JP2000237584A - 炭化水素の吸着剤及び炭化水素の吸着除去方法 - Google Patents
炭化水素の吸着剤及び炭化水素の吸着除去方法Info
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- JP2000237584A JP2000237584A JP11045987A JP4598799A JP2000237584A JP 2000237584 A JP2000237584 A JP 2000237584A JP 11045987 A JP11045987 A JP 11045987A JP 4598799 A JP4598799 A JP 4598799A JP 2000237584 A JP2000237584 A JP 2000237584A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】炭化水素、特に低級炭化水素の吸着能が高い吸
着剤、及びその吸着剤を用いてガス中に含有される炭化
水素を吸着除去する方法を提供する。 【解決手段】ヒューランダイト構造を有するゼオライト
から構成される炭化水素吸着剤を、炭化水素を含有する
気相に接触させ、含有される炭化水素を吸着除去する。
着剤、及びその吸着剤を用いてガス中に含有される炭化
水素を吸着除去する方法を提供する。 【解決手段】ヒューランダイト構造を有するゼオライト
から構成される炭化水素吸着剤を、炭化水素を含有する
気相に接触させ、含有される炭化水素を吸着除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガス中、例えば大気
または内燃機関より排出される排ガス中に含まれる炭化
水素を浄化する吸着剤、炭化水素の吸着除去方法に関す
るものである。
または内燃機関より排出される排ガス中に含まれる炭化
水素を浄化する吸着剤、炭化水素の吸着除去方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関から排出される炭化
水素を含有する排ガス浄化において、三元触媒を用い
て、排ガスと接触させる方法が実用化されている。上記
三元触媒の排ガス浄化能は３００℃以上で発現すること
が知られている。このため、エンジン始動時の排ガス温
度が低い場合、排ガス中の炭化水素濃度が高いことに加
えて、三元触媒が作動する温度に達していないため、炭
化水素は浄化されずにそのまま排出される。
水素を含有する排ガス浄化において、三元触媒を用い
て、排ガスと接触させる方法が実用化されている。上記
三元触媒の排ガス浄化能は３００℃以上で発現すること
が知られている。このため、エンジン始動時の排ガス温
度が低い場合、排ガス中の炭化水素濃度が高いことに加
えて、三元触媒が作動する温度に達していないため、炭
化水素は浄化されずにそのまま排出される。
【０００３】低温時の排ガスからの炭化水素の浄化に対
し、特開平２−１３５１２６号公報では炭化水素を吸着
浄化することを目的として、Ｙ型ゼオライト及びモルデ
ナイトのゼオライトをコートしたモノリス担体の一部に
１種以上の金属を担持した炭化水素の吸着剤を用いた排
ガス浄化装置が提案されている。この他にもゼオライト
を構成成分とした炭化水素の吸着剤が数多く提案されて
いる。例えば、特開平６−１２６２６５号公報ではＡｇ
を担持した分子篩、特開平６−３１２１３２号公報では
Ａｇ及びＡｇとＣｏ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ａｇ，
Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｖからなる群から選ば
れた少なくとも１種以上の金属を含有したゼオライト、
特開平８−９９０３３号公報ではＡｇと周期律表のＩＩ
ＩＢ族の金属でイオン交換されたゼオライト、特開平６
−２１０１６５号公報ではＰｄとゼオライトから構成さ
れる吸着剤、特開平６−２１０１６３号公報ではＣｕ及
びＣｕとＣｏ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｖからなる群から選ばれた少
なくとも１種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼ
オライト、特開平５−３１３５９号公報ではＳｉＯ2／
Ａｌ2Ｏ3モル比が４０以上のゼオライトが提案されてい
る。
し、特開平２−１３５１２６号公報では炭化水素を吸着
浄化することを目的として、Ｙ型ゼオライト及びモルデ
ナイトのゼオライトをコートしたモノリス担体の一部に
１種以上の金属を担持した炭化水素の吸着剤を用いた排
ガス浄化装置が提案されている。この他にもゼオライト
を構成成分とした炭化水素の吸着剤が数多く提案されて
いる。例えば、特開平６−１２６２６５号公報ではＡｇ
を担持した分子篩、特開平６−３１２１３２号公報では
Ａｇ及びＡｇとＣｏ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ａｇ，
Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｖからなる群から選ば
れた少なくとも１種以上の金属を含有したゼオライト、
特開平８−９９０３３号公報ではＡｇと周期律表のＩＩ
ＩＢ族の金属でイオン交換されたゼオライト、特開平６
−２１０１６５号公報ではＰｄとゼオライトから構成さ
れる吸着剤、特開平６−２１０１６３号公報ではＣｕ及
びＣｕとＣｏ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｖからなる群から選ばれた少
なくとも１種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼ
オライト、特開平５−３１３５９号公報ではＳｉＯ2／
Ａｌ2Ｏ3モル比が４０以上のゼオライトが提案されてい
る。
【０００４】これらの吸着剤を用いた炭化水素の吸着除
去方法は、いずれもが排ガス中に含まれる炭化水素をエ
ンジン始動時の低温域で吸着剤に一旦吸着せしめてお
き、且つ排ガス浄化触媒が作動する温度以上で吸着剤か
ら脱離した炭化水素を触媒浄化しようとするものであ
る。
去方法は、いずれもが排ガス中に含まれる炭化水素をエ
ンジン始動時の低温域で吸着剤に一旦吸着せしめてお
き、且つ排ガス浄化触媒が作動する温度以上で吸着剤か
ら脱離した炭化水素を触媒浄化しようとするものであ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、炭化水素の排出
による環境汚染の問題が注目され、炭化水素の排出抑制
技術の向上が望まれている。例えば自動車等の内燃機関
から排出される排ガスには、数多くの種類の炭化水素が
混在するため、炭化水素の種類に応じた吸着剤が必要で
ある。しかしながら、上記の従来技術においては、低級
炭化水素の吸着特性に関する検討が不十分であり、従来
技術に開示されている吸着剤では低級炭化水素の吸着特
性が十分でなかった。
による環境汚染の問題が注目され、炭化水素の排出抑制
技術の向上が望まれている。例えば自動車等の内燃機関
から排出される排ガスには、数多くの種類の炭化水素が
混在するため、炭化水素の種類に応じた吸着剤が必要で
ある。しかしながら、上記の従来技術においては、低級
炭化水素の吸着特性に関する検討が不十分であり、従来
技術に開示されている吸着剤では低級炭化水素の吸着特
性が十分でなかった。
【０００６】本発明の目的は、炭化水素、特に低級炭化
水素の吸着能が高い吸着剤、及びその吸着剤を用いてガ
ス中に含有される炭化水素を吸着除去する方法を提供す
るところにある。
水素の吸着能が高い吸着剤、及びその吸着剤を用いてガ
ス中に含有される炭化水素を吸着除去する方法を提供す
るところにある。
【０００７】
【課題を解決するするための手段】本発明者らはこれら
の状況に鑑み、炭化水素特に低級炭化水素の吸着特性を
鋭意検討した結果、これまでに開示された炭化水素の吸
着剤に比べて、ヒューランダイト構造を有するゼオライ
ト（以下、ＨＥＵと略記）から構成される吸着剤が低級
炭化水素の吸着特性に優れていることを見出し、本発明
を完成するに至った。
の状況に鑑み、炭化水素特に低級炭化水素の吸着特性を
鋭意検討した結果、これまでに開示された炭化水素の吸
着剤に比べて、ヒューランダイト構造を有するゼオライ
ト（以下、ＨＥＵと略記）から構成される吸着剤が低級
炭化水素の吸着特性に優れていることを見出し、本発明
を完成するに至った。
【０００８】即ち本発明は、ＨＥＵから構成されること
を特徴とする炭化水素の吸着剤である。また本発明は、
その吸着剤を、炭化水素を含有する気相に接触させるこ
とを特徴とする、炭化水素の吸着除去方法である。以
下、本発明を詳細に説明する。
を特徴とする炭化水素の吸着剤である。また本発明は、
その吸着剤を、炭化水素を含有する気相に接触させるこ
とを特徴とする、炭化水素の吸着除去方法である。以
下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明の吸着剤は、ＨＥＵで構成されてい
ることが必須である。本発明に係るゼオライトは、 ｘＭ2/nＯ・Ａｌ2Ｏ3・ｙＳｉＯ2・ｚＨ2Ｏ （但し、ｎは陽イオンＭの原子価、ｘは０〜２．５の範
囲の数、ｙは７以上の数、ｚは０以上の数である）の組
成を有し、天然品及び合成品として得られる。その構造
に関しては例えば、Ｒ．ｖｏｎ Ｂａｌｌｍｏｏｓ ａ
ｎｄ Ｊ．Ｂ．Ｈｉｇｇｉｎｓ，ＣＯＬＬＥＣＴＩＯＮ
ＯＦ ＳＩＭＵＬＡＴＥＤ ＸＲＤ ＰＯＷＤＥＲ
ＰＡＴＴＥＲＮＳ ＦＯＲ ＺＥＯＬＩＴＥＳ ａ ｓ
ｐｅｃｉａｌ ｉｓｓｕｅ ｏｆ ＺＥＯＬＩＴＥＳ
（１９９０），１０（５），４１４Ｓに記載されてお
り、表１の様なＸ線回折パターンを有する構造として定
義されている。
ることが必須である。本発明に係るゼオライトは、 ｘＭ2/nＯ・Ａｌ2Ｏ3・ｙＳｉＯ2・ｚＨ2Ｏ （但し、ｎは陽イオンＭの原子価、ｘは０〜２．５の範
囲の数、ｙは７以上の数、ｚは０以上の数である）の組
成を有し、天然品及び合成品として得られる。その構造
に関しては例えば、Ｒ．ｖｏｎ Ｂａｌｌｍｏｏｓ ａ
ｎｄ Ｊ．Ｂ．Ｈｉｇｇｉｎｓ，ＣＯＬＬＥＣＴＩＯＮ
ＯＦ ＳＩＭＵＬＡＴＥＤ ＸＲＤ ＰＯＷＤＥＲ
ＰＡＴＴＥＲＮＳ ＦＯＲ ＺＥＯＬＩＴＥＳ ａ ｓ
ｐｅｃｉａｌ ｉｓｓｕｅ ｏｆ ＺＥＯＬＩＴＥＳ
（１９９０），１０（５），４１４Ｓに記載されてお
り、表１の様なＸ線回折パターンを有する構造として定
義されている。
【００１０】
【表１】
【００１１】本発明の吸着剤を構成するＨＥＵのＳｉＯ
2／Ａｌ2Ｏ3モル比は、特に限定されないが、好ましく
は８以上であり、更に好ましくは１０以上である。
2／Ａｌ2Ｏ3モル比は、特に限定されないが、好ましく
は８以上であり、更に好ましくは１０以上である。
【００１２】ＨＥＵの製造方法については特に限定され
ず、例えばシリカ源、アルミナ源をアルカリ溶液中に分
散させ、静置及び／または撹拌下での水熱合成法により
得る公知の方法を採用することができる。
ず、例えばシリカ源、アルミナ源をアルカリ溶液中に分
散させ、静置及び／または撹拌下での水熱合成法により
得る公知の方法を採用することができる。
【００１３】ＨＥＵは、天然品及び合成品及び／または
そのか焼品を用いることができるが、ＨＥＵ中のＮａ等
のイオンをアンモニウム塩あるいは鉱酸等で処理し、ア
ンモニウム型あるいはＨ型として用いることもできる。
か焼は３００〜１０００℃で行なうことができる。
そのか焼品を用いることができるが、ＨＥＵ中のＮａ等
のイオンをアンモニウム塩あるいは鉱酸等で処理し、ア
ンモニウム型あるいはＨ型として用いることもできる。
か焼は３００〜１０００℃で行なうことができる。
【００１４】本発明の炭化水素吸着剤は、上記のＨＥＵ
に金属及び／または金属イオンが含有されていても良
い。ＨＥＵに含有させる金属及び／または金属イオンと
しては、例えばＩＡ，ＩＩＡ，ＩＩＩＡ，ＶＩＡ，ＶＩ
ＩＡ，ＶＩＩＩ，ＩＢ，ＩＩＢ，ＩＩＩＢ，ＩＶＢ族の
金属及び／または金属イオンが挙げられ、１種または２
種以上の金属及び／または金属イオンを含有させること
ができる。金属及び／または金属イオンの含有量は、炭
化水素の吸着性能を十分に高めるために適宜設定される
ものであり、特に限定されない。
に金属及び／または金属イオンが含有されていても良
い。ＨＥＵに含有させる金属及び／または金属イオンと
しては、例えばＩＡ，ＩＩＡ，ＩＩＩＡ，ＶＩＡ，ＶＩ
ＩＡ，ＶＩＩＩ，ＩＢ，ＩＩＢ，ＩＩＩＢ，ＩＶＢ族の
金属及び／または金属イオンが挙げられ、１種または２
種以上の金属及び／または金属イオンを含有させること
ができる。金属及び／または金属イオンの含有量は、炭
化水素の吸着性能を十分に高めるために適宜設定される
ものであり、特に限定されない。
【００１５】金属及び／または金属イオンを含有させる
方法としては、公知の方法を適宜採用することができ、
例えば、イオン交換法、含浸担持法、蒸発乾固法、浸漬
法、固相交換法、物理混合法等を採用することができ
る。金属及び／または金属イオンの含有に用いる塩とし
ては、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、塩化物あるい
はアンミン錯塩等の可溶性の塩が好適に用いられる。
方法としては、公知の方法を適宜採用することができ、
例えば、イオン交換法、含浸担持法、蒸発乾固法、浸漬
法、固相交換法、物理混合法等を採用することができ
る。金属及び／または金属イオンの含有に用いる塩とし
ては、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、塩化物あるい
はアンミン錯塩等の可溶性の塩が好適に用いられる。
【００１６】本発明の吸着剤は、シリカ、アルミナ及び
粘土鉱物等のバインダーと混合し成型して使用すること
もできる。粘土鉱物としては、カオリン、アタパルガイ
ト、モンモリロナイト、ベントナイト、アロフェン、セ
ピオライト等を挙げることができる。また、コージェラ
イト製あるいは金属製のハニカム状基材に本発明の吸着
剤をウォッシュコートして使用することもできる。更
に、本発明の吸着剤を、他の吸着剤と混合及び／または
分離した状態で組み合わせて使用することもできる。
粘土鉱物等のバインダーと混合し成型して使用すること
もできる。粘土鉱物としては、カオリン、アタパルガイ
ト、モンモリロナイト、ベントナイト、アロフェン、セ
ピオライト等を挙げることができる。また、コージェラ
イト製あるいは金属製のハニカム状基材に本発明の吸着
剤をウォッシュコートして使用することもできる。更
に、本発明の吸着剤を、他の吸着剤と混合及び／または
分離した状態で組み合わせて使用することもできる。
【００１７】以上の様にして、本発明の炭化水素吸着剤
を製造することができる。
を製造することができる。
【００１８】本発明の吸着剤に炭化水素を含むガスを接
触させることにより、炭化水素の吸着除去を行なうこと
ができる。このガスには特に制限はなく、具体的には大
気、排気ガスなど炭化水素を含んでいるガスが例示され
る。また、炭化水素以外に、一酸化炭素、二酸化炭素、
水素、酸素、窒素、窒素酸化物、硫黄酸化物、水が含ま
れている場合にも有効である。
触させることにより、炭化水素の吸着除去を行なうこと
ができる。このガスには特に制限はなく、具体的には大
気、排気ガスなど炭化水素を含んでいるガスが例示され
る。また、炭化水素以外に、一酸化炭素、二酸化炭素、
水素、酸素、窒素、窒素酸化物、硫黄酸化物、水が含ま
れている場合にも有効である。
【００１９】本発明で吸着除去の対象とする炭化水素種
は特に限定されるものではないが、低級炭化水素、特に
炭素数１あるいは２のメタン、エタン、エチレンの吸着
除去に対して、より有効である。
は特に限定されるものではないが、低級炭化水素、特に
炭素数１あるいは２のメタン、エタン、エチレンの吸着
除去に対して、より有効である。
【００２０】ガス中の炭化水素の濃度は特に限定され
ず、メタン換算で０．００１〜５体積％が良く、より好
ましくは０．００５〜３体積％である。炭化水素以外の
各成分の濃度についても特に限定されず、例えばＣＯ＝
０〜１体積％、ＣＯ2＝０〜１０体積％、Ｏ2＝０〜２０
体積％、窒素酸化物＝０〜１体積％、硫黄酸化物＝０〜
０．０５体積％、Ｈ2Ｏ＝０〜１５体積％で良い。
ず、メタン換算で０．００１〜５体積％が良く、より好
ましくは０．００５〜３体積％である。炭化水素以外の
各成分の濃度についても特に限定されず、例えばＣＯ＝
０〜１体積％、ＣＯ2＝０〜１０体積％、Ｏ2＝０〜２０
体積％、窒素酸化物＝０〜１体積％、硫黄酸化物＝０〜
０．０５体積％、Ｈ2Ｏ＝０〜１５体積％で良い。
【００２１】炭化水素を吸着除去する際の空間速度、吸
着温度は、使用状況に応じて適宜設定することができ
る。一般的には、空間速度が１００〜５０００００ｈｒ
-1、吸着温度が−３０〜２５０℃で十分である。
着温度は、使用状況に応じて適宜設定することができ
る。一般的には、空間速度が１００〜５０００００ｈｒ
-1、吸着温度が−３０〜２５０℃で十分である。
【００２２】
【実施例】以下、実施例において本発明を更に詳細に説
明する。しかし、本発明はこれらの実施例に何ら限定さ
れるものではない。
明する。しかし、本発明はこれらの実施例に何ら限定さ
れるものではない。
【００２３】＜実施例１＞吸着剤１の調製 水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ ９９重量％）と水酸化カ
リウム（ＫＯＨ ８５重量％）と水酸化アルミニウム
（Ａｌ（ＯＨ）3 ９９．６重量％）の混合物を純水に
加熱溶解した後、純水を加え、次いでホワイトカーボン
（日本シリカ工業製ニップシールＶＮ−３，ＳｉＯ2
８８重量％）を加えて以下のモル組成比の原料混合物を
調製した。
リウム（ＫＯＨ ８５重量％）と水酸化アルミニウム
（Ａｌ（ＯＨ）3 ９９．６重量％）の混合物を純水に
加熱溶解した後、純水を加え、次いでホワイトカーボン
（日本シリカ工業製ニップシールＶＮ−３，ＳｉＯ2
８８重量％）を加えて以下のモル組成比の原料混合物を
調製した。
【００２４】ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3＝１３ ＯＨ／ＳｉＯ2＝０．４ Ｋ／（Ｋ＋Ｎａ）＝０．５ Ｈ2Ｏ／ＳｉＯ2＝２５ （ＯＨのモル数は水酸化ナトリウムのモル数と水酸化カ
リウムのモル数の合計） この混合物を容量５０００ｍＬのオートクレーブに入
れ、回転速度５０ｒｐｍで攪拌しながら１５０℃で１４
４時間の水熱合成を行なった。冷却後、固形分を分離
し、十分水洗した後、１１０℃で一晩乾燥した。
リウムのモル数の合計） この混合物を容量５０００ｍＬのオートクレーブに入
れ、回転速度５０ｒｐｍで攪拌しながら１５０℃で１４
４時間の水熱合成を行なった。冷却後、固形分を分離
し、十分水洗した後、１１０℃で一晩乾燥した。
【００２５】洗浄、乾燥後の生成物をＩＣＰ発光分析で
調べたところ、以下の組成を有していた。
調べたところ、以下の組成を有していた。
【００２６】ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3＝１０ Ｋ／（Ｋ＋Ｎａ）＝０．８１ （Ｎａ，Ｋ）2Ｏ／Ａｌ2Ｏ3＝１．０ また生成物の結晶構造をＸＲＤ分析により分析したとこ
ろ、表１に示したものと同等のＸ線回折図が得られ、Ｈ
ＥＵであることを確認した。
ろ、表１に示したものと同等のＸ線回折図が得られ、Ｈ
ＥＵであることを確認した。
【００２７】この得られたＨＥＵ；４０ｇを、ＮＨ4Ｃ
ｌ；１８．０ｇを溶解した塩化アンモニウム水溶液中に
添加し、６０℃で２０時間のイオン交換操作を行なっ
た。このイオン交換操作を２回繰り返した後、固液分離
し、Ｃｌイオンが検出できなくなるまで純水で洗浄し、
１１０℃で２０時間乾燥してアンモニウム型ＨＥＵを得
た。このアンモニウム型ＨＥＵを、５００℃１時間空気
中で焼成して、吸着剤１を得た。
ｌ；１８．０ｇを溶解した塩化アンモニウム水溶液中に
添加し、６０℃で２０時間のイオン交換操作を行なっ
た。このイオン交換操作を２回繰り返した後、固液分離
し、Ｃｌイオンが検出できなくなるまで純水で洗浄し、
１１０℃で２０時間乾燥してアンモニウム型ＨＥＵを得
た。このアンモニウム型ＨＥＵを、５００℃１時間空気
中で焼成して、吸着剤１を得た。
【００２８】＜比較例１＞比較吸着剤１の調製 ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル比が４０の東ソー製ＺＳＭ−５
型構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−８４０ＮＡ
Ａ）；４０ｇを、ＮＨ4Ｃｌ；１８．０ｇを溶解した塩
化アンモニウム水溶液中に添加し、６０℃で２０時間の
イオン交換操作を行なった。このイオン交換操作を２回
繰り返した後、固液分離し、Ｃｌイオンが検出できなく
なるまで純水で洗浄し、１１０℃で２０時間乾燥してア
ンモニウム型ＺＳＭ−５ゼオライトを得た。このアンモ
ニウム型ＺＳＭ−５を、５００℃１時間空気中で焼成し
て、比較吸着剤１を得た。
型構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−８４０ＮＡ
Ａ）；４０ｇを、ＮＨ4Ｃｌ；１８．０ｇを溶解した塩
化アンモニウム水溶液中に添加し、６０℃で２０時間の
イオン交換操作を行なった。このイオン交換操作を２回
繰り返した後、固液分離し、Ｃｌイオンが検出できなく
なるまで純水で洗浄し、１１０℃で２０時間乾燥してア
ンモニウム型ＺＳＭ−５ゼオライトを得た。このアンモ
ニウム型ＺＳＭ−５を、５００℃１時間空気中で焼成し
て、比較吸着剤１を得た。
【００２９】＜比較例２＞比較吸着剤２の調製 ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル比が１７の東ソー製フェリエラ
イト構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−７２０ＫＯ
Ａ）を用いたこと以外は、比較例１と同様な操作を行な
って比較吸着剤２を得た。
イト構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−７２０ＫＯ
Ａ）を用いたこと以外は、比較例１と同様な操作を行な
って比較吸着剤２を得た。
【００３０】＜比較例３＞比較吸着剤３の調製 ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル比が２６の東ソー製モルデナイ
ト構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−６６０ＨＯＡ）
を用いたこと以外は、比較例１と同様な操作を行なって
比較吸着剤３を得た。
ト構造のゼオライト（商品名：ＨＳＺ−６６０ＨＯＡ）
を用いたこと以外は、比較例１と同様な操作を行なって
比較吸着剤３を得た。
【００３１】＜比較例４＞比較吸着剤４の調製 ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル比が２６の東ソー製β型構造の
ゼオライト（商品名：ＨＳＺ−９３０ＮＨＡ）を空気中
６００℃で焼成した後、比較例１と同様な操作を行なっ
て比較吸着剤４を得た。
ゼオライト（商品名：ＨＳＺ−９３０ＮＨＡ）を空気中
６００℃で焼成した後、比較例１と同様な操作を行なっ
て比較吸着剤４を得た。
【００３２】＜炭化水素の吸着除去試験Ｉ＞吸着剤１及
び比較吸着剤１〜４について、各々０．１ｇを石英ガラ
ス製の常圧固定床流通式反応管に充填し、炭化水素の吸
着実験に供した。前処理として、空気を５０ｃｃ／ｍｉ
ｎ流通させながら、２０℃／ｍｉｎの昇温速度で５００
℃まで加熱し、５００℃で１時間保持した。室温まで冷
却し、Ｈｅガスで完全に置換した後に、表２の組成のモ
デル排ガスを室温下、ガス流速１００ｃｃ／ｍｉｎで吸
着剤に１時間接触させた。この時の空間速度（体積基
準）は３００００ｈｒ-1であった。モデル排ガス中のエ
チレンの吸着剤への吸着が飽和に達したことを確認し、
再度Ｈｅガスを吸着剤に導入し、気相に残存するエチレ
ンを完全に除去した。続いて、Ｈｅガスを５０ｃｃ／ｍ
ｉｎで流通し、吸着剤を１０℃／ｍｉｎで昇温しなが
ら、吸着剤から脱離する炭化水素を水素炎イオン化検出
器（ＦＩＤ）を備えたガスクロマトグラフにより、連続
的に定量分析し、エチレンの吸着特性を評価した。表３
にエチレンの吸着量を示す。
び比較吸着剤１〜４について、各々０．１ｇを石英ガラ
ス製の常圧固定床流通式反応管に充填し、炭化水素の吸
着実験に供した。前処理として、空気を５０ｃｃ／ｍｉ
ｎ流通させながら、２０℃／ｍｉｎの昇温速度で５００
℃まで加熱し、５００℃で１時間保持した。室温まで冷
却し、Ｈｅガスで完全に置換した後に、表２の組成のモ
デル排ガスを室温下、ガス流速１００ｃｃ／ｍｉｎで吸
着剤に１時間接触させた。この時の空間速度（体積基
準）は３００００ｈｒ-1であった。モデル排ガス中のエ
チレンの吸着剤への吸着が飽和に達したことを確認し、
再度Ｈｅガスを吸着剤に導入し、気相に残存するエチレ
ンを完全に除去した。続いて、Ｈｅガスを５０ｃｃ／ｍ
ｉｎで流通し、吸着剤を１０℃／ｍｉｎで昇温しなが
ら、吸着剤から脱離する炭化水素を水素炎イオン化検出
器（ＦＩＤ）を備えたガスクロマトグラフにより、連続
的に定量分析し、エチレンの吸着特性を評価した。表３
にエチレンの吸着量を示す。
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】＜炭化水素の吸着除去試験ＩＩ＞吸着剤１
及び比較吸着剤２について、モデル排ガス中の炭化水素
ガスをエチレンからエタンに変えたこと以外は、炭化水
素の吸着除去試験Ｉと同様な操作を行って、エタンの吸
着特性を評価した。表４にエタンの吸着量を示す。
及び比較吸着剤２について、モデル排ガス中の炭化水素
ガスをエチレンからエタンに変えたこと以外は、炭化水
素の吸着除去試験Ｉと同様な操作を行って、エタンの吸
着特性を評価した。表４にエタンの吸着量を示す。
【００３６】
【表４】
【００３７】表３及び４からも分かるように、本発明の
吸着剤は炭化水素の吸着量が多く、これまでに提案され
ている吸着剤に比して、吸着特性が優れている。
吸着剤は炭化水素の吸着量が多く、これまでに提案され
ている吸着剤に比して、吸着特性が優れている。
【００３８】
【発明の効果】本発明の吸着剤は、気相中の炭化水素を
効率よく吸着除去でき、特に低級炭化水素、とりわけ炭
素数1から２のメタン、エタン、エチレンの吸着除去に
対しても有効である。
効率よく吸着除去でき、特に低級炭化水素、とりわけ炭
素数1から２のメタン、エタン、エチレンの吸着除去に
対しても有効である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D002 AA40 BA04 CA07 DA45 FA01 4G066 AA13D AA20A AA22A AA62B AA71B CA51 DA02 DA03 FA14 FA20 FA21 GA01
Claims (3)
- 【請求項１】ヒューランダイト構造を有するゼオライト
から構成されることを特徴とする炭化水素の吸着剤。 - 【請求項２】請求項１記載の吸着剤を、炭化水素を含有
する気相に接触させることを特徴する炭化水素の吸着除
去方法。 - 【請求項３】吸着除去される炭化水素がメタン、エタ
ン、エチレンの中から選ばれる少なくとも１種以上であ
ることを特徴する請求項２記載の炭化水素の吸着除去方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045987A JP2000237584A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 炭化水素の吸着剤及び炭化水素の吸着除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045987A JP2000237584A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 炭化水素の吸着剤及び炭化水素の吸着除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000237584A true JP2000237584A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12734516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11045987A Pending JP2000237584A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 炭化水素の吸着剤及び炭化水素の吸着除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000237584A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005092482A1 (ja) * | 2004-03-05 | 2005-10-06 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | 排ガス浄化装置 |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP11045987A patent/JP2000237584A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005092482A1 (ja) * | 2004-03-05 | 2005-10-06 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | 排ガス浄化装置 |
| CN100428980C (zh) * | 2004-03-05 | 2008-10-29 | 三菱自动车工业株式会社 | 排气净化装置 |
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