JP2000067763A

JP2000067763A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法

Info

Publication number: JP2000067763A
Application number: JP23314498A
Authority: JP
Inventors: Akira Nakazawa; 明中澤; Tetsuya Horinouchi; 徹也堀之内
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1998-08-19
Filing date: 1998-08-19
Publication date: 2000-03-03
Anticipated expiration: 2018-08-19
Also published as: JP3909506B2

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルであって、隔壁
間の溝内に蛍光体層を形成する際に、蛍光体層の表面に
蛍光体自身で凸部を形成して、発光に寄与する蛍光体の
面積を増大させ、それにより、簡単な構成で発光輝度を
増大させる。【解決手段】一対の基板を対向配置して基板間に放電
空間を形成し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔
壁を一方の基板に並列して配置したプラズマディスプレ
イパネルであって、隔壁と隔壁との間の細長い溝内に、
隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大し得る高さの凸部を
有する蛍光体層を形成した構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）に関し、さらに詳しくは、マト
リクス表示方式のＰＤＰに関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ＰＤ
Ｐは視認性に優れ、高速表示が可能であり、しかも比較
的大画面化の容易な薄型表示デバイスである。特に面放
電型のＰＤＰは、駆動電圧の印加に際して対となる表示
電極を同一の基板上に配列したＰＤＰであり、蛍光体に
よるカラー表示に適している。

【０００３】従来、この種ＰＤＰにおいては、パネルを
構成する一方の基板上に、隔壁（リブ）がほぼ平行に設
けられており、蛍光体層は、蛍光体粉末と樹脂と有機溶
媒からなる蛍光体ペーストを隔壁間の細長い溝内（放電
領域）に充填後、乾燥と焼成をすることにより形成して
いた。

【０００４】したがって、蛍光体層はセルの底部と側壁
の形状にならった膜形状であり、膜表面は平滑になって
いた。このため、プラズマ発光に伴う紫外線の受光はセ
ル底部とセルの側壁部の面積に限定される。

【０００５】また、発光セルは隔壁と平行方向には境界
がないので、プラズマからの紫外線と蛍光体からの可視
光の内、隔壁と平行方向の斜め光はパネルの発光として
利用されておらず、発光効率が低下する要因になってい
た。

【０００６】なお、蛍光体の発光輝度を高めるものとし
ては、特開平７−３７５１１号公報に記載のものなどが
知られている。

【０００７】この発明は、簡単な構造で発光輝度を増大
するためになされたもので、隔壁間の溝内に蛍光体層を
形成する際に、蛍光体層の表面に蛍光体自身で凸部を形
成して、発光に寄与する蛍光体の面積を増大させ、それ
により発光輝度を増大させるようにしたプラズマディス
プレイパネルを提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、一対の基板
を対向配置して基板間に放電空間を形成し、放電空間を
仕切るための複数の帯状の隔壁を一方の基板に並列して
配置したプラズマディスプレイパネルであって、前記隔
壁と隔壁との間の細長い溝内に、前記隔壁よりも低くか
つ蛍光面積を増大し得る高さの凸部を有する蛍光体層が
形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルである。

【０００９】この発明によれば、簡単な構成で、発光輝
度を増大させることができる。また、簡単な工程で、発
光輝度を増大させることが可能な蛍光体層を形成するこ
とができる。

【００１０】本発明の発明者らは、蛍光体層の形成に際
し、感光性の蛍光体ペーストに対し溶媒を含んだ状態で
露光光を照射することにより、以下のような作用で凸部
を有する蛍光体層を形成することができることを見いだ
した。

【００１１】すなわち、蛍光体ペーストを乾燥させず
に、ペースト状態のままで露光光を照射すると、表面に
樹脂層ができる。これは、以下のような原理に基づくも
のと考えられる。すなわち、感光性の蛍光体ペーストに
は、光重合性化合物（感光性モノマー）が含まれてお
り、これが光重合することによって硬化する。この時、
モノマーがポリマー（樹脂層）となるのであるが、この
過程において、露光部分では、溶媒中に均一に分散して
いたモノマーが、感光度合いの高い部分、つまり蛍光体
ペーストの表面に集合しつつ重合してポリマーになり、
これにより蛍光体ペーストの表面に樹脂層ができるもの
と思われる。

【００１２】そして、それをそのまま現像せずに乾燥さ
せると、乾燥時にはこの樹脂層がその下部の乾燥を抑え
るように働く。一方、未露光部は比較的速く乾燥する。
乾燥時には溶媒が蒸発するので、未露光部と樹脂層下部
とで溶媒の濃度に差が生じ、この差（浸透圧）により樹
脂層下部から未露光部に溶媒が移行（浸透）しようとす
るが、この時固形分（蛍光体粉末）も一緒に移動する。
これにより、露光部分は薄い膜になり、未露光部は厚膜
となって、凸部を有する蛍光体層を形成することができ
る、ということを見いだした。

【００１３】これにより、溶媒を含む感光性の蛍光体ペ
ーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状
態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光した後、
現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することによ
り、凸部を有する蛍光体層を形成することができる。

【００１４】また、蛍光体ペーストに感光性材料を混入
せず、溶媒を含む蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布
し、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形
成位置以外を赤外線の照射により加熱した後、現像に付
することなく溶媒を除去し、焼成することにより、凸部
を有する蛍光体層を形成することもできる。

【００１５】

【発明の実施の形態】この発明において、一対の基板と
しては、ガラス、石英、シリコン等の基板や、これらの
基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の
構成物を形成した基板が含まれる。

【００１６】隔壁は、放電空間を仕切る複数の帯状のも
のであれば、どのような形態のものであってもよい。例
えば、ストライプ状の隔壁が平行に配置されたものや、
蛇行状の隔壁が並列に配置されたものであってもよい。
また、隔壁の端部が中央部より太くなったものや、隔壁
の端部が接続されたものなど、あらゆる形態の隔壁が含
まれる。

【００１７】蛍光体層は、隔壁と隔壁との間の細長い溝
内に形成されていればよく、この蛍光体層中の凸部は、
隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大するという目的さえ
達成される高さであれば、どのような形状のものであっ
てもよい。例えば、この凸部は、隔壁と交差する方向に
壁状に設けられていてもよい。

【００１８】凸部の位置は、放電領域と放電領域との間
の非放電領域に対応する位置に形成するようにしてもよ
い。この構成であれば、放電部からの斜め方向の紫外線
および蛍光体からの斜め方向の可視光をパネルの発光と
して有効に利用することができる（光のクロストークの
防止）。また、放電のクロストークも防止することがで
きる。

【００１９】あるいは、凸部の位置は、電極対の存在す
る放電領域に対応する位置に設けるようにしてもよい。

【００２０】この発明においては、蛍光体層を、以下の
ような工程で形成することができる。すなわち、まず、
溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗
布する。溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストとしては、
有機溶媒、感光性材料、蛍光体粉末からなるペーストを
用いることができる。

【００２１】有機溶媒としては、例えば、エチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、トルエン、メチル
セロソルブ、酢酸エチル、メタノール、イソブチルアル
コール、ブチルセロソルブ、メチルセルソルブ、メチル
エチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、イソプロピルアルコール、テト
ラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロ
ラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ
安息香酸などや、これらのうち１種以上を含有する有機
溶媒混合物を用いることができる。

【００２２】感光性材料としては、特に限定されず、公
知の材料をいずれも使用することができる。例えば、分
子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基
（ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基な
ど）を有する光重合性化合物、光重合開始剤等を含む感
光性材料が挙げられる。

【００２３】感光性材料には、架橋剤、紫外線吸収剤、
増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化
防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの
添加剤成分が加えられていてもよい。

【００２４】光重合性化合物は、感光性モノマーおよび
感光性ポリマーの内、少なくとも１種類から選ばれる光
反応性成分を含むものであればよい。

【００２５】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブ
チルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ
−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキ
シトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルア
クリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキ
シルアクリレート、イソオキチルアクリレート、ラウリ
ルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メ
トキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエ
チレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチル
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステア
リルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、ア
リル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタン
ジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタア
クリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレ
ート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロ
ヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグルコールジア
クリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロ
ールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート
および上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしく
はすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メチクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−
ピロリドン、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキ
シエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アク
リレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナ
フチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサ
イド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノール
Ａ−プロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレ
ート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチ
ル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アク
リレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレート
またこれらの芳香環中の１〜５個の水素原子を塩素また
は臭素原子に置換した化合物を用いることができる。

【００２６】感光性ポリマーとしては、感光性オリゴマ
ーを含み、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物や、
スチレンやビニルナフタレン、α−メチルナフタレン等
を重合して用いることができる。

【００２７】光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフ
ェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス
（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジ
エチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベン
ゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケ
トン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエ
トキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピル
チオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、
ベンジルジメチルケタノール、ベンジル−メトキシエチ
ルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−
ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノ
ン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズア
ントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４
−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−
アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサ
ノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−
メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパ
ンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、
１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エト
キシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキ
シム、ミヒラ−ケトン、２−メチル−〔４−（メチルチ
オ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、
ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニル
クロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、
ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィ
ン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェ
ニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチ
レンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、ト
リエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどが挙
げられ、これらを１種または２種以上使用することがで
きる。

【００２８】蛍光体粉末としては、当該分野で使用され
ている蛍光体粉末をいずれも使用することができる。例
えば、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）
ＢＯ ₃：Ｅｕ、Ｙ₂Ｏ₃Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃（Ｐ
Ｏ₄）₂：Ｍｎ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ（以上赤
色）、Ｚｎ₂ＧｅＯ₂：Ｍｎ、ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、
Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＬａＰＯ₄：Ｔｂ、ＺｎＳ：
（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、（Ｚ
ｎ，Ｃｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：（Ｍ
ｎ，Ａｓ）、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔ
ｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑
色）、Ｓｒ₅（ＰＯ₄）₃Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₄
Ｏ₂₃：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ
₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｙ₂ＳｉＯ₃：Ｃｅ（以
上青色）等が挙げられる。

【００２９】次に、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペ
ーストの凸部形成位置以外を露光する。実質的に溶媒を
含む状態とは、蛍光体ペーストが乾燥せずペースト状態
であることを意味する。すなわち、積極的に乾燥させな
い状態であり、沸点の高い溶媒を用いたとしても自然蒸
発によって失われる溶媒があるため、ある程度の溶媒を
含む状態であればよい。このように溶媒が含まれた状態
の蛍光体ペーストに露光光を照射することにより、蛍光
体ペーストの凸部形成位置以外の表面に樹脂層を作る。

【００３０】蛍光体ペーストの露光は、公知のフォトリ
ソグラフィの手法を用いて行うことができる。すなわち
フォトマスクを介して露光することにより行うことがで
きる。この時用いるフォトマスクは、材料、形成方法と
も、公知のフォトリソグラフィの手法で用いられるもの
をそのまま適用することができる。なお、この蛍光体ペ
ーストの露光は、これに限定されず、レーザー光などで
選択的に露光を行うものであってもよい。

【００３１】露光の際の露光量については、通常の公知
のフォトリソグラフィの手法で用いられている露光量で
よいが、露光時間については、蛍光体ペーストの表面に
樹脂層ができるように適当に設定してもよい。

【００３２】なお、露光により光重合性化合物が重合し
て樹脂を形成するが、この重合には、モノマーどうしの
重合の他、ポリマーとポリマー（またはモノマー）の架
橋による重合も含まれる。

【００３３】露光光としては、例えば、近紫外線、紫外
線、電子線、Ｘ線などが挙げられるが、これらの中で紫
外線が好ましく、その光源としては、例えば、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌
灯などが使用できる。これらの中でも超高圧水銀灯が好
適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、５〜
１０００ｍＪ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて
０．１〜３０分間露光を行う。

【００３４】次に、現像に付することなく溶媒を除去
し、焼成する。現像に付することなく溶媒を除去すると
は、蛍光体ペーストを露光した後、現像せずに、蛍光体
ペーストを乾燥させることを意味する。乾燥に際して
は、基板ごと乾燥炉内に搬入し、７０〜１００℃の温度
で、１５分〜３０分程度かけてゆっくり乾燥させること
が望ましい。この乾燥の過程で、上述の原理により凸部
が形成されるのであるが、この凸部の形状および高さ
は、蛍光体ペーストの乾燥の速さ、蛍光体ペースト中の
有機溶媒の種類および量によって左右されるため、これ
らを適当に設定する。

【００３５】焼成は、焼成炉にて行う。焼成雰囲気や温
度はペーストや基板の種類によって異なるが、通常は空
気中もしくは窒素雰囲気中で焼成する。焼成温度は４２
０〜４６０℃で行う。

【００３６】以下、図面に示す実施の形態に基づいてこ
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。

【００３７】図１は本発明の実施例を示す３電極面放電
構造のＰＤＰの内部構造を示す斜視図である。

【００３８】ＰＤＰ１は、前面側のガラス基板１１の内
面に、行Ｌ毎に一対ずつサステイン電極（表示電極）
Ｘ，Ｙが配列されている。行Ｌは画面における水平方向
のセル列である。サステイン電極Ｘ，Ｙは、それぞれが
ＩＴＯからなる透明導電膜４１とＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒから
なる金属膜（バス電極）４２で形成され、低融点ガラス
からなる厚さ３０μｍ程度の誘電体層１７で被覆されて
いる。誘電体層１７の表面にはマグネシア（ＭｇＯ）か
らなる厚さ数千オングストロームの保護膜１８が設けら
れている。アドレス電極Ａは、背面側のガラス基板２１
の内面を覆う下地層２２の上に配列されており、厚さ１
０μｍ程度の誘電体層２４によって被覆されている。誘
電体層２４の上には、高さ１５０μｍの平面視直線帯状
の隔壁２９が、各アドレス電極Ａの間に１つずつ設けら
れている。これらの隔壁２９によって放電空間３０が行
方向にサブピクセル（単位発光領域）毎に区画され、且
つ放電空間３０の間隙寸法が規定されている。そして、
アドレス電極Ａの上方及び隔壁２９の側面を含めて背面
側の内面を被覆するように、カラー表示のためのＲ，
Ｇ，Ｂの３色の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが設け
られている。３色の配置パターンは、１列のセルの発光
色が同一で且つ隣接する列どうしの発光色が異なるスト
ライプパターンである。なお、隔壁形成に際しては、コ
ントラストを高めるために頂上部を暗色に着色し、他の
部分を白色に着色して可視光の反射率を高めるのが望ま
しい。着色は材料のガラスペーストに所定色の顔料を添
加することにより行う。

【００３９】放電空間３０には主成分のネオンにキセノ
ンを混合した放電ガスが充填されており（封入圧力は５
００Ｔｏｒｒ）、蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは放
電時にキセノンが放つ紫外線によって局部的に励起され
て発光する。表示の１ピクセル（画素）は行方向に並ぶ
３個のサブピクセルで構成される。各サブピクセル内の
構造体がセル（表示素子）である。隔壁２９の配置パタ
ーンがストライプパターンであることから、放電空間３
０のうちの各列に対応した部分は全ての行Ｌに跨がって
列方向に連続している。そのため、隣接する行Ｌどうし
の電極間隙（逆スリット）の寸法は各行Ｌの面放電ギャ
ップ（例えば５０〜１５０μｍの範囲内の値）より十分
に大きく、列方向の放電結合を防ぐことのできる値（例
えば１５０〜５００μｍの範囲内の値）に選定されてい
る。なお、逆スリットには非発光の白っぽい蛍光体層を
隠す目的で、前面側ガラス基板１１の外面側又は内面側
に図示しない遮光膜が設けられる。

【００４０】図２および図３は蛍光体層の形成方法を示
す説明図であり、図２は隔壁２９が形成された背面側の
ガラス基板２１の平面図、図３の（Ａ）〜（Ｄ）は蛍光
体層の形成工程を示す説明図であり、いずれも図２で示
した背面側のガラス基板２１をＢ−Ｂ′断面で見た状態
を示したものである。

【００４１】この発明のプラズマディスプレイパネルで
は、以下のようにして蛍光体層を形成する。まず、背面
側のガラス基板２１の隔壁間の細長い溝内に、蛍光体粉
末と感光性材料と有機溶媒とを混ぜ合わせた蛍光体ペー
スト３を隔壁２９とほぼ同じ高さまで塗布する（図３
（Ａ）参照）。

【００４２】この場合、隔壁２９の両端部に蛍光体ペー
スト３の流出を阻止する流出阻止枠を樹脂等で設けるよ
うにしてもよい。カラーＰＤＰの場合には３色の蛍光体
ペースト３を所定の順序で塗布する。

【００４３】背面側のガラス基板２１としては、図１で
示した背面側のガラス基板２１に下地層２２、アドレス
電極Ａ、誘電体層２４、隔壁２９が形成されたものを用
いる。

【００４４】本例においては、蛍光体ペースト３として
は、一般にネガ型フォトレジストとして市販されている
東京応化工業（株）社製のＰＭＥＲＮ−ＨＣ６００Ｙ
に、公知の蛍光体粉末を混ぜ合わせたものを適用した。
混合比は、東京応化工業社製のフォトレジスト７４重量
％、蛍光体粉末２６重量％とした。

【００４５】東京応化工業社製のフォトレジストは、感
光性材料３５重量％、有機溶媒（エチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブ、トルエン、メチルセロソル
ブ、酢酸エチル、メタノール、イソブチルアルコール、
ブチルセロソルブ）６５重量％の配合となっているの
で、蛍光体ペースト３の成分としては、蛍光体粉末２６
重量％、感光性材料２６重量％、有機溶媒４８重量％で
あった。有機溶媒は、上記と同等の沸点を有するもので
あればどのようなものを用いてもよい。

【００４６】蛍光体ペースト３の塗布方法は、公知のス
クリーン印刷法を適用したが、他の方法で塗布してもよ
い。

【００４７】次に、蛍光体ペースト３を乾燥させずにペ
ースト状態のまま、蛍光体ペースト３上にフォトマスク
４を設置し、紫外線５を照射して、蛍光体ペースト３を
露光する（図３（Ｂ）参照）。これにより、蛍光体ペー
スト３の表面に樹脂層を形成する。

【００４８】蛍光体ペースト３の感光の程度は、露光量
と蛍光体ペースト３中の感光性材料の質および量に影響
されるため、これらを適切に設定して、蛍光体ペースト
３の表面に樹脂層が形成されるようにする。

【００４９】通常、上記のフォトレジストを用いる場合
は、塗布した後、乾燥させて露光を行うのであるが、本
方法においては、蛍光体ペースト３を乾燥させず、ペー
スト状態のまま露光を行うようにしている。このように
ペースト状態のまま露光を行うと、上述した原理によ
り、通常と同じ量の紫外線を照射しても、蛍光体ペース
ト３の表面に樹脂層を形成することができる。

【００５０】本例においては、隔壁２９の上面から０．
１ｍｍのギャップになるようにフォトマスク４を設置し
た。露光光は、超高圧水銀灯を用い、紫外線を照射し
た。露光条件は５００ｍＪ／ｃｍ²で露光を行った。フ
ォトマスク４は公知のフォトリソグラフィで用いるもの
と同じものを用いた。これにより、蛍光体ペースト３の
表面に深さ約５μｍの樹脂層を形成することができた。

【００５１】次に、現像せずに、そのまま蛍光体ペース
ト３を乾燥させ、これにより自動的に壁状の凸部６が出
現するようにする（図３（Ｃ）参照）。出現する壁状の
凸部６の形状および高さは、蛍光体ペースト３の乾燥の
速さ、蛍光体ペースト３中の溶媒の種類および量によっ
て左右されるため、これらを適切に設定する。本例にお
いては、乾燥は、基板２１を乾燥室に入れ、７０〜８０
℃の温度で１５〜２０分間かけてゆっくり乾燥させた。

【００５２】次に、乾燥した蛍光体ぺーストを焼成する
ことにより、隔壁間の細長い溝内に壁状の凸部６を有す
る蛍光体層を形成する（図３（Ｄ）参照）。本例では、
高さ９０μｍの隔壁に対し、高さ約６０μｍの壁状の凸
部６を有する蛍光体層を形成することができた。

【００５３】蛍光体層を形成する際の壁状の凸部の形成
方法は、図４に示すような原理に基づくものである。

【００５４】すなわち、蛍光体ペースト３を乾燥させず
に、ペースト状態のままで紫外線を照射すると、蛍光体
ペースト３の表面に樹脂層３ａができる（図４（Ａ）参
照）。

【００５５】これは、以下のような理由によるものと考
えられる。すなわち、上述したように、感光性の蛍光体
ペーストには、光重合性化合物（感光性モノマー）が含
まれており、これが光重合することによって硬化する。
この時、モノマーがポリマー（樹脂層）となるのである
が、この過程において、露光部分では、溶媒中に均一に
分散していたモノマーが、感光度合いの高い部分、つま
り蛍光体ペーストの表面に集合しつつ重合してポリマー
になり、これにより蛍光体ペーストの表面に樹脂層がで
きるものと思われる。

【００５６】それをそのまま現像せずに乾燥させると、
乾燥時にはこの樹脂層３ａがその下部の乾燥を抑えるよ
うに働く。一方、未露光部３ｂは樹脂層３ａの部分と比
較して速く乾燥する。乾燥時には、未露光部３ｂから溶
媒が蒸発するので、未露光部３ｂと樹脂層３ａ下部とで
溶媒の濃度に差が生じ、この差（浸透圧）により樹脂層
３ａ下部から未露光部３ｂに、図中矢印で示すように、
溶媒が移行（浸透）しようとするが、この時蛍光体粉末
も一緒に移動する。このようにして樹脂層３ａのできた
露光部分は薄い膜になり、一方、未露光部３ｂは厚膜と
なるため壁状の凸部が出現する（図４（Ｂ）参照）。

【００５７】そして、これを焼成することにより、壁状
の凸部６を有する蛍光体層を形成することができる（図
４（Ｃ）参照）。

【００５８】図５は壁状の凸部を有する蛍光体層の形成
状態を示す部分拡大斜視図であり、この図に示すよう
に、隔壁２９間の細長い溝内に、隔壁２９よりも低くか
つ蛍光面積を増大し得る高さの壁状の凸部を有する蛍光
体層が形成される。

【００５９】図６は前面側のガラス基板と背面側のガラ
ス基板とを組み合わせた状態の一例を示す説明図であ
り、図２で示したＢ−Ｂ′断面で見た状態を示したもの
である。

【００６０】この例においては、壁状の凸部６を隔壁２
９の高さの８０％の高さにし、サステイン電極対Ｘ，Ｙ
とサステイン電極対Ｘ，Ｙとの間の放電に寄与しない領
域（逆スリットの位置）６ａに壁状の凸部６が対応する
ように、壁状の凸部６の形成ピッチを設定した。すなわ
ち、壁状の凸部６でガス放電空間９を仕切るように蛍光
体層を形成した。

【００６１】このようにすることにより、サステイン電
極Ｘ，Ｙの放電によってガス放電空間９から紫外線ｅが
放射されるが、この紫外線を無駄にすることなく蛍光体
の励起光として利用することができ、底部蛍光体からの
可視光ｄを壁状の凸部６で反射させて光ｆとして、パネ
ルの光量として利用することができる。

【００６２】このようにして、蛍光体自身で壁状の凸部
を形成して、蛍光体層の表面積を増やすとにより、特殊
な材料等を使用することなく、簡単な構成で、発光輝度
を増加させることができる。

【００６３】そして、この壁状の凸部をセルの境界に設
けることにより、斜め方向の紫外線と可視光が隣接する
セルの方向に照射されることを防止し、パネル発光とし
て有効に利用することができる（光のクロストークの防
止）。また、放電のクロストークも防止することができ
る。

【００６４】そして、蛍光体層の形成に際し、蛍光体ペ
ーストに感光性材料を用い、ペースト状態のままでパタ
ーン露光後、現像せずに乾燥、焼成を行うことにより、
簡単な工程で壁状の凸部を有する蛍光体層を形成するこ
とができる。

【００６５】以上では、感光性の蛍光体ペーストに選択
的に紫外線を照射して、蛍光体ペーストの表面に樹脂層
を作り、この樹脂層の部分の乾燥を抑えることによっ
て、凸部を有する蛍光体層を形成する方法を示したが、
この他に、感光剤を含まない通常の蛍光体ペーストに選
択的に赤外線を照射して、蛍光体ペーストの表面に乾燥
を促進した硬化層を作り、この硬化層の部分の乾燥を抑
えることによって、凸部を有する蛍光体層を形成するこ
ともできる。

【００６６】

【発明の効果】この発明によれば、蛍光体層の表面積を
広くできるので、パネルの発光量を増やすことができ
る。また、蛍光体層の凸部を放電領域と放電領域との間
に形成すれば、紫外線と可視光を無駄にせずパネル発光
として利用できるので、発光効率を上げることができ
る。

【００６７】さらに、蛍光体層を、蛍光体ペーストを隔
壁間の溝内に塗布し、蛍光体ペーストの凸部形成位置以
外を露光した後、現像に付することなく溶媒を除去し、
焼成することにより形成した場合には、簡単な工程で、
かつ低コストで凸部を有する蛍光体層を形成することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示す３電極面放電構造のＰＤ
Ｐの内部構造を示す斜視図である。

【図２】隔壁が形成された背面側のガラス基板の平面図
である。

【図３】蛍光体層の形成工程を示す説明図である。

【図４】蛍光体層の形成方法の原理を示す説明図であ
る。

【図５】壁状の凸部を有する蛍光体層の形成状態を示す
部分拡大斜視図である。

【図６】前面側のガラス基板と背面側のガラス基板とを
組み合わせた状態の一例を示す説明図である。

【符号の説明】

１ＡＣ型のＰＤＰ３蛍光体ペースト４フォトマスク５紫外線６壁状の凸部６ａ放電に寄与しない領域９ガス放電空間１１前面側のガラス基板１７誘電体層１８保護膜２１背面側のガラス基板２２下地層２４誘電体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ蛍光体層２９隔壁３０放電空間４１透明導電膜４２金属膜Ａアドレス電極Ｌ行Ｘ，Ｙサステイン電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板を対向配置して基板間に放電
空間を形成し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔
壁を一方の基板に並列して配置したプラズマディスプレ
イパネルであって、前記隔壁と隔壁との間の細長い溝内
に、前記隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大し得る高さ
の凸部を有する蛍光体層が形成されていることを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】前記蛍光体層の凸部が、隔壁と交差する
方向に壁状に設けられていることを特徴とする請求項１
記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】一方の基板が、隔壁と交差する方向に並
列に配置された複数の電極対を有し、前記蛍光体層の凸
部が、電極対と電極対との間の非放電領域に対応する位
置に設けられていることを特徴とする請求項２記載のプ
ラズマディスプレイパネル。
【請求項４】前記蛍光体層が、溶媒を含む感光性の蛍
光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を
含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光し
た後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成するこ
とからなる工程により形成されてなる請求項１記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】前記蛍光体層が、溶媒を含む蛍光体ペー
ストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状態
で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を赤外線の照射に
より加熱した後、現像に付することなく溶媒を除去し、
焼成することからなる工程により形成されてなる請求項
１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。