JP2000207028A - ステ―ジ回転を補償するために極座標ステ―ジ及び連続画像回転を用いる装置及びその装置による測定方法 - Google Patents
ステ―ジ回転を補償するために極座標ステ―ジ及び連続画像回転を用いる装置及びその装置による測定方法Info
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- JP2000207028A JP2000207028A JP11187361A JP18736199A JP2000207028A JP 2000207028 A JP2000207028 A JP 2000207028A JP 11187361 A JP11187361 A JP 11187361A JP 18736199 A JP18736199 A JP 18736199A JP 2000207028 A JP2000207028 A JP 2000207028A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
Abstract
(57)【要約】
【課題】 極座標ステージによる面積節約を実現する
と共に、画像回転及び移動速度の変動による混乱をなく
すシステム及び方法を提供する。 【解決手段】 その方法は極座標ステージを制御して
画像処理システムに対して物体を移動させる。物体を移
動中に物体の画像を回転させ、物体の回転を補償する。
従って画像内の構造の方向は保持され、画像内の明らか
な回転を除去することにより、物体移動中にオペレータ
が経験する混乱は低減される。物体の移動角速度は、画
像シフト速度が視認される点の径方向の位置と独立にな
るように制御される。極座標ステージを用いることによ
り、そのステージが必要とする装置面積を低減し、プレ
アライメントを容易にする。詳細には極座標ステージが
物体を回転中に、エッジ検出部が物体位置を測定する。
自動パターン認識を用いるプレアライメントプロセスが
測定したエッジ位置から物体の位置及び方向を判定す
る。
と共に、画像回転及び移動速度の変動による混乱をなく
すシステム及び方法を提供する。 【解決手段】 その方法は極座標ステージを制御して
画像処理システムに対して物体を移動させる。物体を移
動中に物体の画像を回転させ、物体の回転を補償する。
従って画像内の構造の方向は保持され、画像内の明らか
な回転を除去することにより、物体移動中にオペレータ
が経験する混乱は低減される。物体の移動角速度は、画
像シフト速度が視認される点の径方向の位置と独立にな
るように制御される。極座標ステージを用いることによ
り、そのステージが必要とする装置面積を低減し、プレ
アライメントを容易にする。詳細には極座標ステージが
物体を回転中に、エッジ検出部が物体位置を測定する。
自動パターン認識を用いるプレアライメントプロセスが
測定したエッジ位置から物体の位置及び方向を判定す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、極座標ステージを
用いてサンプルを位置付ける測定及び検査システムに関
連する。
用いてサンプルを位置付ける測定及び検査システムに関
連する。
【０００２】
【従来の技術】多くの測定及び検査システムは、Ｘ，Ｙ
ステージ上に半導体ウエハのようなサンプルを載置す
る。Ｘ，Ｙステージは２つの独立した直交方向Ｘ及びＹ
においてサンプルを移動し、視認、画像処理或いは測定
のためにそのサンプルの領域を選択することができる。
例えばＸ，Ｙステージはウエハを移動させ、画像処理シ
ステムの視界内にウエハのある領域を選択及び位置付け
ることができる。Ｘ及びＹ方向におけるＸ，Ｙステージ
の移動距離により、隅々まで検査することできる最も大
きなサンプルの大きさが確定されるが、大きなサンプル
の場合、大きな移動距離が必要となる。従って検査シス
テムは大きなサンプル、例えばより大きな直径の半導体
ウエハを収容するために大きくなっている。
ステージ上に半導体ウエハのようなサンプルを載置す
る。Ｘ，Ｙステージは２つの独立した直交方向Ｘ及びＹ
においてサンプルを移動し、視認、画像処理或いは測定
のためにそのサンプルの領域を選択することができる。
例えばＸ，Ｙステージはウエハを移動させ、画像処理シ
ステムの視界内にウエハのある領域を選択及び位置付け
ることができる。Ｘ及びＹ方向におけるＸ，Ｙステージ
の移動距離により、隅々まで検査することできる最も大
きなサンプルの大きさが確定されるが、大きなサンプル
の場合、大きな移動距離が必要となる。従って検査シス
テムは大きなサンプル、例えばより大きな直径の半導体
ウエハを収容するために大きくなっている。
【０００３】Ｘ，Ｙステージの移動範囲を収容するため
に必要とされる空間は、サンプルの幅にＸ方向における
移動距離を加えたもの以上の幅と、サンプルの長さにＹ
方向の移動距離を加えたもの以上の長さとを有する。図
１は、Ｘ，Ｙステージを用いて円形サンプル１１０を位
置付けるシステム１００を示す。システム１００は、例
えばビデオカメラ、顕微鏡、干渉計、反射率計、楕円偏
光計、ＦＴＩＲ分光計或いは任意のタイプの分光光度計
からなる画像処理並びにまた測定システム（図示せず）
を備える。そのようなシステムは典型的にはサンプル１
１０より非常に小さい視界１３０を有する。サンプル１
１０の左端を視認するために、Ｘ，Ｙステージはサンプ
ル１１０を位置１１２に移動させ、サンプル１１０の左
端が視界１３０内に入るようにする。位置１１２は、サ
ンプル１１０の半径ｒだけサンプル１１０の中央位置か
ら右にオフセットされる。サンプル１１０の右端を視認
するための位置１１６は、中央位置からＸ軸に沿って左
側に距離ｒだけオフセットされる。従ってＸ，Ｙステー
ジは、サンプル１１０の隅々まで検査するためにＸ軸に
沿って２ｒの移動距離を有する必要がある。同様にＸ，
ＹステージはＹ軸に沿って２ｒの移動距離を有する必要
があり、サンプル１１０を隅々まで視認するために位置
付けることができる、Ｘ，Ｙステージに対して必要とさ
れる最低限の面積１２０は約１６×ｒ2である。
に必要とされる空間は、サンプルの幅にＸ方向における
移動距離を加えたもの以上の幅と、サンプルの長さにＹ
方向の移動距離を加えたもの以上の長さとを有する。図
１は、Ｘ，Ｙステージを用いて円形サンプル１１０を位
置付けるシステム１００を示す。システム１００は、例
えばビデオカメラ、顕微鏡、干渉計、反射率計、楕円偏
光計、ＦＴＩＲ分光計或いは任意のタイプの分光光度計
からなる画像処理並びにまた測定システム（図示せず）
を備える。そのようなシステムは典型的にはサンプル１
１０より非常に小さい視界１３０を有する。サンプル１
１０の左端を視認するために、Ｘ，Ｙステージはサンプ
ル１１０を位置１１２に移動させ、サンプル１１０の左
端が視界１３０内に入るようにする。位置１１２は、サ
ンプル１１０の半径ｒだけサンプル１１０の中央位置か
ら右にオフセットされる。サンプル１１０の右端を視認
するための位置１１６は、中央位置からＸ軸に沿って左
側に距離ｒだけオフセットされる。従ってＸ，Ｙステー
ジは、サンプル１１０の隅々まで検査するためにＸ軸に
沿って２ｒの移動距離を有する必要がある。同様にＸ，
ＹステージはＹ軸に沿って２ｒの移動距離を有する必要
があり、サンプル１１０を隅々まで視認するために位置
付けることができる、Ｘ，Ｙステージに対して必要とさ
れる最低限の面積１２０は約１６×ｒ2である。
【０００４】多くの応用例では、サンプルを正確に位置
決め、かつ配向する必要があるか、或いは少なくとも
Ｘ，Ｙステージに対するサンプルの位置及び方向に関し
て正確な情報が必要とされる。この要件は、サンプルが
概ね円形の半導体ウエハである自動半導体製造工程にお
いても共通である。ウエハの位置は、回転軸の周りにお
いてウエハを回転させ、その回転の関数としてウエハの
外周位置における変動をモニタすることにより正確に確
定されることができる。測定された外周変動の解析は、
回転軸からウエハの中央までのオフセットを正確に確定
することができる。さらにその処理はウエハの方向を識
別することができるが、それはほとんどの半導体ウエハ
がその外周部においてノッチ或いは平坦部のような方向
指示部を有するためである。エッジ検出部が、ウエハの
外周部における平坦部或いはノッチが回転して通過する
時点を検出する。そのような位置検出器システムの例
は、プレアライナと呼ばれる場合もあり、Ｊｕｄｅｌｌ
等による米国特許第４，４５７，６６４号、Ｂａｃｃｈ
ｉ等による米国特許第５，３０８，２２号、Ｂａｃｃｈ
ｉ等による米国特許第５，５１１，９３４号及びＢａｃ
ｃｈｉ等による米国特許第５，５１３，９４８号に記載
される。Ｘ，Ｙステージに対する事前位置合わせである
プレアライメントは、個別のプレアライメントステーシ
ョンのようなさらに別の構造体を必要とし、そこからウ
エハはプレアライメント後にＸ，Ｙステージに移送され
るか、或いはウエハを回転するためにＸ，Ｙステージ上
の回転式サブステージに移送される。
決め、かつ配向する必要があるか、或いは少なくとも
Ｘ，Ｙステージに対するサンプルの位置及び方向に関し
て正確な情報が必要とされる。この要件は、サンプルが
概ね円形の半導体ウエハである自動半導体製造工程にお
いても共通である。ウエハの位置は、回転軸の周りにお
いてウエハを回転させ、その回転の関数としてウエハの
外周位置における変動をモニタすることにより正確に確
定されることができる。測定された外周変動の解析は、
回転軸からウエハの中央までのオフセットを正確に確定
することができる。さらにその処理はウエハの方向を識
別することができるが、それはほとんどの半導体ウエハ
がその外周部においてノッチ或いは平坦部のような方向
指示部を有するためである。エッジ検出部が、ウエハの
外周部における平坦部或いはノッチが回転して通過する
時点を検出する。そのような位置検出器システムの例
は、プレアライナと呼ばれる場合もあり、Ｊｕｄｅｌｌ
等による米国特許第４，４５７，６６４号、Ｂａｃｃｈ
ｉ等による米国特許第５，３０８，２２号、Ｂａｃｃｈ
ｉ等による米国特許第５，５１１，９３４号及びＢａｃ
ｃｈｉ等による米国特許第５，５１３，９４８号に記載
される。Ｘ，Ｙステージに対する事前位置合わせである
プレアライメントは、個別のプレアライメントステーシ
ョンのようなさらに別の構造体を必要とし、そこからウ
エハはプレアライメント後にＸ，Ｙステージに移送され
るか、或いはウエハを回転するためにＸ，Ｙステージ上
の回転式サブステージに移送される。
【０００５】図２は、極座標ステージを用いてサンプル
１１０を位置付けるシステムを示す。極座標ステージは
線形駆動機構上に載置される回転式プラットフォームを
備える。線形駆動機構は座標軸Ｒに沿ってプラットフォ
ーム及びサンプルを移動させ、プラットフォームはプラ
ットフォームの回転軸の周りにおいてサンプルを回転さ
せる。極座標ステージは、サンプル１１０を隅々まで検
査するために位置付ける際に、著しく少ない面積しか必
要としない。詳細には、軸Ｒに沿った移動距離ｒ（サン
プルの半径）は、０からｒの範囲において任意の径方向
座標ρを視界１３０の中央に配置することができる。そ
の後サンプル１１０の回転により角座標θが選択され、
サンプル１１０上の任意の点が視界１３０内に位置付け
られることができる。極座標ステージは一次元の直線上
の移動及びＸ，Ｙステージの半分の移動距離しか必要と
しないため、極座標ステージはＸ，Ｙステージが必要と
する面積より著しく少ない面積しか必要としない。詳細
には極座標ステージは約６×ｒ2の面積を必要とする
が、それはＸ，Ｙステージが必要とする面積の４０％よ
り少ない。
１１０を位置付けるシステムを示す。極座標ステージは
線形駆動機構上に載置される回転式プラットフォームを
備える。線形駆動機構は座標軸Ｒに沿ってプラットフォ
ーム及びサンプルを移動させ、プラットフォームはプラ
ットフォームの回転軸の周りにおいてサンプルを回転さ
せる。極座標ステージは、サンプル１１０を隅々まで検
査するために位置付ける際に、著しく少ない面積しか必
要としない。詳細には、軸Ｒに沿った移動距離ｒ（サン
プルの半径）は、０からｒの範囲において任意の径方向
座標ρを視界１３０の中央に配置することができる。そ
の後サンプル１１０の回転により角座標θが選択され、
サンプル１１０上の任意の点が視界１３０内に位置付け
られることができる。極座標ステージは一次元の直線上
の移動及びＸ，Ｙステージの半分の移動距離しか必要と
しないため、極座標ステージはＸ，Ｙステージが必要と
する面積より著しく少ない面積しか必要としない。詳細
には極座標ステージは約６×ｒ2の面積を必要とする
が、それはＸ，Ｙステージが必要とする面積の４０％よ
り少ない。
【０００６】極座標ステージの欠点は、ステージがサン
プル１１０を回転させ、１つの検査位置から別の検査位
置まで移動する際に、視界１３０におけるサンプル１１
０部分が一般に回転するようになるという点である。こ
うしてオペレータ或いは装置の視認ソフトウエアが画像
処理システムを介してサンプルを視認する際に、種々の
領域が異なる方向を有するように現れる。さらに任意の
一定ステージ回転速度の場合、移動速度は一般に位置間
で変化する。ある測定システムでは、オペレータが測定
或いは検査されるサンプルの一部の画像を観測し、サン
プルの動きを制御し、何れの領域を測定或いは検査する
かを選択する。極座標ステージの場合、画像回転及び変
化する画像の動きにより、オペレータが連続的にサンプ
ル１１０を視認或いは検査し、さらに１つの位置から別
の位置までサンプルを移動させる際に、おそらく混乱す
るか或いは方向を見失うようになる。
プル１１０を回転させ、１つの検査位置から別の検査位
置まで移動する際に、視界１３０におけるサンプル１１
０部分が一般に回転するようになるという点である。こ
うしてオペレータ或いは装置の視認ソフトウエアが画像
処理システムを介してサンプルを視認する際に、種々の
領域が異なる方向を有するように現れる。さらに任意の
一定ステージ回転速度の場合、移動速度は一般に位置間
で変化する。ある測定システムでは、オペレータが測定
或いは検査されるサンプルの一部の画像を観測し、サン
プルの動きを制御し、何れの領域を測定或いは検査する
かを選択する。極座標ステージの場合、画像回転及び変
化する画像の動きにより、オペレータが連続的にサンプ
ル１１０を視認或いは検査し、さらに１つの位置から別
の位置までサンプルを移動させる際に、おそらく混乱す
るか或いは方向を見失うようになる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】極座標ステージによる
面積節約を実現すると共に、画像回転及び移動速度の変
動による混乱をなくすようにするシステム及び方法を提
供する。
面積節約を実現すると共に、画像回転及び移動速度の変
動による混乱をなくすようにするシステム及び方法を提
供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様に従え
ば、極座標ステージ及び画像処理システムを備えるシス
テムは、画像を回転させ、極座標ステージがサンプルの
一部から別の部分まで移動する際に生じる画像回転を連
続的に補償する。一実施例では制御システムはジョイス
ティック、マウス或いは外部コンピュータのような制御
部から、画像シフトの所望の方向及び速度を定義する制
御コマンドを受取る。その制御システムが、極座標ステ
ージに必要とされる動き及び必要とされる画像訂正を確
定し、所望の画像シフトを達成する。制御システムは、
制御コマンドに一致させるために必要とされる信号を生
成し、極座標ステージをρ及びθだけ駆動するのに必要
とされる信号を加える。画像訂正は、画像処理システム
を機械的に変更することにより、或いは視認される画像
を回転するように画像信号を処理することにより実行さ
れる。
ば、極座標ステージ及び画像処理システムを備えるシス
テムは、画像を回転させ、極座標ステージがサンプルの
一部から別の部分まで移動する際に生じる画像回転を連
続的に補償する。一実施例では制御システムはジョイス
ティック、マウス或いは外部コンピュータのような制御
部から、画像シフトの所望の方向及び速度を定義する制
御コマンドを受取る。その制御システムが、極座標ステ
ージに必要とされる動き及び必要とされる画像訂正を確
定し、所望の画像シフトを達成する。制御システムは、
制御コマンドに一致させるために必要とされる信号を生
成し、極座標ステージをρ及びθだけ駆動するのに必要
とされる信号を加える。画像訂正は、画像処理システム
を機械的に変更することにより、或いは視認される画像
を回転するように画像信号を処理することにより実行さ
れる。
【０００９】本発明の一実施例では、画像処理システム
は動的光機械画像訂正を含む。例えば画像処理システム
が光学顕微鏡を備える場合、ドーブプリズムのような光
学素子が、その光学素子の変動特性に基づく量だけ画像
を回転させる。画像処理システムが、走査型電子ビーム
顕微鏡のような走査型ビーム顕微鏡を備える場合、動的
画像回転ユニットが走査方向を回転させ、その画像を回
転させる。制御システムは動的画像訂正装置を調整する
ために必要とされる信号を計算及び印加し、必要な画像
訂正を達成する。例えば制御システムは、適当な速度及
び方向においてドーブプリズム或いはビーム偏向部を回
転させ、ステージが移動する間に画像方向を保持するこ
とができる。別法では画像処理システムは、ステージ
が、サンプルを回転させるのに応じて回転する画像を表
す第１の画像信号を与え、制御システムはその第１の画
像信号を電子工学的に処理し、ステージが回転する間に
所望の方向を保持する第２の画像信号を生成する。
は動的光機械画像訂正を含む。例えば画像処理システム
が光学顕微鏡を備える場合、ドーブプリズムのような光
学素子が、その光学素子の変動特性に基づく量だけ画像
を回転させる。画像処理システムが、走査型電子ビーム
顕微鏡のような走査型ビーム顕微鏡を備える場合、動的
画像回転ユニットが走査方向を回転させ、その画像を回
転させる。制御システムは動的画像訂正装置を調整する
ために必要とされる信号を計算及び印加し、必要な画像
訂正を達成する。例えば制御システムは、適当な速度及
び方向においてドーブプリズム或いはビーム偏向部を回
転させ、ステージが移動する間に画像方向を保持するこ
とができる。別法では画像処理システムは、ステージ
が、サンプルを回転させるのに応じて回転する画像を表
す第１の画像信号を与え、制御システムはその第１の画
像信号を電子工学的に処理し、ステージが回転する間に
所望の方向を保持する第２の画像信号を生成する。
【００１０】本発明の別の実施例に従えば、測定システ
ムはサンプル測定サブシステム、画像処理システム、極
座標ステージ及びサンプルプレアライナを備える。プレ
アライナは、プレアライメントプロセス中に、極座標ス
テージがサンプルを回転させる間にサンプルのエッジの
位置を測定するエッジ検出部を備える。従ってプレアラ
イメントはサンプルを回転させる間にさらに別の構造体
を用いることなく終了することができる。プレアライメ
ント後、位置合わせ処理であるアライメント（或いは傾
き補正）プロセスはパターン認識を用いて、そのサンプ
ル上の構造を正確に位置決めし、その構造の位置から、
サンプルの位置の正確な指示を与える。アライメント中
に、極座標ステージはサンプルを移動させ、ある構造が
画像処理システムの視界内に入るようになる。その視界
内にその構造を移動させる際に、サンプルの画像は回転
し、その結果その構造は既存の方向を有する。その構造
の方向が既知であるため、パターン認識ソフトウエアは
その視界内でその構造の位置をより容易に、しかもより
迅速に測定することができる。こうしてアライメントプ
ロセスは比較的迅速に実行される。一度サンプルが位置
合わせされれば、そのステージはサンプルを、測定サブ
システムがサンプルを測定する点まで移動させる。
ムはサンプル測定サブシステム、画像処理システム、極
座標ステージ及びサンプルプレアライナを備える。プレ
アライナは、プレアライメントプロセス中に、極座標ス
テージがサンプルを回転させる間にサンプルのエッジの
位置を測定するエッジ検出部を備える。従ってプレアラ
イメントはサンプルを回転させる間にさらに別の構造体
を用いることなく終了することができる。プレアライメ
ント後、位置合わせ処理であるアライメント（或いは傾
き補正）プロセスはパターン認識を用いて、そのサンプ
ル上の構造を正確に位置決めし、その構造の位置から、
サンプルの位置の正確な指示を与える。アライメント中
に、極座標ステージはサンプルを移動させ、ある構造が
画像処理システムの視界内に入るようになる。その視界
内にその構造を移動させる際に、サンプルの画像は回転
し、その結果その構造は既存の方向を有する。その構造
の方向が既知であるため、パターン認識ソフトウエアは
その視界内でその構造の位置をより容易に、しかもより
迅速に測定することができる。こうしてアライメントプ
ロセスは比較的迅速に実行される。一度サンプルが位置
合わせされれば、そのステージはサンプルを、測定サブ
システムがサンプルを測定する点まで移動させる。
【００１１】
【発明の実施の形態】異なる図面であっても同一の参照
番号を使用する場合、類似或いは同一の部材を示す。
番号を使用する場合、類似或いは同一の部材を示す。
【００１２】本発明の一態様に従えば、サンプルを測
定、視認或いは検査するためのシステムは、そのサンプ
ルが載置される極座標ステージを用いる。サンプルを線
形に移動するためのオペレータコマンドを受信する制御
システムは、線形移動を実行する必要に応じて極座標ス
テージに対する信号を生成し、移動中に画像を回転さ
せ、オペレータにより視認されるようなサンプルの固定
方向を保持する。従ってオペレータはサンプルの動作方
向及び速度を容易に、しかも直観的に制御することがで
きる。
定、視認或いは検査するためのシステムは、そのサンプ
ルが載置される極座標ステージを用いる。サンプルを線
形に移動するためのオペレータコマンドを受信する制御
システムは、線形移動を実行する必要に応じて極座標ス
テージに対する信号を生成し、移動中に画像を回転さ
せ、オペレータにより視認されるようなサンプルの固定
方向を保持する。従ってオペレータはサンプルの動作方
向及び速度を容易に、しかも直観的に制御することがで
きる。
【００１３】本発明の別の態様に従えば、エッジ検出部
が、極座標ステージがサンプルを移動させている間に半
導体ウエハのような円形サンプルのエッジの位置を検出
する。エッジ測定値を処理することにより、ウエハの中
央部の位置の正確な判定及びウエハのエッジ上の平坦部
或いはノッチのような方向指示部の識別が可能となる。
従ってそのステージは、ウエハのプレアライメントの場
合に、それ以上の自由度或いはさらに別の構造体を必要
としない。
が、極座標ステージがサンプルを移動させている間に半
導体ウエハのような円形サンプルのエッジの位置を検出
する。エッジ測定値を処理することにより、ウエハの中
央部の位置の正確な判定及びウエハのエッジ上の平坦部
或いはノッチのような方向指示部の識別が可能となる。
従ってそのステージは、ウエハのプレアライメントの場
合に、それ以上の自由度或いはさらに別の構造体を必要
としない。
【００１４】図３は、本発明の一実施例による測定シス
テム３００を示す。システム３００は極座標ステージ、
画像処理システム３３０、オペレータインターフェース
３４０、制御システム３５０及びエッジ検出部３６０を
備える。極座標ステージ３２０は種々の発売元から市販
されているような標準的な極座標ステージであり、サン
プル３１０が載置される回転式プラットフォームを移動
させる線形駆動部を備える。極座標ステージ３２０は、
サンプル３１０をプラットフォームの回転軸の周りにお
いて３６０°まで回転させることができる。ロータリエ
ンコーダが線形駆動方向に対するプラットフォームの角
度方向θをモニタし、線形駆動部は線形駆動方向に沿っ
て、線形駆動部設定値ρが変化するのに応じてプラット
フォームを移動させる。また線形駆動方向はＲ座標軸と
も呼ばれる。線形エンコーダはＲ座標軸に沿ったプラッ
トフォームの線形位置をモニタする。画像処理システム
３３０が静止している場合、Ｒ座標軸に沿ったプラット
フォームの最大限の線形移動距離により、画像処理シス
テム３３０が完全に視認できる最も大きなサンプルの半
径が確定される。
テム３００を示す。システム３００は極座標ステージ、
画像処理システム３３０、オペレータインターフェース
３４０、制御システム３５０及びエッジ検出部３６０を
備える。極座標ステージ３２０は種々の発売元から市販
されているような標準的な極座標ステージであり、サン
プル３１０が載置される回転式プラットフォームを移動
させる線形駆動部を備える。極座標ステージ３２０は、
サンプル３１０をプラットフォームの回転軸の周りにお
いて３６０°まで回転させることができる。ロータリエ
ンコーダが線形駆動方向に対するプラットフォームの角
度方向θをモニタし、線形駆動部は線形駆動方向に沿っ
て、線形駆動部設定値ρが変化するのに応じてプラット
フォームを移動させる。また線形駆動方向はＲ座標軸と
も呼ばれる。線形エンコーダはＲ座標軸に沿ったプラッ
トフォームの線形位置をモニタする。画像処理システム
３３０が静止している場合、Ｒ座標軸に沿ったプラット
フォームの最大限の線形移動距離により、画像処理シス
テム３３０が完全に視認できる最も大きなサンプルの半
径が確定される。
【００１５】画像処理システム３３０はサンプル３１０
の領域を視認或いは検査するためのものである。システ
ム３００では、画像処理システム３３０はランプ３３
２、ビームスプリッタ３３３、レンズ３３４及び３３５
並びにカメラ３３８を備える光学顕微鏡である。動作時
にビームスプリッタ３３３はランプ３３２からの光をサ
ンプル３１０上の物体領域上に反射し、対角レンズ３３
４がその物体領域の拡大反射光画像を生成する。レンズ
３３５はその画像をカメラ３３０に投影し、カメラ３３
０がモニタ３４８が表示する画像を表す信号を生成す
る。レンズ３３４及び３３５は光学素子の例示に過ぎな
い。さらに別の光学素子が典型的には、適切な画像処理
システム３３０の所望の視界及び倍率を達成するために
必要とされる。一実施例では、画像処理システムは共焦
点型顕微鏡を備える。
の領域を視認或いは検査するためのものである。システ
ム３００では、画像処理システム３３０はランプ３３
２、ビームスプリッタ３３３、レンズ３３４及び３３５
並びにカメラ３３８を備える光学顕微鏡である。動作時
にビームスプリッタ３３３はランプ３３２からの光をサ
ンプル３１０上の物体領域上に反射し、対角レンズ３３
４がその物体領域の拡大反射光画像を生成する。レンズ
３３５はその画像をカメラ３３０に投影し、カメラ３３
０がモニタ３４８が表示する画像を表す信号を生成す
る。レンズ３３４及び３３５は光学素子の例示に過ぎな
い。さらに別の光学素子が典型的には、適切な画像処理
システム３３０の所望の視界及び倍率を達成するために
必要とされる。一実施例では、画像処理システムは共焦
点型顕微鏡を備える。
【００１６】また測定サブシステム３３７は画像処理シ
ステム３３０と協働し、視認されるサンプル３３０の領
域内或いは領域付近の点において、反射率のような特定
の特性を測定する。例えば測定サブシステム３３７は、
視界内の１つ或いはそれ以上の点における反射率を測定
する測定装置を備える場合がある。ある光学系では、測
定サブシステム３３７は例えば干渉計、反射率計、楕円
偏光計、ＦＴＩＲ分光計或いは任意のタイプの分光光度
計を備える場合がある。サブシステム３３７は画像処理
システム３３０の他の構成要素を介してサンプル３１０
を測定することができるか、或いは画像処理システム３
３０の視界内或いはその近辺の点を個別に測定するよう
に動作できる。
ステム３３０と協働し、視認されるサンプル３３０の領
域内或いは領域付近の点において、反射率のような特定
の特性を測定する。例えば測定サブシステム３３７は、
視界内の１つ或いはそれ以上の点における反射率を測定
する測定装置を備える場合がある。ある光学系では、測
定サブシステム３３７は例えば干渉計、反射率計、楕円
偏光計、ＦＴＩＲ分光計或いは任意のタイプの分光光度
計を備える場合がある。サブシステム３３７は画像処理
システム３３０の他の構成要素を介してサンプル３１０
を測定することができるか、或いは画像処理システム３
３０の視界内或いはその近辺の点を個別に測定するよう
に動作できる。
【００１７】さらに画像処理システム３３０は、画像に
調整可能な回転を与える画像回転光学素子３３６を備
え、サンプル３１０を移動させる際にステージ３２０に
より生じる画像回転を解消する。本発明の典型的な実施
例では、画像回転光学素子３３６はモータドライブ型ド
ーブプリズムを備える。ドーブプリズムは周知の光学素
子であり、光軸の周り、この場合には画像処理システム
３３０の光軸の周りにおいて画像回転を実現する。制御
システム３５０は、サンプル３１０の回転を補償する速
度でドーブプリズムを回転させる信号を生成し、カメラ
３３８内に形成される画像が回転するのを防ぐ。
調整可能な回転を与える画像回転光学素子３３６を備
え、サンプル３１０を移動させる際にステージ３２０に
より生じる画像回転を解消する。本発明の典型的な実施
例では、画像回転光学素子３３６はモータドライブ型ド
ーブプリズムを備える。ドーブプリズムは周知の光学素
子であり、光軸の周り、この場合には画像処理システム
３３０の光軸の周りにおいて画像回転を実現する。制御
システム３５０は、サンプル３１０の回転を補償する速
度でドーブプリズムを回転させる信号を生成し、カメラ
３３８内に形成される画像が回転するのを防ぐ。
【００１８】別の実施例では、画像処理システム３３０
は電子ビーム顕微鏡或いはイオンビーム顕微鏡のような
走査型ビーム顕微鏡を備え、サンプル３１０の領域を走
査し、ビデオ画像を形成する。ビデオ画像は従来通り
に、走査されたビームの走査方向に対応する水平ラスタ
ラインを有する。そのような実施例では、画像回転ユニ
ット３３６は走査方向を回転させることができるビーム
偏向システムを備える。走査方向を回転させることによ
り、モニタ３４８上の画像も回転するようになる。
は電子ビーム顕微鏡或いはイオンビーム顕微鏡のような
走査型ビーム顕微鏡を備え、サンプル３１０の領域を走
査し、ビデオ画像を形成する。ビデオ画像は従来通り
に、走査されたビームの走査方向に対応する水平ラスタ
ラインを有する。そのような実施例では、画像回転ユニ
ット３３６は走査方向を回転させることができるビーム
偏向システムを備える。走査方向を回転させることによ
り、モニタ３４８上の画像も回転するようになる。
【００１９】オペレータインターフェース３４０は、サ
ンプル３１０の物体領域の画像を観測し、サンプル３１
０に渡って画像処理システム３３０の視界の動きを制御
するためのものである。オペレータインターフェース３
４０はモニタ３４８及びオペレータ制御部３４２を備え
る。モニタ３４８は、ビデオカメラ３３８からの信号に
より示される画像を表示することができる従来のビデオ
モニタである。詳細にはモニタ３４８はサンプル３１０
の物体領域の画像を表示し、オペレータはオペレータ制
御部３４２を用いて、画像処理システム３３０の視界内
の物体領域を変更する。オペレータ制御部３４２は、ビ
デオコマンドを入力し、サンプル３１０に渡って視界の
動きを配向するためのものである。本発明の典型的な実
施例では、オペレータ制御部３４２はジョイスティック
であるが、多くの別のオペレータ制御部も適当である。
例えばモニタ３４８のある領域はタッチスクリーン、マ
ウス、トラックボール、タッチパッド或いは別の指示デ
バイスの動作を介してソフトウエア操作される制御ボタ
ンを示すことができる。典型的な実施例では、モニタ３
４８上でカメラ３３０からの画像を観測するオペレータ
は、表示された画像に対して視界を移動したい方向にジ
ョイスティックを移動させる。ジョイスティックの移動
の度合いは、画像が動く速度を確定する。
ンプル３１０の物体領域の画像を観測し、サンプル３１
０に渡って画像処理システム３３０の視界の動きを制御
するためのものである。オペレータインターフェース３
４０はモニタ３４８及びオペレータ制御部３４２を備え
る。モニタ３４８は、ビデオカメラ３３８からの信号に
より示される画像を表示することができる従来のビデオ
モニタである。詳細にはモニタ３４８はサンプル３１０
の物体領域の画像を表示し、オペレータはオペレータ制
御部３４２を用いて、画像処理システム３３０の視界内
の物体領域を変更する。オペレータ制御部３４２は、ビ
デオコマンドを入力し、サンプル３１０に渡って視界の
動きを配向するためのものである。本発明の典型的な実
施例では、オペレータ制御部３４２はジョイスティック
であるが、多くの別のオペレータ制御部も適当である。
例えばモニタ３４８のある領域はタッチスクリーン、マ
ウス、トラックボール、タッチパッド或いは別の指示デ
バイスの動作を介してソフトウエア操作される制御ボタ
ンを示すことができる。典型的な実施例では、モニタ３
４８上でカメラ３３０からの画像を観測するオペレータ
は、表示された画像に対して視界を移動したい方向にジ
ョイスティックを移動させる。ジョイスティックの移動
の度合いは、画像が動く速度を確定する。
【００２０】制御システム３５０は、オペレータインタ
ーフェース３４０から制御信号を受信し、ステージ３２
０及び画像処理システム３３０への制御信号を生成する
コンピュータシステムである。制御システム３５０はオ
ペレータ制御部３４２からの信号を解釈し、ステージ３
２０及び画像処理システム３３０を制御するための信号
を生成するコマンドモジュール３５２を備える。詳細に
はコマンドモジュール３５２はステージ３２０のρ及び
θ設定値をモニタ及び制御し、さらに画像回転ユニット
３３６が画像を回転させる角度を制御するために制御シ
ステム３５０が実行するソフトウエアを含む。ステージ
３２０がサンプル３１０を移動させるのに応じて、コマ
ンドモジュール３５２は画像回転制御ユニット３５４を
介して、画像回転ユニット３３６にコマンドを送出し、
画像回転ユニットは応答し、その画像を回転させる。画
像回転はサンプル３１０の回転と反対の方向に行われ、
その画像において現れる構造の方向がモニタ３４８上で
固定されたままになるようにする。例えばオペレータ
が、最初にモニタ３４８上に水平に現れる構造に沿って
画像を移動させる場合、制御システム３５０は、サンプ
ル３１０を回転させるステージ３２０を補償するために
制御信号を生成し、その信号を画像回転ユニット３３６
に加え、その画像における構造が、画像が移動した場合
でも水平に保持される。典型的な実施例では、画像回転
制御部３５４は画像回転ユニット３３６と情報を送受す
るハードウエアインターフェースを備える。
ーフェース３４０から制御信号を受信し、ステージ３２
０及び画像処理システム３３０への制御信号を生成する
コンピュータシステムである。制御システム３５０はオ
ペレータ制御部３４２からの信号を解釈し、ステージ３
２０及び画像処理システム３３０を制御するための信号
を生成するコマンドモジュール３５２を備える。詳細に
はコマンドモジュール３５２はステージ３２０のρ及び
θ設定値をモニタ及び制御し、さらに画像回転ユニット
３３６が画像を回転させる角度を制御するために制御シ
ステム３５０が実行するソフトウエアを含む。ステージ
３２０がサンプル３１０を移動させるのに応じて、コマ
ンドモジュール３５２は画像回転制御ユニット３５４を
介して、画像回転ユニット３３６にコマンドを送出し、
画像回転ユニットは応答し、その画像を回転させる。画
像回転はサンプル３１０の回転と反対の方向に行われ、
その画像において現れる構造の方向がモニタ３４８上で
固定されたままになるようにする。例えばオペレータ
が、最初にモニタ３４８上に水平に現れる構造に沿って
画像を移動させる場合、制御システム３５０は、サンプ
ル３１０を回転させるステージ３２０を補償するために
制御信号を生成し、その信号を画像回転ユニット３３６
に加え、その画像における構造が、画像が移動した場合
でも水平に保持される。典型的な実施例では、画像回転
制御部３５４は画像回転ユニット３３６と情報を送受す
るハードウエアインターフェースを備える。
【００２１】また制御システム３５０は角度制御ユニッ
ト３５６及び半径制御ユニット３５８に対する信号を確
定し、その信号をそのユニットに加え、ステージ３１０
が表示される画像に対して所望の速度及び所望の方向に
おいてサンプル３１０を動作させるようにする。典型的
な実施例では、制御ユニット３５６及び３５８は、ステ
ージ３２０と情報を送受するハードウエアインターフェ
ースを備える。既存のコンピュータ制御型極座標ステー
ジ及びインターフェースがシステム３００に適してい
る。さらに制御システム３５０は以下に記載するプレア
ライメントプロセスの場合にエッジ検出部３６０から信
号を受信する。プレアライメントプロセスは、サンプル
３１０の方向及び位置の正確な指示を与える。
ト３５６及び半径制御ユニット３５８に対する信号を確
定し、その信号をそのユニットに加え、ステージ３１０
が表示される画像に対して所望の速度及び所望の方向に
おいてサンプル３１０を動作させるようにする。典型的
な実施例では、制御ユニット３５６及び３５８は、ステ
ージ３２０と情報を送受するハードウエアインターフェ
ースを備える。既存のコンピュータ制御型極座標ステー
ジ及びインターフェースがシステム３００に適してい
る。さらに制御システム３５０は以下に記載するプレア
ライメントプロセスの場合にエッジ検出部３６０から信
号を受信する。プレアライメントプロセスは、サンプル
３１０の方向及び位置の正確な指示を与える。
【００２２】図４は、画像回転のためにソフトウエアを
用いる検査或いは測定システム４００のブロック図であ
る。システム４００はステージ３２０、オペレータイン
ターフェース３４０、エッジ検出部３６０及び測定サブ
システム３３７を備え、それらは図３のシステム３００
に関して上記したものと同じである。またシステム４０
０は画像処理システム４３０及び制御システム４５０も
備える。システム４００では、画像処理システム４３０
は画像を回転させるための光学或いは機械的システムを
備えない。その代わりに、制御システム４５０は画像回
転ユニット４５４を備える。画像回転ユニット４５４は
捕捉ボードを備え、それがカメラ３３８からビデオ画像
信号及びビデオ画像を回転させることにより生じるモジ
ュールを受信する。典型的にはソフトウエアが画像回転
を実行するが、別法ではハードウエアが電子工学的に画
像を回転させるように設計されることもできる。コマン
ドモジュール３５２がステージ３２０を配向し、サンプ
ル３１０を回転させる際に、カメラ３３８からの画像は
サンプル３１０の回転（及び移動）部分からなる。画像
回転ユニット４５４は入力ビデオ信号を処理し、その回
転を補償し、さらにサンプル３１０上の構造の方向を保
持するビデオ画像を表す出力ビデオ信号を生成する。そ
の後制御システム４５０は訂正された画像を表すビデオ
信号をビデオモニタ３４８に供給する。
用いる検査或いは測定システム４００のブロック図であ
る。システム４００はステージ３２０、オペレータイン
ターフェース３４０、エッジ検出部３６０及び測定サブ
システム３３７を備え、それらは図３のシステム３００
に関して上記したものと同じである。またシステム４０
０は画像処理システム４３０及び制御システム４５０も
備える。システム４００では、画像処理システム４３０
は画像を回転させるための光学或いは機械的システムを
備えない。その代わりに、制御システム４５０は画像回
転ユニット４５４を備える。画像回転ユニット４５４は
捕捉ボードを備え、それがカメラ３３８からビデオ画像
信号及びビデオ画像を回転させることにより生じるモジ
ュールを受信する。典型的にはソフトウエアが画像回転
を実行するが、別法ではハードウエアが電子工学的に画
像を回転させるように設計されることもできる。コマン
ドモジュール３５２がステージ３２０を配向し、サンプ
ル３１０を回転させる際に、カメラ３３８からの画像は
サンプル３１０の回転（及び移動）部分からなる。画像
回転ユニット４５４は入力ビデオ信号を処理し、その回
転を補償し、さらにサンプル３１０上の構造の方向を保
持するビデオ画像を表す出力ビデオ信号を生成する。そ
の後制御システム４５０は訂正された画像を表すビデオ
信号をビデオモニタ３４８に供給する。
【００２３】システム４００の１つの典型的な実施例で
は、ステージ３２０はＫｅｎｓｉｎｇｔｏｎ Ｌａｂｏ
ｒａｔｏｒｉｅｓから購入できる極座標ステージであ
り、直径２００ｍｍまでの半導体ウエハを載置するため
に用いられる。さらにｚ座標ステージが、システム４３
０並びにまた測定システム３３７に対して焦点を合わせ
るために加えられるか、或いはステージ３２０に一体化
されることができる。例えば画像処理システム３３０
は、極座標ステージ上側のウエハ上に焦点を合わせるた
めにｚ座標ステージに取着することができる。画像処理
システム４３０は、約１．３ｍｍ×１ｍｍのサンプル３
１０における視界を与える光学顕微鏡を備える。また画
像処理システム４３０は、視界の中央部における小スポ
ット（約直径１５ミクロン）から反射率のデータを収集
する分光計まで光を配向する。このデータは薄膜厚を判
定するために用いることができる。Ｒ．Ｙａｒｕｓｓｉ
及びＢｌａｉｎｅ Ｒ．Ｓｐａｄｙによる「Ｃｏｍｐａ
ｃｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ
Ｓｙｓｔｅｍ」というタイトルの同時出願の暫定米国特
許出願（番号未定、弁理士整理番号第７５５６−０００
１号）は、いくつかの適当な測定及び画像処理システム
を記載しており、全体を参照して本明細書の一部として
いる。
は、ステージ３２０はＫｅｎｓｉｎｇｔｏｎ Ｌａｂｏ
ｒａｔｏｒｉｅｓから購入できる極座標ステージであ
り、直径２００ｍｍまでの半導体ウエハを載置するため
に用いられる。さらにｚ座標ステージが、システム４３
０並びにまた測定システム３３７に対して焦点を合わせ
るために加えられるか、或いはステージ３２０に一体化
されることができる。例えば画像処理システム３３０
は、極座標ステージ上側のウエハ上に焦点を合わせるた
めにｚ座標ステージに取着することができる。画像処理
システム４３０は、約１．３ｍｍ×１ｍｍのサンプル３
１０における視界を与える光学顕微鏡を備える。また画
像処理システム４３０は、視界の中央部における小スポ
ット（約直径１５ミクロン）から反射率のデータを収集
する分光計まで光を配向する。このデータは薄膜厚を判
定するために用いることができる。Ｒ．Ｙａｒｕｓｓｉ
及びＢｌａｉｎｅ Ｒ．Ｓｐａｄｙによる「Ｃｏｍｐａ
ｃｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ
Ｓｙｓｔｅｍ」というタイトルの同時出願の暫定米国特
許出願（番号未定、弁理士整理番号第７５５６−０００
１号）は、いくつかの適当な測定及び画像処理システム
を記載しており、全体を参照して本明細書の一部として
いる。
【００２４】制御システム４５０は、ビデオカメラ３３
８に接続するためのビデオキャプチャボード及びステー
ジ３２０に接続するためのインターフェースを備える４
００ＭＨｚ Ｐｅｎｔｉｕｎ ＩＩ搭載パーソナルコン
ピュータのようなコンピュータである。リアルタイム画
像回転を実行することができるビデオキャプチャボード
は、例えばＶｉｓｉｃｏｍ社を含む種々の発売元から市
販されている。制御システム４５０をステージ３２０に
接続するために必要となるインターフェースボードは、
ステージ製造者によるものである。この実施例では、オ
ペレータ制御部３４２はソフトウエアにおいて、制御部
がモニタ３４８上に現れるように実装される。
８に接続するためのビデオキャプチャボード及びステー
ジ３２０に接続するためのインターフェースを備える４
００ＭＨｚ Ｐｅｎｔｉｕｎ ＩＩ搭載パーソナルコン
ピュータのようなコンピュータである。リアルタイム画
像回転を実行することができるビデオキャプチャボード
は、例えばＶｉｓｉｃｏｍ社を含む種々の発売元から市
販されている。制御システム４５０をステージ３２０に
接続するために必要となるインターフェースボードは、
ステージ製造者によるものである。この実施例では、オ
ペレータ制御部３４２はソフトウエアにおいて、制御部
がモニタ３４８上に現れるように実装される。
【００２５】オペレータがシステム３００或いは４００
を用いてサンプル３１０を測定或いは検査する前に、プ
レアライメント及びアライメントプロセスにより、サン
プル３１０の位置及び方向が正確に確定される。典型的
にはウエハのようなサンプルがステージ３２０上に載置
される際に、サンプル３１０の中央部の位置が１〜２ｍ
ｍの誤差範囲内でのみ知られており、サンプル３１０の
角度方向は完全に未知である。本発明の一態様に従え
ば、プレアライメント手順がエッジ検出部３６０及びス
テージ３２０を用いて、サンプル３１０の位置及び方向
を確定する。プレアライメント手順の場合、サンプル３
１０の下側の光源（図示せず）がサンプル３１０を照明
し、サンプル３１０はエッジ検出部３６０上にその影を
投射する。エッジ検出部３６０はサンプル３１０の上側
に配置される線形検出アレイを備え、ステージ３２０が
サンプル３１０を３６０°まで回転させる間にサンプル
３１０の影がエッジ位置を正確に特定する。サンプル３
１０は概ね円形をなすが、完全にステージの中央には配
置されない場合、検出部３６０上の影の位置は、ステー
ジ３２０がサンプル３１０を回転させるのに応じてわず
かに移動する。
を用いてサンプル３１０を測定或いは検査する前に、プ
レアライメント及びアライメントプロセスにより、サン
プル３１０の位置及び方向が正確に確定される。典型的
にはウエハのようなサンプルがステージ３２０上に載置
される際に、サンプル３１０の中央部の位置が１〜２ｍ
ｍの誤差範囲内でのみ知られており、サンプル３１０の
角度方向は完全に未知である。本発明の一態様に従え
ば、プレアライメント手順がエッジ検出部３６０及びス
テージ３２０を用いて、サンプル３１０の位置及び方向
を確定する。プレアライメント手順の場合、サンプル３
１０の下側の光源（図示せず）がサンプル３１０を照明
し、サンプル３１０はエッジ検出部３６０上にその影を
投射する。エッジ検出部３６０はサンプル３１０の上側
に配置される線形検出アレイを備え、ステージ３２０が
サンプル３１０を３６０°まで回転させる間にサンプル
３１０の影がエッジ位置を正確に特定する。サンプル３
１０は概ね円形をなすが、完全にステージの中央には配
置されない場合、検出部３６０上の影の位置は、ステー
ジ３２０がサンプル３１０を回転させるのに応じてわず
かに移動する。
【００２６】図５は、サンプル３１０がその外周上にノ
ッチを有する円形なウエハである場合に、ステージ３２
０の角度位置対サンプル３１０の影の位置の典型的なグ
ラフを示す。サンプル３１０の影の位置は概ね正弦曲線
に従うが、ノッチがその正弦曲線においてスパイク５１
０を形成する場所は除く。サンプル３１０の角度方向は
スパイク５１０の位置から見いだされる。サンプル３１
０の中央部のステージ３２０の回転軸からのオフセット
は、正弦曲線の最大値／最小値から特定される方向と正
弦曲線の振幅の半分の大きさとを有するベクトルであ
る。既存の統計分析技術を（スパイクを無視する）影位
置測定に適用して、オフセットを判定することができ
る。システム４００の典型的な実施例の場合、ウエハの
位置は約０．２ｍｍの誤差範囲内で見いだされる。
ッチを有する円形なウエハである場合に、ステージ３２
０の角度位置対サンプル３１０の影の位置の典型的なグ
ラフを示す。サンプル３１０の影の位置は概ね正弦曲線
に従うが、ノッチがその正弦曲線においてスパイク５１
０を形成する場所は除く。サンプル３１０の角度方向は
スパイク５１０の位置から見いだされる。サンプル３１
０の中央部のステージ３２０の回転軸からのオフセット
は、正弦曲線の最大値／最小値から特定される方向と正
弦曲線の振幅の半分の大きさとを有するベクトルであ
る。既存の統計分析技術を（スパイクを無視する）影位
置測定に適用して、オフセットを判定することができ
る。システム４００の典型的な実施例の場合、ウエハの
位置は約０．２ｍｍの誤差範囲内で見いだされる。
【００２７】これは多くの応用例の場合に十分な精度で
はない。アライメントの次の段階は傾き補正手順であ
る。この手順は約１ｍｍ×１ｍｍの視界を監視し、サン
プル３１０の視界内のアライメントマークのような特徴
を識別するビデオカメラを用いて実行することができ
る。画像処理システム３３０（図３）及び４３０（図
４）は多くの要件を満足しており、そのアライメントプ
ロセスに対して用いることができる。プレアライメント
手順によりサンプル３１０は約０．２ｍｍまで位置合わ
せされるため、所望の構造の予測位置の中央をなす１ｍ
ｍ×１ｍｍの視界はその構造を含むことになろう。制御
システムにおいて実行されるパターン認識ソフトウエア
を用いて、その構造の位置を数ミクロンの誤差範囲内で
見いだすことができる。サンプル３１０上の別の位置に
おける構造を用いてアライメントプロセスを繰り返すこ
とにより、サンプル３１０の位置及び方向を正確に見い
だすことができる。ステージ３２０が十分に精密である
なら、サンプル３１０上の任意の点は、単にステージ３
２０の測定値を制御するだけで数ミクロンの誤差範囲内
で見いだすことができる。ステージ３２０の精度が不十
分である場合は、後続の測定点において、パターン認識
が繰り返される。ウエハが正確に配置された時点で、光
学測定が実行されるようになる。
はない。アライメントの次の段階は傾き補正手順であ
る。この手順は約１ｍｍ×１ｍｍの視界を監視し、サン
プル３１０の視界内のアライメントマークのような特徴
を識別するビデオカメラを用いて実行することができ
る。画像処理システム３３０（図３）及び４３０（図
４）は多くの要件を満足しており、そのアライメントプ
ロセスに対して用いることができる。プレアライメント
手順によりサンプル３１０は約０．２ｍｍまで位置合わ
せされるため、所望の構造の予測位置の中央をなす１ｍ
ｍ×１ｍｍの視界はその構造を含むことになろう。制御
システムにおいて実行されるパターン認識ソフトウエア
を用いて、その構造の位置を数ミクロンの誤差範囲内で
見いだすことができる。サンプル３１０上の別の位置に
おける構造を用いてアライメントプロセスを繰り返すこ
とにより、サンプル３１０の位置及び方向を正確に見い
だすことができる。ステージ３２０が十分に精密である
なら、サンプル３１０上の任意の点は、単にステージ３
２０の測定値を制御するだけで数ミクロンの誤差範囲内
で見いだすことができる。ステージ３２０の精度が不十
分である場合は、後続の測定点において、パターン認識
が繰り返される。ウエハが正確に配置された時点で、光
学測定が実行されるようになる。
【００２８】図６は、極座標ステージ３２０及び画像回
転ユニット４５４の制御及びサンプル３１０の測定或い
は検査中に図４のステージ３２０上でのサンプル３１０
の位置の判定を行うプロセス６００を示す流れ図を示
す。最初のブロック６１０は、制御システム４５０にお
いてシステム制御プログラムを開始する。プロセス６０
０の最初の問合せ６２０は、サンプル３１０がステージ
３２０上に存在するか否かを判定する。物体存在センサ
或いはオペレータが問合せ６２０に対応し、もしサンプ
ルが存在しないなら、プロセス６００はエラー（サンプ
ル不在）を報告することによりステップ６２５において
終了する。サンプル３１０が存在する場合には、ブロッ
ク６３０は上記のプレアライメント／アライメントプロ
セスを実行する。詳細にはステージ３２０がサンプル３
１０を回転させ、エッジ検出部３６０がエッジ位置を測
定し、さらに制御システム４５０がエッジ位置測定値を
解析し、ステージ３２０の回転軸とサンプル３１０の中
央部との間のオフセットを特定する。必要ならその後サ
ンプル３１０は傾き補正手順を用いてより正確にされ
る。プレアライメント／アライメントステップ６３０
は、サンプル３１０の正確なアライメントが不要である
場合、例えばサンプル３１０は単に視覚的に検査される
場合省略されることができる。
転ユニット４５４の制御及びサンプル３１０の測定或い
は検査中に図４のステージ３２０上でのサンプル３１０
の位置の判定を行うプロセス６００を示す流れ図を示
す。最初のブロック６１０は、制御システム４５０にお
いてシステム制御プログラムを開始する。プロセス６０
０の最初の問合せ６２０は、サンプル３１０がステージ
３２０上に存在するか否かを判定する。物体存在センサ
或いはオペレータが問合せ６２０に対応し、もしサンプ
ルが存在しないなら、プロセス６００はエラー（サンプ
ル不在）を報告することによりステップ６２５において
終了する。サンプル３１０が存在する場合には、ブロッ
ク６３０は上記のプレアライメント／アライメントプロ
セスを実行する。詳細にはステージ３２０がサンプル３
１０を回転させ、エッジ検出部３６０がエッジ位置を測
定し、さらに制御システム４５０がエッジ位置測定値を
解析し、ステージ３２０の回転軸とサンプル３１０の中
央部との間のオフセットを特定する。必要ならその後サ
ンプル３１０は傾き補正手順を用いてより正確にされ
る。プレアライメント／アライメントステップ６３０
は、サンプル３１０の正確なアライメントが不要である
場合、例えばサンプル３１０は単に視覚的に検査される
場合省略されることができる。
【００２９】一度サンプル３１０が存在し、適切に位置
合わせされれば、プロセス６００はオペレータからのコ
マンドによりサンプル３１０を移動させる。ステップ６
４０では制御システム４００がオペレータから直交座標
入力コマンドを受信する。その入力コマンドは、モニタ
３４８上の画像に対する所望の移動方向及び速度を示
す。ブロック６４０は直交座標入力コマンドをステージ
３２０に対する極座標出力コマンドに変換し、ブロック
６６０がステージ３２０に適当な信号を加え、サンプル
３１０を移動させる。ステップ６７０はステップ６６０
と同時に生じ、画像を回転させ、ステップ６６０におけ
るサンプル３１０の回転を解消する。
合わせされれば、プロセス６００はオペレータからのコ
マンドによりサンプル３１０を移動させる。ステップ６
４０では制御システム４００がオペレータから直交座標
入力コマンドを受信する。その入力コマンドは、モニタ
３４８上の画像に対する所望の移動方向及び速度を示
す。ブロック６４０は直交座標入力コマンドをステージ
３２０に対する極座標出力コマンドに変換し、ブロック
６６０がステージ３２０に適当な信号を加え、サンプル
３１０を移動させる。ステップ６７０はステップ６６０
と同時に生じ、画像を回転させ、ステップ６６０におけ
るサンプル３１０の回転を解消する。
【００３０】変換及び画像回転ステップ６６０及び６７
０を例示するために、図７はステージ３２０のＸ及びＹ
座標軸とＲ座標軸との間の関係をしめす。Ｘ及びＹ軸は
サンプル３１０上に固定され、サンプル３１０は載置さ
れるプラットフォームの回転軸７１０の中心をなす。上
記のように回転軸７１０は典型的には、プレアライメン
ト並びにまたアライメント中に確定される量だけサンプ
ル３１０の中央部からオフセットされる。ステージ３２
０の回転軸７１０はＲ座標軸を通る。Ｒ座標軸はステー
ジ３２０の線形動作の方向に対応し、画像処理システム
の視界７４０の中央部に保持される原点を有する。サン
プル３１０上の視認点７２０は、現時点では視界７４０
の中心にあり、回転軸７１０に対して極座標ρ及びθを
有する。座標ρはステージ３２０がサンプル３１０を移
動させた距離である。座標θはステージ３２０がサンプ
ル３１０を回転させた角度である。
０を例示するために、図７はステージ３２０のＸ及びＹ
座標軸とＲ座標軸との間の関係をしめす。Ｘ及びＹ軸は
サンプル３１０上に固定され、サンプル３１０は載置さ
れるプラットフォームの回転軸７１０の中心をなす。上
記のように回転軸７１０は典型的には、プレアライメン
ト並びにまたアライメント中に確定される量だけサンプ
ル３１０の中央部からオフセットされる。ステージ３２
０の回転軸７１０はＲ座標軸を通る。Ｒ座標軸はステー
ジ３２０の線形動作の方向に対応し、画像処理システム
の視界７４０の中央部に保持される原点を有する。サン
プル３１０上の視認点７２０は、現時点では視界７４０
の中心にあり、回転軸７１０に対して極座標ρ及びθを
有する。座標ρはステージ３２０がサンプル３１０を移
動させた距離である。座標θはステージ３２０がサンプ
ル３１０を回転させた角度である。
【００３１】画像回転６７０は、モニタ３４８上で視認
されるようなＸ及びＹ軸の方向を保持する。例えばＸ軸
が最初に水平に向けられるなら、ステージ３２０がサン
プル３１０を如何に回転させるかに関係なくモニタ３４
８上で水平方向を保持する。従ってＸ軸が最初にＲ軸に
沿って存在する場合、ステップ６７０は−θだけ画像を
回転させる。ただしθは視認点７２０の極座標である。
されるようなＸ及びＹ軸の方向を保持する。例えばＸ軸
が最初に水平に向けられるなら、ステージ３２０がサン
プル３１０を如何に回転させるかに関係なくモニタ３４
８上で水平方向を保持する。従ってＸ軸が最初にＲ軸に
沿って存在する場合、ステップ６７０は−θだけ画像を
回転させる。ただしθは視認点７２０の極座標である。
【００３２】一般に直交座標入力コマンドは、Ｘ及びＹ
成分Ｖｘ及びＶｙ、さらに画像の視認点の移動の速度を
示す大きさ｜Ｖ｜のベクトルＶを示す。本発明の一実施
例では、ステップ６５０は速度成分Ｖｘ及びＶｙを径方
向速度Ｖｒ及び角速度ωに連続的に変換する。径方向速
度Ｖｒは、ステージ３２０がＲ軸に沿ってサンプル３１
０を移動させる速度を制御し、角速度ωはサンプル３１
０の回転の角速度を確定する。速度成分は、ベクトルＶ
及び視認点７２０の座標から以下の式１を用いて確定さ
れることができる。
成分Ｖｘ及びＶｙ、さらに画像の視認点の移動の速度を
示す大きさ｜Ｖ｜のベクトルＶを示す。本発明の一実施
例では、ステップ６５０は速度成分Ｖｘ及びＶｙを径方
向速度Ｖｒ及び角速度ωに連続的に変換する。径方向速
度Ｖｒは、ステージ３２０がＲ軸に沿ってサンプル３１
０を移動させる速度を制御し、角速度ωはサンプル３１
０の回転の角速度を確定する。速度成分は、ベクトルＶ
及び視認点７２０の座標から以下の式１を用いて確定さ
れることができる。
【００３３】
【数１】Ｖｒ＝Ｖｘ＊ｃｏｓθ＋Ｖｙ＊ｓｉｎθ ω＝（Ｖｘ＊ｓｉｎθ−Ｖｙ＊ｃｏｓθ）／ρ
【００３４】別法ではステージ３２０が速度設定値では
なく座標設定値を用いる場合、入力コマンドは固定周波
数でサンプリングされ、成分Ｖｘ及びＶｙは、サンプル
間の速度成分と時間との積である微小変位ΔＸ及びΔＹ
を示す。変位ΔＸ及びΔＹは、点７３０を視界７４０の
中心にシフトする。この場合には、ステップ６５０が変
位ΔＸ及びΔＹを極座標変位Δθ及びΔρに変換する。
極座標変位Δθ及びΔρは、現時点の視認点７２０の変
位ΔＸ及びΔＹ並びにその座標（Ｘ，Ｙ）或いは（θ，
ρ）に依存する大きさを有する。そのような変換は周知
の幾何学的技術を必要とする。ステージ３２０が一様に
サンプル３１０を移動させ、変位ΔＸ及びΔＹが、入力
コマンドを連続的にサンプリングする間に全時間を要す
ることが望ましい。従ってこれを達成するために、ステ
ージ速度は大きさ｜Ｖ｜により変更する必要があり、角
速度は半径と共に変更することが必要である。しかしな
がら、サンプル３１０の断続的なシフトでも、サンプリ
ング周期が十分に短い、例えばサンプリング及びシフト
速度がモニタ３４８のフレーム速度より速い場合、オペ
レータには認識されない。
なく座標設定値を用いる場合、入力コマンドは固定周波
数でサンプリングされ、成分Ｖｘ及びＶｙは、サンプル
間の速度成分と時間との積である微小変位ΔＸ及びΔＹ
を示す。変位ΔＸ及びΔＹは、点７３０を視界７４０の
中心にシフトする。この場合には、ステップ６５０が変
位ΔＸ及びΔＹを極座標変位Δθ及びΔρに変換する。
極座標変位Δθ及びΔρは、現時点の視認点７２０の変
位ΔＸ及びΔＹ並びにその座標（Ｘ，Ｙ）或いは（θ，
ρ）に依存する大きさを有する。そのような変換は周知
の幾何学的技術を必要とする。ステージ３２０が一様に
サンプル３１０を移動させ、変位ΔＸ及びΔＹが、入力
コマンドを連続的にサンプリングする間に全時間を要す
ることが望ましい。従ってこれを達成するために、ステ
ージ速度は大きさ｜Ｖ｜により変更する必要があり、角
速度は半径と共に変更することが必要である。しかしな
がら、サンプル３１０の断続的なシフトでも、サンプリ
ング周期が十分に短い、例えばサンプリング及びシフト
速度がモニタ３４８のフレーム速度より速い場合、オペ
レータには認識されない。
【００３５】本発明は特定の実施例を参照して記載され
てきたが、本記載は本発明の応用例の一例に過ぎず、限
定するものと考えられるべきではない。詳細には上記内
容のほとんどが光学顕微鏡からなる画像処理システムを
目的としてきたが、本発明の別の実施例では電子ビーム
或いはイオンビーム顕微鏡のような他の画像処理システ
ムを備える。種々の他の変更例及び開示される実施例の
特徴の組み合わせは本発明の範囲内にあり、それは請求
の範囲により確定される。
てきたが、本記載は本発明の応用例の一例に過ぎず、限
定するものと考えられるべきではない。詳細には上記内
容のほとんどが光学顕微鏡からなる画像処理システムを
目的としてきたが、本発明の別の実施例では電子ビーム
或いはイオンビーム顕微鏡のような他の画像処理システ
ムを備える。種々の他の変更例及び開示される実施例の
特徴の組み合わせは本発明の範囲内にあり、それは請求
の範囲により確定される。
【００３６】
【発明の効果】極座標ステージによる面積節約を実現す
ると共に、物体移動中の画像の回転及び速度を補償する
ことにより、画像回転及び移動速度の変動によるオペレ
ータの混乱を低減するシステム及び方法を実現すること
ができる。
ると共に、物体移動中の画像の回転及び速度を補償する
ことにより、画像回転及び移動速度の変動によるオペレ
ータの混乱を低減するシステム及び方法を実現すること
ができる。
【図１】ある有効範囲能力を有する直交座標ステージに
対して必要とされる面積を示す。
対して必要とされる面積を示す。
【図２】図１のステージと同じ有効範囲能力を有する極
座標ステージに対して必要とされる面積を示す。
座標ステージに対して必要とされる面積を示す。
【図３】光学顕微鏡及び光学画像回転を用いる本発明の
一実施例のブロック図である。
一実施例のブロック図である。
【図４】ソフトウエアを用いて画像を回転させる本発明
の一実施例のブロック図である。
の一実施例のブロック図である。
【図５】図３或いは図４のシステムの場合のプレアライ
メントプロセスにおいて用いられるエッジ位置測定値の
プロットである。
メントプロセスにおいて用いられるエッジ位置測定値の
プロットである。
【図６】図３或いは図４のシステムの場合のシステム制
御プログラムの流れ図である。
御プログラムの流れ図である。
【図７】画像軸とステージ軸との関係を示す。
１００ システム １１０ 円形サンプル １１２ サンプル左端が視界内に入る位置 １１４ サンプル下端が視界内に入る位置 １１６ サンプル右端が視界内に入る位置 １１８ サンプル上端が視界内に入る位置 １２０ ステージの最低限の面積 １３０ 視界 ２００ システム ２１２ サンプル上端が視界内に入る位置 ２２０ ステージの最低限の面積 ３００ 測定システム ３１０ サンプル ３２０ 極座標ステージ ３３０ 画像処理システム ３３２ ランプ ３３３ ビームスプリッタ ３３４ レンズ ３３５ レンズ ３３６ 画像回転ユニット ３３７ 測定サブシステム ３３８ ビデオカメラ ３４０ オペレータインターフェース ３４２ オペレータ制御部 ３４８ モニタ ３５０ 制御システム ３５２ コマンドモジュール ３５４ 画像回転制御部 ３５６ 角度制御ユニット ３５８ 半径制御ユニット ３６０ エッジ検出部 ４００ 測定システム ４３０ 画像処理システム ４５０ 制御システム ４５４ 画像回転ユニット ５１０ スパイク ６００ 位置判定プロセス ６１０ システム制御プログラム開始 ６２０ ステージ上のサンプル存在判定 ６２５ エラー報告及び終了手順 ６３０ ウエハ位置合わせ（プレアライメント／アライ
メント） ６４０ 直交座標入力コマンド受信 ６５０ 極座標移動コマンドに変換 ６６０ 極座標コマンドによるステージ移動 ６７０ 画像回転 ６８０ ステージ位置取得及び変換 ６８５ 視認位置格納及び表示 ６９０ 検査終了確認 ６９５ 終了手順 ７１０ 回転軸 ７２０ 視認点 ７３０ 点 ７４０ 視界
メント） ６４０ 直交座標入力コマンド受信 ６５０ 極座標移動コマンドに変換 ６６０ 極座標コマンドによるステージ移動 ６７０ 画像回転 ６８０ ステージ位置取得及び変換 ６８５ 視認位置格納及び表示 ６９０ 検査終了確認 ６９５ 終了手順 ７１０ 回転軸 ７２０ 視認点 ７３０ 点 ７４０ 視界
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１０月２１日（１９９９．１０．
２１）
２１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図５】
【図３】
【図４】
【図６】
【図７】
フロントページの続き (72)発明者 リチャード・エイ・ヤルーシ アメリカ合衆国カリフォルニア州94043・ マウンテンビュー・ステアリンロード 339 (72)発明者 ブライン・アール・スペーディ アメリカ合衆国カリフォルニア州95123・ サンノゼ・ハックルベリードライブ 404
Claims (36)
- 【請求項１】 装置であって、 線形駆動部を備え、また前記線形駆動部上に載置される
回転式プラットフォームを備える極座標ステージであっ
て、画像処理される物体が前記回転式プラットフォーム
上に載置される、該極座標ステージと、 画像処理システムと、 画像回転部と、 前記極座標ステージ及び前記画像回転部に接続される制
御システムとを備え、前記制御システムにより前記画像
回転部が制御され、また前記画像回転部が、回転式プラ
ットフォームの回転を補償し、画像内の構造の方向を保
持するように前記画像を回転させることを特徴とする装
置。 - 【請求項２】 前記制御システムが制御信号を前記極
座標ステージに加え、前記物体の動きを制御し、また制
御信号を前記画像回転部に加え、前記物体の前記回転を
補償することを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記画像を視認するためのモニタを含
むオペレータインターフェースをさらに備えることを特
徴とする請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】 前記オペレータインターフェースが、
前記モニタ上で視認される前記画像の所望の動きを指示
するコマンドを前記制御システムに送出するために接続
される制御部をさらに備えることを特徴とする請求項３
に記載の装置。 - 【請求項５】 前記回転式プラットフォームが、前記
ステージが回転式プラットフォームを移動させる線形駆
動軸と交差する回転軸を有することを特徴とする請求項
１に記載の装置。 - 【請求項６】 前記画像処理システムの光軸が、前記
極座標ステージに対して静止しており、前記線形駆動軸
と一致することを特徴とする請求項５に記載の装置。 - 【請求項７】 前記線形駆動部の設定値が０変位位置
に対する前記線形駆動部の変位を示すことを特徴とする
請求項１に記載の装置。 - 【請求項８】 ０角度変位設定値に対する前記回転式
プラットフォームの角度変位を測定する方向モニタ用シ
ステムをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載
の装置。 - 【請求項９】 ビデオカメラ及び表示モニタをさらに
備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１０】 前記画像回転部が、前記ビデオカメ
ラからの前記画像を捕捉し、前記制御システムにより選
択される量だけ前記画像を回転させる画像捕捉部及び画
像処理システムを備えることを特徴とする請求項９に記
載の装置。 - 【請求項１１】 前記画像処理システムが顕微鏡を備
えることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１２】 前記画像回転部が前記顕微鏡の光軸
上に回転式ドーブプリズムを備えることを特徴とする請
求項１１に記載の装置。 - 【請求項１３】 ビデオカメラ及び表示モニタをさら
に備えることを特徴とする請求項１１に記載の装置。 - 【請求項１４】 前記画像回転部が前記顕微鏡の光軸
上に回転式ドーブプリズムを備えることを特徴とする請
求項１３に記載の装置。 - 【請求項１５】 前記画像回転部が、前記ビデオカメ
ラからのビデオ画像を回転させることができるソフトウ
エアを備えることを特徴とする請求項１３に記載の装
置。 - 【請求項１６】 前記画像処理システムが走査型プロ
ーブ顕微鏡を備えることを特徴とする請求項１に記載の
装置。 - 【請求項１７】 前記画像処理システムが走査型顕微
鏡を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１８】 画像処理システム及び表示モニタを
さらに備えることを特徴とする請求項１７に記載の装
置。 - 【請求項１９】 前記画像回転部が、前記物体の表面
上における走査領域の方向を変更する一組のビーム偏向
部を備えることを特徴とする請求項１７に記載の装置。 - 【請求項２０】 前記走査型顕微鏡が走査型電子ビー
ム顕微鏡であることを特徴とする請求項１７に記載の装
置。 - 【請求項２１】 前記走査型顕微鏡が走査型イオンビ
ーム顕微鏡であることを特徴であることを特徴とする請
求項１７に記載の装置。 - 【請求項２２】 前記画像処理システムが共焦点型顕
微鏡を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項２３】 画像処理システム及び表示モニタを
さらに備えることを特徴とする請求項２２に記載の装
置。 - 【請求項２４】 前記画像回転部が回転式ドーブプリ
ズムを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項２５】 前記画像回転部が、デジタル化され
た画像を回転させるソフトウエアを備えることを特徴と
する請求項１に記載の装置。 - 【請求項２６】 前記制御システムが、前記物体の画
像に対する直交座標入力コマンドを極座標ステージコマ
ンド及び画像回転部コマンドに変換するモジュールを実
行するプロセッサを備えることを特徴とする請求項１に
記載の装置。 - 【請求項２７】 物体を視認するための方法であっ
て、 極座標ステージ上に前記物体を載置する過程と、 前記物体のある領域の画像を視認する過程と、 前記極座標ステージを用いて前記物体を移動させる過程
と、 前記画像における構造が前記物体が回転する間に固定さ
れた方向を保持するように前記物体が移動するのに応じ
て前記物体の前記画像を回転させる過程とを有すること
を特徴とする方法。 - 【請求項２８】 測定装置であって、 サンプルを載置するための回転式プラットフォームを備
える極座標ステージと、 エッジ検出部及び前記極座標ステージが前記サンプルを
回転させる間に前記エッジ検出部が受取る測定値から前
記サンプルの位置を特定する処理システムを備えるアラ
イメントシステムと、 前記極座標ステージが測定システムの視界内に移動させ
た前記サンプルの一部の物理的特性を測定するための測
定システムと、 前記極座標ステージが画像処理システムの視界内に移動
させた前記サンプルの一部の画像を得るための画像処理
システムとを備えることを特徴とする測定装置。 - 【請求項２９】 前記極座標ステージによる前記サン
プルの回転を補償するように前記画像を回転させる画像
回転部をさらに備えることを特徴とする請求項２８に記
載の測定装置。 - 【請求項３０】 前記アライメントシステムが、前記
画像回転部により回転するのに応じて前記画像内のある
構造を特定し、前記構造の特定から前記サンプルの一部
を判定するパターン認識モジュールをさらに備えること
を特徴とする請求項２９に記載の測定装置。 - 【請求項３１】 前記画像処理システムがビデオカメ
ラを備え、前記画像回転部が前記ビデオカメラからのビ
デオ画像を回転させることを特徴とする請求項２９に記
載の測定装置。 - 【請求項３２】 前記画像回転部が、前記画像を回転
させるための光学素子を備えることを特徴とする請求項
２９に記載の測定装置。 - 【請求項３３】 前記アライメントシステムが、前記
画像内の構造を特定し、前記サンプルの位置を判定する
パターン認識モジュールをさらに備えることを特徴とす
る請求項２８に記載の測定装置。 - 【請求項３４】 測定方法であって、 サンプルを極座標ステージ上に載置する過程であって、
前記載置されるサンプルが第１の精度として知られる位
置を有する、該過程と、 前記極座標ステージが前記サンプルを回転させる間に前
記サンプルのエッジ位置を測定する過程と、 前記エッジ位置から前記サンプルの前記位置を確定する
ことにより前記サンプルをプレアライメントする過程で
あって、前記プレアライメントにより前記サンプルの前
記位置が第２の精度に確定される、該過程と、 画像処理システムの視認領域が第１の構造を含むよう
に、前記極座標ステージを用いてサンプルを移動する過
程と、 前記画像処理システムにより形成される画像を回転さ
せ、前記極座標ステージによる前記サンプルの回転を補
償する過程と、 パターン認識モジュールを用いて前記回転した画像を処
理し、前記第１の構造に対応する前記第１の位置を特定
する過程と、 前記第１の位置に対して特定された位置を有する点で前
記サンプルの特性を測定する過程とを有することを特徴
とする測定方法。 - 【請求項３５】 前記極座標ステージを用いて、前記
画像処理システムの前記視認領域が第２の構造を含むよ
うに前記サンプルを移動させる過程と、 前記画像処理システムにより形成される前記画像を回転
させ、前記第２の構造まで移動する間に前記極座標ステ
ージにより前記サンプルの回転を補償する過程と、 前記回転した画像上でパターン認識モジュールを用い
て、前記第２の構造に対応する第２の位置を特定する過
程と、 前記第１及び第２の位置の特定を用いて、前記サンプル
の前記位置を第３の精度に確定する過程とをさらに有す
ることを特徴とする請求項３４に記載の方法。 - 【請求項３６】 前記極座標ステージを用いて、複数
の測定点が、前記測定点におけるサンプルの特性を測定
するための一連の位置になるように前記サンプルを移動
する過程と、 前記測定点において前記サンプルの前記特性を順次測定
する過程とをさらに有することを特徴とする請求項３４
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/113,484 US6320609B1 (en) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | System using a polar coordinate stage and continuous image rotation to compensate for stage rotation |
| US09/113484 | 1998-07-10 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000207028A true JP2000207028A (ja) | 2000-07-28 |
| JP2000207028A5 JP2000207028A5 (ja) | 2006-02-09 |
| JP4422238B2 JP4422238B2 (ja) | 2010-02-24 |
Family
ID=22349716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18736199A Expired - Fee Related JP4422238B2 (ja) | 1998-07-10 | 1999-07-01 | ステージ回転を補償するために極座標ステージ及び連続画像回転を用いる装置及びその装置による測定方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6320609B1 (ja) |
| EP (1) | EP0971254A3 (ja) |
| JP (1) | JP4422238B2 (ja) |
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