1
6cと所定間隔をおいて該射出面16cから射出する可
干渉光線束Bおよび可干渉光線束Cの光路上に半透過部
材からなるスクリーン18を配置するようにしてもよ
い。
【0024】なお、本実施形態においては、光源12と
して半導体レーザ光源を用いているが、この光源12と
しては適度に干渉性のある光線束を射出する光源であれ
ばよく、例えば水銀灯やLED等を用いるようにしても
よい。
【0025】
【発明の効果】本発明に係る平面度測定装置は、基準原
器の入射面が、可干渉光線束を垂直入射させるよう基準
平面に対して所定鋭角をなすように形成されているの
で、入射面における可干渉光線束の反射を最小限に抑え
ることができ、これにより可干渉光線束を干渉縞形成の
ために効率的に利用することができる。このため、従来
のように、光源を高出力のものとしたり、入射面におけ
る可干渉光線束の反射を防止するための反射防止膜を入
射面に形成する必要がなくなり、その分だけ平面度測定
装置のコスト低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る平面度測定装置を示
す側面図
【図2】図1に表された実施形態の変形例を示す側面図
【図3】従来例を示す側面図
【符号の説明】
2 被検体 2a 被検面 10 平面度測定装置 12 半導体レーザ光源(光源) 14 コリメータレンズ 16 基準原器 16a 基準平面 16b 入射面 16c 射出面 16d 斜面 18 スクリーン A 可干渉光線束 B 可干渉光線束(参照光) C 可干渉光線束(物体光)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可干渉光線束が入射する入射面と、この
    入射面から入射した可干渉光線束が斜入射する基準平面
    とを有する基準原器と、 前記基準平面から射出され、該基準平面と対向配置され
    た被検面で反射した可干渉光線束と前記基準平面で内面
    反射した可干渉光線束とにより形成される干渉縞を投影
    するスクリーンとを備えてなる平面度測定装置におい
    て、 前記入射面が、該入射面に対して前記可干渉光線束を略
    垂直入射させるよう、前記基準平面に対して所定鋭角を
    なすように形成されていることを特徴とする平面度測定
    装置。
  2. 【請求項2】 前記スクリーンが、前記基準原器におい
    て前記基準平面と平行に形成された射出面に形成されて
    いることを特徴とする請求項1記載の平面度測定装置。
  3. 【請求項3】 前記入射面と前記射出面を接続する、前
    記基準平面に対向する面が、該入射面に直角な面とされ
    ていることを特徴とする請求項2記載の平面度測定装
    置。
JP11049474A 1999-02-26 1999-02-26 平面度測定装置 Withdrawn JP2000249531A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297916B1 (en) * 1999-03-26 2001-10-02 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Imaging lens for interferometric device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297916B1 (en) * 1999-03-26 2001-10-02 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Imaging lens for interferometric device

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Effective date: 20060509