JP2000243302A - 蛍光体膜構造、この蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜を用いたプラズマディスプレイパネル - Google Patents
蛍光体膜構造、この蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜を用いたプラズマディスプレイパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】製造工数を増大せずに蛍光体膜中の蛍光体粒子
を発光に寄与させることにより、蛍光体膜の輝度を高
め、また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことによ
り、製造コストを低減する。 【解決手段】蛍光体膜１６が多数の蛍光体粒子１６ａ
と、これらの蛍光体粒子１６ａ間に形成された空隙１６
ｂからなる。この蛍光体膜１６が全て蛍光体粒子１６ａ
で隙間無く充填された場合を１００％としたときに、上
記空隙１６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で
形成される。
を発光に寄与させることにより、蛍光体膜の輝度を高
め、また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことによ
り、製造コストを低減する。 【解決手段】蛍光体膜１６が多数の蛍光体粒子１６ａ
と、これらの蛍光体粒子１６ａ間に形成された空隙１６
ｂからなる。この蛍光体膜１６が全て蛍光体粒子１６ａ
で隙間無く充填された場合を１００％としたときに、上
記空隙１６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で
形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰという）等の蛍光表示装置に
適する蛍光体膜構造と、この蛍光体膜を形成するための
ペーストと、この蛍光体膜を用いたＰＤＰに関するもの
である。
レイパネル（以下、ＰＤＰという）等の蛍光表示装置に
適する蛍光体膜構造と、この蛍光体膜を形成するための
ペーストと、この蛍光体膜を用いたＰＤＰに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の蛍光体膜（蛍光体層とも
いう。）構造として、図３に示すようにＰＤＰのガラス
基板１上に所定の間隔をあけて複数のアドレス電極２を
形成し、これらのアドレス電極２を覆うようにガラス基
板１上に絶縁層３を形成し、絶縁層３上面に所定の間隔
をあけて複数のセラミックリブ４を設け、更にこれらの
リブ４の間のセル５内面に蛍光体膜６を形成したものが
知られている。この蛍光体膜を形成するには、先ず蛍光
体粉末とビヒクル（有機バインダ及び溶媒）とを所定の
割合で混合して蛍光体ペーストを調製する。次に蛍光体
ペーストを複数のセラミックリブにより区画されたセル
内面にスクリーン印刷法等により印刷し、大気中で所定
の温度で所定時間保持して乾燥する。更に大気中で所定
の温度で所定時間保持して焼成することにより、ビヒク
ルが焼失して蛍光体膜が得られる。
いう。）構造として、図３に示すようにＰＤＰのガラス
基板１上に所定の間隔をあけて複数のアドレス電極２を
形成し、これらのアドレス電極２を覆うようにガラス基
板１上に絶縁層３を形成し、絶縁層３上面に所定の間隔
をあけて複数のセラミックリブ４を設け、更にこれらの
リブ４の間のセル５内面に蛍光体膜６を形成したものが
知られている。この蛍光体膜を形成するには、先ず蛍光
体粉末とビヒクル（有機バインダ及び溶媒）とを所定の
割合で混合して蛍光体ペーストを調製する。次に蛍光体
ペーストを複数のセラミックリブにより区画されたセル
内面にスクリーン印刷法等により印刷し、大気中で所定
の温度で所定時間保持して乾燥する。更に大気中で所定
の温度で所定時間保持して焼成することにより、ビヒク
ルが焼失して蛍光体膜が得られる。
【０００３】しかし、上記従来の蛍光体膜構造では、プ
ラズマ放電７により発生した紫外線８が蛍光体膜６表面
の蛍光体粒子６ａのみに照射されるため、蛍光体膜６中
の蛍光体粒子６ａが発光に寄与できず（図３において黒
く塗りつぶした蛍光体粒子６ａが発光に寄与してい
る。）、輝度が比較的低いという問題があった。一方、
これらの点を解消するための技術で、本発明に近い技術
として特開平１−２７４３５４号公報に、蛍光体粒子と
アルカリ土類金属のフッ化物を混合ないし融着した組成
物を発光物質として用いることにより、発光物質の輝度
を殆ど低下させずに、発光物質の価格を著しく低減する
ことのできる発光組成物を蛍光膜に用いた紫外線励起発
光管（以下、蛍光ランプという）が開示されている。
ラズマ放電７により発生した紫外線８が蛍光体膜６表面
の蛍光体粒子６ａのみに照射されるため、蛍光体膜６中
の蛍光体粒子６ａが発光に寄与できず（図３において黒
く塗りつぶした蛍光体粒子６ａが発光に寄与してい
る。）、輝度が比較的低いという問題があった。一方、
これらの点を解消するための技術で、本発明に近い技術
として特開平１−２７４３５４号公報に、蛍光体粒子と
アルカリ土類金属のフッ化物を混合ないし融着した組成
物を発光物質として用いることにより、発光物質の輝度
を殆ど低下させずに、発光物質の価格を著しく低減する
ことのできる発光組成物を蛍光膜に用いた紫外線励起発
光管（以下、蛍光ランプという）が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の特
開平１−２７４３５４号公報に示された蛍光ランプにお
いては、励起光として水銀の発光による波長２５４ｎ
ｍ、１８５ｎｍの光が用いられるが、ＰＤＰではキセノ
ンの発光による波長１４７ｎｍの真空紫外光により蛍光
体を励起する。この光は蛍光体粒子に殆ど吸収され、フ
ッ化物（ＢａＦ2、ＳｒＦ2等）でも透過率が低下する。
このために蛍光体膜中に侵入する紫外線量は、蛍光ラン
プ中の蛍光体膜に比べ格段に少なくなるため、発光輝度
の向上は難しいという問題点があった。本発明の目的
は、製造工数を増やすことなく、蛍光体膜中の蛍光体粒
子をより多く発光に寄与させることにより、蛍光体膜の
輝度を高め、また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすこ
とにより、製造コストを低減できる、蛍光体膜構造、こ
の蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜
を用いたＰＤＰを提供することにある。
開平１−２７４３５４号公報に示された蛍光ランプにお
いては、励起光として水銀の発光による波長２５４ｎ
ｍ、１８５ｎｍの光が用いられるが、ＰＤＰではキセノ
ンの発光による波長１４７ｎｍの真空紫外光により蛍光
体を励起する。この光は蛍光体粒子に殆ど吸収され、フ
ッ化物（ＢａＦ2、ＳｒＦ2等）でも透過率が低下する。
このために蛍光体膜中に侵入する紫外線量は、蛍光ラン
プ中の蛍光体膜に比べ格段に少なくなるため、発光輝度
の向上は難しいという問題点があった。本発明の目的
は、製造工数を増やすことなく、蛍光体膜中の蛍光体粒
子をより多く発光に寄与させることにより、蛍光体膜の
輝度を高め、また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすこ
とにより、製造コストを低減できる、蛍光体膜構造、こ
の蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜
を用いたＰＤＰを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１に示すように蛍光体膜１６が多数の蛍光体粒子１６
ａとこれらの蛍光体粒子１６ａ間に形成された空隙１６
ｂからなり、蛍光体膜１６が全て蛍光体粒子１６ａで隙
間無く充填された場合を１００％としたときに、空隙１
６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で形成され
た蛍光体膜構造である。この請求項１に記載された蛍光
体膜構造では、プラズマ放電１７により発生した紫外線
１８が蛍光体粒子１６ａを励起し、この蛍光体粒子が基
底状態に戻るときに可視光を発する。このとき紫外線１
８は蛍光体膜１６表面の蛍光体粒子１６ａのみならず、
蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａにも照射されるの
で、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａも発光に寄与で
き、結果として発光する蛍光体粒子数が増加するため
に、高い輝度の蛍光体膜１６が得られる。
図１に示すように蛍光体膜１６が多数の蛍光体粒子１６
ａとこれらの蛍光体粒子１６ａ間に形成された空隙１６
ｂからなり、蛍光体膜１６が全て蛍光体粒子１６ａで隙
間無く充填された場合を１００％としたときに、空隙１
６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で形成され
た蛍光体膜構造である。この請求項１に記載された蛍光
体膜構造では、プラズマ放電１７により発生した紫外線
１８が蛍光体粒子１６ａを励起し、この蛍光体粒子が基
底状態に戻るときに可視光を発する。このとき紫外線１
８は蛍光体膜１６表面の蛍光体粒子１６ａのみならず、
蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａにも照射されるの
で、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａも発光に寄与で
き、結果として発光する蛍光体粒子数が増加するため
に、高い輝度の蛍光体膜１６が得られる。
【０００６】請求項２に係る発明は、図２に示すよう
に、蛍光体膜３６が多数の蛍光体粒子３６ａとこれらの
蛍光体粒子３６ａ間に配置された多数の紫外線透過粒子
３６ｂからなり、蛍光体膜３６が全て蛍光体粒子３６ａ
で隙間無く充填された場合を１００％としたときに、各
粒子３６ａ，３６ｂ間の空隙３６ｃ及び紫外線透過粒子
３６ｂの蛍光体膜３６中に占める割合が４０〜８０％で
ある蛍光体膜構造である。この請求項２に記載された蛍
光体膜構造では、プラズマ放電１７による紫外線１８が
蛍光体粒子３６ａを励起、発光（可視光）させる。この
とき紫外線１８は蛍光体膜３６表面の蛍光体粒子３６ａ
だけでなく、紫外線透過粒子３６ｂ中を透過して蛍光体
膜３６中の蛍光体粒子３６ａにも照射されるので、蛍光
体膜３６中の蛍光体粒子３６ａも発光に寄与でき、結果
として発光する蛍光体粒子数が増加するために、高い輝
度の蛍光体膜３６が得られる（図２において黒く塗りつ
ぶした蛍光体粒子３６ａが発光に寄与している。）。ま
た高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことができるの
で、製造コストを低減できる。
に、蛍光体膜３６が多数の蛍光体粒子３６ａとこれらの
蛍光体粒子３６ａ間に配置された多数の紫外線透過粒子
３６ｂからなり、蛍光体膜３６が全て蛍光体粒子３６ａ
で隙間無く充填された場合を１００％としたときに、各
粒子３６ａ，３６ｂ間の空隙３６ｃ及び紫外線透過粒子
３６ｂの蛍光体膜３６中に占める割合が４０〜８０％で
ある蛍光体膜構造である。この請求項２に記載された蛍
光体膜構造では、プラズマ放電１７による紫外線１８が
蛍光体粒子３６ａを励起、発光（可視光）させる。この
とき紫外線１８は蛍光体膜３６表面の蛍光体粒子３６ａ
だけでなく、紫外線透過粒子３６ｂ中を透過して蛍光体
膜３６中の蛍光体粒子３６ａにも照射されるので、蛍光
体膜３６中の蛍光体粒子３６ａも発光に寄与でき、結果
として発光する蛍光体粒子数が増加するために、高い輝
度の蛍光体膜３６が得られる（図２において黒く塗りつ
ぶした蛍光体粒子３６ａが発光に寄与している。）。ま
た高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことができるの
で、製造コストを低減できる。
【０００７】上記紫外線透過粒子としてはフッ化物粒子
又はＳｉＯ2粒子を用いることが好ましい。また紫外線
透過粒子としてＳｉＯ2膜により被覆されたフッ化物粒
子を用いれば、ＳｉＯ2膜で被覆されたフッ化物粒子の
プラズマ下での耐久性を向上できる。またフッ化物粒子
としては、ＣａＦ2，ＭｇＦ2又ＬｉＦはのいずれかを用
いることが好ましい。更に図１又は図２に示すように、
上記蛍光体膜１６又は３６をＰＤＰの基板１１上のリブ
１４間のセル１５内面に形成することが好ましい。
又はＳｉＯ2粒子を用いることが好ましい。また紫外線
透過粒子としてＳｉＯ2膜により被覆されたフッ化物粒
子を用いれば、ＳｉＯ2膜で被覆されたフッ化物粒子の
プラズマ下での耐久性を向上できる。またフッ化物粒子
としては、ＣａＦ2，ＭｇＦ2又ＬｉＦはのいずれかを用
いることが好ましい。更に図１又は図２に示すように、
上記蛍光体膜１６又は３６をＰＤＰの基板１１上のリブ
１４間のセル１５内面に形成することが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明の第１の実施の形態を
図面に基づいて説明する。図１に示すように、ＰＤＰの
ガラス基板１１上には所定の間隔をあけて複数のアドレ
ス電極１２が形成され、これらのアドレス電極１２を覆
うようにガラス基板１１上には絶縁層１３が形成され
る。また絶縁層１３上面には所定の間隔をあけて複数の
セラミックリブ１４が設けられ、これらのリブ１４間の
セル１５内面には蛍光体膜１６が形成される。この蛍光
体膜１６は多数の蛍光体粒子１６ａとこれらの蛍光体粒
子１６ａ間に形成された空隙１６ｂからなり、蛍光体膜
１６が全て蛍光体粒子１６ａで隙間無く充填された場合
を１００％としたときに、空隙１６ｂが蛍光体膜１６中
に４０〜８０％、好ましくは５０〜７０％の割合で形成
される。空隙１６ｂを４０〜８０％の範囲に限定したの
は、４０％未満では、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６
ａを発光に寄与させることが困難になり、８０％を越え
ると、蛍光体粒子１６ａの量が少な過ぎるため蛍光体膜
１６中の蛍光体粒子１６ａが発光に寄与しても所定の輝
度が得られず、また蛍光体膜１６が脆くなって輝度が経
時変化するおそれがあるからである。
図面に基づいて説明する。図１に示すように、ＰＤＰの
ガラス基板１１上には所定の間隔をあけて複数のアドレ
ス電極１２が形成され、これらのアドレス電極１２を覆
うようにガラス基板１１上には絶縁層１３が形成され
る。また絶縁層１３上面には所定の間隔をあけて複数の
セラミックリブ１４が設けられ、これらのリブ１４間の
セル１５内面には蛍光体膜１６が形成される。この蛍光
体膜１６は多数の蛍光体粒子１６ａとこれらの蛍光体粒
子１６ａ間に形成された空隙１６ｂからなり、蛍光体膜
１６が全て蛍光体粒子１６ａで隙間無く充填された場合
を１００％としたときに、空隙１６ｂが蛍光体膜１６中
に４０〜８０％、好ましくは５０〜７０％の割合で形成
される。空隙１６ｂを４０〜８０％の範囲に限定したの
は、４０％未満では、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６
ａを発光に寄与させることが困難になり、８０％を越え
ると、蛍光体粒子１６ａの量が少な過ぎるため蛍光体膜
１６中の蛍光体粒子１６ａが発光に寄与しても所定の輝
度が得られず、また蛍光体膜１６が脆くなって輝度が経
時変化するおそれがあるからである。
【０００９】このように構成された蛍光体膜の形成方法
を説明する。先ず蛍光体粉末と、熱膨張性マイクロカプ
セルと、樹脂及び溶媒（溶剤＋可塑剤＋分散剤））とを
所定の割合で混合して蛍光体ペーストを調製する。蛍光
体粉末は１５〜８０重量％、好ましくは３０〜６０重量
％であり、熱膨張性マイクロカプセルは０．１〜１６重
量％、好ましくは１〜１０重量％である。また樹脂及び
溶媒は８０〜２０重量％、好ましくは６５〜２５重量％
であり、具体的には樹脂は２５〜０重量％、好ましくは
１０〜１重量％であり、溶媒は８０〜７重量％、好まし
くは６０〜２０重量％である。
を説明する。先ず蛍光体粉末と、熱膨張性マイクロカプ
セルと、樹脂及び溶媒（溶剤＋可塑剤＋分散剤））とを
所定の割合で混合して蛍光体ペーストを調製する。蛍光
体粉末は１５〜８０重量％、好ましくは３０〜６０重量
％であり、熱膨張性マイクロカプセルは０．１〜１６重
量％、好ましくは１〜１０重量％である。また樹脂及び
溶媒は８０〜２０重量％、好ましくは６５〜２５重量％
であり、具体的には樹脂は２５〜０重量％、好ましくは
１０〜１重量％であり、溶媒は８０〜７重量％、好まし
くは６０〜２０重量％である。
【００１０】ここで、蛍光体粉末を１５〜８０重量％に
限定したのは、１５重量％未満では蛍光体粉末が少な過
ぎるために所定の輝度が得られず、８０重量％を越える
と蛍光体膜中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが困
難となり本発明の効果が十分に得られないからである。
また熱膨張性マイクロカプセルを０．１〜１６重量％に
限定したのは、０．１重量％未満では蛍光体膜中に十分
な空隙を形成することができず、１６重量％を越えると
蛍光体膜の強度が十分に得られないからである。更に樹
脂及び溶媒を８０〜２０重量％に限定したのは、８０重
量％を越えるとペーストの粘性が低くなり過ぎ、２０重
量％未満では粘性が高くなり過ぎて、蛍光体膜を印刷法
等で形成するときに所定の膜厚が得られないからであ
る。
限定したのは、１５重量％未満では蛍光体粉末が少な過
ぎるために所定の輝度が得られず、８０重量％を越える
と蛍光体膜中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが困
難となり本発明の効果が十分に得られないからである。
また熱膨張性マイクロカプセルを０．１〜１６重量％に
限定したのは、０．１重量％未満では蛍光体膜中に十分
な空隙を形成することができず、１６重量％を越えると
蛍光体膜の強度が十分に得られないからである。更に樹
脂及び溶媒を８０〜２０重量％に限定したのは、８０重
量％を越えるとペーストの粘性が低くなり過ぎ、２０重
量％未満では粘性が高くなり過ぎて、蛍光体膜を印刷法
等で形成するときに所定の膜厚が得られないからであ
る。
【００１１】樹脂はバインダとしての機能を有し、熱分
解し易く、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであっ
て、セルロース系樹脂（エチルセルロース，メチルセル
ロース等），アクリル樹脂（メチルメタクリル，エチル
メタクリル等），塩化ビニル樹脂，フェノール樹脂など
が挙げられる。溶剤としては非水系溶剤（アルコール
系，エーテル系，芳香族系，炭化水素系等の有機溶剤）
が挙げられ、好ましいアルコールとしはトリエチレング
リコール，テルピネオール等が挙げられ、好ましいエー
テルとしてはジエチルエーテル等が挙げられる。更に分
散剤としてはリン酸系，スルフォン酸系等の分散剤が挙
げられる。なお、本明細書では上記樹脂及び溶媒をビヒ
クルという場合がある。
解し易く、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであっ
て、セルロース系樹脂（エチルセルロース，メチルセル
ロース等），アクリル樹脂（メチルメタクリル，エチル
メタクリル等），塩化ビニル樹脂，フェノール樹脂など
が挙げられる。溶剤としては非水系溶剤（アルコール
系，エーテル系，芳香族系，炭化水素系等の有機溶剤）
が挙げられ、好ましいアルコールとしはトリエチレング
リコール，テルピネオール等が挙げられ、好ましいエー
テルとしてはジエチルエーテル等が挙げられる。更に分
散剤としてはリン酸系，スルフォン酸系等の分散剤が挙
げられる。なお、本明細書では上記樹脂及び溶媒をビヒ
クルという場合がある。
【００１２】また蛍光体粉末としては平均粒径が３〜４
μｍで比重が４〜５ｇ／ｃｍ3の赤色、青色又は緑色の
蛍光体粉末が用いられる。赤色蛍光体粉末としては
［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ］粉末等が用いられ、青色
蛍光体粉末としては［ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ］粉末
等が用いられ、緑色蛍光体粉末としては［Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ］粉末や［ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ］粉末等が
用いられる。また熱膨張性マイクロカプセルとしては、
例えばアクリロニトリル系ポリマーを殻壁とし低沸点炭
化水素を内包した平均粒径５〜８μｍのマイクロカプセ
ル等が用いられる。更にビヒクルとしては、例えばα−
テルピネオール／エチルセルロースの重量比が９５／５
の混合物等が用いられる。
μｍで比重が４〜５ｇ／ｃｍ3の赤色、青色又は緑色の
蛍光体粉末が用いられる。赤色蛍光体粉末としては
［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ］粉末等が用いられ、青色
蛍光体粉末としては［ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ］粉末
等が用いられ、緑色蛍光体粉末としては［Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ］粉末や［ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ］粉末等が
用いられる。また熱膨張性マイクロカプセルとしては、
例えばアクリロニトリル系ポリマーを殻壁とし低沸点炭
化水素を内包した平均粒径５〜８μｍのマイクロカプセ
ル等が用いられる。更にビヒクルとしては、例えばα−
テルピネオール／エチルセルロースの重量比が９５／５
の混合物等が用いられる。
【００１３】一方、ガラス基板上に絶縁層を介してスク
リーン印刷法、サンドブラスト法又はドライフィルム法
等により所定の間隔をあけて複数のセラミックリブを形
成する。次に蛍光体ペーストを上記ガラス基板上のセラ
ミックリブにより区画されたセル内面にスクリーン印刷
法等により印刷し、大気中で１５０℃に１０分間保持し
て乾燥する。更に大気中で５２０℃に３０分間保持して
焼成することにより、空隙が蛍光体膜中に４０〜８０％
の割合で形成された蛍光体膜が得られる。このとき熱膨
張性マイクロカプセルは乾燥時にカプセル内部の低沸点
炭化水素等の溶媒の蒸発に伴い、体積が約２〜３倍に膨
張する。またビヒクルや熱膨張性マイクロカプセル等の
樹脂成分は焼成時に焼失するため、蛍光体膜中に比較的
大きな空隙が形成される。
リーン印刷法、サンドブラスト法又はドライフィルム法
等により所定の間隔をあけて複数のセラミックリブを形
成する。次に蛍光体ペーストを上記ガラス基板上のセラ
ミックリブにより区画されたセル内面にスクリーン印刷
法等により印刷し、大気中で１５０℃に１０分間保持し
て乾燥する。更に大気中で５２０℃に３０分間保持して
焼成することにより、空隙が蛍光体膜中に４０〜８０％
の割合で形成された蛍光体膜が得られる。このとき熱膨
張性マイクロカプセルは乾燥時にカプセル内部の低沸点
炭化水素等の溶媒の蒸発に伴い、体積が約２〜３倍に膨
張する。またビヒクルや熱膨張性マイクロカプセル等の
樹脂成分は焼成時に焼失するため、蛍光体膜中に比較的
大きな空隙が形成される。
【００１４】上述の形成方法以外の蛍光体膜の形成方法
を説明する。先ず、蛍光体粉末と、樹脂微粉末と、樹脂
及び溶媒（溶剤＋可塑剤＋分散剤）とを所定の割合で混
合して蛍光体ペーストを調製する。蛍光体粉末は１０〜
８０重量％、好ましくは４０〜６０重量％であり、樹脂
微粉末は０．２〜１７重量％、好ましくは１〜１０重量
％である。蛍光体粉末を１０〜８０重量％に限定したの
は、１０重量％未満では蛍光体粉末が少な過ぎるために
所定の輝度が得られず、８０重量％を越えると蛍光体膜
中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが困難となり本
発明の効果が十分に得られないからである。また樹脂微
粉末を０．２〜１７重量％に限定したのは、０．２重量
％未満では空隙を蛍光体膜中に４０％の割合で形成する
ことが困難となり、１７重量％を越えると蛍光体膜中に
空隙が８０％以上形成されてしまうためである。更に樹
脂は２５〜０重量％、好ましくは１０〜１重量％であ
り、溶媒は８０〜７重量％、好ましくは６０〜２０重量
％である。
を説明する。先ず、蛍光体粉末と、樹脂微粉末と、樹脂
及び溶媒（溶剤＋可塑剤＋分散剤）とを所定の割合で混
合して蛍光体ペーストを調製する。蛍光体粉末は１０〜
８０重量％、好ましくは４０〜６０重量％であり、樹脂
微粉末は０．２〜１７重量％、好ましくは１〜１０重量
％である。蛍光体粉末を１０〜８０重量％に限定したの
は、１０重量％未満では蛍光体粉末が少な過ぎるために
所定の輝度が得られず、８０重量％を越えると蛍光体膜
中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが困難となり本
発明の効果が十分に得られないからである。また樹脂微
粉末を０．２〜１７重量％に限定したのは、０．２重量
％未満では空隙を蛍光体膜中に４０％の割合で形成する
ことが困難となり、１７重量％を越えると蛍光体膜中に
空隙が８０％以上形成されてしまうためである。更に樹
脂は２５〜０重量％、好ましくは１０〜１重量％であ
り、溶媒は８０〜７重量％、好ましくは６０〜２０重量
％である。
【００１５】上記蛍光体粉末と、樹脂及び溶媒とは上述
の形成方法と同様のものが用いられる。また樹脂微粉末
は、使用する溶剤に難溶若しくは不溶であって、焼失温
度が２００〜５００℃、好ましくは２００〜４００℃で
あり、かつ平均粒径が１〜２０μｍ、好ましくは０．１
〜１０μｍである。ここでは、樹脂微粉末は構成元素が
Ｃ（炭素），Ｈ（水素）及びＯ（酸素）のみからなる樹
脂により形成されることが好ましく、例えばポリエチレ
ン，ポリエチレンオキシド，アクリル樹脂，メタアクリ
ル樹脂，セルロース樹脂，ポリスチレン等が挙げられ
る。また樹脂微粉末の焼失温度を２００〜５００℃に限
定したのは、２００℃未満ではペーストの乾燥時に樹脂
微粉末が焼失してしまい、５００℃を越えると焼成時に
樹脂微粉末を完全に焼失させることが困難になるからで
ある。更に樹脂微粉末の平均粒径を０．１〜２０μｍに
限定したのは、２０μｍを越えると通常用いられている
蛍光体膜厚より大きな空隙が形成され、下地の絶縁体層
等が見えてしまうからである。
の形成方法と同様のものが用いられる。また樹脂微粉末
は、使用する溶剤に難溶若しくは不溶であって、焼失温
度が２００〜５００℃、好ましくは２００〜４００℃で
あり、かつ平均粒径が１〜２０μｍ、好ましくは０．１
〜１０μｍである。ここでは、樹脂微粉末は構成元素が
Ｃ（炭素），Ｈ（水素）及びＯ（酸素）のみからなる樹
脂により形成されることが好ましく、例えばポリエチレ
ン，ポリエチレンオキシド，アクリル樹脂，メタアクリ
ル樹脂，セルロース樹脂，ポリスチレン等が挙げられ
る。また樹脂微粉末の焼失温度を２００〜５００℃に限
定したのは、２００℃未満ではペーストの乾燥時に樹脂
微粉末が焼失してしまい、５００℃を越えると焼成時に
樹脂微粉末を完全に焼失させることが困難になるからで
ある。更に樹脂微粉末の平均粒径を０．１〜２０μｍに
限定したのは、２０μｍを越えると通常用いられている
蛍光体膜厚より大きな空隙が形成され、下地の絶縁体層
等が見えてしまうからである。
【００１６】一方、ガラス基板１１上に絶縁層１３を介
してスクリーン印刷法，サンドブラスト法又はドライフ
ィルム法等により所定の間隔をあけて複数のセラミック
リブ１４を形成する。次に上記ガラス基板１１上のセラ
ミックリブ１４により区画されたセル１５内面に蛍光体
ペーストをスクリーン印刷法等により印刷し、大気中で
１５０℃に１０分間保持して乾燥する。更に大気中で５
２０℃に３０分間保持して焼成することにより、空隙１
６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で形成され
た蛍光体膜１６が得られる。この焼成時に蛍光体粒子１
６ａ間に存在する樹脂微粉末は焼失するため、蛍光体膜
１６中に所定の割合で空隙１６ｂを形成することができ
る。
してスクリーン印刷法，サンドブラスト法又はドライフ
ィルム法等により所定の間隔をあけて複数のセラミック
リブ１４を形成する。次に上記ガラス基板１１上のセラ
ミックリブ１４により区画されたセル１５内面に蛍光体
ペーストをスクリーン印刷法等により印刷し、大気中で
１５０℃に１０分間保持して乾燥する。更に大気中で５
２０℃に３０分間保持して焼成することにより、空隙１
６ｂが蛍光体膜１６中に４０〜８０％の割合で形成され
た蛍光体膜１６が得られる。この焼成時に蛍光体粒子１
６ａ間に存在する樹脂微粉末は焼失するため、蛍光体膜
１６中に所定の割合で空隙１６ｂを形成することができ
る。
【００１７】このように製造された蛍光体膜構造では、
図示しない表示電極間に所定の電圧を印加すると、図１
に示すようにセル１５内でプラズマ放電１７が発生し、
このプラズマ放電１７による紫外線１８が蛍光体粒子１
６ａを励起、発光（可視光）させる。このとき紫外線１
８は蛍光体膜１６表面の蛍光体粒子１６ａだけでなく、
蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａにも照射されるの
で、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａも発光に寄与で
き、結果として発光する蛍光体粒子数が増加するため
に、高い輝度の蛍光体膜１６が得られる（図１において
黒く塗りつぶした蛍光体粒子１６ａが発光に寄与してい
る。）。また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことが
できるので、製造コストを低減できる。
図示しない表示電極間に所定の電圧を印加すると、図１
に示すようにセル１５内でプラズマ放電１７が発生し、
このプラズマ放電１７による紫外線１８が蛍光体粒子１
６ａを励起、発光（可視光）させる。このとき紫外線１
８は蛍光体膜１６表面の蛍光体粒子１６ａだけでなく、
蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａにも照射されるの
で、蛍光体膜１６中の蛍光体粒子１６ａも発光に寄与で
き、結果として発光する蛍光体粒子数が増加するため
に、高い輝度の蛍光体膜１６が得られる（図１において
黒く塗りつぶした蛍光体粒子１６ａが発光に寄与してい
る。）。また高価な蛍光体粉末の使用量を減らすことが
できるので、製造コストを低減できる。
【００１８】本発明の第２の実施の形態を図２に基づい
て説明する。図２において図１と同一符号は同一部品を
示す。この実施の形態では、複数のセラミックリブ１４
の間のセル１５に形成された蛍光体膜３６が多数の蛍光
体粒子３６ａとこれらの蛍光体粒子３６ａ間に配置され
た多数の紫外線透過粒子３６ｂからなる。また蛍光体膜
３６が全て蛍光体粒子３６ａで隙間無く充填された場合
を１００％としたときに、各粒子３６ａ，３６ｂ間の空
隙３６ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に
占める割合が４０〜８０％、好ましくは５０〜７０％で
ある。紫外線透過粒子３６ｂとしては、フッ化物粒子、
好ましくはＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＬｉＦ等の粒子又はＳｉ
Ｏ2粒子が用られる。また各粒子３６ａ，３６ｂ間の空
隙３６ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に
占める割合を４０〜８０％の範囲に限定したのは、４０
％未満では、蛍光体膜３６中の蛍光体粒子３６ａを発光
に寄与させることが困難になり、８０％を越えると、蛍
光体粒子３６ａの量が少な過ぎるため蛍光体膜３６中の
蛍光体粒子３６ａが発光に寄与しても所定の輝度が得ら
れないからである。
て説明する。図２において図１と同一符号は同一部品を
示す。この実施の形態では、複数のセラミックリブ１４
の間のセル１５に形成された蛍光体膜３６が多数の蛍光
体粒子３６ａとこれらの蛍光体粒子３６ａ間に配置され
た多数の紫外線透過粒子３６ｂからなる。また蛍光体膜
３６が全て蛍光体粒子３６ａで隙間無く充填された場合
を１００％としたときに、各粒子３６ａ，３６ｂ間の空
隙３６ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に
占める割合が４０〜８０％、好ましくは５０〜７０％で
ある。紫外線透過粒子３６ｂとしては、フッ化物粒子、
好ましくはＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＬｉＦ等の粒子又はＳｉ
Ｏ2粒子が用られる。また各粒子３６ａ，３６ｂ間の空
隙３６ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に
占める割合を４０〜８０％の範囲に限定したのは、４０
％未満では、蛍光体膜３６中の蛍光体粒子３６ａを発光
に寄与させることが困難になり、８０％を越えると、蛍
光体粒子３６ａの量が少な過ぎるため蛍光体膜３６中の
蛍光体粒子３６ａが発光に寄与しても所定の輝度が得ら
れないからである。
【００１９】このように構成された蛍光体膜の形成方法
を説明する。乾燥・焼成後の各粒子３６ａ間の空隙３６
ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に占める
割合が４０〜８０％になるように、蛍光体粉末と、紫外
線透過粉末と、樹脂及び溶媒とを所定の割合で混合する
ことにより蛍光体ペーストを調製する。蛍光体粉末は１
０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量％であり、
紫外線透過粒子は０．１〜５０重量％、好ましくは１〜
３０重量％である。また樹脂は２５〜０重量％、好まし
くは１０〜３重量％であり、溶媒は８０〜７重量％、好
ましくは６０〜２０重量％である。ここで、紫外線透過
粒子を０．１〜５０重量％に限定したのは、０．１未満
では蛍光体膜中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが
困難となり本発明の効果が十分得られず、５０重量％を
越えると相対的に蛍光体粒子が減少し、所定の輝度が得
られないからである。上記以外の蛍光体膜の形成方法は
第１の実施の形態と略同様であるので、繰返しの説明を
省略する。
を説明する。乾燥・焼成後の各粒子３６ａ間の空隙３６
ｃ及び紫外線透過粒子３６ｂの蛍光体膜３６中に占める
割合が４０〜８０％になるように、蛍光体粉末と、紫外
線透過粉末と、樹脂及び溶媒とを所定の割合で混合する
ことにより蛍光体ペーストを調製する。蛍光体粉末は１
０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量％であり、
紫外線透過粒子は０．１〜５０重量％、好ましくは１〜
３０重量％である。また樹脂は２５〜０重量％、好まし
くは１０〜３重量％であり、溶媒は８０〜７重量％、好
ましくは６０〜２０重量％である。ここで、紫外線透過
粒子を０．１〜５０重量％に限定したのは、０．１未満
では蛍光体膜中の蛍光体粒子を発光に寄与させることが
困難となり本発明の効果が十分得られず、５０重量％を
越えると相対的に蛍光体粒子が減少し、所定の輝度が得
られないからである。上記以外の蛍光体膜の形成方法は
第１の実施の形態と略同様であるので、繰返しの説明を
省略する。
【００２０】このように製造された蛍光体膜構造では、
図示しない表示電極間に所定の電圧を印加すると、図２
に示すようにセル１５内でプラズマ放電１７が発生し、
このプラズマ放電１７により紫外線１８が蛍光体粒子３
６ａを励起、発光（可視光）させる。このとき紫外線１
８は蛍光体膜３６表面の蛍光体粒子３６ａだけでなく、
紫外線透過粒子３６ｂ中を透過して蛍光体膜３６中の蛍
光体粒子３６ａにも照射されるので、蛍光体膜３６中の
蛍光体粒子３６ａも発光に寄与でき、結果として発光す
る蛍光体粒子数が増加するために、高い輝度の蛍光体膜
３６が得られる（図２において黒く塗りつぶした蛍光体
粒子３６ａが発光に寄与している。）。また高価な蛍光
体粉末の使用量を減らすことができるので、製造コスト
を低減できる。
図示しない表示電極間に所定の電圧を印加すると、図２
に示すようにセル１５内でプラズマ放電１７が発生し、
このプラズマ放電１７により紫外線１８が蛍光体粒子３
６ａを励起、発光（可視光）させる。このとき紫外線１
８は蛍光体膜３６表面の蛍光体粒子３６ａだけでなく、
紫外線透過粒子３６ｂ中を透過して蛍光体膜３６中の蛍
光体粒子３６ａにも照射されるので、蛍光体膜３６中の
蛍光体粒子３６ａも発光に寄与でき、結果として発光す
る蛍光体粒子数が増加するために、高い輝度の蛍光体膜
３６が得られる（図２において黒く塗りつぶした蛍光体
粒子３６ａが発光に寄与している。）。また高価な蛍光
体粉末の使用量を減らすことができるので、製造コスト
を低減できる。
【００２１】なお、上記第２の実施の形態では、紫外線
透過粒子としてＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＬｉＦ等のフッ化物
粒子又はＳｉＯ2粒子を用いたが、ＳｉＯ2膜により被覆
されたフッ化物粒子を用いてもよい。ＳｉＯ2膜により
被覆されたフッ化物粒子からなる粉末はゾルゲル法、Ｃ
ＶＤ法、スパッタリング法等により作製されることが好
ましい。ここにＳｉＯ2膜により被覆されたＣａＦ2粒子
からなる粉末をゾルゲル法にて作製した例を示す。先ず
エチルシリケートと、エチルアルコールと、所定濃度の
塩酸と、イソプロピルアルコールとを所定量ずつ混合し
て得られた溶液中にＣａＦ2粉末を所定量添加し、室温
で３０分間撹拌した後に、濾紙を用いて濾過する。次に
この濾過した粉末を大気中で１５０℃に３０分間保持し
て乾燥した後、大気中６００℃で１時間保持して焼成す
ることにより、ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粒子から
なる粉末が得られる。このＳｉＯ2膜の厚さは１〜１０
μｍであることが好ましい。上記のようにＳｉＯ2膜で
ＣａＦ2粒子を被覆するのはプラズマ雰囲気中での耐久
性を向上させるためである。
透過粒子としてＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＬｉＦ等のフッ化物
粒子又はＳｉＯ2粒子を用いたが、ＳｉＯ2膜により被覆
されたフッ化物粒子を用いてもよい。ＳｉＯ2膜により
被覆されたフッ化物粒子からなる粉末はゾルゲル法、Ｃ
ＶＤ法、スパッタリング法等により作製されることが好
ましい。ここにＳｉＯ2膜により被覆されたＣａＦ2粒子
からなる粉末をゾルゲル法にて作製した例を示す。先ず
エチルシリケートと、エチルアルコールと、所定濃度の
塩酸と、イソプロピルアルコールとを所定量ずつ混合し
て得られた溶液中にＣａＦ2粉末を所定量添加し、室温
で３０分間撹拌した後に、濾紙を用いて濾過する。次に
この濾過した粉末を大気中で１５０℃に３０分間保持し
て乾燥した後、大気中６００℃で１時間保持して焼成す
ることにより、ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粒子から
なる粉末が得られる。このＳｉＯ2膜の厚さは１〜１０
μｍであることが好ましい。上記のようにＳｉＯ2膜で
ＣａＦ2粒子を被覆するのはプラズマ雰囲気中での耐久
性を向上させるためである。
【００２２】
【実施例】次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく
説明する。 ＜実施例１＞蛍光体粉末を５ｇと、熱膨張性マイクロカ
プセルを０．３ｇと、ビヒクルを４．２ｇとを混合して
蛍光体ペーストを調製した。蛍光体粉末としては平均粒
径が３μｍで比重が５．０２ｇ／ｃｍ3の赤色蛍光体粉
末［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ］を用い、熱膨張性マイ
クロカプセルとしてはアクリロニトリル系樹脂を殻壁と
し低沸点炭化水素を内包した平均粒径５〜８μｍのマイ
クロカプセルを用いた。またビヒクルとしてはα−テル
ピネオール／エチルセルロースの重量比が９５／５の混
合物を用いた。上記蛍光体ペーストを、１インチ角のベ
タスクリーン版を用いて２インチ角のソーダライムガラ
ス基板の上面中央にスクリーン印刷し、１５０℃で１０
分間乾燥した後、５２０℃で３０分間焼成し、マイクロ
カプセル中の低沸点炭化水素を蒸発させ、かつビヒクル
や熱膨張性マイクロカプセル等の樹脂成分を焼失させて
蛍光体膜を得た。この蛍光体膜を実施例１とした。
説明する。 ＜実施例１＞蛍光体粉末を５ｇと、熱膨張性マイクロカ
プセルを０．３ｇと、ビヒクルを４．２ｇとを混合して
蛍光体ペーストを調製した。蛍光体粉末としては平均粒
径が３μｍで比重が５．０２ｇ／ｃｍ3の赤色蛍光体粉
末［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ］を用い、熱膨張性マイ
クロカプセルとしてはアクリロニトリル系樹脂を殻壁と
し低沸点炭化水素を内包した平均粒径５〜８μｍのマイ
クロカプセルを用いた。またビヒクルとしてはα−テル
ピネオール／エチルセルロースの重量比が９５／５の混
合物を用いた。上記蛍光体ペーストを、１インチ角のベ
タスクリーン版を用いて２インチ角のソーダライムガラ
ス基板の上面中央にスクリーン印刷し、１５０℃で１０
分間乾燥した後、５２０℃で３０分間焼成し、マイクロ
カプセル中の低沸点炭化水素を蒸発させ、かつビヒクル
や熱膨張性マイクロカプセル等の樹脂成分を焼失させて
蛍光体膜を得た。この蛍光体膜を実施例１とした。
【００２３】＜実施例２＞蛍光体粉末を５ｇと、熱膨張
性マイクロカプセルを０．６ｇと、ビヒクルを４．２ｇ
とを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、
上記実施例１と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍
光体膜を実施例２とした。 ＜実施例３＞蛍光体粉末を２０ｇと、ＣａＦ2粉末を５
ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを
調製した。蛍光体粉末及びビヒクルは実施例１と同一の
物を用いた。ＣａＦ2粉末の平均粒径は３０μｍであっ
た。上記蛍光体ペーストを実施例１と同様に乾燥・焼成
してガラス基板上に蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例３とした。 ＜実施例４＞蛍光体粉末を９ｇと、ＣａＦ2粉末（平均
粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを８．５ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例４とした。
性マイクロカプセルを０．６ｇと、ビヒクルを４．２ｇ
とを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、
上記実施例１と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍
光体膜を実施例２とした。 ＜実施例３＞蛍光体粉末を２０ｇと、ＣａＦ2粉末を５
ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを
調製した。蛍光体粉末及びビヒクルは実施例１と同一の
物を用いた。ＣａＦ2粉末の平均粒径は３０μｍであっ
た。上記蛍光体ペーストを実施例１と同様に乾燥・焼成
してガラス基板上に蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例３とした。 ＜実施例４＞蛍光体粉末を９ｇと、ＣａＦ2粉末（平均
粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを８．５ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例４とした。
【００２４】＜実施例５＞蛍光体粉末を１０ｇと、Ｃａ
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１
０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除い
て、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。こ
の蛍光体膜を実施例５とした。 ＜実施例６＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例６とした。 ＜実施例７＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＭｇＦ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例７とした。
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１
０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除い
て、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。こ
の蛍光体膜を実施例５とした。 ＜実施例６＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例６とした。 ＜実施例７＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＭｇＦ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例７とした。
【００２５】＜実施例８＞蛍光体粉末を１０ｇと、Ｍｇ
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを
１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例８とした。 ＜実施例９＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平均
粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合し
て蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施例
３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実
施例９とした。 ＜実施例１０＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例１０とした。
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを
１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例８とした。 ＜実施例９＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平均
粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合し
て蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施例
３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実
施例９とした。 ＜実施例１０＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例１０とした。
【００２６】＜実施例１１＞蛍光体粉末を２０ｇと、Ｓ
ｉＯ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを
１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例１１とした。 ＜実施例１２＞蛍光体粉末を９ｇと、ＳｉＯ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを８．５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例１２とした。
ｉＯ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを
１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例１１とした。 ＜実施例１２＞蛍光体粉末を９ｇと、ＳｉＯ2粉末（平
均粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを８．５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例１２とした。
【００２７】＜実施例１３＞蛍光体粉末を１０ｇと、Ｓ
ｉＯ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを
１０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例１３とした。 ＜実施例１４＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＳｉＯ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇと
を混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上
記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例１４とした。
ｉＯ2粉末（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを
１０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除
いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例１３とした。 ＜実施例１４＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＳｉＯ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇと
を混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上
記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例１４とした。
【００２８】＜実施例１５＞蛍光体粉末を１０ｇと、Ｓ
ｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）
を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合して蛍光体ペース
トを調製した。上記ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末
はゾルゲル法により作製した。即ち、エチルシリケート
が３４．８重量％、エチルアルコールが５０重量％、塩
酸（濃度０．３％）が６重量％、イソプロピルアルコー
ルが９．２重量％の溶液５０ｇ中に実施例３と同一のＣ
ａＦ2粉末を１０ｇ添加し、室温で３０分間撹拌した後
に、濾紙を用いて濾過した。この濾過した粉末を１５０
℃で３０分間乾燥後、６００℃で１時間焼成することに
よって、ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末を得た。こ
のＳｉＯ2膜の厚さは１μｍであった。上記蛍光体ペー
ストを実施例１と同様に乾燥・焼成してガラス基板上に
蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実施例１５とし
た。 ＜実施例１６＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＳｉＯ2膜で被
覆されたＣａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇ
と、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調
製したことを除いて、実施例１５と同様にして蛍光体膜
を形成した。この蛍光体膜を実施例１６とした。
ｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）
を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合して蛍光体ペース
トを調製した。上記ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末
はゾルゲル法により作製した。即ち、エチルシリケート
が３４．８重量％、エチルアルコールが５０重量％、塩
酸（濃度０．３％）が６重量％、イソプロピルアルコー
ルが９．２重量％の溶液５０ｇ中に実施例３と同一のＣ
ａＦ2粉末を１０ｇ添加し、室温で３０分間撹拌した後
に、濾紙を用いて濾過した。この濾過した粉末を１５０
℃で３０分間乾燥後、６００℃で１時間焼成することに
よって、ＳｉＯ2膜で被覆されたＣａＦ2粉末を得た。こ
のＳｉＯ2膜の厚さは１μｍであった。上記蛍光体ペー
ストを実施例１と同様に乾燥・焼成してガラス基板上に
蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実施例１５とし
た。 ＜実施例１６＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＳｉＯ2膜で被
覆されたＣａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇ
と、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調
製したことを除いて、実施例１５と同様にして蛍光体膜
を形成した。この蛍光体膜を実施例１６とした。
【００２９】＜実施例１７＞蛍光体粉末を２０ｇと、Ｃ
ａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ、比重３．０ｇ／ｃｍ3）
を５ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペース
トを調製した。蛍光体粉末として、平均粒径が３．６μ
ｍ、比重４．２ｇ／ｃｍ3の緑色蛍光体粉末［Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ］を用い、ビヒクルとして、α−テルピネオ
ール／エチルセルロースの重量比が９５／５の混合物を
用いた。上記蛍光体ペーストを１インチ角のベタスクリ
ーン版を用いて、幅１インチ、長さ２インチ、厚さ０．
７ｍｍのアルミナ基板の上面中央にスクリーン印刷し、
１５０℃で１０分間乾燥した。次に５２０℃で３０分間
焼成して、ビヒクル中の樹脂成分を焼失させて蛍光体膜
を得た。この蛍光体膜を実施例１７とした。
ａＦ2粉末（平均粒径３０μｍ、比重３．０ｇ／ｃｍ3）
を５ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混合して蛍光体ペース
トを調製した。蛍光体粉末として、平均粒径が３．６μ
ｍ、比重４．２ｇ／ｃｍ3の緑色蛍光体粉末［Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ］を用い、ビヒクルとして、α−テルピネオ
ール／エチルセルロースの重量比が９５／５の混合物を
用いた。上記蛍光体ペーストを１インチ角のベタスクリ
ーン版を用いて、幅１インチ、長さ２インチ、厚さ０．
７ｍｍのアルミナ基板の上面中央にスクリーン印刷し、
１５０℃で１０分間乾燥した。次に５２０℃で３０分間
焼成して、ビヒクル中の樹脂成分を焼失させて蛍光体膜
を得た。この蛍光体膜を実施例１７とした。
【００３０】＜実施例１８＞蛍光体粉末を９ｇと、Ｃａ
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを
８．５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成し
た。この蛍光体膜を実施例１８とした。 ＜実施例１９＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを
混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記
実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例１９とした。 ＜実施例２０＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇと
を混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上
記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍
光体膜を実施例２０とした。 ＜実施例２１＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＭｇＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを
混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記
実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例２１とした。
Ｆ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１ｇと、ビヒクルを
８．５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成し
た。この蛍光体膜を実施例１８とした。 ＜実施例１９＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを
混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記
実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例１９とした。 ＜実施例２０＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＣａＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇと
を混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上
記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍
光体膜を実施例２０とした。 ＜実施例２１＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＭｇＦ2粉末
（平均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを
混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記
実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光
体膜を実施例２１とした。
【００３１】＜実施例２２＞蛍光体粉末を１０ｇと、Ｍ
ｇＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクル
を１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成し
た。この蛍光体膜を実施例２２とした。 ＜実施例２３＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例２３とした。 ＜実施例２４＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体
膜を実施例２４とした。
ｇＦ2粉末（平均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクル
を１５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成し
た。この蛍光体膜を実施例２２とした。 ＜実施例２３＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を５ｇと、ビヒクルを１０ｇとを混合
して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実施
例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜
を実施例２３とした。 ＜実施例２４＞蛍光体粉末を１０ｇと、ＬｉＦ粉末（平
均粒径３０μｍ）を１０ｇと、ビヒクルを１５ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、上記実
施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体
膜を実施例２４とした。
【００３２】＜実施例２５＞紫外線透過粉末を用いず
に、蛍光体粉末を５ｇと熱膨張性マイクロカプセルを
０．３ｇと、ビヒクルを４．２ｇとを混合して蛍光体ペ
ーストを調製したことを除いて、実施例１７と同様にし
て蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実施例２５とし
た。 ＜実施例２６＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を５ｇと熱膨張性マイクロカプセルを０．６ｇと、ビヒ
クルを４．２ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製した
ことを除いて、実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成
した。この蛍光体膜を実施例２６とした。
に、蛍光体粉末を５ｇと熱膨張性マイクロカプセルを
０．３ｇと、ビヒクルを４．２ｇとを混合して蛍光体ペ
ーストを調製したことを除いて、実施例１７と同様にし
て蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を実施例２５とし
た。 ＜実施例２６＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を５ｇと熱膨張性マイクロカプセルを０．６ｇと、ビヒ
クルを４．２ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製した
ことを除いて、実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成
した。この蛍光体膜を実施例２６とした。
【００３３】＜実施例２７＞紫外線透過粉末を用いず
に、蛍光体粉末を３．７ｇとアクリル樹脂微粉末（平均
粒径３μｍ：綜研化学社製）を０．１ｇと、ビヒクルを
３．５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例２７とした。 ＜実施例２８＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を２．９ｇとアクリル樹脂微粉末（平均粒径３μｍ：綜
研化学社製）を０．３ｇと、ビヒクルを３．０ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、実施例
１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例２８とした。 ＜実施例２９＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を２．１ｇとアクリル樹脂微粉末（平均粒径３μｍ：綜
研化学社製）を０．５ｇと、ビヒクルを２．０ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、実施例
１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例２９とした。
に、蛍光体粉末を３．７ｇとアクリル樹脂微粉末（平均
粒径３μｍ：綜研化学社製）を０．１ｇと、ビヒクルを
３．５ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したことを
除いて、実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。
この蛍光体膜を実施例２７とした。 ＜実施例２８＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を２．９ｇとアクリル樹脂微粉末（平均粒径３μｍ：綜
研化学社製）を０．３ｇと、ビヒクルを３．０ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、実施例
１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例２８とした。 ＜実施例２９＞紫外線透過粉末を用いずに、蛍光体粉末
を２．１ｇとアクリル樹脂微粉末（平均粒径３μｍ：綜
研化学社製）を０．５ｇと、ビヒクルを２．０ｇとを混
合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、実施例
１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この蛍光体膜を
実施例２９とした。
【００３４】＜比較例１＞蛍光体粉末を２０ｇと、ビヒ
クルを１０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したこ
とを除いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成
した。この蛍光体膜を比較例１とした。 ＜比較例２＞蛍光体粉末を２０ｇと、ビヒクルを１０ｇ
とを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、
上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この
蛍光体膜を比較例２とした。
クルを１０ｇとを混合して蛍光体ペーストを調製したこ
とを除いて、上記実施例３と同様にして蛍光体膜を形成
した。この蛍光体膜を比較例１とした。 ＜比較例２＞蛍光体粉末を２０ｇと、ビヒクルを１０ｇ
とを混合して蛍光体ペーストを調製したことを除いて、
上記実施例１７と同様にして蛍光体膜を形成した。この
蛍光体膜を比較例２とした。
【００３５】＜比較試験１及び評価＞上記実施例１〜１
６及び比較例１の蛍光体粉末と、紫外線透過粉末又は熱
膨張性マイクロカプセルと、ビヒクルの添加量を表１に
示した。また実施例１、２及び比較例１の蛍光体膜の空
隙率を以下のようにして求め、その値を表１に示した。
先ず蛍光体膜の面積、膜厚及び焼成後重量を測定し、蛍
光体膜の密度を求めた。次にこの蛍光体膜の密度を蛍光
体粒子の密度で除した値をＷとし、１から上記Ｗを引い
た値に１００を乗じた値を空隙率とした。
６及び比較例１の蛍光体粉末と、紫外線透過粉末又は熱
膨張性マイクロカプセルと、ビヒクルの添加量を表１に
示した。また実施例１、２及び比較例１の蛍光体膜の空
隙率を以下のようにして求め、その値を表１に示した。
先ず蛍光体膜の面積、膜厚及び焼成後重量を測定し、蛍
光体膜の密度を求めた。次にこの蛍光体膜の密度を蛍光
体粒子の密度で除した値をＷとし、１から上記Ｗを引い
た値に１００を乗じた値を空隙率とした。
【００３６】また実施例３〜１６の蛍光体膜の各粒子間
の空隙及び紫外線透過粒子の占める割合を以下のように
して求め、その値を表１に示した。先ず蛍光体膜の面
積、膜厚及び焼成後重量を測定し、蛍光体粉末と紫外線
透過粉末との混合比より蛍光体膜に含まれる紫外線透過
粒子の重量を求め、この紫外線透過粒子の重量を上記焼
成後重量から引いた値をＸとし、このＸを蛍光体膜の体
積で除してＹを求めた。次に上記Ｙを蛍光体粒子の密度
で除した値をＺとし、１から上記Ｚを引いた値に１００
を乗じた値を各粒子間の空隙及び紫外線透過粒子の占め
る割合とした。更に実施例１〜１６及び比較例１のガラ
ス基板（表面に蛍光体膜が形成されたガラス基板）を暗
室に入れ、上記蛍光体膜に低圧水銀灯による紫外線（波
長：２５４ｎｍ）を照射し、蛍光体膜の輝度を測定し
た。ここでは、蛍光体膜の膜厚の増加に対して輝度が飽
和に達したときの値を蛍光体膜の輝度として評価を行
い、かつ実施例１〜１６の輝度は比較例１の輝度を１０
０としたときの値である。これらの値を表１に示した。
の空隙及び紫外線透過粒子の占める割合を以下のように
して求め、その値を表１に示した。先ず蛍光体膜の面
積、膜厚及び焼成後重量を測定し、蛍光体粉末と紫外線
透過粉末との混合比より蛍光体膜に含まれる紫外線透過
粒子の重量を求め、この紫外線透過粒子の重量を上記焼
成後重量から引いた値をＸとし、このＸを蛍光体膜の体
積で除してＹを求めた。次に上記Ｙを蛍光体粒子の密度
で除した値をＺとし、１から上記Ｚを引いた値に１００
を乗じた値を各粒子間の空隙及び紫外線透過粒子の占め
る割合とした。更に実施例１〜１６及び比較例１のガラ
ス基板（表面に蛍光体膜が形成されたガラス基板）を暗
室に入れ、上記蛍光体膜に低圧水銀灯による紫外線（波
長：２５４ｎｍ）を照射し、蛍光体膜の輝度を測定し
た。ここでは、蛍光体膜の膜厚の増加に対して輝度が飽
和に達したときの値を蛍光体膜の輝度として評価を行
い、かつ実施例１〜１６の輝度は比較例１の輝度を１０
０としたときの値である。これらの値を表１に示した。
【００３７】
【表１】
【００３８】上記表１から明らかなように、実施例１〜
１６の蛍光体膜は比較例１の蛍光体膜と比較して輝度が
３〜１２％向上した。
１６の蛍光体膜は比較例１の蛍光体膜と比較して輝度が
３〜１２％向上した。
【００３９】＜比較試験２及び評価＞上記実施例１７〜
２９及び比較例２の蛍光体粉末と、紫外線透過粉末，樹
脂ビーズ又は熱膨張性マイクロカプセルと、ビヒクルの
添加量と、蛍光体膜の各粒子間の空隙率又は紫外線透過
粒子の占める割合を表２に示した。また実施例１７〜２
９及び比較例２の輝度を次のようにして測定した。先ず
蛍光体膜が形成されたアルミナ基板を真空チャンバに入
れ、次に真空ポンプにて２×１０-2Torr以下に減圧し
た。更に上記蛍光体膜にエキシマランプ（ウシオ電機
製：ＵＥＲ２０Ｈ１４６）による真空紫外線（波長：１
４６ｎｍ）を照射することにより、蛍光体膜の輝度を測
定した。ここでは、蛍光体膜の膜厚の増加に対して輝度
が飽和したときの値を蛍光体膜の輝度として評価を行
い、かつ実施例１７〜２９の輝度は比較例２の輝度を１
００としたときの値である。これらの値を表２に示し
た。
２９及び比較例２の蛍光体粉末と、紫外線透過粉末，樹
脂ビーズ又は熱膨張性マイクロカプセルと、ビヒクルの
添加量と、蛍光体膜の各粒子間の空隙率又は紫外線透過
粒子の占める割合を表２に示した。また実施例１７〜２
９及び比較例２の輝度を次のようにして測定した。先ず
蛍光体膜が形成されたアルミナ基板を真空チャンバに入
れ、次に真空ポンプにて２×１０-2Torr以下に減圧し
た。更に上記蛍光体膜にエキシマランプ（ウシオ電機
製：ＵＥＲ２０Ｈ１４６）による真空紫外線（波長：１
４６ｎｍ）を照射することにより、蛍光体膜の輝度を測
定した。ここでは、蛍光体膜の膜厚の増加に対して輝度
が飽和したときの値を蛍光体膜の輝度として評価を行
い、かつ実施例１７〜２９の輝度は比較例２の輝度を１
００としたときの値である。これらの値を表２に示し
た。
【００４０】
【表２】
【００４１】上記表２から明らかなように、実施例１７
〜２９の蛍光体膜は比較例２の蛍光体膜と比較して輝度
が２〜２０％向上した。
〜２９の蛍光体膜は比較例２の蛍光体膜と比較して輝度
が２〜２０％向上した。
【００４２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、蛍
光体膜を多数の蛍光体粒子とこれらの蛍光体粒子間に形
成された空隙とにより構成し、蛍光体膜を全て蛍光体粒
子で隙間無く充填した場合を１００％としたときに、空
隙を蛍光体膜中に４０〜８０％の割合で形成することに
より、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体膜表
面の蛍光体粒子だけでなく、蛍光体膜中の蛍光体粒子に
も照射される。この結果、蛍光体膜中の蛍光体粒子も発
光に寄与できるので、高い輝度の蛍光体膜が得られる。
また蛍光体膜中の空隙が多い分、高価な蛍光体粉末の使
用量を減らすことができるので、製造コストを低減でき
る。
光体膜を多数の蛍光体粒子とこれらの蛍光体粒子間に形
成された空隙とにより構成し、蛍光体膜を全て蛍光体粒
子で隙間無く充填した場合を１００％としたときに、空
隙を蛍光体膜中に４０〜８０％の割合で形成することに
より、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体膜表
面の蛍光体粒子だけでなく、蛍光体膜中の蛍光体粒子に
も照射される。この結果、蛍光体膜中の蛍光体粒子も発
光に寄与できるので、高い輝度の蛍光体膜が得られる。
また蛍光体膜中の空隙が多い分、高価な蛍光体粉末の使
用量を減らすことができるので、製造コストを低減でき
る。
【００４３】また蛍光体膜を多数の蛍光体粒子とこれら
の蛍光体粒子間に配置された多数の紫外線透過粒子とに
より構成し、蛍光体膜を全て蛍光体粒子で隙間無く充填
した場合を１００％としたときに、各粒子間の空隙及び
紫外線透過粒子の蛍光体膜中に占める割合を４０〜８０
％とすれば、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光
体膜表面の蛍光体粒子だけでなく、紫外線透過粒子中を
透過して蛍光体膜中の蛍光体粒子にも照射される。この
結果、蛍光体膜中の蛍光体粒子も発光に寄与できるの
で、高い輝度の蛍光体膜が得られる。また高価な蛍光体
粉末のうちの所定量を比較的安価な紫外線透過粉末に置
き換えることができるので、製造コストを低減できる。
の蛍光体粒子間に配置された多数の紫外線透過粒子とに
より構成し、蛍光体膜を全て蛍光体粒子で隙間無く充填
した場合を１００％としたときに、各粒子間の空隙及び
紫外線透過粒子の蛍光体膜中に占める割合を４０〜８０
％とすれば、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光
体膜表面の蛍光体粒子だけでなく、紫外線透過粒子中を
透過して蛍光体膜中の蛍光体粒子にも照射される。この
結果、蛍光体膜中の蛍光体粒子も発光に寄与できるの
で、高い輝度の蛍光体膜が得られる。また高価な蛍光体
粉末のうちの所定量を比較的安価な紫外線透過粉末に置
き換えることができるので、製造コストを低減できる。
【００４４】また紫外線透過粒子としてフッ化物粒子又
はＳｉＯ2粒子を用いれば、更にフッ化物粒子としてＣ
ａＦ2，ＭｇＦ2又はＬｉＦのいずれかを用いれば、上記
効果を顕著に奏することができる。またＳｉＯ2膜によ
り被覆されたフッ化物粒子を用いれば、このフッ化物粒
子のプラズマ雰囲気中での耐久性を向上できる。更に蛍
光体膜を、所定量の蛍光体粉末と、紫外線透過粒子，熱
膨張性マクロカプセル又は樹脂微粉末と、樹脂及び溶媒
とを含むペーストにより形成すれば、蛍光体膜を形成す
る作業性を向上でき、製造コストを更に低減できる。特
に上記蛍光体膜をＰＤＰ等の蛍光表示装置の基板上のリ
ブ間のセル内面に形成すれば、ＰＤＰ等の蛍光表示装置
を容易かつ簡便に作製でき、関連の技術分野において大
いに貢献するものである。
はＳｉＯ2粒子を用いれば、更にフッ化物粒子としてＣ
ａＦ2，ＭｇＦ2又はＬｉＦのいずれかを用いれば、上記
効果を顕著に奏することができる。またＳｉＯ2膜によ
り被覆されたフッ化物粒子を用いれば、このフッ化物粒
子のプラズマ雰囲気中での耐久性を向上できる。更に蛍
光体膜を、所定量の蛍光体粉末と、紫外線透過粒子，熱
膨張性マクロカプセル又は樹脂微粉末と、樹脂及び溶媒
とを含むペーストにより形成すれば、蛍光体膜を形成す
る作業性を向上でき、製造コストを更に低減できる。特
に上記蛍光体膜をＰＤＰ等の蛍光表示装置の基板上のリ
ブ間のセル内面に形成すれば、ＰＤＰ等の蛍光表示装置
を容易かつ簡便に作製でき、関連の技術分野において大
いに貢献するものである。
【図１】本発明第１実施形態の蛍光体膜構造を示すＰＤ
Ｐの要部断面構成図。
Ｐの要部断面構成図。
【図２】本発明の第２実施形態の蛍光体膜構造を示す図
１に対応する断面構成図。
１に対応する断面構成図。
【図３】従来の蛍光体膜構造を示す図１に対応する断面
構成図。
構成図。
１６，３６ 蛍光体膜 １６ａ，３６ａ 蛍光体粒子 １６ｂ，３６ｃ 空隙 ３６ｂ 紫外線透過粒子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒光 祥郎 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4H001 CA01 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA30 XA39 XA56 XA64 YA25 YA63 5C040 GG01 GG07 GG09
Claims (9)
- 【請求項１】 蛍光体膜(16)が多数の蛍光体粒子(16a)
とこれらの蛍光体粒子(16a)間に形成された空隙(16b)か
らなり、前記蛍光体膜(16a)が全て前記蛍光体粒子(16a)
で隙間無く充填された場合を１００％としたときに、前
記空隙(16b)が前記蛍光体膜(16)中に４０〜８０％の割
合で形成された蛍光体膜構造。 - 【請求項２】 蛍光体膜(36)が多数の蛍光体粒子(36a)
とこれらの蛍光体粒子(36a)間に配置された多数の紫外
線透過粒子(36b)からなり、前記蛍光体膜(36)が全て前
記蛍光体粒子(36a)で隙間無く充填された場合を１００
％としたときに、前記各粒子(36a,36b)間の空隙(36c)及
び前記紫外線透過粒子(36b)の前記蛍光体膜(36)中に占
める割合が４０〜８０％である蛍光体膜構造。 - 【請求項３】 紫外線透過粒子がフッ化物粒子又はＳｉ
Ｏ2粒子である請求項２記載の蛍光体膜構造。 - 【請求項４】 紫外線透過粒子がＳｉＯ2膜により被覆
されたフッ化物粒子である請求項２記載の蛍光体膜構
造。 - 【請求項５】 フッ化物粒子がＣａＦ2，ＭｇＦ2又はＬ
ｉＦのいずれかである請求項３又は４記載の蛍光体膜構
造。 - 【請求項６】 ０．１〜１６重量％の熱膨張性マイクロ
カプセルと、１５〜８０重量％の蛍光体粒子と、８０〜
２０重量％の樹脂及び溶媒とを含むことを特徴とする、
請求項１記載の蛍光体膜を形成するためのペースト。 - 【請求項７】 溶媒に対して難溶若しくは不溶であっ
て、２００〜５００℃で焼失し、かつ平均粒径が０．１
〜２０μｍである０．２〜１７重量％の樹脂微粉末と、
１０〜８０重量％の蛍光体粉末と、８０〜２０重量％の
溶媒及びこの溶媒に可溶な樹脂とを含むことを特徴とす
る、請求項１記載の蛍光体膜を形成するためのペース
ト。 - 【請求項８】 ０．１〜５０重量％の紫外線透過粒子
と、１０〜８０重量％の蛍光体粉末と、８０〜２０重量
％の樹脂及び溶媒とを含むことを特徴とする、請求項２
ないし５いずれか記載の蛍光体膜を形成するためのペー
スト。 - 【請求項９】 請求項１ないし５いずれか記載の蛍光体
膜(16,36)が基板(11)上のリブ(14)間のセル(15)内面に
形成されたプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13976599A JP2000243302A (ja) | 1998-05-20 | 1999-05-20 | 蛍光体膜構造、この蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜を用いたプラズマディスプレイパネル |
| KR1019990051081A KR20000047666A (ko) | 1998-12-25 | 1999-11-17 | 형광체막구조, 이 형광체막을 형성하기 위한 페이스트 및이 형광체막을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널 |
| TW088120277A TW446978B (en) | 1998-05-20 | 1999-11-19 | Phosphor film structure, paste for forming phosphor film and plasma display panel using phosphor film |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13787598 | 1998-05-20 | ||
| JP10-137875 | 1998-12-25 | ||
| JP36940498 | 1998-12-25 | ||
| JP10-369404 | 1998-12-25 | ||
| JP13976599A JP2000243302A (ja) | 1998-05-20 | 1999-05-20 | 蛍光体膜構造、この蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜を用いたプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000243302A true JP2000243302A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=27317548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13976599A Pending JP2000243302A (ja) | 1998-05-20 | 1999-05-20 | 蛍光体膜構造、この蛍光体膜を形成するためのペースト及びこの蛍光体膜を用いたプラズマディスプレイパネル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000243302A (ja) |
| TW (1) | TW446978B (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1215266A2 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | High-luminance phosphor layer |
| JP2006117876A (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 蛍光体ペースト及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007161904A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Daiden Co Ltd | 蛍光体材料、蛍光体ペースト、蛍光体膜及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007177086A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kasei Optonix Co Ltd | 発光組成物、それを用いた蛍光体ペースト組成物およびプラズマディスプレイパネル |
| WO2009061032A1 (en) * | 2007-11-05 | 2009-05-14 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel |
| US8120237B2 (en) | 2006-03-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Photoluminescent composition and light source device |
| WO2013021548A1 (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-14 | パナソニック株式会社 | 蛍光体および蛍光体ペースト |
| KR20220100648A (ko) * | 2020-06-08 | 2022-07-15 | 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 | 형광판, 파장 변환 부재, 및, 광원 장치 |
-
1999
- 1999-05-20 JP JP13976599A patent/JP2000243302A/ja active Pending
- 1999-11-19 TW TW088120277A patent/TW446978B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100818573B1 (ko) * | 2000-12-13 | 2008-04-01 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 고휘도 형광체층 |
| JP2002180042A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高輝度蛍光体層 |
| EP1215266A3 (en) * | 2000-12-13 | 2004-01-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | High-luminance phosphor layer |
| US6922013B2 (en) | 2000-12-13 | 2005-07-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | High voidage phosphor layer and vacuum UV excited light emitting element |
| EP1215266A2 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | High-luminance phosphor layer |
| JP2006117876A (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 蛍光体ペースト及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007161904A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Daiden Co Ltd | 蛍光体材料、蛍光体ペースト、蛍光体膜及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2007177086A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kasei Optonix Co Ltd | 発光組成物、それを用いた蛍光体ペースト組成物およびプラズマディスプレイパネル |
| US8120237B2 (en) | 2006-03-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Photoluminescent composition and light source device |
| WO2009061032A1 (en) * | 2007-11-05 | 2009-05-14 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel |
| US8350473B2 (en) | 2007-11-05 | 2013-01-08 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel having a phosphor layer including a phosphor material and an additive material |
| WO2013021548A1 (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-14 | パナソニック株式会社 | 蛍光体および蛍光体ペースト |
| KR20220100648A (ko) * | 2020-06-08 | 2022-07-15 | 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 | 형광판, 파장 변환 부재, 및, 광원 장치 |
| KR102665901B1 (ko) | 2020-06-08 | 2024-05-13 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 형광판, 파장 변환 부재, 및, 광원 장치 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW446978B (en) | 2001-07-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040929 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060130 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060808 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061006 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070403 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070531 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070626 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |