JP2000223681A5 - 基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 貼り合わせ基板の製造方法であって、
内部に多孔質層を有し、その上に第1の層を有し、その上に更に第2の層を有する第1の基板を作成する第1工程と、
前記第1の基板の主面と第2の基板とを貼り合せて、貼り合わせ基板を作成する第2工程と、
前記貼り合わせ基板に化学的処理を施すことにより、前記第1の層の外周端の少なくとも一部を前記貼り合わせ基板の内部方向に後退させる第3工程と、
を含むことを特徴とする貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項2】 前記第3工程は、前記第2工程により作成された貼り合わせ基板の前記第1の層の外周部の少なくとも一部を酸化させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項3】 前記第3工程は、前記第2工程により作成された貼り合わせ基板の前記第1の層の外周端の少なくとも一部をエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項4】 前記第1工程は、Si基板に陽極化成処理を施すことにより前記多孔質層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項5】 前記第1工程は、
前記多孔質層の上に前記第1の層としてのSi層を形成する工程と、
前記Si層の表面を熱酸化させることにより、前記Si層上に前記第2の層としてのSiO2層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項6】 基板の製造方法であって、
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板の製造方法により貼り合わせ基板を作成する工程と、
作成された貼り合わせ基板を前記多孔質層の部分で2枚の基板に分離する工程と、
を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項7】 前記分離工程では、前記貼り合わせ基板の貼り合わせ面付近に向けて流体を噴射し、該流体により前記貼り合わせ基板を前記多孔質層の部分で2枚の基板に分離することを特徴とする請求項6に記載の基板の製造方法。
【請求項1】 貼り合わせ基板の製造方法であって、
内部に多孔質層を有し、その上に第1の層を有し、その上に更に第2の層を有する第1の基板を作成する第1工程と、
前記第1の基板の主面と第2の基板とを貼り合せて、貼り合わせ基板を作成する第2工程と、
前記貼り合わせ基板に化学的処理を施すことにより、前記第1の層の外周端の少なくとも一部を前記貼り合わせ基板の内部方向に後退させる第3工程と、
を含むことを特徴とする貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項2】 前記第3工程は、前記第2工程により作成された貼り合わせ基板の前記第1の層の外周部の少なくとも一部を酸化させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項3】 前記第3工程は、前記第2工程により作成された貼り合わせ基板の前記第1の層の外周端の少なくとも一部をエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項4】 前記第1工程は、Si基板に陽極化成処理を施すことにより前記多孔質層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項5】 前記第1工程は、
前記多孔質層の上に前記第1の層としてのSi層を形成する工程と、
前記Si層の表面を熱酸化させることにより、前記Si層上に前記第2の層としてのSiO2層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせ基板の製造方法。
【請求項6】 基板の製造方法であって、
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板の製造方法により貼り合わせ基板を作成する工程と、
作成された貼り合わせ基板を前記多孔質層の部分で2枚の基板に分離する工程と、
を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項7】 前記分離工程では、前記貼り合わせ基板の貼り合わせ面付近に向けて流体を噴射し、該流体により前記貼り合わせ基板を前記多孔質層の部分で2枚の基板に分離することを特徴とする請求項6に記載の基板の製造方法。
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