JP2000206163A - 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置 - Google Patents
電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 供試機器の放射電磁波による電磁界強度につ
いて電界成分と磁界成分のそれぞれを小型かつ簡易な設
備で測定することができる電磁界強度の測定方法及び装
置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置を提供する。 【解決手段】 プローブ１０を供試機器１との間で静電
結合及び電磁結合が生じる範囲内に配置し、プローブ１
０の両端から出力される電流をそれぞれ電流測定器２１
及び２２で測定し、計算機３０の演算部３１は、この２
つの電流値から、プローブ１０と供試機器１との間にお
ける静電結合による電流と、電磁結合による電流とを分
離して算出する。この算出結果から、供試機器１の近傍
の電磁界強度を電界成分及び磁界成分に分離して得るこ
とができる。
いて電界成分と磁界成分のそれぞれを小型かつ簡易な設
備で測定することができる電磁界強度の測定方法及び装
置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置を提供する。 【解決手段】 プローブ１０を供試機器１との間で静電
結合及び電磁結合が生じる範囲内に配置し、プローブ１
０の両端から出力される電流をそれぞれ電流測定器２１
及び２２で測定し、計算機３０の演算部３１は、この２
つの電流値から、プローブ１０と供試機器１との間にお
ける静電結合による電流と、電磁結合による電流とを分
離して算出する。この算出結果から、供試機器１の近傍
の電磁界強度を電界成分及び磁界成分に分離して得るこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種電子機器から
外部に向けて放射される電磁波によって形成される電磁
界の強度を測定する方法及びその装置に関するものであ
る。
外部に向けて放射される電磁波によって形成される電磁
界の強度を測定する方法及びその装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ＥＭＩ（Electro Magnetic Interferenc
e）対策として電子機器から放射される電磁波による電
磁界の強度測定を行う方法としては、以下に示すような
ものが規定されている。例えば、測定対象となる電子機
器、すなわち供試機器をオープンスペースに設置し、こ
の供試機器から３ｍから１０ｍの距離をもってループア
ンテナやダイポールアンテナを設置して測定するもので
ある。このようにアンテナを供試機器から十分な距離を
おいて設置した場合には、ループアンテナにおいては遠
方放射電磁界の磁界成分だけを測定でき、ダイポールア
ンテナにおいては電界成分だけを測定できる。そして、
遠方放射電磁界の一方の成分を測定すれば他方を算出す
ることができる。また、オープンスペースではなく電波
暗室において測定する方法も規定されている。
e）対策として電子機器から放射される電磁波による電
磁界の強度測定を行う方法としては、以下に示すような
ものが規定されている。例えば、測定対象となる電子機
器、すなわち供試機器をオープンスペースに設置し、こ
の供試機器から３ｍから１０ｍの距離をもってループア
ンテナやダイポールアンテナを設置して測定するもので
ある。このようにアンテナを供試機器から十分な距離を
おいて設置した場合には、ループアンテナにおいては遠
方放射電磁界の磁界成分だけを測定でき、ダイポールア
ンテナにおいては電界成分だけを測定できる。そして、
遠方放射電磁界の一方の成分を測定すれば他方を算出す
ることができる。また、オープンスペースではなく電波
暗室において測定する方法も規定されている。
【０００３】一方、供試機器において電磁波の放射源を
特定する場合もある。例えば、回路基板上においてどの
部位から電磁波が強く放射されているかを特定する場合
である。このように場合には、前述した測定とは異なり
供試機器の近傍において電磁界強度を測定する。一般的
には、小型ループアンテナを供試機器に近接させて電磁
界の磁界成分を測定している。すなわち、電磁結合によ
る誘電起電力を利用して供試機器による電磁界の磁界成
分を測定するものである。そして、これに基づき供試機
器における電流電圧分布を求めて、放射源を特定してい
る。
特定する場合もある。例えば、回路基板上においてどの
部位から電磁波が強く放射されているかを特定する場合
である。このように場合には、前述した測定とは異なり
供試機器の近傍において電磁界強度を測定する。一般的
には、小型ループアンテナを供試機器に近接させて電磁
界の磁界成分を測定している。すなわち、電磁結合によ
る誘電起電力を利用して供試機器による電磁界の磁界成
分を測定するものである。そして、これに基づき供試機
器における電流電圧分布を求めて、放射源を特定してい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記オープ
ンスペース等による測定方法は広大な設置スペースや多
額の設備投資が必要である。そこで近年、放射電磁波強
度の評価法として、ＴＥＭセルと呼ばれる同軸伝送線路
を用いた評価方法が注目されている。この評価方法で
は、同軸伝送線路の内部導体と外部導体の間に供試機器
を配置し、内部導体の一端からの出力により評価するも
のである。この方法では、比較的小規模の設備で評価が
可能であるという利点がある。
ンスペース等による測定方法は広大な設置スペースや多
額の設備投資が必要である。そこで近年、放射電磁波強
度の評価法として、ＴＥＭセルと呼ばれる同軸伝送線路
を用いた評価方法が注目されている。この評価方法で
は、同軸伝送線路の内部導体と外部導体の間に供試機器
を配置し、内部導体の一端からの出力により評価するも
のである。この方法では、比較的小規模の設備で評価が
可能であるという利点がある。
【０００５】しかしならが、ＴＥＭセルを用いた方法で
は、オープンスペースでの測定との相関がとれないとい
う問題があった。すなわち、供試機器と内部導体との距
離が近接するため、ＴＥＭセルからの出力電流が電磁結
合による電流と静電結合による電流を無視できなくなる
ためである。
は、オープンスペースでの測定との相関がとれないとい
う問題があった。すなわち、供試機器と内部導体との距
離が近接するため、ＴＥＭセルからの出力電流が電磁結
合による電流と静電結合による電流を無視できなくなる
ためである。
【０００６】一方、前記ループアンテナを用いて電磁波
の放射源を精度良く特定するためには、電界成分による
影響を排除する必要がある。このためループアンテナに
シールドを設けたシールデッド・ループアンテナがしば
しば用いられる。このシールデッド・ループアンテナで
は、電界成分の影響を受けづらいので、磁界成分のみの
測定を比較的高精度で行うことができる。
の放射源を精度良く特定するためには、電界成分による
影響を排除する必要がある。このためループアンテナに
シールドを設けたシールデッド・ループアンテナがしば
しば用いられる。このシールデッド・ループアンテナで
は、電界成分の影響を受けづらいので、磁界成分のみの
測定を比較的高精度で行うことができる。
【０００７】しかしながら、シールデッド・ループアン
テナといえども、その構造上シールドが設けられていな
い部分では供試機器との間で電界結合を生じることにな
るため、磁界成分のみの正確な測定は困難である。ま
た、シールド部分を有するという構造上小型化が困難で
ある。つまり、分解能の向上が困難であった。
テナといえども、その構造上シールドが設けられていな
い部分では供試機器との間で電界結合を生じることにな
るため、磁界成分のみの正確な測定は困難である。ま
た、シールド部分を有するという構造上小型化が困難で
ある。つまり、分解能の向上が困難であった。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、供試機器の放射電磁
波による電磁界強度について電界成分と磁界成分のそれ
ぞれを小型かつ簡易な設備で容易かつ正確に測定するこ
とができる電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電
圧分布の測定方法及び装置を提供することにある。
であり、その目的とするところは、供試機器の放射電磁
波による電磁界強度について電界成分と磁界成分のそれ
ぞれを小型かつ簡易な設備で容易かつ正確に測定するこ
とができる電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電
圧分布の測定方法及び装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明では、供試機器の放射電磁波により
該供試機器の周囲に形成される電磁界の強度を測定する
方法において、少なくとも一部の周波数領域において供
試機器との間で静電結合及び電磁結合する範囲内に導体
を配置し、供試機器と導体間の静電結合により導体から
出力される電流と、供試機器と導体間の電磁結合により
導体から出力される電流との合成電流について、供試機
器に対して互いに異なる複数方向に出力される各合成電
流を測定し、これら複数の合成電流値及びその出力方向
に基づき静電結合による電流値及び電磁結合による電流
値を算出し、算出した各電流値に基づき電界強度及び磁
界強度をそれぞれ算出することを特徴とするものを提案
する。
に、請求項１の発明では、供試機器の放射電磁波により
該供試機器の周囲に形成される電磁界の強度を測定する
方法において、少なくとも一部の周波数領域において供
試機器との間で静電結合及び電磁結合する範囲内に導体
を配置し、供試機器と導体間の静電結合により導体から
出力される電流と、供試機器と導体間の電磁結合により
導体から出力される電流との合成電流について、供試機
器に対して互いに異なる複数方向に出力される各合成電
流を測定し、これら複数の合成電流値及びその出力方向
に基づき静電結合による電流値及び電磁結合による電流
値を算出し、算出した各電流値に基づき電界強度及び磁
界強度をそれぞれ算出することを特徴とするものを提案
する。
【００１０】一般に、静電結合により出力される電流
（以下、静電結合電流という）と電磁結合により出力さ
れる電流（以下、電磁結合電流という）とは異なる方向
性を有している。本発明では、供試機器と導体間の静電
結合電流については、電磁波の放射源から離れる方向に
出力される。一方、供試機器と導体間の電磁結合電流に
ついては、導体の形状や両者間の位置関係に応じて特定
の一方向に出力されるが、導体周囲の磁界の向きによっ
てその方向及び電流値は異なるものとなる。すなわち、
導体のある部位においては静電結合電流と電磁結合電流
は同方向の出力されるが、他の部位においては逆方向に
なる。したがって、導体のある部位において出力される
電流は、静電結合電流と電磁結合電流との合成電流とな
っている。そこで、供試機器に対して互いに異なる複数
方向に出力される各合成電流を測定すれば、静電結合電
流と電磁結合電流を分離して算出することができる。そ
して、この各電流値により電磁界の電界成分と磁界成分
を正確に測定することができる。
（以下、静電結合電流という）と電磁結合により出力さ
れる電流（以下、電磁結合電流という）とは異なる方向
性を有している。本発明では、供試機器と導体間の静電
結合電流については、電磁波の放射源から離れる方向に
出力される。一方、供試機器と導体間の電磁結合電流に
ついては、導体の形状や両者間の位置関係に応じて特定
の一方向に出力されるが、導体周囲の磁界の向きによっ
てその方向及び電流値は異なるものとなる。すなわち、
導体のある部位においては静電結合電流と電磁結合電流
は同方向の出力されるが、他の部位においては逆方向に
なる。したがって、導体のある部位において出力される
電流は、静電結合電流と電磁結合電流との合成電流とな
っている。そこで、供試機器に対して互いに異なる複数
方向に出力される各合成電流を測定すれば、静電結合電
流と電磁結合電流を分離して算出することができる。そ
して、この各電流値により電磁界の電界成分と磁界成分
を正確に測定することができる。
【００１１】また、請求項２の発明では、請求項１記載
の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電流
の測定では、前記導体を前記供試機器に対して相対的に
回転させ、異なる複数の回転位置において導体の所定位
置から出力される合成電流を測定することを特徴とする
ものを提案する。
の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電流
の測定では、前記導体を前記供試機器に対して相対的に
回転させ、異なる複数の回転位置において導体の所定位
置から出力される合成電流を測定することを特徴とする
ものを提案する。
【００１２】本発明によれば、導体の所定位置に出力さ
れる合成電流は、静電結合による電流成分は一定である
が、電磁結合による電流成分は回転位置により異なった
ものとなる。すなわち、導体の回転位置により異なる複
数の合成電流値を得ることができる。これにより、前述
したように、電磁界の電界成分と磁界成分を正確に測定
することができる。また、供試機器による磁界の方向は
供試機器に流れる電流方向によるので、複数の電磁結合
電流を得れば、供試機器に流れる電流方向を求めること
ができる。
れる合成電流は、静電結合による電流成分は一定である
が、電磁結合による電流成分は回転位置により異なった
ものとなる。すなわち、導体の回転位置により異なる複
数の合成電流値を得ることができる。これにより、前述
したように、電磁界の電界成分と磁界成分を正確に測定
することができる。また、供試機器による磁界の方向は
供試機器に流れる電流方向によるので、複数の電磁結合
電流を得れば、供試機器に流れる電流方向を求めること
ができる。
【００１３】さらに、請求項３の発明では、請求項１記
載の電磁界強度の測定方法において、前記導体がループ
アンテナであることを特徴とするものを提案する。
載の電磁界強度の測定方法において、前記導体がループ
アンテナであることを特徴とするものを提案する。
【００１４】本発明によれば、前記導体がループアンテ
ナなので、静電結合電流はその両端に向かって出力さ
れ、電磁結合電流は磁界方向に応じて一端側から他端側
に出力される。つまり、ループアンテナの一端側の合成
電流は静電結合電流＋電磁結合電流となり、他端側は静
電結合電流−電磁結合電流となる。したがって、各合成
電流値より静電結合電流及び電磁結合電流を分離して算
出することができる。これにより、この各電流値により
電磁界の電界成分と磁界成分を正確に測定することがで
きる。
ナなので、静電結合電流はその両端に向かって出力さ
れ、電磁結合電流は磁界方向に応じて一端側から他端側
に出力される。つまり、ループアンテナの一端側の合成
電流は静電結合電流＋電磁結合電流となり、他端側は静
電結合電流−電磁結合電流となる。したがって、各合成
電流値より静電結合電流及び電磁結合電流を分離して算
出することができる。これにより、この各電流値により
電磁界の電界成分と磁界成分を正確に測定することがで
きる。
【００１５】さらに、請求項４の発明では、請求項３記
載の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電
流の測定では、前記ループアンテナを前記供試機器に対
して相対的に回転させ、異なる複数の回転位置において
該ループアンテナの少なくとも一端から出力される合成
電流を測定することを特徴とするものを提案する。
載の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電
流の測定では、前記ループアンテナを前記供試機器に対
して相対的に回転させ、異なる複数の回転位置において
該ループアンテナの少なくとも一端から出力される合成
電流を測定することを特徴とするものを提案する。
【００１６】本発明によれば、複数の合成電流を確実に
得ることができるので、各合成電流値より静電結合電流
及び電磁結合電流を分離して算出することができる。ま
た、複数の電磁結合電流値を得れば、供試機器に流れる
電流方向を求めることができる。
得ることができるので、各合成電流値より静電結合電流
及び電磁結合電流を分離して算出することができる。ま
た、複数の電磁結合電流値を得れば、供試機器に流れる
電流方向を求めることができる。
【００１７】さらに、請求項５の発明では、請求項３又
は４何れか１項記載の電磁界強度の測定方法において、
前記ループアンテナの両端に出力される合成電流をそれ
ぞれ測定することを特徴とするものを提案する。
は４何れか１項記載の電磁界強度の測定方法において、
前記ループアンテナの両端に出力される合成電流をそれ
ぞれ測定することを特徴とするものを提案する。
【００１８】本発明によれば、２つの合成電流値を確実
に得ることができるので、この合成電流値より確実に静
電結合電流及び電磁結合電流を分離して算出することが
できる。
に得ることができるので、この合成電流値より確実に静
電結合電流及び電磁結合電流を分離して算出することが
できる。
【００１９】さらに、請求項６の発明では、請求項３〜
５何れか１項記載の電磁界強度の測定方法において、前
記ループアンテナを前記供試機器に対して相対的に移動
させることにより電磁界の強度分布を測定することを特
徴とするものを提案する。
５何れか１項記載の電磁界強度の測定方法において、前
記ループアンテナを前記供試機器に対して相対的に移動
させることにより電磁界の強度分布を測定することを特
徴とするものを提案する。
【００２０】本発明によれば、供試機器の各部位近傍に
おける電磁界の強度を電界成分と磁界成分とを分離して
測定することができる。したがって、供試機器における
各部位の電流値及び電位並びに電流方向の分布を得るこ
とができる。
おける電磁界の強度を電界成分と磁界成分とを分離して
測定することができる。したがって、供試機器における
各部位の電流値及び電位並びに電流方向の分布を得るこ
とができる。
【００２１】さらに、請求項７の発明では、請求項６記
載の電磁界強度の測定方法において、前記ループアンテ
ナの移動は前記供試機器に対して一定の間隔をもって行
うことを特徴とするものを提案する。
載の電磁界強度の測定方法において、前記ループアンテ
ナの移動は前記供試機器に対して一定の間隔をもって行
うことを特徴とするものを提案する。
【００２２】本発明によれば、供試機器との間隔を一定
にしてループアンテナを移動させるので、電磁界強度を
安定的かつ正確に測定することができる。したがって、
供試機器のおける電流値及び電位並びに電流方向の分布
を正確かつ確実に得ることができる。
にしてループアンテナを移動させるので、電磁界強度を
安定的かつ正確に測定することができる。したがって、
供試機器のおける電流値及び電位並びに電流方向の分布
を正確かつ確実に得ることができる。
【００２３】さらに、請求項８の発明では、請求項１記
載ので磁界強度の測定方法において、前記導体が同軸伝
送線路の内部導体であるとともに、該同軸伝送線路の内
部導体と外部導体の間に供試機器を配置することを特徴
とするものを提案する。
載ので磁界強度の測定方法において、前記導体が同軸伝
送線路の内部導体であるとともに、該同軸伝送線路の内
部導体と外部導体の間に供試機器を配置することを特徴
とするものを提案する。
【００２４】本発明によれば、同軸伝送線路の内部導体
の一端に静電結合電流及び電磁結合電流の合成電流が出
力される。したがって、この合成電流値から静電結合電
流及び電磁結合電流を分離して算出することができる。
の一端に静電結合電流及び電磁結合電流の合成電流が出
力される。したがって、この合成電流値から静電結合電
流及び電磁結合電流を分離して算出することができる。
【００２５】さらに、請求項９の発明では、請求項８記
載の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電
流の測定では、前記供試機器を前記同軸伝送線路内で回
転させ、異なる複数の回転位置において内部導体の少な
くとも一端から出力される合成電流を測定することを特
徴とするものを提案する。
載の電磁界強度の測定方法において、前記複数の合成電
流の測定では、前記供試機器を前記同軸伝送線路内で回
転させ、異なる複数の回転位置において内部導体の少な
くとも一端から出力される合成電流を測定することを特
徴とするものを提案する。
【００２６】本発明によれば、供試機器の回転位置に応
じて、内部導体の少なくとも一端から互いに値の異なる
複数の合成電流を得ることができる。したがって、この
複数の合成電流値に基づき、確実に静電結合電流及び電
磁結合電流を分離して算出することができる。
じて、内部導体の少なくとも一端から互いに値の異なる
複数の合成電流を得ることができる。したがって、この
複数の合成電流値に基づき、確実に静電結合電流及び電
磁結合電流を分離して算出することができる。
【００２７】さらに、請求項８又は９の発明の好適な態
様の一例として、請求項１０の発明では、前記同軸伝送
線路がＴＥＭセルであることを特徴とするものを提案す
る。また、請求項１１の発明では、前記同軸伝送線路が
Ｇ−ＴＥＭセルであることを特徴とするものを提案す
る。これにより請求項８又は９の発明を確実に実施する
ことができる。
様の一例として、請求項１０の発明では、前記同軸伝送
線路がＴＥＭセルであることを特徴とするものを提案す
る。また、請求項１１の発明では、前記同軸伝送線路が
Ｇ−ＴＥＭセルであることを特徴とするものを提案す
る。これにより請求項８又は９の発明を確実に実施する
ことができる。
【００２８】一方、請求項１２〜１８では、上記電磁界
強度の測定方法を用いた電磁界強度の測定装置が提案さ
れている。
強度の測定方法を用いた電磁界強度の測定装置が提案さ
れている。
【００２９】すなわち、請求項１２の発明では、供試機
器の放射電磁波により該供試機器の周囲に形成される電
磁界の強度を測定する装置において、少なくとも一部の
周波数領域において供試機器との間で静電結合及び電磁
結合する範囲内に配置した導体と、供試機器と導体間の
静電結合により導体から出力される電流と、供試機器と
導体間の電磁結合により導体から出力される電流との合
成電流について、供試機器に対して互いに異なる複数方
向に出力される各合成電流を測定する測定手段と、これ
ら複数の合成電流値及びその出力方向に基づき静電結合
による電流値及び電磁結合による電流値を算出するとと
もに、この算出した各電流値に基づき電界強度及び磁界
強度をそれぞれ算出する算出手段とを備えたことを特徴
とするものを提案する。
器の放射電磁波により該供試機器の周囲に形成される電
磁界の強度を測定する装置において、少なくとも一部の
周波数領域において供試機器との間で静電結合及び電磁
結合する範囲内に配置した導体と、供試機器と導体間の
静電結合により導体から出力される電流と、供試機器と
導体間の電磁結合により導体から出力される電流との合
成電流について、供試機器に対して互いに異なる複数方
向に出力される各合成電流を測定する測定手段と、これ
ら複数の合成電流値及びその出力方向に基づき静電結合
による電流値及び電磁結合による電流値を算出するとと
もに、この算出した各電流値に基づき電界強度及び磁界
強度をそれぞれ算出する算出手段とを備えたことを特徴
とするものを提案する。
【００３０】また、請求項１３の発明では、請求項１２
記載の電磁界強度の測定装置において、前記導体を前記
供試機器に対して相対的に回転させる回転手段を備えた
ことを特徴とするものを提案する。
記載の電磁界強度の測定装置において、前記導体を前記
供試機器に対して相対的に回転させる回転手段を備えた
ことを特徴とするものを提案する。
【００３１】さらに、請求項１４の発明では、請求項１
２又は１３何れか１項記載の電磁界強度の測定装置にお
いて、前記導体を前記供試機器に対して相対的に移動さ
せる移動手段を備えたことを特徴とするものを提案す
る。
２又は１３何れか１項記載の電磁界強度の測定装置にお
いて、前記導体を前記供試機器に対して相対的に移動さ
せる移動手段を備えたことを特徴とするものを提案す
る。
【００３２】さらに、請求項１５の発明では、請求項１
２〜１４何れか１項記載の電磁界強度の測定装置におい
て、前記導体がループアンテナであることを特徴とする
ものを提案する。
２〜１４何れか１項記載の電磁界強度の測定装置におい
て、前記導体がループアンテナであることを特徴とする
ものを提案する。
【００３３】さらに、請求項１６の発明では、請求項１
２〜１４何れか１項記載の電磁界強度の測定装置におい
て、前記導体が同軸伝送線路の内部導体であるととも
に、前記供試機器を該同軸伝送線路の内部導体と外部導
体の間に配置して測定することを特徴とするものを提案
する。
２〜１４何れか１項記載の電磁界強度の測定装置におい
て、前記導体が同軸伝送線路の内部導体であるととも
に、前記供試機器を該同軸伝送線路の内部導体と外部導
体の間に配置して測定することを特徴とするものを提案
する。
【００３４】さらに、請求項１７の発明では、請求項１
６記載の電磁界強度の測定装置において、前記同軸伝送
線路がＴＥＭセルであるものを提案する。
６記載の電磁界強度の測定装置において、前記同軸伝送
線路がＴＥＭセルであるものを提案する。
【００３５】さらに、請求項１８の発明では、請求項１
６記載の電磁界強度の測定装置において、前記同軸伝送
線路がＧ−ＴＥＭセルであるものを提案する。
６記載の電磁界強度の測定装置において、前記同軸伝送
線路がＧ−ＴＥＭセルであるものを提案する。
【００３６】また、請求項１９の発明では、請求項１〜
１１記載の電磁界強度の測定方法を用いて供試機器周囲
の電界強度及び磁界強度を測定し、この電界強度に基づ
き供試機器における電圧分布を算出するとともに、磁界
強度に基づき供試機器における電流分布を算出すること
を特徴とする電流電圧分布の測定方法を提案する。
１１記載の電磁界強度の測定方法を用いて供試機器周囲
の電界強度及び磁界強度を測定し、この電界強度に基づ
き供試機器における電圧分布を算出するとともに、磁界
強度に基づき供試機器における電流分布を算出すること
を特徴とする電流電圧分布の測定方法を提案する。
【００３７】一般に、供試機器周囲の電界強度は供試機
器における電位に影響され、また磁界強度は供試機器に
流れる電流に影響される。したがって、本発明によれ
ば、測定された供試機器周囲の電界強度に基づき供試機
器における電位が確実に算出される。また、測定された
供試機器周囲の磁界強度に基づき供試機器における電流
が確実に算出される。
器における電位に影響され、また磁界強度は供試機器に
流れる電流に影響される。したがって、本発明によれ
ば、測定された供試機器周囲の電界強度に基づき供試機
器における電位が確実に算出される。また、測定された
供試機器周囲の磁界強度に基づき供試機器における電流
が確実に算出される。
【００３８】さらに、請求項２０の発明では、請求項１
９記載の電流電圧分布の測定方法において、請求項１〜
１１記載の電磁界強度の測定方法を用いて測定した供試
機器周囲の磁界強度に基づき供試機器における電流方向
の分布を算出することを特徴とするものを提案する。
９記載の電流電圧分布の測定方法において、請求項１〜
１１記載の電磁界強度の測定方法を用いて測定した供試
機器周囲の磁界強度に基づき供試機器における電流方向
の分布を算出することを特徴とするものを提案する。
【００３９】一般に、供試機器周囲の磁界の方向は供試
機器に流れる電流に影響される。また、供試機器と電磁
結合して発生する電磁結合電流は磁界の方向によって異
なる値となる。したがって、本発明では、複数の電磁結
合電流から供試機器周囲の電界強度を算出するとともに
供試機器に流れる電流方向を算出することができる。
機器に流れる電流に影響される。また、供試機器と電磁
結合して発生する電磁結合電流は磁界の方向によって異
なる値となる。したがって、本発明では、複数の電磁結
合電流から供試機器周囲の電界強度を算出するとともに
供試機器に流れる電流方向を算出することができる。
【００４０】一方、請求項２１及び２２の発明では、上
記電流電圧分布の測定方法を用いた電流電圧分布の測定
装置が提案されている。
記電流電圧分布の測定方法を用いた電流電圧分布の測定
装置が提案されている。
【００４１】すなわち、請求項２１では、請求項１２〜
１８記載の電磁界強度の測定装置に、前記算出手段によ
り算出された前記電界強度に基づき供試機器における電
圧分布を算出するとともに前記磁界強度に基づき供試機
器における電流分布を算出する電流電圧分布算出手段を
設けたことを特徴とする電流電圧分布の測定装置を提案
する。
１８記載の電磁界強度の測定装置に、前記算出手段によ
り算出された前記電界強度に基づき供試機器における電
圧分布を算出するとともに前記磁界強度に基づき供試機
器における電流分布を算出する電流電圧分布算出手段を
設けたことを特徴とする電流電圧分布の測定装置を提案
する。
【００４２】さらに、請求項２２では、請求項２１記載
の電流電圧分布の測定装置において、前記電流電圧分布
算出手段は前記磁界強度に基づき供試機器における電流
方向の分布を算出することを特徴とするものを提案す
る。
の電流電圧分布の測定装置において、前記電流電圧分布
算出手段は前記磁界強度に基づき供試機器における電流
方向の分布を算出することを特徴とするものを提案す
る。
【００４３】
【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）本発明の第
１の実施の形態について図１〜図４を参照して説明す
る。図１は電磁界強度の測定装置の構成を説明する図、
図２はプローブを説明する図、図３はループアンテナか
らの出力を説明する概念図、図４は電磁界強度の測定装
置の構成を説明するブロック図である。
１の実施の形態について図１〜図４を参照して説明す
る。図１は電磁界強度の測定装置の構成を説明する図、
図２はプローブを説明する図、図３はループアンテナか
らの出力を説明する概念図、図４は電磁界強度の測定装
置の構成を説明するブロック図である。
【００４４】この測定装置は、供試機器１の近傍におけ
る電磁界の強度分布を測定するものである。供試機器１
は、例えば電子機器の回路基板である。測定中は、供試
機器１は動作状態にさせ、この動作中に放射される電磁
波が形成する電磁界強度を測定する。
る電磁界の強度分布を測定するものである。供試機器１
は、例えば電子機器の回路基板である。測定中は、供試
機器１は動作状態にさせ、この動作中に放射される電磁
波が形成する電磁界強度を測定する。
【００４５】図１に示すように、この測定装置は、供試
機器１に近接するプローブ１０と、プローブ１０と接続
した第１の電流測定器２１及び第２の電流測定器２２
と、各電流測定器２１及び２２から出力されるデータを
処理する計算機３０と、プローブ１０を供試機器１の近
傍で移動させる移動装置４０を備えている。プローブ１
０と第１の電流測定器２１は同軸ケーブル２３で接続さ
れている。プローブ１０と第２の電流測定器２２は同軸
ケーブル２４で接続されている。
機器１に近接するプローブ１０と、プローブ１０と接続
した第１の電流測定器２１及び第２の電流測定器２２
と、各電流測定器２１及び２２から出力されるデータを
処理する計算機３０と、プローブ１０を供試機器１の近
傍で移動させる移動装置４０を備えている。プローブ１
０と第１の電流測定器２１は同軸ケーブル２３で接続さ
れている。プローブ１０と第２の電流測定器２２は同軸
ケーブル２４で接続されている。
【００４６】図２に示すように、プローブ１０はループ
アンテナ１１を有する。このループアンテナ１１はシー
ルドを備えていないものである。本実施の形態では、ル
ープアンテナ１１は、より供試機器１に接近できるよう
に方形のループアンテナとした。ループアンテナ１１の
両端は、それぞれ同軸ケーブル１２及び１３の中心導体
と接続している。各同軸ケーブル１２及び１３の他端側
には接続コネクタ１４及び１５が設けられている。各接
続コネクタ１４，１５は、それぞれ第１の電流測定器２
１，第２の電流測定器２３に接続している。本実施の形
態では、外部導体が銅、誘電体がテフロンで構成され、
特性インピーダンスが５０Ω、直径約１ｍｍの同軸ケー
ブルを加工することによりプローブ１０を作成した。
アンテナ１１を有する。このループアンテナ１１はシー
ルドを備えていないものである。本実施の形態では、ル
ープアンテナ１１は、より供試機器１に接近できるよう
に方形のループアンテナとした。ループアンテナ１１の
両端は、それぞれ同軸ケーブル１２及び１３の中心導体
と接続している。各同軸ケーブル１２及び１３の他端側
には接続コネクタ１４及び１５が設けられている。各接
続コネクタ１４，１５は、それぞれ第１の電流測定器２
１，第２の電流測定器２３に接続している。本実施の形
態では、外部導体が銅、誘電体がテフロンで構成され、
特性インピーダンスが５０Ω、直径約１ｍｍの同軸ケー
ブルを加工することによりプローブ１０を作成した。
【００４７】ここで、プローブ１０の両端子からの出力
について図３の概念図を参照して説明する。図３(a)に
示すように、ループアンテナ１１には、供試機器１に流
れる電流Ｉと電磁結合して生じる電磁結合電流ＩMが流
れる。この電磁結合電流ＩMは、ループアンテナ１１の
一端から他端側へ流れる。ここで、電磁結合電流ＩMの
出力方向は、供試機器１に流れる電流Ｉの方向により決
定される。一方、図３(b)に示すように、供試機器１と
ループアンテナ１１との間には電界が生じる。すなわ
ち、供試機器１とループアンテナ１１が静電結合する。
したがって、ループアンテナ１１には供試機器１と対峙
する部位から供試機器１１へ離れる方向へ静電結合電流
ＩEが流れる。これにより、プローブ１０の一端子側に
は静電結合電流ＩE＋電磁結合電流ＩMが出力され、他端
側には静電結合電流ＩE−電磁結合電流ＩMが出力され
る。つまり、プローブ１０からは静電結合電流ＩE及び
電磁結合電流ＩMの合成電流が出力される。
について図３の概念図を参照して説明する。図３(a)に
示すように、ループアンテナ１１には、供試機器１に流
れる電流Ｉと電磁結合して生じる電磁結合電流ＩMが流
れる。この電磁結合電流ＩMは、ループアンテナ１１の
一端から他端側へ流れる。ここで、電磁結合電流ＩMの
出力方向は、供試機器１に流れる電流Ｉの方向により決
定される。一方、図３(b)に示すように、供試機器１と
ループアンテナ１１との間には電界が生じる。すなわ
ち、供試機器１とループアンテナ１１が静電結合する。
したがって、ループアンテナ１１には供試機器１と対峙
する部位から供試機器１１へ離れる方向へ静電結合電流
ＩEが流れる。これにより、プローブ１０の一端子側に
は静電結合電流ＩE＋電磁結合電流ＩMが出力され、他端
側には静電結合電流ＩE−電磁結合電流ＩMが出力され
る。つまり、プローブ１０からは静電結合電流ＩE及び
電磁結合電流ＩMの合成電流が出力される。
【００４８】第１の電流測定器２１は、プローブ１０の
一端から出力される第１の合成電流Ｉ1を測定する。第
２の電流測定器２２は、プローブ１０の他端から出力さ
れる第２の合成電流Ｉ2を測定する。本実施の形態で
は、スペクトラムアナライザを用いた。各電流測定器２
１及び２２は、それぞれ測定結果を計算機３０に出力す
る。
一端から出力される第１の合成電流Ｉ1を測定する。第
２の電流測定器２２は、プローブ１０の他端から出力さ
れる第２の合成電流Ｉ2を測定する。本実施の形態で
は、スペクトラムアナライザを用いた。各電流測定器２
１及び２２は、それぞれ測定結果を計算機３０に出力す
る。
【００４９】図４に示すように、計算機３０は、供試機
器１の近傍の電磁界強度を電界成分と磁界成分に分離し
て算出する演算部３１と、演算部３１による算出結果を
記憶する記憶部３２と、移動装置４０の動作を制御する
制御部３３と、記憶部３２に記憶された算出結果を表示
する表示部３４を有している。
器１の近傍の電磁界強度を電界成分と磁界成分に分離し
て算出する演算部３１と、演算部３１による算出結果を
記憶する記憶部３２と、移動装置４０の動作を制御する
制御部３３と、記憶部３２に記憶された算出結果を表示
する表示部３４を有している。
【００５０】演算部３１では、各電流測定器２１及び２
２からの合成電流に基づき静電結合電流ＩE及び電磁結
合電流ＩMを算出する。前述したように、第１の電流測
定器２１により計測された電流Ｉ1と、第２の電流測定
器２２により計測された電流Ｉ2は、それぞれ、 Ｉ1＝ＩE＋ＩM Ｉ2＝ＩE−ＩM となる。したがって、この２式を連立して解けば静電結
合電流ＩE及び電磁結合電流ＩMが算出できる。記憶部３
２では制御部３３と連動してプローブ１０の各移動位置
における算出結果を記憶する。これにより電磁界の強度
分布が作成される。
２からの合成電流に基づき静電結合電流ＩE及び電磁結
合電流ＩMを算出する。前述したように、第１の電流測
定器２１により計測された電流Ｉ1と、第２の電流測定
器２２により計測された電流Ｉ2は、それぞれ、 Ｉ1＝ＩE＋ＩM Ｉ2＝ＩE−ＩM となる。したがって、この２式を連立して解けば静電結
合電流ＩE及び電磁結合電流ＩMが算出できる。記憶部３
２では制御部３３と連動してプローブ１０の各移動位置
における算出結果を記憶する。これにより電磁界の強度
分布が作成される。
【００５１】移動装置４０は、前記制御部３３からの信
号によりプローブ１０を供試機器１の上面と平行に移動
させる。プローブ１０は、供試機器１の近傍において移
動させる。例えば、供試機器１に対して約２ｍｍまでル
ープアンテナ１１を接近させる。
号によりプローブ１０を供試機器１の上面と平行に移動
させる。プローブ１０は、供試機器１の近傍において移
動させる。例えば、供試機器１に対して約２ｍｍまでル
ープアンテナ１１を接近させる。
【００５２】このように本実施の形態では、プローブ１
０の両端から出力される第１の合成電流Ｉ1及び第２の
合成電流Ｉ2に基づいて静電結合電流ＩE及び電磁結合電
流ＩMを容易に求めることができる。したがって供試機
器１の近傍における電磁界強度の電界成分及び磁界成分
を静電結合電流ＩE及び電磁結合電流ＩMから容易に求め
ることができる。さらに、この電磁界強度の磁界成分及
び電流成分より、供試機器１における電流分布及び電圧
分布を測定することができる。ここで、プローブ１０
は、シールド構造を必ずしも必要としないため容易に小
型化することができる。この小型化によりプローブの空
間分解能が向上する。また、プローブ構造が自由度の高
いものとなる。さらに、移動装置４０によりプローブ１
０を供試機器１の近傍で移動させるので、電磁界の強度
分布を容易かつ確実に得ることができる。
０の両端から出力される第１の合成電流Ｉ1及び第２の
合成電流Ｉ2に基づいて静電結合電流ＩE及び電磁結合電
流ＩMを容易に求めることができる。したがって供試機
器１の近傍における電磁界強度の電界成分及び磁界成分
を静電結合電流ＩE及び電磁結合電流ＩMから容易に求め
ることができる。さらに、この電磁界強度の磁界成分及
び電流成分より、供試機器１における電流分布及び電圧
分布を測定することができる。ここで、プローブ１０
は、シールド構造を必ずしも必要としないため容易に小
型化することができる。この小型化によりプローブの空
間分解能が向上する。また、プローブ構造が自由度の高
いものとなる。さらに、移動装置４０によりプローブ１
０を供試機器１の近傍で移動させるので、電磁界の強度
分布を容易かつ確実に得ることができる。
【００５３】なお、本実施の形態では、シールド構造を
有しないループアンテナ１１を用いたが、シールデッド
・ループアンテナを用いてもよい。なお、この場合には
静電結合電流ＩEは小さなものとなる。また、本実施の
形態では、ループアンテナ１１を方形としたが、円形等
の他の形状であってもよい。さらに、本実施の形態で
は、ループアンテナ１１の巻回数は１回としたが、数回
巻回させた形状としてもよい。その他、材質や大きさ等
についても他のものを用いてもよい。
有しないループアンテナ１１を用いたが、シールデッド
・ループアンテナを用いてもよい。なお、この場合には
静電結合電流ＩEは小さなものとなる。また、本実施の
形態では、ループアンテナ１１を方形としたが、円形等
の他の形状であってもよい。さらに、本実施の形態で
は、ループアンテナ１１の巻回数は１回としたが、数回
巻回させた形状としてもよい。その他、材質や大きさ等
についても他のものを用いてもよい。
【００５４】また、本実施の形態では、２台の電流測定
器２１及び２２を用いたが、１台の測定器を用いてもよ
い。この場合には、プローブ１０の一方の出力を測定し
て第１の合成電流を得た後に、他方の出力を測定して第
２の合成電流を得ればよい。また、プローブ１０の一方
側の出力のみを測定して第１の合成電流を得た後に、こ
のプローブ１０を供試機器１方向を軸として１８０°回
転させ、再び同じ側の出力を測定して第２の合成電流を
得てもよい。
器２１及び２２を用いたが、１台の測定器を用いてもよ
い。この場合には、プローブ１０の一方の出力を測定し
て第１の合成電流を得た後に、他方の出力を測定して第
２の合成電流を得ればよい。また、プローブ１０の一方
側の出力のみを測定して第１の合成電流を得た後に、こ
のプローブ１０を供試機器１方向を軸として１８０°回
転させ、再び同じ側の出力を測定して第２の合成電流を
得てもよい。
【００５５】さらに、本実施の形態では、プローブ１０
を供試機器１と所定距離に接近させて移動するように移
動装置４０を制御したが、供試機器１に対して近づけ又
は離す方向に移動させるようにしてもよい。これにより
供試機器１周囲の電磁界の強度分布を空間的に測定する
ことができる。また、本実施の形態では、移動装置４０
を用いてプローブ１０を移動させることにより電磁界の
強度分布を得たが、多数のプローブ１０を供試機器１の
近傍にマトリックス状に配置し、これらを高周波スイッ
チ等で切り替えることにより各位置での電磁界強度を測
定してもよい。この場合には、プローブ１０の移動がな
いので測定を高速化することができる。
を供試機器１と所定距離に接近させて移動するように移
動装置４０を制御したが、供試機器１に対して近づけ又
は離す方向に移動させるようにしてもよい。これにより
供試機器１周囲の電磁界の強度分布を空間的に測定する
ことができる。また、本実施の形態では、移動装置４０
を用いてプローブ１０を移動させることにより電磁界の
強度分布を得たが、多数のプローブ１０を供試機器１の
近傍にマトリックス状に配置し、これらを高周波スイッ
チ等で切り替えることにより各位置での電磁界強度を測
定してもよい。この場合には、プローブ１０の移動がな
いので測定を高速化することができる。
【００５６】（第２の実施の形態）次に、本発明の第２
の実施の形態について図５〜図７を参照して説明する。
図５は電磁界強度の測定装置の構成を説明するブロック
図、図６及び図７は電磁界強度の測定装置の構成を説明
する図である。図中、第１の実施の形態と同一の構成の
ものについて同一の符号を付して説明を省略する。
の実施の形態について図５〜図７を参照して説明する。
図５は電磁界強度の測定装置の構成を説明するブロック
図、図６及び図７は電磁界強度の測定装置の構成を説明
する図である。図中、第１の実施の形態と同一の構成の
ものについて同一の符号を付して説明を省略する。
【００５７】本実施の形態が第１の実施の形態と相違す
る点は、まず、本実施の形態では、プローブ１０の一端
から出力される合成電流を測定することにある。そし
て、複数の合成電流を測定するために、移動装置４１に
プローブ１０を供試機器１に向かう方向を軸として回転
させる機能を持たせている。
る点は、まず、本実施の形態では、プローブ１０の一端
から出力される合成電流を測定することにある。そし
て、複数の合成電流を測定するために、移動装置４１に
プローブ１０を供試機器１に向かう方向を軸として回転
させる機能を持たせている。
【００５８】また、本実施の形態では、電流測定器２５
として、ベクトルシグナルアナライザを用いた。すなわ
ち、電流測定器２５は、入力信号の位相差をも測定する
ものである。この電流測定器２５は、信号発生器５０に
対して基準信号を出力する。信号発生器５０は、電流測
定器２５の基準信号と同期した駆動信号を供試機器１の
駆動信号として供給する。すなわち、供試機器１は自身
が持つクロック信号に基づき動作するのではなく、信号
発生器５０のクロック信号に基づき動作する。これによ
り、電流測定器２５では、電流値を測定するとともに位
相差を正確に検出することができる。
として、ベクトルシグナルアナライザを用いた。すなわ
ち、電流測定器２５は、入力信号の位相差をも測定する
ものである。この電流測定器２５は、信号発生器５０に
対して基準信号を出力する。信号発生器５０は、電流測
定器２５の基準信号と同期した駆動信号を供試機器１の
駆動信号として供給する。すなわち、供試機器１は自身
が持つクロック信号に基づき動作するのではなく、信号
発生器５０のクロック信号に基づき動作する。これによ
り、電流測定器２５では、電流値を測定するとともに位
相差を正確に検出することができる。
【００５９】このように構成において、計算機３０の演
算部３１は、以下のようにして電磁界強度を算出する。
まず、供試機器１のある点(x,y)における実際の電流Ｉ
(x,y)及び電圧V(x,y)を、それぞれ I(x,y)=a(x,y)sin(ωt＋θh(x,y)) V(x,y)=b(x,y)sin(ωt＋θe(x,y)) と表す。また、図６及び図７に示すように、電流の向き
をＸ軸からの角度φで表す。図において、点(x,y)に記
載してある太線矢印は電流をベクトルで表示したもので
ある。なお、a,bは係数、ωは角速度、θh,θeは位相差
である。
算部３１は、以下のようにして電磁界強度を算出する。
まず、供試機器１のある点(x,y)における実際の電流Ｉ
(x,y)及び電圧V(x,y)を、それぞれ I(x,y)=a(x,y)sin(ωt＋θh(x,y)) V(x,y)=b(x,y)sin(ωt＋θe(x,y)) と表す。また、図６及び図７に示すように、電流の向き
をＸ軸からの角度φで表す。図において、点(x,y)に記
載してある太線矢印は電流をベクトルで表示したもので
ある。なお、a,bは係数、ωは角速度、θh,θeは位相差
である。
【００６０】ここで、図６に示すように、点(x,y)から
ＸＹ平面に直交する方向に離れた位置にループアンテナ
１１を配置する。ここでループアンテナ１１は巻回軸が
Ｘ軸方向となるように配置する。このとき、ループアン
テナ１１の両端から出力される第１の合成電流ＩA(x,y)
及び第２の合成電流ＩB(x,y)は、 ＩA(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))＋βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))sinφ ＩB(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))−βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))sinφ となる。同様に、図７に示すように、ループアンテナ１
１を巻回軸がＹ軸方向となるように配置すると、ループ
アンテナ１１の両端から出力される第３の合成電流Ｉ
C(x,y)及び第４の合成電流ＩD(x,y)は、 ＩC(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))＋βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))cosφ ＩD(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))−βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))cosφ となる。なお、α,βは係数である。また、この４式に
おいて、第１項は静電結合電流ＩEであり、第２項は電
磁結合電流ＩMである。さらに、この４式は、第２項の
値が大きい場合、すなわち電磁結合電流ＩMが大きい場
合には値が負となる場合がある。本実施の形態では、電
流測定器２５としてベクトルシグナルアナライザを用い
ているので、ＩA(x,y)とＩB(x,y)とを比較し、同位相で
あるならば両信号は正と判定し、逆位相であるならば一
方が負の値となっている判定している。ＩC(x,y)とＩ
D(x,y)との比較も同様である。
ＸＹ平面に直交する方向に離れた位置にループアンテナ
１１を配置する。ここでループアンテナ１１は巻回軸が
Ｘ軸方向となるように配置する。このとき、ループアン
テナ１１の両端から出力される第１の合成電流ＩA(x,y)
及び第２の合成電流ＩB(x,y)は、 ＩA(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))＋βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))sinφ ＩB(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))−βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))sinφ となる。同様に、図７に示すように、ループアンテナ１
１を巻回軸がＹ軸方向となるように配置すると、ループ
アンテナ１１の両端から出力される第３の合成電流Ｉ
C(x,y)及び第４の合成電流ＩD(x,y)は、 ＩC(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))＋βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))cosφ ＩD(x,y)=αb(x,y)sin(ωt＋θe(x,y))−βa(x,y)sin
(ωt＋θh(x,y))cosφ となる。なお、α,βは係数である。また、この４式に
おいて、第１項は静電結合電流ＩEであり、第２項は電
磁結合電流ＩMである。さらに、この４式は、第２項の
値が大きい場合、すなわち電磁結合電流ＩMが大きい場
合には値が負となる場合がある。本実施の形態では、電
流測定器２５としてベクトルシグナルアナライザを用い
ているので、ＩA(x,y)とＩB(x,y)とを比較し、同位相で
あるならば両信号は正と判定し、逆位相であるならば一
方が負の値となっている判定している。ＩC(x,y)とＩ
D(x,y)との比較も同様である。
【００６１】以上より、 ＩA(x,y)＋ＩB(x,y)＝ＩC(x,y)＋ＩD(x,y)＝2αb(x,y)s
in(ωt＋θe(x,y)) ＩA(x,y)−ＩB(x,y)＝2βa(x,y)sin(ωt＋θh(x,y))sin
φ ＩC(x,y)−ＩD(x,y)＝2βa(x,y)sin(ωt＋θh(x,y))cos
φ となる。あとは、これを連立して解けば点(x,y)におけ
る供試機器１の電流Ｉ(x,y)及び電圧V(x,y)、さらに電
流の角度φを推測することができる。
in(ωt＋θe(x,y)) ＩA(x,y)−ＩB(x,y)＝2βa(x,y)sin(ωt＋θh(x,y))sin
φ ＩC(x,y)−ＩD(x,y)＝2βa(x,y)sin(ωt＋θh(x,y))cos
φ となる。あとは、これを連立して解けば点(x,y)におけ
る供試機器１の電流Ｉ(x,y)及び電圧V(x,y)、さらに電
流の角度φを推測することができる。
【００６２】したがって、本実施の形態では、まず移動
装置４１を用いてプローブ１０を９０°づつ回転させる
ことにより前記ＩA(x,y)〜ＩD(x,y)を電流測定器２５で
測定する。演算部３１はこれに基づき、静電結合電流Ｉ
E及び電磁結合電流ＩMを算出する。これにより供試機器
１の点(x,y)近傍における電磁界強度を電界成分及び磁
界成分に分けて算出することができる。さらに、これよ
り供試機器１の点(x,y)電流Ｉ(x,y)及び電圧V(x,y)、さ
らに電流の向きφを推定可能となる。そして、移動装置
４１はＸＹ平面上を移動させれば、供試機器１における
電流電圧分布を得ることができる。その他の作用効果に
ついては第１の実施の形態と同様である。
装置４１を用いてプローブ１０を９０°づつ回転させる
ことにより前記ＩA(x,y)〜ＩD(x,y)を電流測定器２５で
測定する。演算部３１はこれに基づき、静電結合電流Ｉ
E及び電磁結合電流ＩMを算出する。これにより供試機器
１の点(x,y)近傍における電磁界強度を電界成分及び磁
界成分に分けて算出することができる。さらに、これよ
り供試機器１の点(x,y)電流Ｉ(x,y)及び電圧V(x,y)、さ
らに電流の向きφを推定可能となる。そして、移動装置
４１はＸＹ平面上を移動させれば、供試機器１における
電流電圧分布を得ることができる。その他の作用効果に
ついては第１の実施の形態と同様である。
【００６３】なお、本実施の形態では、シールド構造を
有しないループアンテナ１１を用いたが、シールデッド
・ループアンテナを用いてもよい。なお、この場合には
静電結合電流は小さなものとなる。また、本実施の形態
では、ループアンテナ１１を方形としたが、円形等の他
の形状であってもよい。さらに、本実施の形態では、ル
ープアンテナ１１の巻回数は１回としたが、数回巻回さ
せた形状としてもよい。その他、材質や大きさ等につい
ても他のものを用いてもよい。
有しないループアンテナ１１を用いたが、シールデッド
・ループアンテナを用いてもよい。なお、この場合には
静電結合電流は小さなものとなる。また、本実施の形態
では、ループアンテナ１１を方形としたが、円形等の他
の形状であってもよい。さらに、本実施の形態では、ル
ープアンテナ１１の巻回数は１回としたが、数回巻回さ
せた形状としてもよい。その他、材質や大きさ等につい
ても他のものを用いてもよい。
【００６４】また、本実施の形態では、１台の電流測定
器２５を用いたが、第１の実施の形態のように複数の測
定器を用いてもよい。
器２５を用いたが、第１の実施の形態のように複数の測
定器を用いてもよい。
【００６５】さらに、本実施の形態絵は、プローブ１０
をループアンテナ１１の巻回軸が供試機器１の上面と平
行となるよう回転させたが、これに限定されることな
く、他の方向に回転させることにより複数の合成電流を
測定してもよい。また、その回転角も９０°づつに限定
されることなく、他の角度であってもよい。
をループアンテナ１１の巻回軸が供試機器１の上面と平
行となるよう回転させたが、これに限定されることな
く、他の方向に回転させることにより複数の合成電流を
測定してもよい。また、その回転角も９０°づつに限定
されることなく、他の角度であってもよい。
【００６６】さらに、本実施の形態では、移動装置４１
を供試機器１の上面近傍において水平に移動させるのみ
であったが、供試機器１に対して近づき又は離れる方向
に移動させてもよい。これにより、供試機器１周囲の電
磁界の強度分布を空間的に得ることができる。
を供試機器１の上面近傍において水平に移動させるのみ
であったが、供試機器１に対して近づき又は離れる方向
に移動させてもよい。これにより、供試機器１周囲の電
磁界の強度分布を空間的に得ることができる。
【００６７】さらに、本実施の形態では、移動装置４１
を用いてプローブ１０を移動させることにより電磁界の
強度分布を得たが、多数のプローブ１０を供試機器１の
近傍にマトリックス状に配置して、これらを高周波スイ
ッチ等で切り替えることにより各位置での電磁界強度を
測定してもよい。この場合には、プローブ１０の移動が
ないので測定を高速化することができる。
を用いてプローブ１０を移動させることにより電磁界の
強度分布を得たが、多数のプローブ１０を供試機器１の
近傍にマトリックス状に配置して、これらを高周波スイ
ッチ等で切り替えることにより各位置での電磁界強度を
測定してもよい。この場合には、プローブ１０の移動が
ないので測定を高速化することができる。
【００６８】（第３の実施の形態）次に、本発明の第３
の実施の形態について図８を参照して説明する。図８は
電磁界強度の測定装置の構成を説明する図である。
の実施の形態について図８を参照して説明する。図８は
電磁界強度の測定装置の構成を説明する図である。
【００６９】この測定装置は、供試機器１から放射され
る電磁波により形成された電磁界の強度を測定するもの
である。供試機器１は、例えば電子機器の回路基板や、
特に部品単位で測定したい場合には該部品を測定用の基
板に実装したものである。測定中は、供試機器１は動作
状態にさせ、この動作中に放射される電磁波が形成する
電磁界強度を測定する。
る電磁波により形成された電磁界の強度を測定するもの
である。供試機器１は、例えば電子機器の回路基板や、
特に部品単位で測定したい場合には該部品を測定用の基
板に実装したものである。測定中は、供試機器１は動作
状態にさせ、この動作中に放射される電磁波が形成する
電磁界強度を測定する。
【００７０】図８に示すように、この測定装置は、供試
機器１を収容する同軸伝送線路の一種であるＴＥＭセル
６０と、ＴＥＭセル６０の一端と接続した電流測定器７
０と、電流測定器７０から出力されるデータを処理する
計算機８０とを備えている。ＴＥＭセル６０と電流測定
器７０は同軸ケーブル７１で接続されている。
機器１を収容する同軸伝送線路の一種であるＴＥＭセル
６０と、ＴＥＭセル６０の一端と接続した電流測定器７
０と、電流測定器７０から出力されるデータを処理する
計算機８０とを備えている。ＴＥＭセル６０と電流測定
器７０は同軸ケーブル７１で接続されている。
【００７１】ＴＥＭセル６０は、特性インピーダンス５
０Ωの角形伝送線路である。すなわち、ＴＥＭセル６０
は、中心導体６１と外部導体６２とを備えている。ＴＥ
Ｍセル６０の上面には正方形の蓋体６３が設けられてい
る。蓋体６３の内側中心部には供試機器１が設置されて
いる。この供試機器１１は、外部導体６２と中心導体６
１の間に配置される。中心導体６１の一端は前記電流測
定器７０に接続しており、他端は５０Ωの終端抵抗６４
に接続している。
０Ωの角形伝送線路である。すなわち、ＴＥＭセル６０
は、中心導体６１と外部導体６２とを備えている。ＴＥ
Ｍセル６０の上面には正方形の蓋体６３が設けられてい
る。蓋体６３の内側中心部には供試機器１が設置されて
いる。この供試機器１１は、外部導体６２と中心導体６
１の間に配置される。中心導体６１の一端は前記電流測
定器７０に接続しており、他端は５０Ωの終端抵抗６４
に接続している。
【００７２】ここで、ＴＥＭセル６０の中心導体６１か
らの出力について図９の概念図を参照して説明する。図
９(a)に示すように、ＴＥＭセル６０の中心導体６１に
は、供試機器１に流れる電流Ｉと電磁結合して生じる電
磁結合電流ＩMが流れる。この電磁結合電流ＩMは、中心
導体６１の一端から他端側へ流れる。ここで、電磁結合
電流ＩMの出力方向は、供試機器１に流れる電流Ｉの方
向により決定される。一方、図９(b)に示すように、供
試機器１と中心導体６１との間には電界が生じる。すな
わち、供試機器１と中心導体６１が静電結合する。した
がって、中心導体６１には供試機器１と対峙する部位か
らＴＥＭセル６０の両端方向へ静電結合電流ＩEが流れ
る。これにより、ＴＥＭセル６０の一端子側には静電結
合電流ＩE＋電磁結合電流ＩMが出力され、他端側には静
電結合電流ＩE−電磁結合電流ＩMが出力される。つま
り、ＴＥＭセル６０からは静電結合電流ＩE及び電磁結
合電流ＩMの合成電流が出力される。
らの出力について図９の概念図を参照して説明する。図
９(a)に示すように、ＴＥＭセル６０の中心導体６１に
は、供試機器１に流れる電流Ｉと電磁結合して生じる電
磁結合電流ＩMが流れる。この電磁結合電流ＩMは、中心
導体６１の一端から他端側へ流れる。ここで、電磁結合
電流ＩMの出力方向は、供試機器１に流れる電流Ｉの方
向により決定される。一方、図９(b)に示すように、供
試機器１と中心導体６１との間には電界が生じる。すな
わち、供試機器１と中心導体６１が静電結合する。した
がって、中心導体６１には供試機器１と対峙する部位か
らＴＥＭセル６０の両端方向へ静電結合電流ＩEが流れ
る。これにより、ＴＥＭセル６０の一端子側には静電結
合電流ＩE＋電磁結合電流ＩMが出力され、他端側には静
電結合電流ＩE−電磁結合電流ＩMが出力される。つま
り、ＴＥＭセル６０からは静電結合電流ＩE及び電磁結
合電流ＩMの合成電流が出力される。
【００７３】電流測定器７０は、中心導体６１から出力
される合成電流を測定する。本実施の形態では、ネット
ワークアナライザを用いた。すなわち、電流測定器７０
は、同軸ケーブル７２を介して供試機器１に周波数を変
動させて駆動信号を入力する一方、中心導体６１からの
出力を測定する。電流測定器７０は、測定結果を計算機
８０に出力する。
される合成電流を測定する。本実施の形態では、ネット
ワークアナライザを用いた。すなわち、電流測定器７０
は、同軸ケーブル７２を介して供試機器１に周波数を変
動させて駆動信号を入力する一方、中心導体６１からの
出力を測定する。電流測定器７０は、測定結果を計算機
８０に出力する。
【００７４】図１０に示すように、計算機８０は、電流
測定器７０から入力される測定結果を一時的に記憶する
記憶部８１と、記憶部８１に記憶された複数の合成電流
から供試機器１近傍の電磁界強度を電界成分と磁界成分
に分離して算出する演算部８２と、算出結果を表示する
表示部８３を有している。
測定器７０から入力される測定結果を一時的に記憶する
記憶部８１と、記憶部８１に記憶された複数の合成電流
から供試機器１近傍の電磁界強度を電界成分と磁界成分
に分離して算出する演算部８２と、算出結果を表示する
表示部８３を有している。
【００７５】ところで、ＴＥＭセル６０の一端から出力
される合成電流は、供試機器１を設置する角度によって
異なる値となる。これは、電磁結合電流ＩMは供試機器
１に流れる電流Ｉにより流れる方向が決定されるからで
ある。なお、静電結合電流Ｉ Eは供試機器１の全体的な
電位により値が決定されるので供試機器１の設置角度に
影響を受けない。したがって、供試機器１に流れる電流
Ｉの向きが蓋体６３の一辺に対して角度θであるとする
と、ＴＥＭセル６０の一端から出力される第１の合成電
流ＩAは、 ＩA=ＩE＋ＩMcosθ となる。ここで、供試機器１ごと蓋体６３を９０°づつ
回転させると、ＴＥＭセル６０の一端から出力される第
２〜４の合成電流ＩB〜ＩDはそれぞれ、 ＩB=ＩE−ＩMsinθ ＩC=ＩE−ＩMcosθ ＩD=ＩE＋ＩMsinθ となる。したがって、計算機８０は、供試機器１の角度
を９０°つづ回転させて得た４つの合成電流値ＩA〜ＩD
を記憶部８１に記憶し、その後に演算部８２で第１〜４
の合成電流ＩA〜ＩDに基づき、これを連立して解けば、
電磁結合電流ＩM及び静電結合電流ＩE、さらに供試機器
１における主要な電流方向θを算出することができる。
また、演算部８２は、この電磁結合電流ＩM及び静電結
合電流ＩEに基づき電磁界強度を電界成分及び磁界成分
に分離して算出することができる。
される合成電流は、供試機器１を設置する角度によって
異なる値となる。これは、電磁結合電流ＩMは供試機器
１に流れる電流Ｉにより流れる方向が決定されるからで
ある。なお、静電結合電流Ｉ Eは供試機器１の全体的な
電位により値が決定されるので供試機器１の設置角度に
影響を受けない。したがって、供試機器１に流れる電流
Ｉの向きが蓋体６３の一辺に対して角度θであるとする
と、ＴＥＭセル６０の一端から出力される第１の合成電
流ＩAは、 ＩA=ＩE＋ＩMcosθ となる。ここで、供試機器１ごと蓋体６３を９０°づつ
回転させると、ＴＥＭセル６０の一端から出力される第
２〜４の合成電流ＩB〜ＩDはそれぞれ、 ＩB=ＩE−ＩMsinθ ＩC=ＩE−ＩMcosθ ＩD=ＩE＋ＩMsinθ となる。したがって、計算機８０は、供試機器１の角度
を９０°つづ回転させて得た４つの合成電流値ＩA〜ＩD
を記憶部８１に記憶し、その後に演算部８２で第１〜４
の合成電流ＩA〜ＩDに基づき、これを連立して解けば、
電磁結合電流ＩM及び静電結合電流ＩE、さらに供試機器
１における主要な電流方向θを算出することができる。
また、演算部８２は、この電磁結合電流ＩM及び静電結
合電流ＩEに基づき電磁界強度を電界成分及び磁界成分
に分離して算出することができる。
【００７６】次に、本測定方法を用いた実施例について
説明する。第１の実施例では、供試機器１として数ｃｍ
の導線を選択した。供試機器１である導線は、長手方向
が前記蓋体６３の一辺に対して０°となるように配置し
た。すなわち、角度θ＝０°である。供試機器１である
導線の一端は、電流測定器７０であるネットワークアナ
ライザに接続する。導線の他端は、５０Ω終端を行って
いる。この供試機器１を蓋体６３を回転させ４つの回転
角度で電流値を測定し、計算機８０により電磁結合電流
ＩM及び静電結合電流ＩE、さらに供試機器１における主
要な電流方向θを測定した。また、測定は１５０ｋＨｚ
〜１ＧＨｚの範囲で５ＭＨｚごとに測定した。その結
果、図１１のグラフを得た。
説明する。第１の実施例では、供試機器１として数ｃｍ
の導線を選択した。供試機器１である導線は、長手方向
が前記蓋体６３の一辺に対して０°となるように配置し
た。すなわち、角度θ＝０°である。供試機器１である
導線の一端は、電流測定器７０であるネットワークアナ
ライザに接続する。導線の他端は、５０Ω終端を行って
いる。この供試機器１を蓋体６３を回転させ４つの回転
角度で電流値を測定し、計算機８０により電磁結合電流
ＩM及び静電結合電流ＩE、さらに供試機器１における主
要な電流方向θを測定した。また、測定は１５０ｋＨｚ
〜１ＧＨｚの範囲で５ＭＨｚごとに測定した。その結
果、図１１のグラフを得た。
【００７７】同様に、第２実施例では、前記導線を前記
蓋体６３の一辺に対して２０°となるように配置して測
定した。すなわち、角度θ＝０°である。他の測定条件
は第１の実施例と同様である。その結果、図１２のグラ
フを得た。
蓋体６３の一辺に対して２０°となるように配置して測
定した。すなわち、角度θ＝０°である。他の測定条件
は第１の実施例と同様である。その結果、図１２のグラ
フを得た。
【００７８】さらに、第３の実施例では、供試機器１と
してマイクロストリップライン（以下ＭＳＬという）を
選択した。供試機器１であるＭＳＬは、長手方向が前記
蓋体６３の一辺に対して４５°となるように配置した。
すなわち、角度θ＝４５°である。他の測定条件は第１
の実施例と同様である。その結果、図１３のグラフを得
た。
してマイクロストリップライン（以下ＭＳＬという）を
選択した。供試機器１であるＭＳＬは、長手方向が前記
蓋体６３の一辺に対して４５°となるように配置した。
すなわち、角度θ＝４５°である。他の測定条件は第１
の実施例と同様である。その結果、図１３のグラフを得
た。
【００７９】図１１〜図１３に示すように、理論上ほぼ
正確な値が測定されていることが確認された。
正確な値が測定されていることが確認された。
【００８０】なお、本実施の形態では、同軸伝送線路と
してＴＥＭセル６０を用いたが、図１４の断面図に示す
ようなＧ−ＴＥＭセル６０ａを用いてもよい。このＧ−
ＴＥＭセル６０ａは、一端側が電磁波吸収体６５により
終端されているものである。このＧ−ＴＥＭセル６０ａ
では、特に高周波における測定に優れたものとなる。
してＴＥＭセル６０を用いたが、図１４の断面図に示す
ようなＧ−ＴＥＭセル６０ａを用いてもよい。このＧ−
ＴＥＭセル６０ａは、一端側が電磁波吸収体６５により
終端されているものである。このＧ−ＴＥＭセル６０ａ
では、特に高周波における測定に優れたものとなる。
【００８１】また、本実施の形態では、終端抵抗６４と
してインピーダンスが５０Ωのものを用いたが、これに
限定されることなく他のインピータンス値で終端するよ
うにしてもよい。
してインピーダンスが５０Ωのものを用いたが、これに
限定されることなく他のインピータンス値で終端するよ
うにしてもよい。
【００８２】さらに、本実施の形態では、ＴＥＭセル６
０の蓋体６３として、正方形のものを用いることによ
り、容易に９０°回転可能としたが、蓋体６３を円形や
六角形や八角形等の多角形状にしてもよい。また、その
回転角度も９０°づつに限定されることなく、他の角度
であってもよい。
０の蓋体６３として、正方形のものを用いることによ
り、容易に９０°回転可能としたが、蓋体６３を円形や
六角形や八角形等の多角形状にしてもよい。また、その
回転角度も９０°づつに限定されることなく、他の角度
であってもよい。
【００８３】さらに、ＴＥＭセル６０に替えて、図１５
及び図１６に示すような箱体９０を用いてもよい。図１
５は箱体９０の断面図、図１６は箱体９０の上面図であ
る。箱体９０は、内側に電磁波吸収体９１を付設してい
る。供試機器１は、箱体９０の底面に配置する。箱体９
０の上部には２つの内部導体９２及び９３が配置されて
いる。この内部導体９２及び９３は、箱体９０の天井面
に互いに９０°で交差するように配置されている。ま
た、各内部導体９２の両端部は箱体９０の上面に設けら
れたコネクタ９４〜９７に接続されている。このように
箱体９０では、各コネクタ９４〜９７からの出力を電流
測定器７０で測定すればよい。なお、各内部導体９２は
同軸ケーブル等を利用したシールド構造を有したもので
あってもよい。
及び図１６に示すような箱体９０を用いてもよい。図１
５は箱体９０の断面図、図１６は箱体９０の上面図であ
る。箱体９０は、内側に電磁波吸収体９１を付設してい
る。供試機器１は、箱体９０の底面に配置する。箱体９
０の上部には２つの内部導体９２及び９３が配置されて
いる。この内部導体９２及び９３は、箱体９０の天井面
に互いに９０°で交差するように配置されている。ま
た、各内部導体９２の両端部は箱体９０の上面に設けら
れたコネクタ９４〜９７に接続されている。このように
箱体９０では、各コネクタ９４〜９７からの出力を電流
測定器７０で測定すればよい。なお、各内部導体９２は
同軸ケーブル等を利用したシールド構造を有したもので
あってもよい。
【００８４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明では、供試
機器と導体間の静電結合電流については、電磁波の放射
源から離れる方向に出力される。一方、供試機器と導体
間の電磁結合電流については、導体の形状や両者間の位
置関係に応じて特定の一方向に出力されるが、導体周囲
の磁界の向きによってその方向及び電流値は異なるもの
となる。すなわち、導体のある部位においては静電結合
電流と電磁結合電流は同方向の出力されるが、他の部位
においては逆方向になる。したがって、導体のある部位
において出力される電流は、静電結合電流と電磁結合電
流との合成電流となっている。そこで、供試機器に対し
て互いに異なる複数方向に出力される各合成電流を測定
すれば、静電結合電流と電磁結合電流を分離して算出す
ることができる。そして、この各電流値により電磁界の
電界成分と磁界成分を正確に測定することができる。
機器と導体間の静電結合電流については、電磁波の放射
源から離れる方向に出力される。一方、供試機器と導体
間の電磁結合電流については、導体の形状や両者間の位
置関係に応じて特定の一方向に出力されるが、導体周囲
の磁界の向きによってその方向及び電流値は異なるもの
となる。すなわち、導体のある部位においては静電結合
電流と電磁結合電流は同方向の出力されるが、他の部位
においては逆方向になる。したがって、導体のある部位
において出力される電流は、静電結合電流と電磁結合電
流との合成電流となっている。そこで、供試機器に対し
て互いに異なる複数方向に出力される各合成電流を測定
すれば、静電結合電流と電磁結合電流を分離して算出す
ることができる。そして、この各電流値により電磁界の
電界成分と磁界成分を正確に測定することができる。
【００８５】これにより、測定に用いる導体、例えばル
ープアンテナ等を供試機器の近傍に配置しても、電磁界
を電界成分と磁界成分に分離することができるので、各
成分データの有効活用が可能である。例えば、供試機器
に流れる電流電圧分布を測定することができる。ここ
で、ループアンテナを用いて従来の通常の測定を行った
場合と比較すれば、本発明では電界成分を排除すること
ができるので正確な測定値を得ることができる。また、
シールデッド・ループアンテナを用いた従来の通常の測
定を行った場合と比較すれば、本発明ではシールド部を
必要としないのでアンテナな小型化が可能となる。した
がって、電流分布測定の分解能を向上させることができ
る。
ープアンテナ等を供試機器の近傍に配置しても、電磁界
を電界成分と磁界成分に分離することができるので、各
成分データの有効活用が可能である。例えば、供試機器
に流れる電流電圧分布を測定することができる。ここ
で、ループアンテナを用いて従来の通常の測定を行った
場合と比較すれば、本発明では電界成分を排除すること
ができるので正確な測定値を得ることができる。また、
シールデッド・ループアンテナを用いた従来の通常の測
定を行った場合と比較すれば、本発明ではシールド部を
必要としないのでアンテナな小型化が可能となる。した
がって、電流分布測定の分解能を向上させることができ
る。
【００８６】また、本発明により、例えばオープンスペ
ースでのＥＭＩ測定のようにアンテナを供試機器から十
分離れて配置することなく、供試機器の近傍において測
定した電磁界の磁界成分から遠方電磁界強度を推定する
ことができる。したがって、例えばＴＥＭセルのような
小規模な設備でＥＭＩ評価を行うことができる。
ースでのＥＭＩ測定のようにアンテナを供試機器から十
分離れて配置することなく、供試機器の近傍において測
定した電磁界の磁界成分から遠方電磁界強度を推定する
ことができる。したがって、例えばＴＥＭセルのような
小規模な設備でＥＭＩ評価を行うことができる。
【図１】電磁界強度の測定装置の構成を説明する図
【図２】プローブを説明する図
【図３】ループアンテナからの出力を説明する概念図
【図４】電磁界強度の測定装置の構成を説明するブロッ
ク図
ク図
【図５】電磁界強度の測定装置の構成を説明するブロッ
ク図
ク図
【図６】電磁界強度の測定装置の構成を説明する図
【図７】電磁界強度の測定装置の構成を説明する図
【図８】電磁界強度の測定装置の構成を説明する図
【図９】ＴＥＭセルからの出力を説明する概念図
【図１０】電磁界強度の測定装置の構成を説明するブロ
ック図
ック図
【図１１】第１実施例による測定結果を示すグラフ
【図１２】第２実施例による測定結果を示すグラフ
【図１３】第３実施例による測定結果を示すグラフ
【図１４】Ｇ−ＴＥＭセルからの構造を説明する断面図
【図１５】箱体の断面図
【図１６】箱体の上面図
１…供試機器、１０…プローブ、１１…ループアンテ
ナ、２１，２２，２５，７０…電流測定器、３０，７
０，８０…計算機、４０…移動装置、６０…ＴＥＭセ
ル、６１…中心導体、９０…箱体
ナ、２１，２２，２５，７０…電流測定器、３０，７
０，８０…計算機、４０…移動装置、６０…ＴＥＭセ
ル、６１…中心導体、９０…箱体
フロントページの続き (72)発明者 藤田 正和 宮城県仙台市青葉区南吉成六丁目６番地の ３ 株式会社環境電磁技術研究所内 (72)発明者 清水 政行 東京都台東区上野６丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 Ｆターム(参考） 2G035 AA07 AA11 AA21 AA27 AB04 AB09 AC13 AD26 AD28 AD66 9A001 BB03 BB04 KK15 KK37 LL05
Claims (22)
- 【請求項１】 供試機器の放射電磁波により該供試機器
の周囲に形成される電磁界の強度を測定する方法におい
て、 少なくとも一部の周波数領域において供試機器との間で
静電結合及び電磁結合する範囲内に導体を配置し、 供試機器と導体間の静電結合により導体から出力される
電流と、供試機器と導体間の電磁結合により導体から出
力される電流との合成電流について、供試機器に対して
互いに異なる複数方向に出力される各合成電流を測定
し、 これら複数の合成電流値及びその出力方向に基づき静電
結合による電流値及び電磁結合による電流値を算出し、 算出した各電流値に基づき電界強度及び磁界強度をそれ
ぞれ算出することを特徴とする電磁界強度の測定方法。 - 【請求項２】 前記複数の合成電流の測定では、前記導
体を前記供試機器に対して相対的に回転させ、異なる複
数の回転位置において導体の所定位置から出力される合
成電流を測定することを特徴とする請求項１記載の電磁
界強度の測定方法。 - 【請求項３】 前記導体がループアンテナであることを
特徴とする請求項１記載の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項４】 前記複数の合成電流の測定では、前記ル
ープアンテナを前記供試機器に対して相対的に回転さ
せ、異なる複数の回転位置において該ループアンテナの
少なくとも一端から出力される合成電流を測定すること
を特徴とする請求項３記載の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項５】 前記複数の合成電流の測定では、前記ル
ープアンテナの両端に出力される合成電流をそれぞれ測
定することを特徴とする請求項３又は４何れか１項記載
の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項６】 前記ループアンテナを前記供試機器に対
して相対的に移動させることにより電磁界の強度分布を
測定することを特徴とする請求項３〜５何れか１項記載
の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項７】 前記ループアンテナの移動は前記供試機
器に対して一定の間隔をもって行うことを特徴とする請
求項６記載の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項８】 前記導体が同軸伝送線路の内部導体であ
るとともに、該同軸伝送線路の内部導体と外部導体の間
に供試機器を配置することを特徴とする請求項１記載の
電磁界強度の測定方法。 - 【請求項９】 前記複数の合成電流の測定では、前記供
試機器を前記同軸伝送線路内で回転させ、異なる複数の
回転位置において内部導体の少なくとも一端から出力さ
れる合成電流を測定することを特徴とする請求項８記載
の電磁界強度の測定方法。 - 【請求項１０】 前記同軸伝送線路がＴＥＭセルである
ことを特徴とする請求項８又は９何れか１項記載の電磁
界強度の測定方法。 - 【請求項１１】 前記同軸伝送線路がＧ−ＴＥＭセルで
あることを特徴とする請求項８又は９何れか１項記載の
電磁界強度の測定方法。 - 【請求項１２】 供試機器の放射電磁波により該供試機
器の周囲に形成される電磁界の強度を測定する装置にお
いて、 少なくとも一部の周波数領域において供試機器との間で
静電結合及び電磁結合する範囲内に配置した導体と、 供試機器と導体間の静電結合により導体から出力される
電流と、供試機器と導体間の電磁結合により導体から出
力される電流との合成電流について、供試機器に対して
互いに異なる複数方向に出力される各合成電流を測定す
る測定手段と、 これら複数の合成電流値及びその出力方向に基づき静電
結合による電流値及び電磁結合による電流値を算出する
とともに、この算出した各電流値に基づき電界強度及び
磁界強度をそれぞれ算出する算出手段とを備えたことを
特徴とする電磁界強度の測定装置。 - 【請求項１３】 前記導体を前記供試機器に対して相対
的に回転させる回転手段を備えたことを特徴とする請求
項１２記載の電磁界強度の測定装置。 - 【請求項１４】 前記導体を前記供試機器に対して相対
的に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求
項１２又は１３何れか１項記載の電磁界強度の測定装
置。 - 【請求項１５】 前記導体がループアンテナであること
を特徴とする請求項１２〜１４何れか１項記載の電磁界
強度の測定装置。 - 【請求項１６】 前記導体が同軸伝送線路の内部導体で
あるとともに、前記供試機器を該同軸伝送線路の内部導
体と外部導体の間に配置して測定することを特徴とする
請求項１２〜１４何れか１項記載の電磁界強度の測定装
置。 - 【請求項１７】 前記同軸伝送線路がＴＥＭセルである
ことを特徴とする請求項１６記載の電磁界強度の測定装
置。 - 【請求項１８】 前記同軸伝送線路がＧ−ＴＥＭセルで
あることを特徴とする請求項１６記載の電磁界強度の測
定装置。 - 【請求項１９】 請求項１〜１１記載の電磁界強度の測
定方法を用いて供試機器周囲の電界強度及び磁界強度を
測定し、 この電界強度に基づき供試機器における電圧分布を算出
するとともに、磁界強度に基づき供試機器における電流
分布を算出することを特徴とする電流電圧分布の測定方
法。 - 【請求項２０】 請求項１〜１１記載の電磁界強度の測
定方法を用いて測定した供試機器周囲の磁界強度に基づ
き供試機器における電流方向の分布を算出することを特
徴とする請求項１９記載の電流電圧分布の測定方法。 - 【請求項２１】 請求項１２〜１８記載の電磁界強度の
測定装置に、前記算出手段により算出された前記電界強
度に基づき供試機器における電圧分布を算出するととも
に前記磁界強度に基づき供試機器における電流分布を算
出する電流電圧分布算出手段を設けたことを特徴とする
電流電圧分布の測定装置。 - 【請求項２２】 前記電流電圧分布算出手段は前記磁界
強度に基づき供試機器における電流方向の分布を算出す
ることを特徴とする請求項２１記載の電流電圧分布の測
定装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00648599A JP3394202B2 (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置 |
| US09/481,689 US6456070B1 (en) | 1999-01-13 | 2000-01-12 | Method and device for measuring intensity of electromagnetic field, method and device for measuring current-voltage distribution, and method for judging quality of electronic device, and electronic device therefor |
| US10/237,719 US6975111B2 (en) | 1999-01-13 | 2002-09-10 | Method and device for measuring intensity of electromagnetic field, method and device for measuring current-voltage distribution, and method for judging quality of electronic device, and electronic device thereof |
| US11/203,089 US7098677B2 (en) | 1999-01-13 | 2005-08-15 | Method and device for measuring intensity of electromagnetic field, method and device for measuring current-voltage distribution, and method for judging quality of electronic device, and electronic device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00648599A JP3394202B2 (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000206163A true JP2000206163A (ja) | 2000-07-28 |
| JP3394202B2 JP3394202B2 (ja) | 2003-04-07 |
Family
ID=11639789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00648599A Expired - Lifetime JP3394202B2 (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US6456070B1 (ja) |
| JP (1) | JP3394202B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002228698A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Melco Inc | 電界プローブ |
| WO2002084311A1 (fr) * | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Procede de mesure de l'intensite d'un champ electromagnetique et dispositif afferent, procede de mesure de la repartition d'intensite d'un champ electromagnetique et dispositif afferent, procede de mesure de la repartition de courant/tension et dispositif afferent |
| US6625554B2 (en) | 2001-06-22 | 2003-09-23 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for determining a magnetic field |
| JP2006201007A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電界ベクトルの算出方法及びその装置、電界ベクトルの算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体、電磁界ベクトルの算出方法及びその装置、電磁界ベクトルの算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体、遠方電磁界強度の算出方法及びその装置、遠方電磁界強度の算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
| US7642973B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-01-05 | Panasonic Corporation | Electromagnetic wave analysis apparatus and design support apparatus |
| US7647034B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-01-12 | Panasonic Corporation | Design support system and design method for circuit board, and noise analysis program |
| US7710131B1 (en) * | 2007-08-18 | 2010-05-04 | Radiation Monitoring Devices, Inc. | Non-contact circuit analyzer |
| JP2011153860A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Hitachi Ltd | 電磁波源探査方法、電磁波源探査プログラム、電磁波源探査装置 |
| JP2011525980A (ja) * | 2008-06-25 | 2011-09-29 | セントル ナショナル デチュード スパシアル （セー．エヌ．エ．エス） | 単方向プローブに基づいて電子デバイスを多次元的に試験するための方法及び装置 |
| KR101340948B1 (ko) | 2012-06-07 | 2013-12-17 | 주식회사 에이디엔티 | 전자 방해 검출 장치 |
| US9335359B2 (en) | 2013-08-09 | 2016-05-10 | Tdk Corporation | Far electromagnetic field estimation method and apparatus, and near electromagnetic field measurement apparatus |
| US10317446B2 (en) | 2016-03-28 | 2019-06-11 | Tdk Corporation | Radiated emission measuring device |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2797327B1 (fr) * | 1999-08-03 | 2001-11-09 | France Telecom | Procede et dispositif de mesure en champ proche de rayonnements radioelectriques non controles |
| JP2004020403A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Hitachi Ltd | 電子機器表示装置、電子機器、及びその製造方法 |
| JP3655295B2 (ja) * | 2002-07-22 | 2005-06-02 | 富士通株式会社 | インバータの電流検出方法、その電流検出回路、その異常検出方法、その異常検出回路、表示装置及び情報処理装置 |
| US7482814B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-01-27 | The Board of Regents University Community College System of Nevada on Behalf of the University of Nevada-Las Vegas | Electric/magnetic field sensor |
| CN100395560C (zh) * | 2004-10-27 | 2008-06-18 | 华为技术有限公司 | 印制电路板信号回流密度测量电路及方法 |
| KR100976146B1 (ko) * | 2005-01-11 | 2010-08-16 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 전자계 분포 측정방법 및 그 장치 및 정보기록매체 |
| US7541818B2 (en) * | 2005-07-07 | 2009-06-02 | Panasonic Corporation | Method and apparatus of electromagnetic measurement |
| JP4895551B2 (ja) * | 2005-08-10 | 2012-03-14 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置および試験方法 |
| KR100815151B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2008-03-19 | 한국전자통신연구원 | 역산란파 측정방법과 이를 이용한 전파식별 트랜스폰더 및 판독기의 불량품 확인장치 |
| US7750629B2 (en) * | 2007-08-30 | 2010-07-06 | Intel Corporation | Measuring electric and magnetic field |
| JP4747208B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2011-08-17 | キヤノン株式会社 | 電磁界計測装置および方法 |
| US8643539B2 (en) * | 2008-11-19 | 2014-02-04 | Nokomis, Inc. | Advance manufacturing monitoring and diagnostic tool |
| EP2488882B1 (en) * | 2009-10-16 | 2020-11-25 | TechHold, LLC | System and method of electromagnetic field detection |
| CN102711361A (zh) * | 2011-03-28 | 2012-10-03 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 电路板 |
| CN102426310B (zh) * | 2011-10-09 | 2014-03-19 | 中国航空无线电电子研究所 | 一种新型飞机全机高强度辐照试验方法 |
| JP6476861B2 (ja) * | 2012-10-24 | 2019-03-06 | 日本電気株式会社 | 電磁界特徴分類提示装置 |
| US9523729B2 (en) * | 2013-09-13 | 2016-12-20 | Infineon Technologies Ag | Apparatus and method for testing electric conductors |
| US9335384B2 (en) * | 2013-09-25 | 2016-05-10 | Qualcomm Incorporated | Adjustable magnetic probe for efficient near field scanning |
| US9846130B2 (en) | 2014-02-24 | 2017-12-19 | Applied Materials, Inc. | Ceramic ring test device |
| CN103969495B (zh) * | 2014-05-22 | 2016-07-06 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种线天线电流的仿真测量方法 |
| US10156601B2 (en) * | 2016-05-17 | 2018-12-18 | Anritsu Corporation | Antenna measurement system and antenna measurement method |
| US10448864B1 (en) | 2017-02-24 | 2019-10-22 | Nokomis, Inc. | Apparatus and method to identify and measure gas concentrations |
| US11489847B1 (en) | 2018-02-14 | 2022-11-01 | Nokomis, Inc. | System and method for physically detecting, identifying, and diagnosing medical electronic devices connectable to a network |
| US20220334144A1 (en) * | 2021-04-16 | 2022-10-20 | Tektronix, Inc. | Multi-mode measurement probe |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3611382A (en) * | 1969-11-12 | 1971-10-05 | Us Navy | Detector probe for measurement of high-frequency elliptically polarized fields |
| GB2180964A (en) * | 1985-08-29 | 1987-04-08 | Johnson Matthey Plc | Indicator element |
| US5300879A (en) * | 1990-06-18 | 1994-04-05 | Nec Corporation | Bidimensional electromagnetic emission level monitoring equipment |
| EP0501169B1 (de) * | 1991-02-25 | 1995-08-23 | Asea Brown Boveri Ag | Feldstärkenmessgerät |
| EP0508062B1 (de) * | 1991-04-10 | 1995-07-19 | atg test systems GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung einer elektrischen Leiteranordnung |
| JP3091815B2 (ja) * | 1994-02-25 | 2000-09-25 | 富士通株式会社 | 電磁界強度算出装置 |
| US5773974A (en) * | 1995-04-13 | 1998-06-30 | Credence Technologies, Inc. | Portable electro-magnetic field detection and measurement apparatus for near-field test and measurements |
| KR100226426B1 (ko) * | 1995-06-23 | 1999-10-15 | 정선종 | Gtem셀의 복사에미션 측정방법 |
| US6243192B1 (en) * | 1997-04-28 | 2001-06-05 | Timer Technologies, Llc | Electrochemical display and timing mechanism with migrating electrolyte |
| KR100238446B1 (ko) * | 1997-11-20 | 2000-01-15 | 정선종 | 회전형 결합 전송 선로 셀 |
| US7821794B2 (en) * | 2005-04-11 | 2010-10-26 | Aveso, Inc. | Layered label structure with timer |
-
1999
- 1999-01-13 JP JP00648599A patent/JP3394202B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-01-12 US US09/481,689 patent/US6456070B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-09-10 US US10/237,719 patent/US6975111B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-08-15 US US11/203,089 patent/US7098677B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002228698A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Melco Inc | 電界プローブ |
| US7652485B2 (en) | 2001-04-09 | 2010-01-26 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Measuring method for electromagnetic field intensity and apparatus therefor, measuring method for electromagnetic field intensity distribution and apparatus therefor, measuring method for current and voltage distributions and apparatus therefor |
| WO2002084311A1 (fr) * | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Procede de mesure de l'intensite d'un champ electromagnetique et dispositif afferent, procede de mesure de la repartition d'intensite d'un champ electromagnetique et dispositif afferent, procede de mesure de la repartition de courant/tension et dispositif afferent |
| EP1477819A1 (en) * | 2001-04-09 | 2004-11-17 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method of measuring electromagnetic field intensity and device therefor,method of measuring electromagnetic field intensity distribution and device thereof, method of measuring current/voltage distribution and divice thereof |
| US7317319B2 (en) | 2001-04-09 | 2008-01-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Measuring method for electromagnetic field intensity and apparatus therefor, measuring method for electromagnetic field intensity distribution and apparatus therefor, measuring method for current and voltage distributions and apparatus therefor |
| EP1477819A4 (en) * | 2001-04-09 | 2008-04-02 | Taiyo Yuden Kk | METHOD OF MEASURING THE ELECTROMAGNETIC FIELD INTENSITY AND DEVICE THEREFOR, METHOD FOR MEASURING THE ELECTROMAGNETIC FIELD INTENSITY DISTRIBUTION AND EQUIPMENT THEREFOR, METHOD FOR MEASURING THE ELECTRICITY / VOLTAGE DISTRIBUTION AND ESTABLISHMENT THEREFOR |
| US7459917B2 (en) | 2001-04-09 | 2008-12-02 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Measuring method for electromagnetic field intensity and apparatus therefor, measuring method for electromagnetic field intensity distribution and apparatus therefor, measuring method for current and voltage distributions and apparatus therefor |
| US6625554B2 (en) | 2001-06-22 | 2003-09-23 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for determining a magnetic field |
| US7642973B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-01-05 | Panasonic Corporation | Electromagnetic wave analysis apparatus and design support apparatus |
| JP2006201007A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電界ベクトルの算出方法及びその装置、電界ベクトルの算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体、電磁界ベクトルの算出方法及びその装置、電磁界ベクトルの算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体、遠方電磁界強度の算出方法及びその装置、遠方電磁界強度の算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
| JP4619799B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2011-01-26 | 太陽誘電株式会社 | 電界ベクトルの算出方法及びその装置、電界ベクトルの算出プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
| US7647034B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-01-12 | Panasonic Corporation | Design support system and design method for circuit board, and noise analysis program |
| US7710131B1 (en) * | 2007-08-18 | 2010-05-04 | Radiation Monitoring Devices, Inc. | Non-contact circuit analyzer |
| JP2011525980A (ja) * | 2008-06-25 | 2011-09-29 | セントル ナショナル デチュード スパシアル （セー．エヌ．エ．エス） | 単方向プローブに基づいて電子デバイスを多次元的に試験するための方法及び装置 |
| JP2011153860A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Hitachi Ltd | 電磁波源探査方法、電磁波源探査プログラム、電磁波源探査装置 |
| KR101340948B1 (ko) | 2012-06-07 | 2013-12-17 | 주식회사 에이디엔티 | 전자 방해 검출 장치 |
| US9335359B2 (en) | 2013-08-09 | 2016-05-10 | Tdk Corporation | Far electromagnetic field estimation method and apparatus, and near electromagnetic field measurement apparatus |
| US10317446B2 (en) | 2016-03-28 | 2019-06-11 | Tdk Corporation | Radiated emission measuring device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6456070B1 (en) | 2002-09-24 |
| US20030006786A1 (en) | 2003-01-09 |
| JP3394202B2 (ja) | 2003-04-07 |
| US7098677B2 (en) | 2006-08-29 |
| US6975111B2 (en) | 2005-12-13 |
| US20060033510A1 (en) | 2006-02-16 |
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|---|---|---|
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|
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|
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|
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