JP2000294130A - 蛍光体層の形成方法及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents
蛍光体層の形成方法及びプラズマディスプレイパネルInfo
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- JP2000294130A JP2000294130A JP10132999A JP10132999A JP2000294130A JP 2000294130 A JP2000294130 A JP 2000294130A JP 10132999 A JP10132999 A JP 10132999A JP 10132999 A JP10132999 A JP 10132999A JP 2000294130 A JP2000294130 A JP 2000294130A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 輝度の低下及び色度の変化を少ない蛍光体層
を形成することを課題とする。 【解決手段】 基板上に、蛍光体とバインダとを含む蛍
光体層材料を印刷又は塗布した後、不活性雰囲気下で焼
成し、熱分解させることにより蛍光体層を形成すること
を特徴とする蛍光体層の形成方法により上記課題を解決
する。
を形成することを課題とする。 【解決手段】 基板上に、蛍光体とバインダとを含む蛍
光体層材料を印刷又は塗布した後、不活性雰囲気下で焼
成し、熱分解させることにより蛍光体層を形成すること
を特徴とする蛍光体層の形成方法により上記課題を解決
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰ）等に用いる蛍光体層の形成
方法及びその蛍光体層を備えたＰＤＰに関する。
レイパネル（以下、ＰＤＰ）等に用いる蛍光体層の形成
方法及びその蛍光体層を備えたＰＤＰに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰは、通常基板上に複数のストライ
プ状の隔壁を備え、隔壁間に蛍光体層を備えている。蛍
光体層は、一般的に、バインダを溶解した溶液（ビヒク
ルともいう）中に、蛍光体を分散させたペースト（蛍光
体層材料）を、スクリーン印刷法のような塗布法で隔壁
間に充填し、乾燥及び大気中で焼成して熱分解させるこ
とにより形成されている。焼成時にバインダは燃焼し
て、二酸化炭素、水蒸気等に酸化分解される。バインダ
としては、印刷特性が良好なセルロース系の樹脂が一般
に使用されている。
プ状の隔壁を備え、隔壁間に蛍光体層を備えている。蛍
光体層は、一般的に、バインダを溶解した溶液（ビヒク
ルともいう）中に、蛍光体を分散させたペースト（蛍光
体層材料）を、スクリーン印刷法のような塗布法で隔壁
間に充填し、乾燥及び大気中で焼成して熱分解させるこ
とにより形成されている。焼成時にバインダは燃焼し
て、二酸化炭素、水蒸気等に酸化分解される。バインダ
としては、印刷特性が良好なセルロース系の樹脂が一般
に使用されている。
【０００３】また、焼成温度が高いと、ＰＤＰの構成部
材に悪影響を与えるため、できるだけ低温で焼成を行う
ことが望まれている。この観点において、セルロース系
の樹脂は、低温で焼成を行うと炭素や樹脂に由来する有
機物等の残渣が発生することが知られている。そのた
め、焼成を酸化性雰囲気下で行うことも試みられてい
る。
材に悪影響を与えるため、できるだけ低温で焼成を行う
ことが望まれている。この観点において、セルロース系
の樹脂は、低温で焼成を行うと炭素や樹脂に由来する有
機物等の残渣が発生することが知られている。そのた
め、焼成を酸化性雰囲気下で行うことも試みられてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ＰＤＰを構成する蛍光
体層に含まれる蛍光体は、従来の焼成工程により、輝度
が劣化したり、色度が変化する等の問題があった。ま
た、このような問題は蛍光灯の蛍光体層においても発生
していた。そこで本発明は、このような問題の発生を抑
制しうる蛍光体層の形成方法を提供することを目的とす
る。
体層に含まれる蛍光体は、従来の焼成工程により、輝度
が劣化したり、色度が変化する等の問題があった。ま
た、このような問題は蛍光灯の蛍光体層においても発生
していた。そこで本発明は、このような問題の発生を抑
制しうる蛍光体層の形成方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の発明者らは、蛍
光体層材料の焼成条件を検討した結果、次のような事実
を見出した。即ち、バインダは焼成時に、二酸化炭素や
水蒸気のようなガスを発生して酸化分解する。この二酸
化炭素や水蒸気は、蛍光体、特に、青色や緑色のような
赤色以外の蛍光体の輝度を劣化させたり、色度を変化さ
せるように作用することを見出した。そこで、本発明者
らは、従来の酸化性雰囲気下とは異なり、不活性雰囲気
下で焼成することにより、二酸化炭素や水蒸気の発生が
抑制され、その結果、輝度の劣化及び色度の変化が少な
い蛍光体層の製造方法を見出し本発明に至った。
光体層材料の焼成条件を検討した結果、次のような事実
を見出した。即ち、バインダは焼成時に、二酸化炭素や
水蒸気のようなガスを発生して酸化分解する。この二酸
化炭素や水蒸気は、蛍光体、特に、青色や緑色のような
赤色以外の蛍光体の輝度を劣化させたり、色度を変化さ
せるように作用することを見出した。そこで、本発明者
らは、従来の酸化性雰囲気下とは異なり、不活性雰囲気
下で焼成することにより、二酸化炭素や水蒸気の発生が
抑制され、その結果、輝度の劣化及び色度の変化が少な
い蛍光体層の製造方法を見出し本発明に至った。
【０００６】かくして本発明によれば、基板上に、蛍光
体とバインダとを含む蛍光体層材料を印刷又は塗布した
後、不活性雰囲気下で焼成し、熱分解させることにより
蛍光体層を形成することを特徴とする蛍光体層の形成方
法が提供される。更に、本発明によれば、上記方法によ
り形成された蛍光体層を有するプラズマディスプレイパ
ネルが提供される。
体とバインダとを含む蛍光体層材料を印刷又は塗布した
後、不活性雰囲気下で焼成し、熱分解させることにより
蛍光体層を形成することを特徴とする蛍光体層の形成方
法が提供される。更に、本発明によれば、上記方法によ
り形成された蛍光体層を有するプラズマディスプレイパ
ネルが提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を説明する。
【０００８】本発明の製造方法は、蛍光体とバインダと
を含む蛍光体層材料を不活性雰囲気下で焼成することを
特徴の一つとする。不活性雰囲気下で焼成することによ
り、バインダが酸化分解する際に発生するガスの量を減
らすことができるので、蛍光体の劣化を抑制することが
できる。その結果、蛍光体が本来有する輝度及び色度を
最大限引き出すことが可能となる。まず、蛍光体層材料
は、蛍光体とバインダとを含む。
を含む蛍光体層材料を不活性雰囲気下で焼成することを
特徴の一つとする。不活性雰囲気下で焼成することによ
り、バインダが酸化分解する際に発生するガスの量を減
らすことができるので、蛍光体の劣化を抑制することが
できる。その結果、蛍光体が本来有する輝度及び色度を
最大限引き出すことが可能となる。まず、蛍光体層材料
は、蛍光体とバインダとを含む。
【０００９】蛍光体としては、特に限定されることな
く、公知の蛍光体をいずれも使用することができる。即
ち、蛍光体は、赤色、緑色及び青色の光を発する蛍光体
のいずれも使用することができる。赤色の蛍光体として
は、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）Ｂ
Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍ
ｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋ＩｎＯ等が挙げられる。
く、公知の蛍光体をいずれも使用することができる。即
ち、蛍光体は、赤色、緑色及び青色の光を発する蛍光体
のいずれも使用することができる。赤色の蛍光体として
は、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）Ｂ
Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍ
ｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋ＩｎＯ等が挙げられる。
【００１０】緑色の蛍光体としては、Ｚｎ2ＧｅＯ2：Ｍ
ｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｌａ
ＰＯ4：Ｔｂ、ＺｎＳ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａ
ｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、（ＺｎＣｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、
Ｚｎ2ＳｉＯ4：（Ｍｎ，Ａｓ）、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｃｅ、
Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ
等が挙げられる。青色の蛍光体としては、Ｓｒ5（Ｐ
Ｏ4）3ＣＩ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭ
ｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ等が挙げられ
る。
ｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｌａ
ＰＯ4：Ｔｂ、ＺｎＳ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａ
ｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、（ＺｎＣｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、
Ｚｎ2ＳｉＯ4：（Ｍｎ，Ａｓ）、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｃｅ、
Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ
等が挙げられる。青色の蛍光体としては、Ｓｒ5（Ｐ
Ｏ4）3ＣＩ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭ
ｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ等が挙げられ
る。
【００１１】上記蛍光体の中でも、Ｂａ、Ａｌ及びＭｇ
を含むＢＡＭ系の青色蛍光体、ジンクシリケート系ある
いはジンクシリケート系とＢＡＭ系の混合物の緑色蛍光
体を使用した場合、特に蛍光体の劣化を抑制することが
できる。
を含むＢＡＭ系の青色蛍光体、ジンクシリケート系ある
いはジンクシリケート系とＢＡＭ系の混合物の緑色蛍光
体を使用した場合、特に蛍光体の劣化を抑制することが
できる。
【００１２】バインダとしては、特に限定されることな
く、公知のバインダをいずれも使用することができる。
バインダとしては、エチルセルロース、メチルセルロー
ス等のセルロース系樹脂、ポリメチルアクリレート、ポ
リエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
イソブチルアクリレート等のアクリル系樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート等
のメタクリル系樹脂等が挙げられる。これらバインダの
内、アクリル系樹脂又はメタクリル系樹脂を使用するこ
とが好ましい。この両樹脂は、解重合性（当該分野では
昇華性ともいう）を有しており、加熱することによりモ
ノマーに分解されるため、蛍光体を劣化させる二酸化炭
素や水蒸気のようなガスの量をより少なくすることがで
きるため好ましい。
く、公知のバインダをいずれも使用することができる。
バインダとしては、エチルセルロース、メチルセルロー
ス等のセルロース系樹脂、ポリメチルアクリレート、ポ
リエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
イソブチルアクリレート等のアクリル系樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート等
のメタクリル系樹脂等が挙げられる。これらバインダの
内、アクリル系樹脂又はメタクリル系樹脂を使用するこ
とが好ましい。この両樹脂は、解重合性（当該分野では
昇華性ともいう）を有しており、加熱することによりモ
ノマーに分解されるため、蛍光体を劣化させる二酸化炭
素や水蒸気のようなガスの量をより少なくすることがで
きるため好ましい。
【００１３】蛍光体とバインダの配合割合は、それらの
種類により異なるが、粘度が低下しても所定の形状を少
なくとも保持できる量以上であれば少なければ少ないほ
ど好ましい。バインダがより多い場合、蛍光体の充填率
が低下するので好ましくない。
種類により異なるが、粘度が低下しても所定の形状を少
なくとも保持できる量以上であれば少なければ少ないほ
ど好ましい。バインダがより多い場合、蛍光体の充填率
が低下するので好ましくない。
【００１４】次に、本発明において不活性雰囲気下と
は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の焼成時に、蛍光体を
劣化しがたいガスの雰囲気下が挙げられる。更に、この
不活性雰囲気とは、厳密な意味ではなく、大気中より酸
素の割合が少ない雰囲気も含まれる。この場合、酸素以
外の成分は、窒素、アルゴン、ヘリウム等である。この
内、バインダから発生するガスをより低減するために、
実質的に酸素を含まず、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
雰囲気下で行うことが好ましい。なお、酸素の含有量
は、蛍光体を劣化させるガスの発生を抑制する観点か
ら、できるだけ少ないことが好ましい。
は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の焼成時に、蛍光体を
劣化しがたいガスの雰囲気下が挙げられる。更に、この
不活性雰囲気とは、厳密な意味ではなく、大気中より酸
素の割合が少ない雰囲気も含まれる。この場合、酸素以
外の成分は、窒素、アルゴン、ヘリウム等である。この
内、バインダから発生するガスをより低減するために、
実質的に酸素を含まず、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
雰囲気下で行うことが好ましい。なお、酸素の含有量
は、蛍光体を劣化させるガスの発生を抑制する観点か
ら、できるだけ少ないことが好ましい。
【００１５】更に、焼成条件は、バインダの種類により
相違するが、通常３５０〜５００℃、３０分〜１時間行
うことが好ましい。また、バインダとして、アクリル系
樹脂、メタクリル系樹脂等の解重合性の樹脂を使用した
場合、３００〜４５０℃の比較的低温で焼成を行うこと
ができる。
相違するが、通常３５０〜５００℃、３０分〜１時間行
うことが好ましい。また、バインダとして、アクリル系
樹脂、メタクリル系樹脂等の解重合性の樹脂を使用した
場合、３００〜４５０℃の比較的低温で焼成を行うこと
ができる。
【００１６】上記不活性雰囲気下での焼成により、大部
分のバインダは除去されるが、特にセルロース系樹脂を
バインダとして使用した場合、カーボンを主成分とする
残渣が蛍光体層中に残存する恐れがある。このような残
渣は、蛍光体層を着色したり、該層の輝度や色度を低下
させる原因となるため、極力除去することが好ましい。
そのため本発明では、不活性雰囲気下で焼成した後、更
に酸化性雰囲気下で焼成することが好ましい。酸化性雰
囲気とは、大気中、酸素中、大気より酸素含有量が多い
雰囲気、水蒸気中等が挙げられる。焼成条件は、残渣の
量により異なるが、通常３５０〜５００℃、３０分〜１
時間行うことが好ましい。
分のバインダは除去されるが、特にセルロース系樹脂を
バインダとして使用した場合、カーボンを主成分とする
残渣が蛍光体層中に残存する恐れがある。このような残
渣は、蛍光体層を着色したり、該層の輝度や色度を低下
させる原因となるため、極力除去することが好ましい。
そのため本発明では、不活性雰囲気下で焼成した後、更
に酸化性雰囲気下で焼成することが好ましい。酸化性雰
囲気とは、大気中、酸素中、大気より酸素含有量が多い
雰囲気、水蒸気中等が挙げられる。焼成条件は、残渣の
量により異なるが、通常３５０〜５００℃、３０分〜１
時間行うことが好ましい。
【００１７】本発明の方法では、バインダに昇華性の樹
脂を使用し、不活性雰囲気下及び酸化性雰囲気下の焼成
を行うことが特に好ましい。これは、昇華性の樹脂を使
用することにより炭素のような残渣を極力減少させるこ
とができ、不活性雰囲気下で焼成することにより蛍光体
の輝度及び色度に悪影響を与えるガスの影響を大部分排
除することができ、その後酸化性雰囲気下で焼成するこ
とにより残渣もほぼ完全に除去することができるためで
ある。
脂を使用し、不活性雰囲気下及び酸化性雰囲気下の焼成
を行うことが特に好ましい。これは、昇華性の樹脂を使
用することにより炭素のような残渣を極力減少させるこ
とができ、不活性雰囲気下で焼成することにより蛍光体
の輝度及び色度に悪影響を与えるガスの影響を大部分排
除することができ、その後酸化性雰囲気下で焼成するこ
とにより残渣もほぼ完全に除去することができるためで
ある。
【００１８】本発明の方法を用いれば、ＰＤＰの蛍光体
層や蛍光灯の蛍光体層を形成することができる。この
内、ＰＤＰの蛍光体層の形成に使用することが好まし
い。ここで、ＰＤＰの構成は、特に限定されない。具体
的には、ＡＣ型及びＤＣ型のいずれのＰＤＰにも使用す
ることができ、反射型及び透過型のいずれのＰＤＰにも
使用することができる。以下、図１に示す３電極ＡＣ型
面放電ＰＤＰを例にとり、ＰＤＰの構成を簡単に説明す
る。ＰＤＰ２０は、前面基板と背面基板とから構成され
る。
層や蛍光灯の蛍光体層を形成することができる。この
内、ＰＤＰの蛍光体層の形成に使用することが好まし
い。ここで、ＰＤＰの構成は、特に限定されない。具体
的には、ＡＣ型及びＤＣ型のいずれのＰＤＰにも使用す
ることができ、反射型及び透過型のいずれのＰＤＰにも
使用することができる。以下、図１に示す３電極ＡＣ型
面放電ＰＤＰを例にとり、ＰＤＰの構成を簡単に説明す
る。ＰＤＰ２０は、前面基板と背面基板とから構成され
る。
【００１９】まず、前面基板は、一般的に、基板２７上
に形成された複数本のストライプ状の表示電極、表示電
極を覆うように形成された誘電体層２４、誘電体層２４
上に形成された保護層２９とからなる。基板２７は、特
に限定されず、ガラス基板、石英ガラス基板、シリコン
基板等が挙げられる。表示電極は、ＩＴＯのような透明
電極２５からなる。また、表示電極の抵抗を下げるため
に、透明電極２５上にバス電極（例えば、Ｃｒ／Ｃｕ／
Ｃｒの３層構造）２６を形成してもよい。
に形成された複数本のストライプ状の表示電極、表示電
極を覆うように形成された誘電体層２４、誘電体層２４
上に形成された保護層２９とからなる。基板２７は、特
に限定されず、ガラス基板、石英ガラス基板、シリコン
基板等が挙げられる。表示電極は、ＩＴＯのような透明
電極２５からなる。また、表示電極の抵抗を下げるため
に、透明電極２５上にバス電極（例えば、Ｃｒ／Ｃｕ／
Ｃｒの３層構造）２６を形成してもよい。
【００２０】誘電体層２４は、ＰＤＰに通常使用されて
いる材料から形成される。具体的には、低融点ガラスと
バインダとからなるペーストを基板上に塗布し、焼成す
ることにより形成することができる。保護層２９は、表
示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から
誘電体層２４を保護するために設けられる。保護層２９
は、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等からな
る。
いる材料から形成される。具体的には、低融点ガラスと
バインダとからなるペーストを基板上に塗布し、焼成す
ることにより形成することができる。保護層２９は、表
示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から
誘電体層２４を保護するために設けられる。保護層２９
は、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等からな
る。
【００２１】次に、背面基板は、一般的に、基板２３上
に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、
アドレス電極Ａを覆う誘電体層２８、隣接するアドレス
電極Ａ間で誘電体層２８上に形成された複数本のストラ
イプ状の隔壁２１、隔壁２１間に形成された蛍光体層２
２とからなる。
に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、
アドレス電極Ａを覆う誘電体層２８、隣接するアドレス
電極Ａ間で誘電体層２８上に形成された複数本のストラ
イプ状の隔壁２１、隔壁２１間に形成された蛍光体層２
２とからなる。
【００２２】基板２３及び誘電体層２８には、前記前面
基板を構成する基板２７及び誘電体層２４と同種類のも
のを使用することができる。アドレス電極Ａは、例え
ば、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ等の金属層や、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ
の３層構造からなる。隔壁２１は、低融点ガラスとバイ
ンダとからなるペーストを誘電体層２８上に塗布し、焼
成した後、サンドブラスト法で切削することにより形成
することができる。更に、バインダに感光性の樹脂を使
用した場合、所定のマスクを使用して露光及び現像した
後、焼成することにより形成することも可能である。
基板を構成する基板２７及び誘電体層２４と同種類のも
のを使用することができる。アドレス電極Ａは、例え
ば、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ等の金属層や、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ
の３層構造からなる。隔壁２１は、低融点ガラスとバイ
ンダとからなるペーストを誘電体層２８上に塗布し、焼
成した後、サンドブラスト法で切削することにより形成
することができる。更に、バインダに感光性の樹脂を使
用した場合、所定のマスクを使用して露光及び現像した
後、焼成することにより形成することも可能である。
【００２３】次に、隔壁２１間に蛍光体層２２が形成さ
れるが、本発明の方法は、この蛍光体層２２の形成に有
用である。即ち、蛍光体層２２は、蛍光体とバインダと
を含む蛍光体層材料を所定の位置（この場合は隔壁２１
間）に設置した後、蛍光体層材料を不活性雰囲気下で焼
成することにより形成される。
れるが、本発明の方法は、この蛍光体層２２の形成に有
用である。即ち、蛍光体層２２は、蛍光体とバインダと
を含む蛍光体層材料を所定の位置（この場合は隔壁２１
間）に設置した後、蛍光体層材料を不活性雰囲気下で焼
成することにより形成される。
【００２４】蛍光体層材料の設置方法は、例えば、溶剤
中にバインダが溶解された溶液中に蛍光体を分散させた
ペーストを、隔壁２１間に塗布することで設置すること
ができる。溶媒は、特に限定されず、テルピネオール、
ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、
ベンゼン、トルエン等が挙げられる。
中にバインダが溶解された溶液中に蛍光体を分散させた
ペーストを、隔壁２１間に塗布することで設置すること
ができる。溶媒は、特に限定されず、テルピネオール、
ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、
ベンゼン、トルエン等が挙げられる。
【００２５】また、蛍光体とバインダとを含むシート状
の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、
フォトリソ法で蛍光体層２２を形成する場合、色毎の当
該シートを基板上の表示領域(隔壁２１が設けられた領
域)全面に設けた後、露光、現像を行い、所定の色の隔
壁２１間に当該色の蛍光体層材料を設置することもでき
る。
の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、
フォトリソ法で蛍光体層２２を形成する場合、色毎の当
該シートを基板上の表示領域(隔壁２１が設けられた領
域)全面に設けた後、露光、現像を行い、所定の色の隔
壁２１間に当該色の蛍光体層材料を設置することもでき
る。
【００２６】上記前面基板と背面基板を、表示電極（２
５、２６）とアドレス電極Ａが直交するように、両電極
を内側にして対向させ、隔壁２１により囲まれた空間に
放電ガスを充填することによりＰＤＰ２０を得ることが
できる。
５、２６）とアドレス電極Ａが直交するように、両電極
を内側にして対向させ、隔壁２１により囲まれた空間に
放電ガスを充填することによりＰＤＰ２０を得ることが
できる。
【００２７】なお、このＰＤＰの構成は単なる例示であ
り、本発明の方法により製造できるＰＤＰはこの構成に
限定されない。
り、本発明の方法により製造できるＰＤＰはこの構成に
限定されない。
【００２８】
【実施例】実施例１ 青色蛍光体ＦＪ−Ｂ１（化成オプトニクス社製）を、以
下に示す３種類の組成のビークルに分散させることによ
りペーストを作製した。蛍光体の配合割合は、ビーク
ル：蛍光体＝７０：３０とした。
下に示す３種類の組成のビークルに分散させることによ
りペーストを作製した。蛍光体の配合割合は、ビーク
ル：蛍光体＝７０：３０とした。
【００２９】
【表１】 表１中、ＢＣＡはブチルカルビトールアセテートを、Ｂ
Ｃはブチルカルビトールをそれぞれ意味している。ま
た、アクリルＢＲ−１０２（主成分としてポリイソブチ
ルメタクリレートを含む）は三菱レイヨン社製、アクリ
ル３（主成分としてポリイソブチルメタクリレートを含
む）は日本カーバイド社製のアクリル系樹脂である。更
に、エチルセルロースは、ハーキュレス社製のＮ５０、
Ｎ１００、Ｎ２００を使用した。
Ｃはブチルカルビトールをそれぞれ意味している。ま
た、アクリルＢＲ−１０２（主成分としてポリイソブチ
ルメタクリレートを含む）は三菱レイヨン社製、アクリ
ル３（主成分としてポリイソブチルメタクリレートを含
む）は日本カーバイド社製のアクリル系樹脂である。更
に、エチルセルロースは、ハーキュレス社製のＮ５０、
Ｎ１００、Ｎ２００を使用した。
【００３０】得られたペーストを、３００μｍの座繰り
が形成された石英ガラス基板上に塗布し、乾燥させた
後、窒素雰囲気中、４２０℃で、１時間焼成した。焼成
後、室温まで降温し、再び、大気中、４２０℃で、１時
間焼成することにより蛍光体層を形成した。なお、焼成
条件並びに、樹脂及び溶剤の種類が蛍光体層に与える影
響を評価するための基準として、蛍光体を１，２，６−
ヘキサントリオールに分散させたものを石英ガラス基板
上に塗布し、２００℃で乾燥させることにより蛍光体層
を形成した。
が形成された石英ガラス基板上に塗布し、乾燥させた
後、窒素雰囲気中、４２０℃で、１時間焼成した。焼成
後、室温まで降温し、再び、大気中、４２０℃で、１時
間焼成することにより蛍光体層を形成した。なお、焼成
条件並びに、樹脂及び溶剤の種類が蛍光体層に与える影
響を評価するための基準として、蛍光体を１，２，６−
ヘキサントリオールに分散させたものを石英ガラス基板
上に塗布し、２００℃で乾燥させることにより蛍光体層
を形成した。
【００３１】得られた蛍光体層に波長１４６ｎｍのエキ
シマレーザー光を照射することにより蛍光体を励起さ
せ、このときの輝度並びに、色度ｘ及びｙを測定した。
色度ｘは色度座標のｘ軸方向の色度を、色度ｙはｙ軸方
向の色度を意味する。なお、輝度及び色度は、励起光源
の状態により変化する相対的な値である。更に、輝度／
色度ｙによりフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度（発光
量）を算出し、基準を１００とした場合の相対値とし
て、色度ともに結果を表２に示した。蛍光体層Ｎｏ．１
〜３は、ビークルＮｏ．１〜３に対応している。
シマレーザー光を照射することにより蛍光体を励起さ
せ、このときの輝度並びに、色度ｘ及びｙを測定した。
色度ｘは色度座標のｘ軸方向の色度を、色度ｙはｙ軸方
向の色度を意味する。なお、輝度及び色度は、励起光源
の状態により変化する相対的な値である。更に、輝度／
色度ｙによりフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度（発光
量）を算出し、基準を１００とした場合の相対値とし
て、色度ともに結果を表２に示した。蛍光体層Ｎｏ．１
〜３は、ビークルＮｏ．１〜３に対応している。
【００３２】
【表２】 表２から明らかなように、窒素雰囲気下で焼成すること
により、ＰＬ強度が向上することが分かった。更に、窒
素雰囲気下での焼成は、色度に影響を与えないことも分
かった。 比較例１ 青色蛍光体ＦＪ−Ｂ１を、以下に示す３種類の組成のビ
ークルに分散させること以外は、実施例１と同様にして
ペーストを作製した。
により、ＰＬ強度が向上することが分かった。更に、窒
素雰囲気下での焼成は、色度に影響を与えないことも分
かった。 比較例１ 青色蛍光体ＦＪ−Ｂ１を、以下に示す３種類の組成のビ
ークルに分散させること以外は、実施例１と同様にして
ペーストを作製した。
【００３３】
【表３】 得られたペーストを、大気中、４２０℃で、１時間焼成
すること以外は実施例１と同様にして蛍光体層を形成し
た。なお、焼成条件並びに、樹脂及び溶剤の種類が蛍光
体層に与える影響を評価するための基準として、蛍光体
を１，２，６−ヘキサントリオールに分散させたものを
石英ガラス基板上に塗布し、２００℃で乾燥させること
により蛍光体層を形成した。蛍光体層のＰＬ強度及び色
度を表４に示した。蛍光体層Ｎｏ．４〜７は、ビークル
Ｎｏ．４〜７に対応している。
すること以外は実施例１と同様にして蛍光体層を形成し
た。なお、焼成条件並びに、樹脂及び溶剤の種類が蛍光
体層に与える影響を評価するための基準として、蛍光体
を１，２，６−ヘキサントリオールに分散させたものを
石英ガラス基板上に塗布し、２００℃で乾燥させること
により蛍光体層を形成した。蛍光体層のＰＬ強度及び色
度を表４に示した。蛍光体層Ｎｏ．４〜７は、ビークル
Ｎｏ．４〜７に対応している。
【００３４】
【表４】 表４から明らかなように、大気中で焼成すると、特にＰ
Ｌ強度が劣化することが分かった。 実施例２ 緑色蛍光体としてＧ−１（根来時殊化学社製、Ｚｎ2Ｓ
ｉＯ4：Ｍｎ＋ＢＡＭ）とＰＩ−ＧＩＳ（化成オプト社
製、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）ＦＪ−Ｂ１を、以下に示す３
種類の組成のビークルにビークル：蛍光体６５：３５
（重量比）の割合で分散させること以外は、実施例１と
同様にしてペーストを作製した。
Ｌ強度が劣化することが分かった。 実施例２ 緑色蛍光体としてＧ−１（根来時殊化学社製、Ｚｎ2Ｓ
ｉＯ4：Ｍｎ＋ＢＡＭ）とＰＩ−ＧＩＳ（化成オプト社
製、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）ＦＪ−Ｂ１を、以下に示す３
種類の組成のビークルにビークル：蛍光体６５：３５
（重量比）の割合で分散させること以外は、実施例１と
同様にしてペーストを作製した。
【００３５】
【表５】 得られたペーストを、窒素雰囲気下、４２０℃で、１時
間焼成すること以外は実施例１と同様にして蛍光体層を
形成した。但し、リファレンスはそれぞれの蛍光体で作
製して比較した。
間焼成すること以外は実施例１と同様にして蛍光体層を
形成した。但し、リファレンスはそれぞれの蛍光体で作
製して比較した。
【００３６】更に、緑色蛍光体を赤色蛍光体ＫＸ−５０
４Ａ（化成オプト社製）に代え、これら蛍光体の配合割
合を、ビークル：蛍光体＝６５：３５にすること以外
は、青色蛍光体の場合と同様にして、蛍光体層を形成し
た。
４Ａ（化成オプト社製）に代え、これら蛍光体の配合割
合を、ビークル：蛍光体＝６５：３５にすること以外
は、青色蛍光体の場合と同様にして、蛍光体層を形成し
た。
【００３７】なお、焼成条件並びに、樹脂及び溶剤の種
類が蛍光体層に与える影響を評価するための基準とし
て、蛍光体を１，２，６−ヘキサントリオールに分散さ
せたものを石英ガラス基板上に塗布し、２００℃で乾燥
させることにより蛍光体層を形成した。蛍光体層のＰＬ
強度及び色度を表４に示した。
類が蛍光体層に与える影響を評価するための基準とし
て、蛍光体を１，２，６−ヘキサントリオールに分散さ
せたものを石英ガラス基板上に塗布し、２００℃で乾燥
させることにより蛍光体層を形成した。蛍光体層のＰＬ
強度及び色度を表４に示した。
【００３８】
【表６】 上記表６から、不活性雰囲気下で焼成することにより、
青色以外の蛍光体についてもＰＬ強度を向上できること
が分かった。また、バインダにアクリル系樹脂を使用す
ることで、よりＰＬ強度が向上することが分かった。
青色以外の蛍光体についてもＰＬ強度を向上できること
が分かった。また、バインダにアクリル系樹脂を使用す
ることで、よりＰＬ強度が向上することが分かった。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、輝度の低下及び色度の
変化を少ない蛍光体層を形成することができるため、例
えば、ＰＤＰの蛍光体層に用いた場合、表示品質をより
向上させることができる。
変化を少ない蛍光体層を形成することができるため、例
えば、ＰＤＰの蛍光体層に用いた場合、表示品質をより
向上させることができる。
【図１】ＰＤＰの概略斜視図である。
２０ ＰＤＰ ２１ 隔壁 ２２ 蛍光体層 ２３、２７ 基板 ２４、２８ 誘電体層 ２５ 透明電極 ２６ バス電極 ２９ 保護層 Ａ アドレス電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩瀬 信博 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 Ｆターム(参考） 4H001 CA01 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA15 XA16 XA17 XA23 XA30 XA32 XA38 XA39 XA48 XA56 XA57 XA64 YA13 YA25 YA29 YA30 YA33 YA47 YA58 YA63 YA65 YA79 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 GA03 JA22 KA14 MA03
Claims (7)
- 【請求項１】 基板上に、蛍光体とバインダとを含む蛍
光体層材料を印刷又は塗布した後、不活性雰囲気下で焼
成し、熱分解させることにより蛍光体層を形成すること
を特徴とする蛍光体層の形成方法。 - 【請求項２】 不活性雰囲気下で焼成した後、酸化性雰
囲気下で更に焼成する請求項１に記載の蛍光体層の形成
方法。 - 【請求項３】 不活性雰囲気が、窒素雰囲気、又は大気
中の酸素濃度より低い酸素と窒素との雰囲気である請求
項１又は２に記載の蛍光体層の形成方法。 - 【請求項４】 バインダが、解重合性の樹脂からなる請
求項１〜３のいずれかに記載の蛍光体層の形成方法。 - 【請求項５】 蛍光体層材料が、溶剤中にバインダが溶
解された溶液中に、蛍光体を分散させたペーストからな
る請求項１〜４のいずれかに記載の蛍光体層の形成方
法。 - 【請求項６】 解重合性の樹脂が、アクリル系樹脂又は
メタクリル系樹脂である請求項１〜５のいずれかに記載
の蛍光体層の形成方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の方法に
より形成された蛍光体層を有するプラズマディスプレイ
パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10132999A JP2000294130A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蛍光体層の形成方法及びプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10132999A JP2000294130A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蛍光体層の形成方法及びプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000294130A true JP2000294130A (ja) | 2000-10-20 |
Family
ID=14297802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10132999A Pending JP2000294130A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 蛍光体層の形成方法及びプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000294130A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001329256A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-27 | Toray Ind Inc | 蛍光体ペースト並びにそれから得られるｐｄｐ背面板用部材及びプラズマディスプレイパネル |
| US7842128B2 (en) | 2007-09-13 | 2010-11-30 | Performance Indicatior LLC | Tissue marking compositions |
| US7910022B2 (en) | 2006-09-15 | 2011-03-22 | Performance Indicator, Llc | Phosphorescent compositions for identification |
| US8039193B2 (en) | 2007-09-13 | 2011-10-18 | Performance Indicator Llc | Tissue markings and methods for reversibly marking tissue employing the same |
| US8282858B2 (en) | 2004-12-20 | 2012-10-09 | Performance Indicator, Llc | High-intensity, persistent photoluminescent formulations and objects, and methods for creating the same |
| USRE44254E1 (en) | 2006-09-15 | 2013-06-04 | Performance Indicator, Llc | Phosphorescent compositions and methods for identification using the same |
-
1999
- 1999-04-08 JP JP10132999A patent/JP2000294130A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001329256A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-27 | Toray Ind Inc | 蛍光体ペースト並びにそれから得られるｐｄｐ背面板用部材及びプラズマディスプレイパネル |
| US8282858B2 (en) | 2004-12-20 | 2012-10-09 | Performance Indicator, Llc | High-intensity, persistent photoluminescent formulations and objects, and methods for creating the same |
| US8287757B2 (en) | 2004-12-20 | 2012-10-16 | Performance Indicator, Llc | High-intensity, persistent photoluminescent formulations and objects, and methods for creating the same |
| US8293136B2 (en) | 2004-12-20 | 2012-10-23 | Performance Indicator, Llc | High-intensity, persistent photoluminescent formulations and objects, and methods for creating the same |
| US8409662B2 (en) | 2004-12-20 | 2013-04-02 | Performance Indicator, Llc | High-intensity, persistent photoluminescent formulations and objects, and methods for creating the same |
| US7910022B2 (en) | 2006-09-15 | 2011-03-22 | Performance Indicator, Llc | Phosphorescent compositions for identification |
| USRE44254E1 (en) | 2006-09-15 | 2013-06-04 | Performance Indicator, Llc | Phosphorescent compositions and methods for identification using the same |
| US7842128B2 (en) | 2007-09-13 | 2010-11-30 | Performance Indicatior LLC | Tissue marking compositions |
| US8039193B2 (en) | 2007-09-13 | 2011-10-18 | Performance Indicator Llc | Tissue markings and methods for reversibly marking tissue employing the same |
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