JP2000200861A - 電力用半導体パッケージ - Google Patents

電力用半導体パッケージ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップから周辺部パッド区域に至る実
質的に全てのワイヤボンドがパッケージの1つの側部の
みに向いている表面取り付け電力用半導体パッケージを
提供すること。 【解決手段】 電力用半導体パッケージ100は、基板
104、電力用半導体チップ106、複数の導電体パッ
ド108を含む。基板104は上表面110および下表
面112を含む。基板104は、空間的に離隔された第
1の側縁114および第2の側縁116と、前部周縁1
18および後部周縁120とによって規定される周辺を
含む。複数の導電体パッド108は、第2の周辺側縁1
16に配置されている。電力用半導体チップ106は、
金属化された表面122と、金属化された表面124を
含む。複数のワイヤボンド130は、第1の金属化され
た表面122から1つまたは複数の導電体パッド108
へと張り渡される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力用半導体パッ
ケージに関し、より詳細には、半導体チップから周辺部
パッド区域に至る実質的に全てのワイヤボンドがパッケ
ージの1つの側部のみに向いている表面取り付け電力用
半導体パッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】表面取り付け電力用半導体パッケージは
知られている。典型的には、これらのパッケージは、実
質的にパッケージの中央部に配置される電力用半導体チ
ップを含み、およびそのパッケージの周辺部に配置され
る複数のパッドを含む。通常、これらのパッドは、その
パッケージの利用可能な実質的に全ての周辺区域、すな
わちそのパッケージの少なくとも2つの側部の周囲に配
置される。
【0003】1つまたは複数のワイヤボンドが、電力用
半導体チップの金属化された表面から1つまたは複数の
周辺部パッドへと配置される。これは、パッケージの電
極と半導体との間の入力/出力接続を提供する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】低い総抵抗、低い熱抵
抗率、および高い半導体対パッケージの面積比を示す電
力用半導体デバイスのパッケージを用いることが望まし
い。都合の悪いことには、これ以前に議論された先行技
術の電力用半導体パッケージは、これらの目的のそれぞ
れを満足していなかった。なぜなら、少なくとも、半導
体パッケージ周辺部の周囲に配置された多数の入力/出
力パッドが、チップ対パッケージ面積比を低下させるか
らである。多数の入力/出力パッドが半導体パッケージ
周辺部の周囲に配置される時には、パッケージ抵抗およ
び熱伝導性も同様に損なわれる。これらの問題点は、複
数の半導体チップが配置されるときに、それら複数の半
導体チップが同一のパッケージ内に取り付けられるか、
あるいは別個のパッケージに取り付けられるかのいずれ
であるかに無関係に悪化する。
【0005】したがって、前述の先行技術の問題点を改
善する新規の半導体パッケージに関する当該技術の要求
が存在する。
【0006】
【課題を解決するための手段】(発明の概要)先行技術
の電力用半導体パッケージの不利な点を克服するため
に、本発明の半導体パッケージは、上表面と下表面とを
有する基板であって、前記上表面は、空間的に離隔され
た第1および第2の側縁と、空間的に離隔された前縁と
後縁とにより規定される周辺を含む基板と;前記基板の
上表面上に配置された電力用半導体チップであって、前
記チップは少なくとも第1の金属化された表面とその上
に配置される頂部表面と底部表面とを有する電力用半導
体チップと;前記基板の第2の側縁にのみ配置される複
数の導電体パッドと;前記第1の金属化された方面から
前記複数の導電体パッドへと張り渡される複数のワイヤ
ボンドとを含む。
【0007】本発明の別の態様によれば、半導体パッケ
ージは、上表面と下表面とを有する基板であって、前記
上表面は、空間的に離隔された第1および第2の側縁
と、空間的に離隔された前縁と後縁とにより規定される
周辺を含む基板と;前記基板の上表面上に配置された第
1の電力用MOSFET半導体チップであって、前記チ
ップはソースの金属化された表面およびゲートの金属化
された表面が配置される頂部表面と、ドレインを規定す
る底部表面とを含む第1の電力用MOSFET半導体チ
ップと;前記基板の上表面上に配置された第2の電力用
MOSFET半導体チップであって、前記チップはソー
スの金属化された表面およびゲートの金属化された表面
が配置される頂部表面と、ドレインを規定する底部表面
とを含む第2の電力用MOSFET半導体チップと;前
記基板の第2の側縁にのみ配置された複数の導電体パッ
ドと;前記第1のMOSFETチップのソースの金属化
された表面から前記複数の導電体パッドの1つまたは複
数へと張り渡される第1の組のワイヤボンドであって、
前記ワイヤボンドの少なくとも1つは、前記第1のMO
SFETチップのゲートの金属化された表面から前記導
電体パッドの1つへと張り渡される第1の組のワイヤボ
ンドと;前記第2のMOSFETチップのソースの金属
化された表面から前記複数の導電体パッドの1つまたは
複数へと張り渡される第2の組のワイヤボンドであっ
て、前記ワイヤボンドの少なくとも1つは、前記第2の
MOSFETチップのゲートの金属化された表面から前
記導電体パッドの1つへと張り渡される第2の組のワイ
ヤボンドとを含む。
【0008】本発明の他の特徴および効果は、図面及び
本発明の記載から明らかになるであろう。
【0009】本発明を例示する目的のために、現状にお
いて好まれる形態が図面において示されている。しか
し、示されている明確な配列および手段に本発明が限定
されるものではないことは理解される。
【0010】
【発明の実施の形態】今、類似の数字が類似の要素を示
す図面を参照すると、図1において、本発明の1つの態
様に従う電力用半導体パッケージ100の上平面図が示
されている。電力用半導体パッケージ100は、基板1
04、電力用半導体チップ106、および複数の導電体
パッド108を含む。好ましくは、基板104は、電気
絶縁性を有する直角平行六面体の形態をなす。図2にお
いて最もよくわかるように、基板104は上表面110
および下表面112を含む。基板104は、空間的に離
隔された第1の側縁114および第2の側縁116と、
前部周縁118および後部周縁120とによって規定さ
れる周辺を含む。
【0011】複数の導電体パッド108は、第2の周辺
側縁116に配置され、および本発明に関して決定的で
あるように、基板104の他の周辺縁に導電体パッド1
08は配置されない。チップ対パッケージ面積比を最大
化するために、好ましくは、電力用半導体チップ106
は、基板104の上表面110の残部を占める。
【0012】電力用半導体チップ106は、好ましくは
少なくとも1つの金属化された表面122を含み、およ
び最も好ましくは第2の金属化された表面124をも同
様に含む。電力用半導体チップ106は、第1の金属化
された表面におけるソース接続および第2の金属化され
た表面におけるゲート接続を含むMOSFETチップで
あることが好ましい。チップ106がMOSFETチッ
プであるときには、ソースを覆うゲートポテンシャルの
分配を確実にするためにゲートバス126が提供され
る。
【0013】複数のワイヤボンド130が、第1の金属
化された表面(ソース)122から1つまたは複数の導
電体パッド108へと張り渡される。ワイヤボンド13
0の全てが実質的に同一の方向(すなわち、第1の金属
化された表面122から第2の周辺側縁116に向かっ
て)に張り渡されることが注目される。ワイヤボンド1
30のいくつかは第1の長さL1を有し、ワイヤボンド
130の他のいくつかは第2の長さL2を有し、および
ワイヤボンド130のさらに他のものは第3の長さL3
を有することが好ましい。
【0014】別個のワイヤボンドの長さL1、L2およ
びL3は、半導体パッケージ100の全抵抗を最小化す
るように選択される。具体的には、ワイヤボンド130
の単位長さあたりの抵抗率と、それぞれのワイヤボンド
130のそれぞれの末端の第1の金属化された表面12
2および導電体パッド108に対する接続に関する接触
抵抗と、第1の金属化された表面122の単位面積あた
りの抵抗率との関数として、これらの長さは選択され
る。より具体的には、それぞれのワイヤボンドは有限の
抵抗を有するので、第1の金属化された表面122から
導電体パッド108への電流を効率的に並列接続する多
くのワイヤボンド130を有し、それによってワイヤボ
ンド130の総体的抵抗を低減することが望ましい。
【0015】さらに、第1の金属化された表面(ソー
ス)122を貫通する電流をむらなく分配するために、
ワイヤボンド130の長さを変化させることが望まし
い。L2がL1の長さの約2倍であり、および長さL3
がL1の長さの約3倍であることが最も好ましい。隣接
するワイヤボンド130が異なる長さを有するので、電
流がむらなく配分されることが注目される。
【0016】1つまたは複数のワイヤボンド109を、
第2の金属化された表面(ゲート)124を導電体パッ
ド108の1つに接続するのに用いてもよい。
【0017】図2において最もよくわかるように、基板
104は、上表面110から下表面112へと延びる複
数の接続孔(via;バイア)132を含む。接続孔13
2は導電性材料を含んで、半導体チップ106の底部表
面から基板104の下表面112への電気伝導性および
熱伝導性を確保する。好ましくは、接続孔132は、そ
れらが中実であるように、タングステンまたは同等の電
気伝導性および熱伝導性を有する材料により実質的に充
填される。これは、接続孔132が非常に低い電気抵抗
および熱抵抗を有することを保証する。それらの接続孔
が最大限にされる直径を有することおよび同様に接続孔
132の数が最大限であることが、最も好ましい。
【0018】それらの接続孔のいくつかが半導体チップ
106の底部表面(チップ106がMOSFETである
時にはドレイン)からの電気伝導性および熱伝導性を提
供し、同時に他の接続孔132は1つまたは複数の導電
体パッド108に対する電気的接続を提供することが理
解される。ボールグリッドアレイ(BGA)を形成する
複数の導電性球体134が、基板104の下表面112
に配置される。ボールグリッドアレイは、電力用半導体
パッケージ100と印刷回路基板(図示せず)との間の
電気的接続を提供する。
【0019】固体物である中実接続孔132の使用は接
続を改良し、基板104の上表面110上のハンダマス
クの必要性を排除し、それによって半導体チップ106
の底部表面が接続孔132との直接の熱接触の状態にな
ることを可能にする。これは、半導体チップ106から
ボールグリッドアレイへの熱抵抗を最小限にする。
【0020】半導体チップ106により利用される基板
104の表面積を最大限にするために、いくつかの数の
接続孔132は、導電体パッド108と半導体チップ1
06との間に配置される。これは、チップ対パッケージ
面積比を改善する。実際、本発明の半導体パッケージは
(40%までの比を達成しているに過ぎない先行技術の
デバイスとは対称的に)、70%に迫るチップ対パッケ
ージ面積比を達成することが見いだされた。
【0021】図3は、本発明の別の態様による半導体パ
ッケージの上平面図を示す図である。図3において、図
1および図2と関連する同等の要素は、同一の参照符号
を付してある。
【0022】図3の半導体パッケージ200は、図1の
半導体パッケージ100と同一のフットプリント(設置
面積;foot print)を有するハウジング102を含む。
半導体パッケージ200は、2つの電力用半導体チップ
106aおよび106b、好ましくはMOSFETチッ
プ(しかし他の種類の半導体デバイスも予期される)を
さらに含む。MOSFETチップ106a、106b
は、基板104の上表面110上に取り付けられる。導
電性パッド108a、108bも、同様に基板104の
第2の周辺側縁116に配置される。
【0023】半導体パッケージ200の大きさが半導体
パッケージ100と実質的に同一であるときに、個々の
MOSFETチップ106aおよび106bは、図1に
おけるMOSFETチップ106の大きさのおよそ半分
であることが注目される。
【0024】MOSFETチップ106aおよび106
bは、それぞれのチップの頂部表面上に、ソースの金属
化区域122a、122bと、ゲートの金属化区域12
4a、124bとをそれぞれ含む。ソース金属化区域1
22a、122bは、それぞれ、ワイヤボンド130a
および130bを経由して、第2の周辺側縁116の導
電体パッド108に接続される。
【0025】図1のパッケージ100における場合にそ
うであったように、実質的に全てのワイヤボンド130
a、130bが、それぞれのソースの金属化区域122
a、122bから側縁116にある導電体パッド108
へと向かう1つの方向に張り渡される。同様に、図示さ
れていないけれども、図2において示されるものと実質
的に同等な複数の接続孔132およびボールグリッドア
レイが、基板104に含まれる。
【0026】図4は、本発明のさらに別の態様による半
導体パッケージ上平面図を示す図である。背景として、
ある場合において、2つのMOSFETチップのそれぞ
れのソースが一緒に接続されている背中合わせ(back-t
o-back)のMOSFETトランジスタ(ACスイッチと
しても知られている)を用いることが望ましい。半導体
パッケージ300は、ドレインからドレインまでの電気
抵抗を最小限にするために、MOSFETチップのそれ
ぞれのソース間の接続が完全にパッケージ内部において
行われる、そのようなACスイッチを提供する。
【0027】半導体パッケージ300は、それぞれのソ
ースの金属化区域122aおよび122bを有する第1
および第2のMOSFETチップ106a、106bを
含む。半導体チップ106aおよび106bは、図3の
パッケージ200においてと実質的に同一の方法におい
て、基板104の上表面上に配置される。複数の導電体
パッド108、108aおよび108bが、基板104
の1つの側縁116に配置される。それぞれのゲートの
金属化区域124a、124bは、ゲートワイヤボンド
109a、109bを経由して、それぞれの導電体パッ
ド108a、108bに接続される。
【0028】ACスイッチにおける高電流経路は、MO
SFETチップ106a、106bのそれぞれのドレイ
ンに作成される必要があるのみである。したがって、導
電体パッド108の1つにおいて終始するワイヤボンド
111を用いて、ソースの金属化区域122aおよび1
22bに対する低電流接続が得られると同時に、ソース
の金属化区域122aおよび122bの間の高電流接続
は、一方のソースの金属化区域122aから他方のソー
スの金属化区域122bへと直接的に及ぶ複数のワイヤ
ボンド130によって得られる。前述のように、一方の
ソース122aから他方のソース122bまでの抵抗
は、ソースの金属化区域122aおよび122bを通し
て電流の均一な分配を得るように、異なる長さのワイヤ
ボンド130を用いることおよびそれらをジグザグに配
置することによって最小限にされる。
【0029】図示されていないけれども、図2において
示されるものと実質的に同等な複数の接続孔132およ
びボールグリッドアレイが、基板104に含まれる。
【0030】本発明の好ましい実施形態の前述の記載
は、例示および説明の目的のために提供された。それ
は、網羅的であること、または本発明を開示された明確
な形態に制限することを意図していない。前述の教示に
照らして、多くの変更および変形が可能である。本発明
の範囲は、この詳細な記載によってではなく、添付され
る請求の範囲によって制限されることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電力用半導体パッケージの一実施例を
示す上平面図である。
【図2】図1の半導体パッケージの側面図である。
【図3】本発明の電力用半導体パッケージの他の実施例
を示す上平面図である。
【図4】本発明の電力用半導体パッケージのさらに他の
実施例を示す上平面図である。
【符号の説明】
100、200、300 電力用半導体パッケージ 104 基板 106、106a、106b 電力用半導体チップ 108、108a、108b 導電体パッド 109 ワイヤボンド 110 上表面 112 下表面 114 第1の側縁 116 第2の側縁 118 前部周縁 120 後部周縁 122 第1の金属化された表面 124 第2の金属化された表面 126 ゲートバス 130、130a、130b ワイヤボンド 132 接続孔(via;バイア) 134 導電性球体 122a、122b ソースの金属化区域 124a、124b ゲートの金属化区域 109a、109b ゲートワイヤボンド
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年3月15日(2000.3.1
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 電力用半導体パッケージ
フロントページの続き (72)発明者 ブハラト シーブクマー アメリカ合衆国 90045 カリフォルニア 州 ロサンジェルス アルバーン ストリ ート 7027, アパートメント.ビー− 111 (72)発明者 ダニエル エム. キンザー アメリカ合衆国 90245 カリフォルニア 州 エル セグンド センター ストリー ト 760 (72)発明者 ジョージ マノス アメリカ合衆国 90630 カリフォルニア 州 サイプレス バルバドス アヴェニュ 6032

Claims (52)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上表面および下表面を有し、前記上表面
    は空間的に離隔された第1および第2の側縁、および空
    間的に離隔された前縁および後縁により規定される周辺
    を含む基板と、 前記基板の上表面上に配置された電力用用半導体チップ
    であって、前記チップは少なくとも第1の金属化された
    表面が配置される頂部表面と底部表面とを含む電力用半
    導体チップと、 前記基板の第2の側縁にのみ配置された複数の導電体パ
    ッドと、 前記第1の金属化された表面から前記複数の導電体パッ
    ドへと張り渡される複数のワイヤボンドとを備えたこと
    を特徴とする電力用半導体パッケージ。
  2. 【請求項2】 前記複数のワイヤボンドはそれぞれの長
    さを有し、それらの長さは複数の別個の値の1つである
    ことを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体パッケ
    ージ。
  3. 【請求項3】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接し
    て配置され、直接に隣接しているワイヤボンドは異なる
    長さを有することを特徴とする請求項2に記載の電力用
    半導体パッケージ。
  4. 【請求項4】 前記基板は、前記上表面と下表面との間
    に延びる複数の接続孔を含むことを特徴とする請求項1
    に記載の電力用半導体パッケージ。
  5. 【請求項5】 前記接続孔のいくつかは、前記半導体チ
    ップの底部表面から前記基板を貫通する電気的接続を提
    供することを特徴とする請求項4に記載の電力用半導体
    パッケージ。
  6. 【請求項6】 前記接続孔は、それらが中実であるよう
    に導電性材料により実質的に充填されていることを特徴
    とする請求項5に記載の電力用半導体パッケージ。
  7. 【請求項7】 前記導電性材料は、タングステンまたは
    高い電気伝導性および熱伝導性を有する他の材料である
    ことを特徴とする請求項5に記載の電力用半導体パッケ
    ージ。
  8. 【請求項8】 前記基板の前記下表面に配列されるボー
    ルグリッドアレイを形成する複数の導電性球体をさらに
    含み、前記配列の球体の少なくともいくつかは前記接続
    孔の導電性材料から外部回路への電気的接続を提供する
    ためのものであることを特徴とする請求項4に記載の電
    力用半導体パッケージ。
  9. 【請求項9】 前記電力用半導体チップは、電力用MO
    SFETチップであることを特徴とする請求項1に記載
    の電力用半導体パッケージ。
  10. 【請求項10】 前記MOSFETチップの第1の金属
    化された表面がソースを規定し、前記MOSFETチッ
    プは、ワイヤボンドを経由して前記複数の導電体パッド
    と連結されるゲートを規定する第2の金属化された表面
    をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の電力用
    半導体パッケージ。
  11. 【請求項11】 前記MOSFETチップの底部表面が
    ドレインを規定し、 前記基板は前記上表面と前記下表面との間に延びる複数
    の接続孔を含み、前記接続孔のいくつかは前記ドレイン
    から前記基板を貫通する電気的接続を提供し、少なくと
    も1つの他の接続孔が前記導電体パッドから前記基板を
    貫通して前記ゲートへの電気的接続を提供することを特
    徴とする請求項10に記載の電力用半導体パッケージ。
  12. 【請求項12】 前記接続孔は、それらが固体物である
    ように導電性材料により実質的に充填されていることを
    特徴とする請求項11に記載の電力用半導体パッケー
    ジ。
  13. 【請求項13】 前記導電性材料は、タングステンまた
    は高い電気伝導性および熱伝導性を有する他の材料であ
    ることを特徴とする請求項12に記載の電力用半導体パ
    ッケージ。
  14. 【請求項14】 上表面と下表面とを有し、前記上表面
    は空間的に離隔された第1および第2の側縁、および空
    間的に離隔された前縁および後縁により規定される周辺
    を含む基板と、 前記基板の上表面上に配置された電力用MOSFETチ
    ップであって、前記チップはソースの金属化された表面
    およびゲートの金属化された表面が配置される頂部表面
    と、ドレインを規定する底部表面とを含む電力用MOS
    FETチップと、 前記基板の第2の側縁にのみ配置された複数の導電体パ
    ッドと、 前記ソースの金属化された表面から前記複数の導電体パ
    ッドの1つまたは複数へと張り渡される複数のワイヤボ
    ンドであって、前記ワイヤボンドの少なくとも1つは前
    記ゲートの金属化された表面から前記導電体パッドの1
    つへと張り渡される複数のワイヤボンドとを備えたこと
    を特徴とする電力用半導体パッケージ。
  15. 【請求項15】 前記複数のワイヤボンドはそれぞれの
    長さを有し、それらの長さは複数の別個の値の1つであ
    ることを特徴とする請求項14に記載の電力用半導体パ
    ッケージ。
  16. 【請求項16】 前記複数の別個の値の数は2またはそ
    れ以上であることを特徴とする請求項15に記載の電力
    用半導体パッケージ。
  17. 【請求項17】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接に隣接しているワイヤボンドは異な
    る長さを有することを特徴とする請求項15に記載の電
    力用半導体パッケージ。
  18. 【請求項18】 前記MOSFETチップは空間的に離
    隔された前記第1および第2の側縁の間に広がる横幅を
    含み、前記それぞれのワイヤボンドは、複数の別個の横
    位置の1つにおいて末端をなすことを特徴とする請求項
    14に記載の電力用半導体パッケージ。
  19. 【請求項19】 前記別個の横位置の数は2またはそれ
    以上であることを特徴とする請求項18に記載の電力用
    半導体パッケージ。
  20. 【請求項20】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接に隣接しているワイヤボンドは異な
    る横位置において末端をなすことを特徴とする請求項1
    8に記載の電力用半導体パッケージ。
  21. 【請求項21】 前記基板は、前記上表面と下表面との
    間に延びる複数の接続孔を含むことを特徴とする請求項
    14に記載の電力用半導体パッケージ。
  22. 【請求項22】 前記接続孔のいくつかは前記電力用半
    導体チップのドレインから前記基板を貫通する電気的接
    続を提供することを特徴とする請求項21に記載の電力
    用半導体パッケージ。
  23. 【請求項23】 前記接続孔は、それらが固体物である
    ように導電性材料により実質的に充填されていることを
    特徴とする請求項22に記載の電力用半導体パッケー
    ジ。
  24. 【請求項24】 前記導電性材料はタングステンまたは
    高い電気伝導率および熱伝導率を有する他の材料である
    ことを特徴とする請求項23に記載の電力用半導体パッ
    ケージ。
  25. 【請求項25】 前記基板の前記下表面に配置されるボ
    ールグリッドアレイを形成する複数の導電性球体をさら
    に含み、前記配列の球体の少なくともいくつかは前記接
    続孔の導電性材料から外部回路への電気的接続を提供す
    るためのものであることを特徴とする請求項21に記載
    の電力用半導体パッケージ。
  26. 【請求項26】 上表面と下表面とを有し、前記上表面
    は空間的に離隔された第1および第2の側縁、および空
    間的に離隔された前縁および後縁により規定される周辺
    を含む基板と、 前記基板の上表面上に配置された第1の電力用MOSF
    ETチップであって、前記チップはソースの金属化され
    た表面およびゲートの金属化された表面が配置される頂
    部表面と、ドレインを規定する底部表面とを含む第1の
    電力用MOSFETチップと、 前記基板の上表面上に配置された第2の電力用MOSF
    ETチップであって、前記チップはソースの金属化され
    た表面およびゲートの金属化された表面が配置される頂
    部表面と、ドレインを規定する底部表面とを含む第2の
    電力用MOSFETチップと、 前記基板の第2の側縁にのみ配置された複数の導電体パ
    ッドと、 前記第1のMOSFETチップのソースの金属化された
    表面から前記複数の導電体パッドの1つまたは複数へと
    張り渡される第1の組のワイヤボンドであって、前記ワ
    イヤボンドの少なくとも1つは、前記第1のMOSFE
    Tチップのゲートの金属化された表面から前記導電体パ
    ッドの1つへと張り渡される第1の組のワイヤボンド
    と、 前記第2のMOSFETチップのソースの金属化された
    表面から前記複数の導電体パッドの1つまたは複数へと
    張り渡される第2の組のワイヤボンドであって、前記ワ
    イヤボンドの少なくとも1つは、前記第2のMOSFE
    Tチップのゲートの金属化された表面から前記導電体パ
    ッドの1つへと張り渡される第2の組のワイヤボンドと
    を備えたことを特徴とする電力用半導体パッケージ。
  27. 【請求項27】 前記複数のワイヤボンドは実質的に同
    方向に張り渡されることを特徴とする請求項26に記載
    の電力用半導体パッケージ。
  28. 【請求項28】 前記複数のワイヤボンドはそれぞれの
    長さを有し、前記長さは複数の別個の値の1つであるこ
    とを特徴とする請求項26に記載の電力用半導体パッケ
    ージ。
  29. 【請求項29】 前記別個の値の数は2またはそれ以上
    であることを特徴とする請求項28に記載の電力用半導
    体パッケージ。
  30. 【請求項30】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接隣接するワイヤボンドは異なる長さ
    を有することを特徴とする請求項28に記載の電力用半
    導体パッケージ。
  31. 【請求項31】 前記第1および第2のMOSFETチ
    ップのそれぞれは、前記空間的に離隔された第1および
    第2の側縁の間に広がる横幅を含み、前記それぞれのワ
    イヤボンドは、複数の別個の横位置の1つにおいて末端
    をなすことを特徴とする請求項26に記載の電力用半導
    体パッケージ。
  32. 【請求項32】 前記別個の横位置の数は2またはそれ
    以上であることを特徴とする請求項31に記載の電力用
    半導体パッケージ。
  33. 【請求項33】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接に隣接しているワイヤボンドは異な
    る横位置において末端をなすことを特徴とする請求項3
    1に記載の電力用半導体パッケージ。
  34. 【請求項34】 前記基板は、前記上表面と下表面との
    間に延びる複数の接続孔を含むことを特徴とする請求項
    26に記載の電力用半導体パッケージ。
  35. 【請求項35】 前記接続孔のいくつかは前記半導体チ
    ップのドレインから前記基板を貫通する電気的接続を提
    供することを特徴とする請求項34に記載の電力用半導
    体パッケージ。
  36. 【請求項36】 前記接続孔は、それらが固体物である
    ように導電性材料により実質的に充填されていることを
    特徴とする請求項34に記載の電力用半導体パッケー
    ジ。
  37. 【請求項37】 前記導電性材料はタングステンまたは
    高い電気伝導率および熱伝導率を有する他の材料である
    ことを特徴とする請求項36に記載の電力用半導体パッ
    ケージ。
  38. 【請求項38】 前記基板の前記下表面に配置されるボ
    ールグリッドアレイを形成する複数の導電性球体をさら
    に含み、前記配列の球体の少なくともいくつかは前記接
    続孔の導電性材料から外部回路への電気的接続を提供す
    るためのものであることを特徴とする請求項34に記載
    の電力用半導体パッケージ。
  39. 【請求項39】 上表面と下表面とを有し、前記上表面
    は空間的に離隔された第1および第2の側縁、および空
    間的に離隔された前縁および後縁により規定される周辺
    を含む基板と、 前記基板の上表面上に配置された第1の電力用MOSF
    ETチップであって、前記チップはソースの金属化され
    た表面およびゲートの金属化された表面が配置される頂
    部表面と、ドレインを規定する底部表面とを含む第1の
    電力用MOSFETチップと、 前記基板の上表面上に配置された第2の電力用MOSF
    ETチップであって、前記チップはソースの金属化され
    た表面およびゲートの金属化された表面が配置される頂
    部表面と、ドレインを規定する底部表面とを含む第2の
    電力用MOSFETチップと、 前記基板の第2の側縁にのみ配置された複数の導電体パ
    ッドと、 前記第1のMOSFETチップのソースの金属化された
    表面から前記第2のMOSFETチップのソースの金属
    化された表面へと張り渡される複数のワイヤボンドと、 前記第1のMOSFETチップのゲートの金属化された
    表面から前記導電体パッドへと張り渡される少なくとも
    1つのワイヤボンドと、 前記第2のMOSFETチップのゲートの金属化された
    表面から前記導電体パッドへと張り渡される少なくとも
    1つのワイヤボンドとを備えたことを特徴とする電力用
    半導体パッケージ。
  40. 【請求項40】 前記複数のワイヤボンドは実質的に同
    方向に張り渡されることを特徴とする請求項39に記載
    の電力用半導体パッケージ。
  41. 【請求項41】 前記複数のワイヤボンドは、前記基板
    の第1の側縁から第2の側縁に向かって規定される方向
    に関して横断的に張り渡されることを特徴とする請求項
    40に記載の電力用半導体パッケージ。
  42. 【請求項42】 前記複数のワイヤボンドはそれぞれの
    長さを有し、前記長さは複数の別個の値の1つであるこ
    とを特徴とする請求項39に記載の電力用半導体パッケ
    ージ。
  43. 【請求項43】 前記別個の値の数は2であることを特
    徴とする請求項42に記載の電力用半導体パッケージ。
  44. 【請求項44】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接隣接するワイヤボンドは異なる長さ
    を有することを特徴とする請求項42に記載の電力用半
    導体パッケージ。
  45. 【請求項45】 前記第1および第2のMOSFETチ
    ップのそれぞれは、前記空間的に離隔された第1および
    第2の側縁の間に広がる横幅を含み、前記それぞれのワ
    イヤボンドは、それぞれのMOSFETチップの複数の
    別個の縦位置の1つにおいて末端をなすことを特徴とす
    る請求項39に記載の電力用半導体パッケージ。
  46. 【請求項46】 前記別個の縦位置の数は2またはそれ
    以上であることを特徴とする請求項45に記載の電力用
    半導体パッケージ。
  47. 【請求項47】 前記複数のワイヤボンドは互いに隣接
    して配置され、直接に隣接しているワイヤボンドはそれ
    ぞれのMOSFETチップの複数の別個の縦位置におい
    て末端をなすことを特徴とする請求項45に記載の電力
    用半導体パッケージ。
  48. 【請求項48】 前記基板は、前記上表面と下表面との
    間に延びる複数の接続孔を含むことを特徴とする請求項
    39に記載の電力用半導体パッケージ。
  49. 【請求項49】 前記接続孔のいくつかは、前記第1お
    よび第2のMOSFETチップのそれぞれのドレインか
    ら前記基板を貫通する電気的接続を提供することを特徴
    とする請求項48に記載の電力用半導体パッケージ。
  50. 【請求項50】 前記接続孔は、それらが固体物である
    ように導電性材料により実質的に充填されていることを
    特徴とする請求項48に記載の電力用半導体パッケー
    ジ。
  51. 【請求項51】 前記導電性材料はタングステンまたは
    高い電気伝導率および熱伝導率を有する他の材料である
    ことを特徴とする請求項50に記載の電力用半導体パッ
    ケージ。
  52. 【請求項52】 前記基板の前記下表面に配置されるボ
    ールグリッドアレイを形成する複数の導電性球体をさら
    に含み、前記配列の球体の少なくともいくつかは前記接
    続孔の導電性材料から外部回路への電気的接続を提供す
    るためのものであることを特徴とする請求項48に記載
    の電力用半導体パッケージ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3986989B2 (ja) 2003-03-27 2007-10-03 松下電器産業株式会社 半導体装置
US6917090B2 (en) * 2003-04-07 2005-07-12 Micron Technology, Inc. Chip scale image sensor package
US7504733B2 (en) 2005-08-17 2009-03-17 Ciclon Semiconductor Device Corp. Semiconductor die package
DE102005039940B4 (de) * 2005-08-24 2009-07-02 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul mit Bondverbindung der Leistungshalbleiterbauelemente
US7560808B2 (en) * 2005-10-19 2009-07-14 Texas Instruments Incorporated Chip scale power LDMOS device
US7446375B2 (en) * 2006-03-14 2008-11-04 Ciclon Semiconductor Device Corp. Quasi-vertical LDMOS device having closed cell layout
US20080036078A1 (en) * 2006-08-14 2008-02-14 Ciclon Semiconductor Device Corp. Wirebond-less semiconductor package
US8067825B2 (en) * 2007-09-28 2011-11-29 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with multiple die
US8049312B2 (en) * 2009-01-12 2011-11-01 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device package and method of assembly thereof
JP2010192680A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Elpida Memory Inc 半導体装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4686492A (en) * 1985-03-04 1987-08-11 Tektronix, Inc. Impedance match connection using multiple layers of bond wires
JP2566207B2 (ja) * 1986-09-23 1996-12-25 シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト 半導体デバイス
US5019893A (en) * 1990-03-01 1991-05-28 Motorola, Inc. Single package, multiple, electrically isolated power semiconductor devices
DE69329501T2 (de) * 1992-07-17 2001-05-03 Vlt Corp Verpackung für elektronische Komponenten
US5665996A (en) * 1994-12-30 1997-09-09 Siliconix Incorporated Vertical power mosfet having thick metal layer to reduce distributed resistance
US6384492B1 (en) * 1995-05-04 2002-05-07 Spinel Llc Power semiconductor packaging
US6046499A (en) * 1996-03-27 2000-04-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat transfer configuration for a semiconductor device
US5783866A (en) * 1996-05-17 1998-07-21 National Semiconductor Corporation Low cost ball grid array device and method of manufacture thereof
US6301122B1 (en) * 1996-06-13 2001-10-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Radio frequency module with thermally and electrically coupled metal film on insulating substrate
US5814884C1 (en) * 1996-10-24 2002-01-29 Int Rectifier Corp Commonly housed diverse semiconductor die
US5930666A (en) * 1997-10-09 1999-07-27 Astralux, Incorporated Method and apparatus for packaging high temperature solid state electronic devices
JP3466064B2 (ja) * 1997-10-20 2003-11-10 ローム株式会社 半導体集積回路装置

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