JP2000184978A - 微細気泡発生装置ならびに浴槽システム - Google Patents

微細気泡発生装置ならびに浴槽システム

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JP2000184978A
JP2000184978A JP10366589A JP36658998A JP2000184978A JP 2000184978 A JP2000184978 A JP 2000184978A JP 10366589 A JP10366589 A JP 10366589A JP 36658998 A JP36658998 A JP 36658998A JP 2000184978 A JP2000184978 A JP 2000184978A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】微細気泡発生装置において、貯溜槽内の液体中
に大量の微細気泡を充満させるようにすること。 【解決手段】浴槽10内から取り出した浴槽水に空気混
入手段24で空気を混入させて循環ポンプ22の加圧力
により空気を溶解させてから、浴槽10内へ戻すように
した微細気泡発生装置20において、空気混入手段24
の下流で浴槽水を旋回流発生手段29で旋回させながら
流すようにしている。これにより、浴槽水中に混入させ
た気泡が大きく成長することを防止できて、浴槽水中に
可及的に多くの空気を溶解させやすくなる。そのため、
可及的に多くの空気が溶解されかつ比較的大きな気泡を
含まない浴槽水を浴槽10内へ流入させることが可能に
なり、浴槽10内の浴槽水中に大量の微細気泡を充満さ
せることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、貯溜槽内の液体を
取り出して、この液体中に空気を混入かつ溶解させてか
ら、貯溜槽内に戻すことにより貯溜槽内で微細気泡を発
生させる微細気泡発生装置、ならびにその微細気泡発生
装置を用いた浴槽システムに関する。
【0002】
【従来の技術】上記微細気泡発生装置は、従来から、浴
槽内の湯水に含まれる垢などの浮遊物を除去するために
利用されている。
【0003】従来の微細気泡発生装置の構成を図11に
示す。図中、80は微細気泡発生装置の全体を示してい
る。この微細気泡発生装置80は、浴槽90に設けた浴
槽水の取り出し口91と戻し口92とに循環通路81を
接続し、この循環通路81の途中に循環ポンプ82を配
設し、循環通路81において循環ポンプ82の位置より
も上流にベンチュリ83を配設し、循環通路81におい
て戻し口92との接続部位に噴射ノズル84を配設し、
さらに、循環通路81において循環ポンプ82と噴射ノ
ズル84との間で循環ポンプ82の近傍に気液分離器8
5を配設した構成である。
【0004】なお、ベンチュリ83は、一般的に周知の
ものであるが、浴槽水の通過に伴いベンチュリ83内部
を負圧状態として、大気圧である外気を空気導入管86
から吸入するようになったものである。このベンチュリ
83による空気の吸入量は、浴槽水の通過速度や空気導
入管86の端部に設けられる電磁弁87の開度により調
節される。
【0005】ここで、上記微細気泡発生装置80の動作
を説明する。すなわち、循環ポンプ82により浴槽90
内の浴槽水を取り出して、この浴槽水中にベンチュリ8
3により外部の空気を混入してから、循環ポンプ82の
加圧力により浴槽水中に空気を溶解させつつ、気液分離
器85に送り、この気液分離器85で比較的大きな気泡
を除去し、噴射ノズル84を通じて浴槽90内に噴射し
て戻すようになっており、浴槽90内で微細気泡100
が発生する。つまり、ベンチュリ83により空気を混入
させた浴槽水を循環ポンプ82により加圧して空気を溶
解させ、しかる後に浴槽90内に戻したときに、浴槽水
に印加されてある圧力が浴槽90内で一気に解放される
ことになり、浴槽水中に溶解された空気が析出して微細
気泡100になるのである。
【0006】ここで、浴槽90内の浴槽水中に浮遊物1
01が存在する場合には、この浮遊物101が、前述し
たようにして浴槽90内で発生される微細気泡100に
付着して、浴槽水の表面に浮上させられることになり、
浴槽90に設けてあるオーバーフロー排水口93および
排水管94を介して排出されることになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ベン
チュリ83で浴槽水中に混入させた気泡を、循環ポンプ
82の加圧力でもって浴槽水中に溶解させる過程におい
て、浴槽水中に混入した気泡それぞれが互いに結合して
大きく成長することがある。このように大きく成長した
気泡は浴槽水中に溶解しきれなくなることがあり、浴槽
水中に対する空気の溶解量が減るおそれがある。このよ
うになると、浴槽90内に大量の微細気泡を発生させに
くくなる。
【0008】ところで、前述した浴槽水中の気泡が大き
く成長した場合、この大きな気泡を気液分離器85で除
去するようにしているが、それでも前述の比較的大きな
気泡が除去されずに通過してしまうことがある。
【0009】仮に、気液分離器85で比較的大きな気泡
を除去しきれなかった場合、気液分離器85よりも下流
側領域で、気泡が循環通路81を構成する管体の内面上
方に沿って移動する形態となるために、この移動過程で
気泡がさらに成長しやすくなる。
【0010】このようにして大きく成長した気泡が噴射
ノズル84を通じて浴槽90内に流入されると、この気
泡は浴槽90の戻し口92の近くから早く浮上してしま
うために、この気泡に対して浴槽90内に発生された微
細気泡が付着して、この微細気泡までも浴槽90内の浴
槽水の表面側に早く浮上させてしまうことになるなど、
浴槽90内の浴槽水中に大量の微細気泡を充満させにく
くなって、浴槽90内の浴槽水中の浮遊物の除去作用が
薄れることが指摘される。
【0011】このような事情に鑑み、本発明は、微細気
泡発生装置において、貯溜槽内の液体中に大量の微細気
泡を充満させるようにすることを目的としている。ま
た、本発明では、浴槽システムにおいて、浴槽水中の浮
遊物の除去作用を高めることを目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明にかかる
微細気泡発生装置は、貯溜槽内の液体を取り出して、こ
の液体中に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に
戻すことにより貯溜槽内で微細気泡を発生させるもの
で、貯溜槽から取り出された液体に空気を混入かつ溶解
させて、この液体を流路内で旋回させて流し、この旋回
して流れる液体中の分離気泡を液体から取り除いて貯溜
槽へ流すものである。
【0013】請求項2の発明にかかる微細気泡発生装置
は、貯溜槽内の液体を取り出して、この液体中に空気を
混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に戻すことにより貯
溜槽内で微細気泡を発生させるもので、貯溜槽に設けた
液体の取り出し口と戻し口とに接続される循環通路と、
循環通路の途中に配設されて貯溜槽内の液体を取り出し
て戻すよう循環させる循環ポンプと、循環通路に設けら
れて外部の空気を該循環通路を流れる液体に混入させる
空気混入手段と、循環通路において循環ポンプの下流側
に配設された気液分離手段と、前記気液分離手段に対し
て液体を旋回させて流入させる旋回流発生手段とを含
む。
【0014】請求項3の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項2において、前記空気混入手段が、前記
循環ポンプの上流側に配設されている。
【0015】請求項4の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項2または3において、前記旋回流発生手
段が、前記循環ポンプと気液分離手段との間に配設され
ている。
【0016】請求項5の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項2または3において、前記旋回流発生手
段が、前記気液分離手段の液体導入部に配設されてい
る。
【0017】請求項6の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項2において、前記循環通路において循環
ポンプの上流側部位と下流側部位とにバイパス通路が接
続されており、このバイパス通路に前記空気混入手段が
配設されている。
【0018】請求項7の発明にかかる微細気泡発生装置
は、上記請求項6において、前記旋回流発生手段が、循
環通路において循環ポンプよりも下流でかつ循環通路に
対するバイパス通路の接続部位よりも下流側に配設され
ている。
【0019】請求項8の発明にかかる浴槽システムは、
側壁部の所要高さ位置にオーバーフロー排水口を有する
浴槽と、この浴槽に取り付けられる請求項1ないし7の
いずれかの微細気泡発生装置とを有する構成としてい
る。
【0020】要するに、本発明では、貯溜槽内から取り
出して空気を混入させた液体を旋回させながら流すよう
にしている。この液体の旋回によって、気泡それぞれが
互いに結合することを回避できるようになって、液体中
に気泡が溶解しやすくなるので、液体に対する気泡の溶
解量が従来例に比べて可及的に増えるようになる。
【0021】ここで、仮に、液体中に比較的大きな気泡
が混入していたとしても、この気泡は、旋回流によって
循環通路の中心側に集められて、他の気泡と引き離され
るので、それ以上の成長が回避される。そして、旋回し
て流れる液体が気液分離手段に導入されるとき、この気
液分離手段に対してその液体導入口の中心側から前記溶
解されなかった気泡を導入できるようになるので、この
気液分離手段の内部で気泡を液体から分離しやすくな
り、気液分離の作用が高められるようになる。
【0022】このようなことから、貯溜槽内に対して、
可及的に多くの空気を溶解しかつ比較的大きな気泡が混
在しない液体を流入させることが可能になるから、貯溜
槽内の液体中に大量の微細気泡を発生させることができ
るようになり、しかも、貯溜槽内の液体中における微細
気泡の滞留時間も長くできるようになる。
【0023】なお、請求項3の発明のように、循環通路
において循環ポンプと空気混入手段との配置順を特定し
た場合だと、請求項4や5の発明のように、旋回流発生
手段の位置を特定するのが好ましい。
【0024】特に、請求項3の発明を前提として請求項
4の発明のように旋回流発生手段を気液分離手段の上流
側に配置すれば、気液分離手段に液体が流入するまでの
過程で液体内の気泡が大きく成長することを防止できる
ようになる。
【0025】また、請求項3の発明を前提として請求項
5の発明のように旋回流発生手段を気液分離手段の液体
導入部に配置すれば、比較的大きな気泡が混在した液体
が気液分離手段に流入されたとしても、気液分離手段内
で浴槽水を旋回させることができるから、気液分離手段
において比較的大きな気泡を液体から分離させやすくな
る。
【0026】また、請求項6の発明のように、循環通路
にバイパス通路を設けてそこに空気混入手段を配設する
形態とすれば、循環ポンプで加圧された液体の一部がバ
イパス通路を介して循環ポンプの上流に戻されるように
なり、結果的にバイパス通路を繰り返し流れる液体に対
して、バイパス通路に設けてある空気混入手段でもって
繰り返し空気を混入させることが可能になる。これによ
り、液体に対する空気の混入量を増やせることになる。
【0027】また、請求項6の発明を前提として請求項
7の発明のように旋回流発生手段の配置を循環通路にお
いて循環ポンプの下流でかつ循環通路に対するバイパス
通路の接続部位よりも下流に特定すれば、気液分離手段
に対して液体を旋回させて流入させやすくなる。
【0028】そして、請求項8の浴槽システムのよう
に、上記微細気泡発生装置を用いて浴槽内に大量の微細
気泡を発生させるようにすれば、浴槽内の浴槽水中に存
在する浮遊物を大量の微細気泡で浴槽水の表面側に効率
よく浮上させてオーバーフロー排水口に導くことが可能
になる。
【0029】
【発明の実施の形態】本発明の詳細について図面に示す
実施形態に基づいて説明する。
【0030】図1ないし図4は本発明の一実施形態を示
している。図1は、浴槽システムの回路図、図2は、気
液分離器の内部を示す断面図、図3は、旋回流発生ノズ
ルを一方から見た斜視図、図4は、旋回流発生ノズルを
他方から見た斜視図である。図中、10は浴槽、20は
微細気泡発生装置である。
【0031】浴槽10の一側壁には、浴槽水の取り出し
口11と戻し口12とが設けられており、また、浴槽1
0の他の側壁において所要高さ位置には、オーバーフロ
ー排水口13が設けられている。このオーバーフロー排
水口13には、排水管14が接続されており、排水管1
4の端部には、電磁弁15が設けられている。
【0032】微細気泡発生装置20は、浴槽10内の浴
槽水を一旦取り出して、この浴槽水中に空気を混入させ
溶解させてから、浴槽10内に戻すことにより浴槽10
内で微細気泡を発生させるものであり、循環通路21、
循環ポンプ22、バイパス通路23、空気混入手段とし
てのベンチュリ24、気液分離器25、噴射ノズル26
を備えている。
【0033】循環通路21は、浴槽10に設けてある取
り出し口11と戻し口12とに接続されており、浴槽1
0内から浴槽水を取り出してから戻せるようになってい
る。
【0034】循環ポンプ22は、循環通路21の途中に
配設されており、浴槽10と循環通路21との間で浴槽
水を循環させるものである。
【0035】バイパス通路23は、循環通路21におい
て循環ポンプ22の上流部位と下流部位とに接続されて
いる。
【0036】ベンチュリ24は、バイパス通路23の途
中に配設されるもので、途中に空気導入管27が取り付
けられているとともに、この空気導入管27の端部に電
磁弁28が設けられている。このベンチュリ24は、一
般的に周知のものであるが、浴槽水の通過に伴いベンチ
ュリ24内部を負圧状態として、大気圧である外気を空
気導入管27から吸入して浴槽水に対して混入させるも
のである。
【0037】気液分離器25は、循環通路21において
バイパス通路23との接続部位よりも下流に配設されて
おり、循環通路21を通過する浴槽水に含まれる比較的
大きな気泡を取り除くものである。この気液分離器25
は、例えば図2に示すように、円筒形の缶体の底面側か
ら循環通路21の浴槽水が導入され、また天井側から浴
槽水を循環通路21に排出するようになっており、さら
に缶体の天井側に空気溜まり空間が確保され、この缶体
の天井面に空気抜き弁25aが設けられている。なお、
缶体の天井面に対して循環通路21の管体は、缶体の天
井面から缶体の内部まで差し込まれている。
【0038】噴射ノズル26は、循環通路21において
浴槽10の戻し口12との接続部位に配設されており、
循環通路21を通ってきた浴槽水を浴槽10内に減圧し
て噴射させるものである。この噴射ノズル26は、円筒
形の管体からなり、その中心孔は大径孔部分と小径孔部
分とを長手方向に連接したような形状になっている。こ
の噴射ノズル26では、その大径孔部分から浴槽水が導
入され、小径孔部分から浴槽10側へ噴射される。
【0039】そして、この実施形態では、上記循環通路
21において循環ポンプ22と気液分離器25との間
に、循環通路21を流れる浴槽水を所要方向周りに旋回
させて流す旋回流発生手段としての旋回流発生ノズル2
9が配設されている。
【0040】この旋回流発生ノズル29は、図3および
図4に示すように、円柱形の基体29aの軸心部分に軸
方向に沿って貫通する通孔29bが設けられているとと
もに、円周例えば4カ所に軸線に対して傾斜する斜め溝
29cが設けられ、さらに軸方向一端面の外周4カ所に
取付対象管体に対して係止される位置決め用の係止片2
9dが設けられた構造になっている。つまり、この旋回
流発生ノズル29に対してその軸方向に沿って浴槽水を
通過させたときに、浴槽水が1つの通孔29bと4つの
斜め溝29cに分かれて流入することにより、浴槽水が
旋回させられるようになっている。
【0041】次に、上記微細気泡発生装置20の動作を
説明する。つまり、図示しない操作部により運転開始ス
イッチをオン操作すると、循環ポンプ22が駆動される
ことになり、浴槽10内から浴槽水が循環通路21内に
引き出されることになる。これにより、浴槽水が循環ポ
ンプ22を通過すると、その一部がバイパス通路23に
流れ込み、ベンチュリ24を通過する。このとき、ベン
チュリ24の内部が、負圧状態になり、このベンチュリ
24の内部に空気導入管27および電磁弁28を通じて
外部の空気が吸引導入されることになる。この導入され
た空気は、ベンチュリ24の内部でもってそこを通過す
る浴槽水に混入される。この空気が混入された浴槽水
は、バイパス通路23から循環通路21において循環ポ
ンプ22の上流に戻されることになり、再度、循環ポン
プ22で循環通路21の下流側に送り出される。
【0042】このようにして循環通路21内を流れる浴
槽水がバイパス通路23に対して何度か繰り返して通過
することになり、それにより、次第に大量の空気が混入
されることになる。
【0043】ところで、循環通路21からバイパス通路
23に流れ込まずに循環通路21の下流に流れた浴槽水
は、旋回流発生ノズル29でもって旋回させられなが
ら、気液分離器25側へ流される。なお、旋回流発生ノ
ズル29では、循環通路21内の中心側を流れる浴槽水
を旋回流発生ノズル29の中心の通孔29bからストレ
ートに通過させる一方、循環通路21内の外径側を流れ
る浴槽水を旋回流発生ノズル29の4つの斜め溝29c
を斜めに通過させることにより、浴槽水を螺旋状に旋回
させるようになっている。そして、上述したように大量
の空気を混入した浴槽水は、気液分離器25に到達する
までの領域において循環ポンプ22の加圧力により浴槽
水に溶解されることになる。この過程においては、浴槽
水を旋回させているので、浴槽水に混入してある気泡が
互いに結合せずに効率よく溶解されやすくなる。もし仮
に、ベンチュリ24で浴槽水に空気を混入させたときに
比較的大きな気泡が混入したとしても、この気泡は、前
述の旋回流によって循環通路21の中心側に集められ
て、他の気泡と引き離されるから、それらが結合して成
長することを防止できる。このように気泡を循環通路2
1の中心側に集め、成長させない状態で気液分離器25
内に流入させることができれば、気液分離器25内で比
較的大きな気泡を浴槽水から分離させやすくなって確実
に取り除くことができるようになる。
【0044】このように、大量の空気が溶解されかつ比
較的大きな気泡を含まない浴槽水が、噴射ノズル26を
経て浴槽10内に戻される。浴槽水を浴槽10内に戻す
と、浴槽水に印加されてある圧力が、浴槽10内で一気
に解放されることになるために、浴槽水中に溶解させた
空気が析出されて浴槽10内に大量の微細気泡16を発
生することになる。しかも、浴槽10内に比較的大きな
気泡を流入させないから、浴槽10内の浴槽水中におけ
る微細気泡16の滞留時間も長くできるようになる。
【0045】ここで、浴槽水中に浮遊物17が存在する
場合には、この浮遊物17が、前述したようにして浴槽
10内で大量に発生される微細気泡16に付着すること
により、浴槽水の表面側に効率よく浮上させられるか
ら、浴槽水の水位を若干上昇させて浴槽10の排水管1
4の電磁弁15を開放すると、前記浴槽水の表面側に浮
上させられた浮遊物17が浴槽10のオーバーフロー排
水口13および排水管14を介して排出されることにな
る。
【0046】以上説明したように、この実施形態での微
細気泡発生装置20では、旋回流発生ノズル29によっ
て浴槽10から取り出した浴槽水内に混入させた気泡を
成長させないようにして効率よく浴槽水中に溶解させる
ようにしているから、浴槽10内の浴槽水中に大量の微
細気泡16を充満させることができるようになって、浴
槽10内の浮遊物を効率よく除去できるようになる。
【0047】なお、本発明は上記実施形態のみに限定さ
れるものではなく、種々な応用や変形が考えられる。
【0048】(1)上記実施形態では、旋回流発生ノズ
ル29を循環通路21において循環ポンプ22と気液分
離器25との間でかつバイパス通路23との接続部位よ
りも下流に配設した例を挙げているが、図5および図6
に示すように、気液分離器25の浴槽水導入部に配設す
るようにしてもよい。この場合、図6に示すように、気
液分離器25の内部で浴槽水を旋回させることができる
から、気泡を浴槽水から分離させやすくなって除去作用
を高めることができる。
【0049】(2)上記実施形態では、循環通路21に
バイパス通路23を設けた例を挙げているが、例えば図
7に示すように、バイパス通路23を設けていない構成
のものにも本発明を適用できる。図7の実施形態におい
て、ベンチュリ24については、図11に示す従来例と
同様に、循環通路21において循環ポンプ22の上流に
配設されている。そして、旋回流発生ノズル29は、図
中のAで示す位置またはBで示す位置に配設すればよ
い。この場合も、上記実施形態と同様に、浴槽10内に
比較的大きな気泡を流入させることを防止できるように
なる。この他、前述したA,Bで示す位置に旋回流発生
ノズル29を配設することに加えて、図中のCで示す位
置つまり循環通路21において循環ポンプ22とベンチ
ュリ24との間の領域に、別の旋回流発生ノズル29を
追加配設するようにしてもよい。この追加の場合、ベン
チュリ24から循環ポンプ22までの領域で浴槽水中に
比較的大きな気泡が発生することを防止できるから、循
環ポンプ22がエアーロックすることを防止できるよう
になる。このような旋回流発生ノズル29の追加は、図
1や図5に示す形態の微細気泡発生装置20における循
環ポンプ22の上流側に配設するようにしてもよい。
【0050】(3)上記各実施形態において、図8に示
すように、気液分離器25の内底部に多孔質部材30を
設けるようにしてもよい。この場合、万一、比較的大き
な気泡が混在した浴槽水が気液分離器25に流入したと
しても、この気泡が多孔質部材30でもって微粒気泡に
細分化されることになり、この細分化された微粒気泡が
気液分離器25内で浴槽水に溶解しやすくなり、浴槽1
0に対する比較的大きな気泡の流入を防止できるように
なる。
【0051】(4)上記各実施形態では、循環通路21
をその全域の管径を一定に設定しているが、図示しない
が、例えば循環通路21において循環ポンプ22を境と
した上流側部位の管径よりも下流側部位の管径を大きく
してもよい。この場合、循環通路21において循環ポン
プ22を境とした上流側部位の浴槽水の流速が、循環通
路21において循環ポンプ22を境とした下流側部位の
浴槽水の流速よりも早くなり、ベンチュリ24による浴
槽水中への空気溶解量を増やすことができる。
【0052】(5)上記各実施形態での循環通路21に
ついて、図示しないが例えばその内周面に親水性に優れ
た被膜を形成してもよい。この被膜は、例えばアルカリ
シリケート系のセラミックス材などをコーティングして
形成することができる。このセラミックス被膜は、例え
ば有機系被膜に比べて水が付着しやすくなって気泡が付
着しにくくなる性質を有している。そのため、このセラ
ミックス被膜を循環通路21の内周面に形成していれ
ば、循環通路21を構成する管体の内面上方に気泡が付
着することを防止できて下流側へとスムーズに流せるよ
うになるので、循環通路21を構成する管体の内面での
気泡の成長を防止できるようになる。
【0053】(6)上記各実施形態において、ベンチュ
リ24を用いて浴槽水に空気を混入させるようにした例
を挙げているが、コンプレッサなどを用いて浴槽水に空
気を混入させるようにしてもよい。
【0054】(7)上記各実施形態での噴射ノズル26
については、例えば株式会社OHR流体工学研究所製の
OHR反応機を利用することができる。このOHR反応
機は、例えば図9および図10に示すように、円筒形パ
イプ50の長手方向ほぼ1/2の領域の大径孔50aの
内周に2つのガイドベーン51,52を配設し、残りの
長手方向ほぼ1/2の領域の小径孔50bの内周面円周
数カ所にきのこ形状の突起53を設けた構成である。こ
のガイドベーン51,52の存在する側を液体導入側と
し、きのこ形状の突起53の存在する側を液体吐出側と
して、利用する。このOHR反応機では、導入される浴
槽水を、ガイドベーン51,52でもって図中の矢印の
ように旋回させてから、きのこ形状の突起53によって
未溶解の気泡を微細に分散させることによって大量の超
微細な気泡を発生させるようになっている。このOHR
反応機を上記各実施形態の微細気泡発生装置20の噴射
ノズル26に代えて使用すれば、より多くの微細気泡を
浴槽10内で発生させることができる。
【0055】
【発明の効果】請求項1ないし7の発明にかかる微細気
泡発生装置では、可及的に多くの空気が溶解されかつ比
較的大きな気泡を含まない液体を貯溜槽に対して供給さ
せることができるから、貯溜槽内の液体中に大量の微細
気泡を充満させることができるようになって、しかも、
貯溜槽内の液体中における微細気泡の滞留時間も長くで
きるようになる。したがって、例えば貯溜槽内の液体中
に浮遊物が含まれているような状況だと、この浮遊物を
微細気泡でもって液体表面側に効率よく浮上させること
が可能になる。
【0056】特に、請求項6の発明のように、循環通路
にバイパス通路を設けてそこに空気混入手段を配設する
形態とすれば、循環ポンプで加圧された液体の一部がバ
イパス通路を介して循環ポンプの上流に戻されるように
なり、結果的にバイパス通路を繰り返し流れる液体に対
して、バイパス通路に設けてある空気混入手段でもって
繰り返し空気を混入させることが可能になる。これによ
り、液体に対する空気の混入量を増やせることになる。
【0057】このような請求項1ない7のいずれかの発
明の微細気泡発生装置を用いて請求項8の発明のような
浴槽システムを構成すれば、浴槽内に大量の微細気泡を
発生させて滞留させることができるようになるから、浴
槽内に浮遊物が存在していても、この浮遊物を大量の微
細気泡で浴槽水の表面側に効率よく浮上させてオーバー
フロー排水口に導くことが可能になって、オーバーフロ
ー排水口から的確に排出させることができるなど、浴槽
水の浄化作用の向上に貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る浴槽システムの構成
【図2】図1中の気液分離器の内部を示す断面図
【図3】図1中の旋回流発生ノズルを一方から見た斜視
【図4】図1中の旋回流発生ノズルを他方から見た斜視
【図5】本発明の他の実施形態に係る浴槽システムの構
成図
【図6】図5中の気液分離器の内部を示す断面図
【図7】本発明のさらに他の実施形態に係る浴槽システ
ムの構成図
【図8】気液分離器の他の例を示す断面図
【図9】本発明の微細気泡発生装置の噴射ノズルの他の
例を示す縦断面図
【図10】図9中の(10)−(10)線断面の矢視図
【図11】従来例に係る浴槽システムの構成図
【符号の説明】
10 浴槽 11 取り出し口 12 戻し口 13 オーバーフロー排水口 16 微細気泡 17 浮遊物 20 微細気泡発生装置 21 循環通路 22 循環ポンプ 24 ベンチュリ 25 気液分離器 29 旋回流発生ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01F 5/00 B01F 5/00 G C02F 1/24 C02F 1/24 A

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】貯溜槽内の液体を取り出して、この液体中
    に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に戻すこと
    により貯溜槽内で微細気泡を発生させる微細気泡発生装
    置であって、 貯溜槽から取り出された液体に空気を混入かつ溶解させ
    て、この液体を流路内で旋回させて流し、この旋回して
    流れる液体中の分離気泡を液体から取り除いて貯溜槽へ
    流す、ことを特徴とする微細気泡発生装置。
  2. 【請求項2】貯溜槽内の液体を取り出して、この液体中
    に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に戻すこと
    により貯溜槽内で微細気泡を発生させる微細気泡発生装
    置であって、 貯溜槽に設けた液体の取り出し口と戻し口とに接続され
    る循環通路と、 循環通路の途中に配設されて貯溜槽内の液体を取り出し
    て戻すよう循環させる循環ポンプと、 循環通路に設けられて外部の空気を該循環通路を流れる
    液体に混入させる空気混入手段と、 循環通路において循環ポンプの下流側に配設された気液
    分離手段と、 前記気液分離手段に対して液体を旋回させて流入させる
    旋回流発生手段と、 を含むことを特徴とする微細気泡発生装置。
  3. 【請求項3】請求項2の微細気泡発生装置において、 前記空気混入手段が、前記循環ポンプの上流側に配設さ
    れている、ことを特徴とする微細気泡発生装置。
  4. 【請求項4】請求項3の微細気泡発生装置において、 前記旋回流発生手段が、前記循環ポンプと気液分離手段
    との間に配設されている、ことを特徴とする微細気泡発
    生装置。
  5. 【請求項5】請求項2または3の微細気泡発生装置にお
    いて、 前記旋回流発生手段が、前記気液分離手段の液体導入部
    に配設されている、ことを特徴とする微細気泡発生装
    置。
  6. 【請求項6】請求項2の微細気泡発生装置において、 前記循環通路において循環ポンプの上流側部位と下流側
    部位とにバイパス通路が接続されており、このバイパス
    通路に前記空気混入手段が配設されている、ことを特徴
    とする微細気泡発生装置。
  7. 【請求項7】請求項6の微細気泡発生装置において、 前記旋回流発生手段が、循環通路において循環ポンプよ
    りも下流でかつ循環通路に対するバイパス通路の接続部
    位よりも下流側に配設されている、ことを特徴とする微
    細気泡発生装置。
  8. 【請求項8】側壁部の所要高さ位置にオーバーフロー排
    水口を有する浴槽と、この浴槽に取り付けられる請求項
    1ないし7のいずれかの微細気泡発生装置とを有する、
    ことを特徴とする浴槽システム。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002085949A (ja) * 2000-09-13 2002-03-26 Asupu:Kk 超微細気泡発生装置
JP2005334869A (ja) * 2004-04-28 2005-12-08 Japan Science & Technology Agency マイクロバブル発生方法およびその装置
JP2006116365A (ja) * 2004-09-27 2006-05-11 Nanoplanet Kenkyusho:Kk 旋回式微細気泡発生装置及び同気泡発生方法
JP2006167612A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sanyo Electric Co Ltd マイクロバブル発生装置
JP2006239573A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Mdk:Kk 気泡発生装置
JP2010234372A (ja) * 2010-06-21 2010-10-21 Panasonic Electric Works Co Ltd 微細気泡発生装置
KR101024575B1 (ko) 2007-11-08 2011-03-31 산소덴키 가부시키가이샤 미세기포 발생장치
WO2013012069A1 (ja) * 2011-07-21 2013-01-24 株式会社シバタ 気泡発生機構及び気泡発生機構付シャワーヘッド
JP2019208634A (ja) * 2018-05-31 2019-12-12 株式会社Lixil 吐水装置
JP2021020141A (ja) * 2019-07-25 2021-02-18 株式会社サイエンス バブル発生装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002085949A (ja) * 2000-09-13 2002-03-26 Asupu:Kk 超微細気泡発生装置
JP2005334869A (ja) * 2004-04-28 2005-12-08 Japan Science & Technology Agency マイクロバブル発生方法およびその装置
JP2006116365A (ja) * 2004-09-27 2006-05-11 Nanoplanet Kenkyusho:Kk 旋回式微細気泡発生装置及び同気泡発生方法
JP2006167612A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sanyo Electric Co Ltd マイクロバブル発生装置
JP2006239573A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Mdk:Kk 気泡発生装置
KR101024575B1 (ko) 2007-11-08 2011-03-31 산소덴키 가부시키가이샤 미세기포 발생장치
JP2010234372A (ja) * 2010-06-21 2010-10-21 Panasonic Electric Works Co Ltd 微細気泡発生装置
WO2013012069A1 (ja) * 2011-07-21 2013-01-24 株式会社シバタ 気泡発生機構及び気泡発生機構付シャワーヘッド
JPWO2013012069A1 (ja) * 2011-07-21 2015-02-23 株式会社シバタ 気泡発生機構及び気泡発生機構付シャワーヘッド
JP2015062906A (ja) * 2011-07-21 2015-04-09 株式会社シバタ 気泡発生機構及び気泡発生機構付シャワーヘッド
JP2019208634A (ja) * 2018-05-31 2019-12-12 株式会社Lixil 吐水装置
JP2021020141A (ja) * 2019-07-25 2021-02-18 株式会社サイエンス バブル発生装置
JP7053047B2 (ja) 2019-07-25 2022-04-12 株式会社サイエンス バブル発生装置

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