JP2000185277A - 微細気泡発生装置ならびに浴槽システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】微細気泡発生装置において、大能力の循環ポン
プを用いずに、微細気泡の発生量を可及的に多くできる
ようにすること。 【解決手段】循環通路２１において循環ポンプ２２の配
置位置の上流側と下流側とにバイパス通路２３を接続
し、バイパス通路２３に空気混入手段２４を配設してい
る。これにより、循環ポンプ２２の下流に流された液体
の一部がバイパス通路２３に流れ込み、空気混入手段２
４により空気が混入されて、循環ポンプ２２の上流に戻
される。このような浴槽水の循環により、液体に対する
空気混入が繰り返し行われるから、従来例のように大能
力の循環ポンプを用いなくても液体に対する空気の混入
量が可及的に多くなる。しかも、大能力の循環ポンプを
用いないから、浴槽水中に比較的大きな気泡が混入され
にくくなる。したがって、循環ポンプの加圧力により浴
槽水に対して大量の空気が溶解されることになるから、
貯溜槽１０内での微細気泡の発生量が多くなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、貯溜槽内の液体を
取り出して、この液体中に空気を混入かつ溶解させてか
ら、貯溜槽内に戻すことにより貯溜槽内で微細気泡を発
生させる微細気泡発生装置、ならびにその微細気泡発生
装置を用いた浴槽システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】上記微細気泡発生装置は、従来から、浴
槽内の湯水に含まれる垢などの浮遊物を除去するために
利用されている。

【０００３】従来の微細気泡発生装置の構成を図８に示
す。図中、８０は微細気泡発生装置の全体を示してい
る。この微細気泡発生装置８０は、浴槽９０に設けた浴
槽水の取り出し口９１と戻し口９２とに循環通路８１を
接続し、この循環通路８１の途中に循環ポンプ８２を配
設し、循環通路８１において循環ポンプ８２の位置より
も上流にベンチュリ８３を配設し、循環通路８１におい
て戻し口９２との接続部位に噴射ノズル８４を配設した
構成である。

【０００４】なお、ベンチュリ８３は、一般的に周知の
ものであるが、浴槽水の通過に伴いベンチュリ８３内部
を負圧状態として、大気圧である外気を空気導入管８５
から吸入するようになったものである。このベンチュリ
８３による空気の吸入量は、浴槽水の通過速度や空気導
入管８５の端部に設けられる電磁弁８６の開度により調
節される。

【０００５】ここで、上記微細気泡発生装置８０の動作
を説明する。すなわち、循環ポンプ８２により浴槽９０
内の浴槽水を取り出して、この浴槽水中にベンチュリ８
３により外部の空気を混入させて、循環ポンプ８２の加
圧力により浴槽水中に空気を溶解させてから、噴射ノズ
ル８４を通じて浴槽９０内に噴射して戻すようになって
おり、浴槽９０内で微細気泡１００が発生する。つま
り、ベンチュリ８３により空気を混入させた浴槽水を循
環ポンプ８２により加圧して空気を溶解させ、しかる後
に浴槽９０内に戻したときに、浴槽水に印加されてある
圧力が浴槽９０内で一気に解放されることになり、浴槽
水中に溶解された空気が析出して微細気泡１００になる
のである。

【０００６】ここで、浴槽１０内の浴槽水中に浮遊物１
０１が存在する場合には、この浮遊物１０１が、前述し
たようにして浴槽９０内で発生される微細気泡１００に
付着して、浴槽水の表面に浮上させられることになり、
浴槽９０に設けてあるオーバーフロー排水口９３および
排水管９４を介して排出されることになる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記従来例において、
微細気泡１００の発生量を多くするには、浴槽水中へ大
量の空気を混入かつ溶解させる必要があるが、そのよう
にするには、大能力の循環ポンプ８２を用いて浴槽水の
循環速度や循環量を多くする必要があるなど、イニシャ
ルコストが高くつくことが指摘される。

【０００８】また、上記従来例の構成において大能力の
循環ポンプ８２を用いた場合、循環通路８１内の浴槽水
の流速を速くすることができるから、ベンチュリ８３に
よる空気吸入量を多くできるものの、浴槽水中に比較的
大きな気泡が混入しやすくなるとともに、気泡それぞれ
が結合して大きく成長するおそれがあって、循環ポンプ
８２がエアーロックしやすくなることが懸念される。

【０００９】このような事情に鑑み、本発明は、微細気
泡発生装置において、大能力の循環ポンプを用いずに、
微細気泡の発生量を可及的に多くできるようにすること
を目的としている。また、本発明では、浴槽システムに
おいて、浴槽水中の浮遊物を効率よく除去できるように
することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明にかかる
微細気泡発生装置は、貯溜槽内の液体を取り出して、こ
の液体中に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に
戻すことにより貯溜槽内で微細気泡を発生させるもの
で、貯溜槽に設けた液体の取り出し口と戻し口とに接続
される循環通路と、循環通路の途中に配設されて貯溜槽
内の液体を取り出して戻すよう循環させる循環ポンプ
と、循環通路において循環ポンプの上流と下流とに接続
されるバイパス通路と、バイパス通路に設けられて外部
の空気を該バイパス通路を流れる液体に混入させる空気
混入手段とを含む。

【００１１】請求項２の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項１において、前記空気混入手段が、バイ
パス通路内の液体の通過に伴い外部の空気を吸入するベ
ンチュリとされている。

【００１２】請求項３の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項１または２において、前記バイパス通路
においてベンチュリの上流に、空気抜き弁が配設されて
いる。

【００１３】請求項４の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項２または３において、前記循環通路にお
いて循環ポンプの下流でかつバイパス通路との接続部位
よりも下流に、気液分離手段が配設されており、この気
液分離手段で取り除いた空気を前記ベンチュリに導入さ
せるように構成している。

【００１４】請求項５の発明にかかる浴槽システムは、
側壁部の所要高さ位置にオーバーフロー排水口を有する
浴槽と、この浴槽に取り付けられる上記請求項１ないし
４のいずれかの微細気泡発生装置とを有している。

【００１５】要するに、本発明では、循環通路において
循環ポンプの配置位置の上流側と下流側とにバイパス通
路を接続し、このバイパス通路に空気混入手段を配設す
るようにしている。これにより、循環通路において循環
ポンプで加圧されて流通される液体の一部がバイパス通
路を介して循環ポンプの上流に戻されるので、バイパス
通路に設けてある空気混入手段から液体に対して何度も
繰り返し空気が混入されることになる。この液体の循環
により、液体に対する大量の空気を混入できるようにな
るから、従来例のように大能力の循環ポンプを用いずと
も、貯溜槽内での微細気泡の発生量を多くできるように
なる。しかも、従来例のように大能力の循環ポンプを用
いないから、液体中に比較的大きな気泡が混入しにくく
なり、循環ポンプがエアーロックする心配がなくなる。

【００１６】特に、請求項３のように、バイパス通路に
おいて空気混入手段としてのベンチュリの上流に空気抜
き弁を配設した場合では、バイパス通路を流通する液体
に比較的大きな気泡が混入していたとしても、それをベ
ンチュリの上流で取り除けるようになるから、ベンチュ
リ内の液体の通過を円滑にできるようになって、ベンチ
ュリの空気導入管からの万一の液体吐出が避けられるよ
うになる。

【００１７】また、請求項４のように、循環通路におい
てバイパス通路との接続部位の下流に気液分離手段を配
設した場合では、仮に循環通路を流れる液体に比較的大
きな気泡が含まれていたとしても、この気泡が気液分離
手段で除去されるので、貯溜槽内へ前記比較的大きな気
泡が吐出されることがなくなる。

【００１８】そして、請求項５の浴槽システムのよう
に、上記微細気泡発生装置を用いて浴槽内に大量の微細
気泡を発生させるようにすれば、この微細気泡が浴槽内
の浴槽水に含まれる浮遊物を浴槽水の表面側に効率よく
浮上させることができる。これにより、表面側の浮遊物
が浴槽のオーバーフロー排水口から効率よく排出される
ことになる。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の詳細について図面に示す
実施形態に基づいて説明する。

【００２０】図１は本発明の実施形態１にかかり、浴槽
システムの回路図である。図中、１０は浴槽、２０は微
細気泡発生装置である。

【００２１】浴槽１０の一側壁には、浴槽水の取り出し
口１１と戻し口１２とが設けられており、また、浴槽１
０の他の側壁において所要高さ位置には、オーバーフロ
ー排水口１３が設けられている。このオーバーフロー排
水口１３には、排水管１４が接続されており、排水管１
４の端部には、電磁弁１５が設けられている。

【００２２】微細気泡発生装置２０は、浴槽１０内の浴
槽水を一旦取り出して、この浴槽水中に空気を混入させ
溶解させてから、浴槽１０内に戻すことにより浴槽１０
内で微細気泡を発生させるものであり、循環通路２１、
循環ポンプ２２、バイパス通路２３、空気混入手段とし
てのベンチュリ２４、気液分離器２５、噴射ノズル２６
を備えている。

【００２３】循環通路２１は、浴槽１０に設けてある取
り出し口１１と戻し口１２とに接続されており、浴槽１
０内から浴槽水を取り出してから戻せるようになってい
る。

【００２４】循環ポンプ２２は、循環通路２１の途中に
配設されており、浴槽１０と循環通路２１との間で浴槽
水を循環させるものである。

【００２５】バイパス通路２３は、循環通路２１におい
て循環ポンプ２２の上流部位と下流部位とに接続されて
いる。

【００２６】ベンチュリ２４は、バイパス通路２６の途
中に配設されるもので、途中に空気導入管２７が取り付
けられているとともに、この空気導入管２７の端部に電
磁弁２８が設けられている。このベンチュリ２４は、一
般的に周知のものであるが、浴槽水の通過に伴いベンチ
ュリ２４内部を負圧状態として、大気圧である外気を空
気導入管２７から吸入して浴槽水に対して混入させるも
のである。

【００２７】気液分離器２５は、循環通路２１において
バイパス通路２３との接続部位よりも下流に配設されて
おり、循環通路２１を通過する浴槽水に含まれる比較的
大きな気泡を排除するものである。

【００２８】噴射ノズル２６は、循環通路２１において
浴槽１０の戻し口１２との接続部位に配設されており、
循環通路２１を通ってきた浴槽水を浴槽１０内に減圧し
て噴射させるものである。この噴射ノズル２６は、円筒
形の管体からなり、その中心孔は大径孔部分と小径孔部
分とを長手方向に連接したような形状になっている。こ
の噴射ノズル２６では、その大径孔部分から浴槽水が導
入され、小径孔部分から浴槽１０側へ噴射される。

【００２９】そして、この実施形態１では、上記バイパ
ス通路２６においてベンチュリ２４の上流側に、浴槽水
中に比較的大きな気泡が含まれていたときに、それを取
り除く空気抜き弁２９が配設されている。なお、図１で
は、循環通路２１において循環ポンプ２２の上流側部分
と下流側部分とを上下に配置して、バイパス通路２３を
上下に配置したような形態で示しているが、実際には、
前記循環通路２１の上流側部分と下流側部分とバイパス
通路２３は、すべてほぼ水平に配設される。そのため、
バイパス通路２３を流れる浴槽水に比較的大きな気泡が
含まれていると、この気泡がバイパス通路２３を構成す
る管体の上方の内面に沿って移動する形態となるから、
前述した空気抜き弁２９では、管体内面に沿って移動す
る気泡のみを除去することができる。

【００３０】次に、上記微細気泡発生装置２０の動作を
説明する。つまり、図示しない操作部により運転開始ス
イッチをオン操作すると、循環ポンプ２２が駆動される
ことになり、浴槽１０内から浴槽水が循環通路２１内に
引き出されることになる。これにより、浴槽水が循環ポ
ンプ２２を通過すると、その一部がバイパス通路２３に
流れ込み、ベンチュリ２４を通過する。このとき、ベン
チュリ２４の内部が、負圧状態になり、このベンチュリ
２４の内部に空気導入管２７および電磁弁２８を通じて
外部の空気が吸引導入されることになる。この導入され
た空気は、ベンチュリ２４の内部でもってそこを通過す
る浴槽水に混入される。この空気が混入された浴槽水
は、バイパス通路２３から循環通路２１において循環ポ
ンプ２２の上流に戻されることになり、再度、循環ポン
プ２２で循環通路２１の下流側に送り出される。

【００３１】このようにして循環通路２１内を流れる浴
槽水がバイパス通路２３に対して何度か繰り返して通過
することになり、それにより、次第に大量の空気が混入
されることになる。この空気が混入された浴槽水の一部
は、バイパス通路２３に流れ込まずにそれよりも下流側
に流れて、気液分離器２５に導入されることになる。こ
の気液分離器２５に到達するまでの過程において、浴槽
水中に混入された気泡が循環ポンプ２３の加圧力により
溶解させられる。

【００３２】ところで、上述した空気の混入過程や空気
の溶解過程において、気泡それぞれが互いに結合して大
きく成長することがあるが、この大きく成長した気泡
は、気液分離器２５において除去される。

【００３３】この気液分離器２５を通過した浴槽水は、
噴射ノズル２６を経て浴槽１０内に戻される。浴槽水を
浴槽１０内に戻すと、浴槽水に印加されてある圧力が噴
射ノズル２６で減圧されてから、浴槽１０内で一気に解
放されることになるために、浴槽水中に溶解させた空気
が析出されて大量の微細気泡１６を発生することにな
る。

【００３４】ここで、浴槽水中に浮遊物１７が存在する
場合には、この浮遊物１７が、前述したようにして浴槽
１０内で大量に発生される微細気泡１６に付着すること
により、浴槽水の表面側に効率よく浮上させられるか
ら、浴槽水の水位を若干上昇させて浴槽１０の排水管１
４の電磁弁１５を開放すると、前記浴槽水の表面側に浮
上させられた浮遊物が浴槽１０のオーバーフロー排水口
１３および排水管１４を介して排出されることになる。

【００３５】以上説明したように、この実施形態での微
細気泡発生装置２０では、浴槽１０から取り出した浴槽
水に対して繰り返し空気を混入させることにより、従来
例のように循環ポンプ２２を大能力にしなくても、浴槽
水に対する空気の混入量を可及的に多くできて、しかも
比較的大きな気泡を混入させないようにできるから、循
環ポンプ２３のエアーロックを回避したうえで、浴槽水
に対する空気の溶解率を高めることができる。したがっ
て、浴槽１０内での微細気泡１６の発生率を高めること
ができて、浴槽１０内の浮遊物を効率よく除去できるよ
うになる。

【００３６】図２は本発明の実施形態２を示している。
この実施形態２において上記実施形態１と異なる構成
は、気液分離器２５で取り除いた空気をベンチュリ２４
に導入させるようにしていることである。

【００３７】具体的に、気液分離器２５の空気室（図示
省略）とベンチュリ２４の空気導入部位とをエア配管３
０で連通連結させている。この場合、気液分離器２５内
の空気は、気液分離器２５に導入される浴槽水の水圧に
より大気圧よりも高くなっているので、この比較的高圧
の空気が気液分離器２５内からベンチュリ２４側へ導入
されることになり、ベンチュリ２４で浴槽水に混入させ
られることになる。つまり、ベンチュリ２４での空気混
入率が上記実施形態１の場合よりも高められることにな
るので、上記実施形態１に比べてさらに多くの微細気泡
を発生させることができるようになる。

【００３８】なお、この実施形態において、図示しない
が、エア配管３０にキャピラリィと呼ばれる圧力抵抗体
を配設するようにしてもよい。この圧力抵抗体は、圧力
を低下させるものであり、この圧力抵抗体を設けた場合
だと、気液分離器２５内の高圧水がベンチュリ２４側に
流れることを確実に防止できるようになる。

【００３９】図３および図４は本発明の実施形態３を示
している。この実施形態３において上記実施形態１と異
なる構成は、バイパス通路２３においてベンチュリ２４
の上流側部位と、循環通路２１において噴射ノズル２６
の上流側部位とに、第１、第２電磁弁４０，４１を設
け、これらの電磁弁４０，４１を間欠的に開閉させるこ
とにより、循環通路２１内に浴槽水を長時間滞留させる
ようにして、循環通路２１内の浴槽水に対してより多く
の空気を混入かつ溶解させるようにしていることであ
る。

【００４０】具体的に、図４に示すように、循環ポンプ
２２を駆動してから、所要時間ｔ１が経過するまでの
間、２つの電磁弁４０，４１を共に閉状態としておき、
所要時間ｔ１が経過したときにまず第１電磁弁４０のみ
を所要時間ｔ２だけ開状態とする。これにより、循環通
路２１内の圧力が高められるとともに、循環通路２１内
の浴槽水がバイパス通路２３を循環することになり、浴
槽水に対して空気が繰り返し混入かつ溶解させられるこ
とになる。この後、第１の電磁弁４０を閉状態として所
要時間ｔ３の経過を待ち、所要時間ｔ３が経過したとき
に、第２電磁弁４１のみを所要時間ｔ４だけ開状態と
し、圧力を高めるとともに多量の空気を溶解させた浴槽
水を浴槽１０内に一気に噴射して戻す。これにより、循
環通路２１内の圧力が低下するので、その圧力が所要値
以下にまで低下すると、第２電磁弁４１を閉状態とする
のと同時に第１電磁弁４０を開状態とし、以降において
上記の動作を繰り返す。

【００４１】このように、２つの電磁弁４０，４１を所
要のタイミングで間欠的に開閉操作することにより、循
環通路２１内に浴槽水が長時間滞留されることになっ
て、循環通路２１内の浴槽水の空気溶解率を高めること
ができるようになるので、上記実施形態１に比べてより
多くの微細気泡を発生させることができるようになる。
したがって、循環ポンプ２２を小能力とするにあたっ
て、上記実施形態１の場合よりもさらに有効となる。

【００４２】なお、本発明は上記実施形態のみに限定さ
れるものではなく、種々な応用や変形が考えられる。

【００４３】（１）上記実施形態１において、気液分離
器２５や空気抜き弁２９を備えないものも本発明に含ま
れる。

【００４４】（２）上記各実施形態での循環通路２１に
おける循環ポンプ２２の上流部位とバイパス通路２３と
の接続部分については、図５（ａ）ないし（ｃ）に示す
ような構成とすることができる。但し、図５（ａ）に示
すように、循環通路２１の管体の周面を開口してそこに
バイパス通路２３の管体の端部を突き合わせた状態で接
合したような場合だと、バイパス通路２３から空気を溶
解した浴槽水が循環通路２１内を流れる浴槽水に対して
合流するときに、バイパス通路２３と循環通路２１との
接続部位でバイパス通路２３側から流れてくる浴槽水の
一部が滞留する現象が発生するために、その部位で浴槽
水に混入された気泡が相互に結合して図示のように大き
く成長しやすくなると言える。このようにして発生した
大きな気泡が循環通路２１に流れ込むと、循環ポンプ２
２に流入することになるので、循環ポンプ２２がエアー
ロックしやすくなることが懸念される。このような浴槽
水の滞留現象による気泡の成長を確実に防止するために
は、循環通路２１とバイパス通路２３との接続形態につ
いて、図５（ｂ）や（ｃ）に示すような構成にするのが
好ましい。つまり、図５（ｂ）では、循環通路２１とバ
イパス通路２３との結合部位において、バイパス通路２
３の端部にＩ字形の継ぎ管４５を取り付け、この継ぎ管
４５を循環通路２１の管体の内部に突入させた状態と
し、この継ぎ管４５の突入端部の周面において循環通路
２１での浴槽水の流れの下流側の領域に開口４５ａを設
けることにより、バイパス通路２３から継ぎ管４５を経
て流れ込む浴槽水を、循環通路２１内の浴槽水の流れる
方向に沿わせるようにしている。また、図５（ｃ）で
は、循環通路２１とバイパス通路２３との結合部位にお
いて、バイパス通路２３の端部にほぼＬ字形の継ぎ管４
６を取り付け、この継ぎ管４６の屈曲端部分を循環通路
２１の管体の内部に突入させた状態とし、この導入管４
６の屈曲端部分の端縁に開口４６ａを設けることによ
り、バイパス通路２３から継ぎ管４６を経て流れ込む浴
槽水を、循環通路２１内の浴槽水の流れる方向に沿わせ
るようにしている。つまり、上述した図５（ｂ）や
（ｃ）のような構造にすれば、バイパス通路２３と循環
通路２１との合流部位で浴槽水の一部が滞留して気泡を
成長させるという不具合の発生を回避できるようにな
る。

【００４５】（３）上記各実施形態において、ベンチュ
リ２４を用いて浴槽水に空気を混入させるようにした例
を挙げているが、コンプレッサなどを用いて浴槽水に空
気を混入させるようにしてもよい。

【００４６】（４）上記各実施形態での噴射ノズル２６
については、例えば株式会社ＯＨＲ流体工学研究所製の
ＯＨＲ反応機を利用することができる。このＯＨＲ反応
機は、例えば図６および図７に示すように、円筒形パイ
プ５０の長手方向ほぼ１／２の領域の大径孔５０ａの内
周に２つのガイドベーン５１，５２を配設し、残りの長
手方向ほぼ１／２の領域の小径孔５０ｂの内周面円周数
カ所にきのこ形状の突起５３を設けた構成である。この
ガイドベーン５１，５２の存在する側を液体導入側と
し、きのこ形状の突起５３の存在する側を液体吐出側と
して、利用する。このＯＨＲ反応機では、導入される浴
槽水を、ガイドベーン５１，５２でもって図中の矢印の
ように旋回させてから、きのこ形状の突起５３によって
未溶解の気泡が微細に分散させることによって大量の超
微細な気泡を発生させるようになっている。このＯＨＲ
反応機を上記各実施形態の微細気泡発生装置２０の噴射
ノズル２６に代えて使用すれば、より多くの微細気泡を
浴槽１０内で発生させることができる。

【００４７】

【発明の効果】請求項１ないし４の発明にかかる微細気
泡発生装置では、貯溜槽から取り出した液体に対して繰
り返し空気を混入させることにより、従来例のように大
能力の循環ポンプを用いなくとも、液体に対する空気の
混入量を可及的に多くできるようにしているから、浴槽
水中に混入させた気泡それぞれが互いに結合して大きく
成長することを防止できて、浴槽水に混入させた空気を
効率よく浴槽水中に溶解させることができる。そのため
に、貯溜槽内での微細気泡の発生率を高めることができ
る。このように、本発明の微細気泡発生装置では、従来
例に比べて小能力の循環ポンプを用いることができるの
で、イニシャルコストを従来例に比べて低減できるよう
になる。

【００４８】特に、請求項３の発明のように、バイパス
通路において空気混入手段としてのベンチュリの上流に
空気抜き弁を配設すれば、バイパス通路を流通する液体
に比較的大きな気泡が混在していたときでも、それをベ
ンチュリの上流で取り除けるようになるから、ベンチュ
リ内の液体の通過を円滑化できるようになって、ベンチ
ュリの空気導入管路からの万一の液体吐出を避けること
ができるなど、液体に対して空気を効率よく混入させる
ことができるようになる。

【００４９】また、請求項４の発明のように、循環通路
においてバイパス通路との接続部位の下流に気液分離手
段を配設すれば、仮に循環通路を流れる液体に比較的大
きな気泡が含まれているときでも、この気泡を気液分離
手段で除去することができるので、貯溜槽内へ前記気泡
が吐出されるという現象の発生を確実に回避できるよう
になる。

【００５０】このような本発明の微細気泡発生装置を用
いて請求項５の発明のような浴槽システムを構成すれ
ば、浴槽の浴槽水中を浮遊する浮遊物を浴槽水の表面側
に効率よく浮上させることができるから、浴槽のオーバ
ーフロー排水口から浮遊物を効率よく排出できて、浴槽
水の浄化が比較的短時間で行えるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１に係る浴槽システムの構成
図

【図２】本発明の実施形態２に係る浴槽システムの構成
図

【図３】本発明の実施形態３に係る浴槽システムの構成
図

【図４】実施形態３の微細気泡発生装置の動作説明に用
いるタイミングチャート

【図５】本発明の微細気泡発生装置の循環通路とバイパ
ス通路との接続部位を示す要部の断面図

【図６】本発明の微細気泡発生装置の噴射ノズルの他の
例を示す縦断面図

【図７】図６中の（７）−（７）線断面の矢視図

【図８】従来例に係る浴槽システムの構成図

【符号の説明】

１０ 浴槽 １１ 取り出し口 １２ 戻し口 １３ オーバーフロー排水口 １４ 排水管 １６ 微細気泡 １７ 浮遊物 ２０ 微細気泡発生装置 ２１ 循環通路 ２２ 循環ポンプ ２３ バイパス通路 ２４ ベンチュリ ２５ 気液分離器 ２６ 噴射ノズル ２７ 空気導入管 ２９ 空気抜き弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大渡 裕和 兵庫県神戸市中央区江戸町93番地 株式会 社ノーリツ内 Ｆターム(参考） 4D037 AA09 AB02 BA03 BB03 CA06

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】貯溜槽内の液体を取り出して、この液体中
   に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に戻すこと
   により貯溜槽内で微細気泡を発生させる微細気泡発生装
   置であって、 貯溜槽に設けた液体の取り出し口と戻し口とに接続され
   る循環通路と、 循環通路の途中に配設されて貯溜槽内の液体を取り出し
   て戻すよう循環させる循環ポンプと、 循環通路において循環ポンプの上流と下流とに接続され
   るバイパス通路と、 バイパス通路に設けられて外部の空気を該バイパス通路
   を流れる液体に混入させる空気混入手段と、 を含むことを特徴とする微細気泡発生装置。
2. 【請求項２】請求項１の微細気泡発生装置において、 前記空気混入手段が、バイパス通路内の液体の通過に伴
   い外部の空気を吸入するベンチュリとされている、こと
   を特徴とする微細気泡発生装置。
3. 【請求項３】請求項２の微細気泡発生装置において、 前記バイパス通路においてベンチュリの上流に、空気抜
   き弁が配設されている、ことを特徴とする微細気泡発生
   装置。
4. 【請求項４】請求項２または３の微細気泡発生装置にお
   いて、 前記循環通路において循環ポンプの下流でかつバイパス
   通路との接続部位よりも下流に、気液分離手段が配設さ
   れており、 この気液分離手段で取り除いた空気を前記ベンチュリに
   導入させるように構成した、ことを特徴とする微細気泡
   発生装置。
5. 【請求項５】側壁部の所要高さ位置にオーバーフロー排
   水口を有する浴槽と、この浴槽に取り付けられる請求項
   １ないし４のいずれかの微細気泡発生装置とを有する、
   ことを特徴とする浴槽システム。