JP7053047B2 - バブル発生装置 - Google Patents
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本発明は、マイクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡を液体に混入、溶込ませて、マクロ単位の気泡及びナノ単位の気泡が混入、溶込んだ気泡混入液体を流出するバブル発生装置に関する。
マイクロ単位の気泡を発生する技術として、特許文献１は、マイクロバブルを発生させるシャワーノズルを開示する。シャワーノズルは、上流側本体の第１流路に分流コマを配置する。分流コマは、第１流路に旋回流を形成する多数の通液孔を有し、旋回流によってマイクロバブルを発生する。
しかし、特許文献１では、分流コマによる旋回流によって、水中の空気を粉砕（剪断）して、ある程度のマイクロバブルを発生できるものの、さらにナノ単位の気泡に粉砕（剪断）することで、マイクロ単位の気泡及びナノ単位の気泡の量を増加させることが望まれている。
本発明は、液体中の空気をマクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡に粉砕（剪断）でき、十分な量のマイクロ単位の気泡及びナノ単位の気泡を液体に混入、溶込ませて流出できるバブル発生装置を提供することにある。
本発明に係る請求項１は、流入口、流出口、前記流入口側の液流入穴及び前記流出口側の液流出穴が連続する液流路穴を有し、液体が前記流入口から前記液流路穴に流入し、及び前記液流路穴に流入した前記液体が前記流出口から流出する液流路体と、前記液流入穴に配置される第１の渦流形成体と、前記第１の渦流形成体及び前記流出口の間の前記液流路穴に配置される第２の渦流形成体と、を備え、前記第１の渦流形成体は、前記液流路穴の穴内周に間隔を隔てて前記液流路穴と同心に配置され、前記液流出穴に開口する渦流出口を有する渦流形成穴室と、前記液流入穴及び前記渦流形成穴室に開口される液絞り穴と、を備え、前記液絞り穴から前記液流入穴を流れる前記液体を前記渦流形成穴室に噴出して、前記渦流形成穴室及び前記液流出穴の前記液体に、前記液流路穴の穴中心線回りの第１の渦流れを形成し、 前記２の渦流形成体は、前記液流路穴の穴内周及び前記渦流出口の間に配置され、前記液流入穴及び前記液流出穴に開口される液絞り流路穴を備え、前記液絞り流路穴から前記液流入穴を流れる前記液体を、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間の前記液流路穴に噴出して、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間における前記液流出穴の前記液体に、前記第１の渦流と同一回転方向で前記液流路穴の穴中心線回りの第２の渦流を形成することを特徴とするバブル発生装置である。
本発明は、液流路体の流入口から液流入穴に流入した液体は、液流出穴を通して流出口から流出する。第１の渦流形成体は、液流出穴の液体に、第１の渦流を形成する。第２の渦流形成体は、液流路穴の穴内周及び第の渦流の間における液流出穴の液体に第１の渦流の回り（第１の渦流の外周り）に第２の渦流を形成する。第２の渦流は、第１の渦流と一体となって、同一回転方向に旋回し、液流路体の液流出穴を通って流出口に進む。液体は、第１の渦流、及び第２の渦流によって乱流となり、液流出穴を流れる。
これにより、液体中の空気は、第１の渦流、及び第１の渦流の回りに形成される第２の渦流による乱流によって、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡に粉砕（剪断）される。マイクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡は、液体に混入、溶込む。
十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡、及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡の混入、溶込んだ気泡混入液体は、液流路体の流出口から流出される。
このように、第１の渦流形成体で第１の渦流を形成し、及び第２の渦流形成体で第１の渦流の回り（第１の渦流の外周り）に第２の渦流を形成することで、液体中の空気を微細に粉砕（剪断）でき、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡を液体に混入、溶込ませて流出できる。
なお、国際標準化機構（ＩＳＯ）の国際規格「ＩＳＯ２０４８０－１」には、１マイクロメートル（μｍ）以上１００マイクロメートル（μｍ）の気泡を「マイクロバブル」、１マイクロメートル（μｍ）未満の気泡を「ウルトラファインバブル」と定めている（以下、同様）
これにより、液体中の空気は、第１の渦流、及び第１の渦流の回りに形成される第２の渦流による乱流によって、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡に粉砕（剪断）される。マイクロ単位の気泡、及びナノ単位の気泡は、液体に混入、溶込む。
十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡、及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡の混入、溶込んだ気泡混入液体は、液流路体の流出口から流出される。
このように、第１の渦流形成体で第１の渦流を形成し、及び第２の渦流形成体で第１の渦流の回り（第１の渦流の外周り）に第２の渦流を形成することで、液体中の空気を微細に粉砕（剪断）でき、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡を液体に混入、溶込ませて流出できる。
なお、国際標準化機構（ＩＳＯ）の国際規格「ＩＳＯ２０４８０－１」には、１マイクロメートル（μｍ）以上１００マイクロメートル（μｍ）の気泡を「マイクロバブル」、１マイクロメートル（μｍ）未満の気泡を「ウルトラファインバブル」と定めている（以下、同様）
本発明に係る請求項２は、前記第１の渦流形成体は、前記液流路穴に液密に配置され、前記液流路穴を前記液流入穴及び前記液流出穴に区画する渦流形成本体と、前記液流路穴と同心に配置され、前記液流路穴の穴内周に間隔を隔てて前記渦流形成本体に形成され、前記液流入穴側の穴室端を閉塞して前記液流入穴の穴中心線の方向に延在され、及び前記液流出穴に開口する渦流出口を有する渦流形成穴室と、前記渦流形成本体に形成され、前記渦流形成本体を貫通して前記液流入穴及び前記渦流形成穴室に開口される複数の液絞り穴と、を備え、前記各液絞り穴から前記液流入穴を流れる前記液体を前記渦流形成穴室に噴出して、前記渦流形成穴室及び前記液流出穴の前記液体に、前記渦流形成穴室の穴内周に沿った前記液流路穴の穴中心線回りの第１の渦流を形成することを特徴とする請求項１に記載のバブル発生装置である。
本発明に係る請求項３は、前記第２の渦流形成体は、前記液流路穴の穴内周及び前記渦流出口の間に配置され、前記液流路穴の穴中心線回りの方向に間隔を隔てて前記渦流形成本体に形成され、前記渦流形成本体を貫通して前記液流入穴及び前記液流出穴に開口される複数の液絞り流路穴と、前記渦流形成本体から突出して前記液流入穴に配置され、前記各液絞り流路穴の間に配置されて、前記液体を前記第１の渦流と同一回転方向に案内する複数の液流れガイドと、を備え、前記各液絞り流路穴から前記液流入穴を流れる前記液体を、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間の前記液流出穴に噴出して、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間における前記液流出穴の前記液体に、前記第１の渦流と同一回転方向であって、前記各液流れガイドに沿った前記液流路穴の穴中心線回りの第２の渦流を形成することを特徴とする請求項２に記載のバブル発生装置である。
本発明は、マイクロ単位の気泡（マクロバブル）及びナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）を液体に混入、溶込ませることができ、十分な量（多数量）のマイクロバブル及びウルトラファンバブルの混入、溶込んだ気泡混入液体を流出できる。
本発明に係るバブル発生装置について、図１乃至図２２を参照して説明する。
バブル発生装置Ｘ（バブル発生器具／バルブ発生器）は、液体に空気を混入、溶込ませて気泡混入液体を発生する。
液体は、水又は湯である（以下、同様）。
気泡混入液体は、水又は湯に空気を混入、溶込ませた気泡混入水又は気泡混入湯であって、マイクロバブル又はウルトラファインバブルを混入、溶込ませた水又は湯である（以下、同様）。
液体は、水又は湯である（以下、同様）。
気泡混入液体は、水又は湯に空気を混入、溶込ませた気泡混入水又は気泡混入湯であって、マイクロバブル又はウルトラファインバブルを混入、溶込ませた水又は湯である（以下、同様）。
バブル発生装置Ｘは、図１乃至図１８に示すように、液流路体１、第１の渦流形成体２（第１の渦流発生体）、第２の渦流形成体３（第２の渦流発生体）、及びカートリッジ保持体４を備える。
液流路体１（液流路手段）は、図１乃至図８に示すように、例えば、円筒状に形成される（液流路筒体１）。
液流路体１は、液流路筒本体７、流入口８、流出口９、及び液流路穴１０を有する。
液流路体１は、液流路筒本体７、流入口８、流出口９、及び液流路穴１０を有する。
液流路筒本体７は、図１乃至図８に示すように、円筒状に形成される（液流路円筒本体７）。液流路筒本体７は、流入口８、流出口９、液流路穴１０、及び複数（４つ）の保持穴溝１１を有する。
液流路筒本体７は、大径筒部７Ａ及び小径筒部７Ｂを有して構成される。小径筒部７Ｂは、大径筒部７Ａの一方の筒端から筒段部７Ｃを有して縮径して突出される。
液流路筒本体７において、小径筒部７Ｂは、雄ネジ７Ｄ（雄ネジ部）を有し、雄ネジ７Ｄは、小径筒部７Ｂの筒外周（筒外周面）に形成される。
液流路筒本体７は、大径筒部７Ａ及び小径筒部７Ｂを有して構成される。小径筒部７Ｂは、大径筒部７Ａの一方の筒端から筒段部７Ｃを有して縮径して突出される。
液流路筒本体７において、小径筒部７Ｂは、雄ネジ７Ｄ（雄ネジ部）を有し、雄ネジ７Ｄは、小径筒部７Ｂの筒外周（筒外周面）に形成される。
流入口８は、図４、図５及び図６に示すように、例えば、円形口であって、液流路筒本体７（液流路体１）に形成される。流入口８は、液流路筒本体７と同心に配置され、液流路筒本体７（液流路体１）の一方の筒端１Ａに開口される。
流出口９は、図１、図２、及び図４乃至図８に示すように、例えば、円形口であって、液流路筒本体７（液流路体１）に形成される。流出口９は、液流路筒本体７（流入口８）と同心に配置され、液流路筒本体７（液流路体１）の他方の筒端１Ｂに開口される。
液流路穴１０は、図４乃至図８に示すように、例えば、円形穴であって、液流路筒本体７（液流路体１）に形成される。液流路穴１０は、液流路筒本体７（流入口８、流出口９）と同心に配置される。液流路穴１０は、液流路筒本体７（液流路体１）の筒中心線の方向において、液流路筒本体７（大径筒部７Ａ及び小径筒部７Ｂ）を貫通して、液流路筒本体７（液流路体１）の各筒端１Ａ，１Ｂに開口する。
液流路穴１０は、流入口８にて一方の筒端１Ａに開口し、及び流出口９にて他方の筒端１Ｂに開口する。
液流路穴１０は、流入口８にて一方の筒端１Ａに開口し、及び流出口９にて他方の筒端１Ｂに開口する。
液流路穴１０は、図４、図５及び図８に示すように、穴中心線Ａの方向ＡＬ（以下、「穴中心線方向ＡＬ」という）において、流入口８側（一方の筒端１Ａ側）の液流入穴１２、及び流出口９側（他方の筒端１Ｂ側）の液流出穴１３を有して構成される。液流路穴１０は、穴中心線方向ＡＬに液流入穴１２及び液流出穴１３が連続する。
液流入穴１２は、液流路筒本体７の一方の筒端１Ａから液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬに縮径しつつ延在される。液流入穴１２は、流入口８にて一方の筒端１Ａに開口する。
液流出穴１３は、流出口９にて他方の筒端１Ｂに開口される。液流出穴１３は、液流路筒本体７の他方の筒端１Ｂから液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬに延在されて、穴段部１３Ａを有して縮径されて、液流入穴１２に連通される。液流出穴１３は、図１乃至図８に示すように、液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬにおいて、穴段部１３Ａを貫通して液流入穴１２に開口する流出小径穴１３Ｂを有する。流出小径穴１３Ｂは、液流入穴１２より小径穴であって、液流入穴１２に開口される。
液流路筒本体７（液流路体１）は、雌ネジ１４（雌ネジ部）を有する。雌ネジ１４は、液流路穴１０において、液流出穴１３の穴内周（穴内周面）に形成される。
各保持穴溝１１は、図１乃至図８に示すように、液流路穴１０において、穴段部１３Ａに形成される。各保持穴溝１１は、液流路穴１０の穴中心線回りの方向（周方向）に間隔（等間隔：角度９０度の間隔）を隔てて配置される。
各保持穴溝１１は、液流路穴１０の穴中心線回りの方向に穴溝横幅、及び液流路穴１０（液流入穴１２）の穴内周から径外方向（径方向）に穴溝縦幅を有して、流出小径穴１３Ｂ（液流路穴１０、液流出穴１３）の穴内周に開口される。
各保持穴溝１１は、液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬに穴溝深さを有して穴段部１３Ａを貫通して、液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に開口される。
各保持穴溝１１は、液流路穴１０の穴中心線回りの方向に穴溝横幅、及び液流路穴１０（液流入穴１２）の穴内周から径外方向（径方向）に穴溝縦幅を有して、流出小径穴１３Ｂ（液流路穴１０、液流出穴１３）の穴内周に開口される。
各保持穴溝１１は、液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬに穴溝深さを有して穴段部１３Ａを貫通して、液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に開口される。
液流路体１（液流路筒本体７）は、液体が流入口８から液流路穴１０（液流入穴１２）に流入し、及び液流路穴１０に流入した液体が流出口９から流出する。
液体は、液流路筒本体７の流入口８から液流路穴１０（液流入穴１２）に流入され、液流路穴１０［液流入穴１２及び液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）］を流れて、流出口９から流出される。
液体は、液流路筒本体７の流入口８から液流路穴１０（液流入穴１２）に流入され、液流路穴１０［液流入穴１２及び液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）］を流れて、流出口９から流出される。
第１の渦流形成体２（第１の渦流発生体）は、図１乃至図６に示すように、液流入穴１２（液流路穴１０）内に配置される。第１の渦流形成体２は、液流出穴１３内の液体に、液流路穴１０の穴中心線回りの第１の渦流δ１（第１の旋回流）を形成（発生）する。
第１の渦流形成体２は、図１乃至図６、及び図９乃至図１７に示すように、渦流形成本体２１、渦流形成穴室２２（渦流形成穴）、及び複数の液絞り穴２３，２４，２５，２６を備える。
渦流形成本体２１（渦流発生本体）は、図１乃至図６、及び図９乃至図１６に示すように、渦流形成穴室２２（渦流発生穴室／渦流発生穴）、複数の液絞り穴２３～２６、渦流円板２７、渦流形成部２８（渦流発生部）、複数（４つ）の止め突起２９（止め突部）及び支持軸３０を有する。
渦流円板２７は、図１乃至図６、及び図９乃至図１４に示すように、円形に形成される。渦流円板２７は、複数（４つ）の液絞り穴溝３１を有する。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の板中心線回りの方向（周方向）に間隔（等間隔／角度：９０度の間隔）を隔てて配置されて、渦流円板２７に形成される。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の周方向に穴溝横幅Ｈ１、渦流円板２７の径方向に穴溝縦幅Ｈ２有して、渦流円板２７の板外周２７Ａ（板外周面）に開口される。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ（以下、「板中心線方向」という）において、渦流円板２７（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流円板２７の板表平面２７Ｂ及び板裏平面２７Ｃに開口される。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の板中心線回りの方向（周方向）に間隔（等間隔／角度：９０度の間隔）を隔てて配置されて、渦流円板２７に形成される。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の周方向に穴溝横幅Ｈ１、渦流円板２７の径方向に穴溝縦幅Ｈ２有して、渦流円板２７の板外周２７Ａ（板外周面）に開口される。
各液絞り穴溝３１は、渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ（以下、「板中心線方向」という）において、渦流円板２７（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流円板２７の板表平面２７Ｂ及び板裏平面２７Ｃに開口される。
渦流形成部２８（渦流形成筒部）は、図４乃至図６、図９乃至図１１、及び図１２乃至図１６に示すように、例えば、渦流円板２７に一体に形成される。渦流形成部２８は、渦流円板２７の板裏平面２７Ｃに当接して配置される。渦流形成部２８は、例えば、円錐台形に形成される。渦流形成部２８は、渦流円板２７と同心に配置される。
渦流形成部２８は、渦流円板２７の板中心線方向ＢＬにおいて、渦流円板２７の板裏平面２７Ｃから段々に縮径しつつ離間して延在（突出）される。渦流形成部２８は、円錐外周２８Ａ（円錐外周面／円錐側面）を有する。
渦流形成部２８は、渦流円板２７の板中心線方向ＢＬにおいて、渦流円板２７の板裏平面２７Ｃから段々に縮径しつつ離間して延在（突出）される。渦流形成部２８は、円錐外周２８Ａ（円錐外周面／円錐側面）を有する。
渦流形成穴室２２は、図１乃至図５、図９、及び図１２乃至図１６に示すように、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）に形成される。渦流形成穴室２２は、円錐内周２２Ａ（穴内周）を有し、例えば、円錐台形穴に形成される。
渦流形成穴室２２は、渦流形成部２８（渦流円板２７）と同心に配置される。渦流形成穴室２２は、一方の穴室端２２Ｂを渦流形成部２８で閉塞して、渦流円板２７の板中心線方向ＢＬに延在される。
渦流形成穴室２２は、板中心線方向ＢＬにおいて、一方の穴室端２２Ｂから段々に拡径しつつ延在して、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに開口される。
渦流形成穴室２２は、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに開口する渦流出口３２を有する。
渦流形成穴室２２は、渦流形成部２８（渦流円板２７）と同心に配置される。渦流形成穴室２２は、一方の穴室端２２Ｂを渦流形成部２８で閉塞して、渦流円板２７の板中心線方向ＢＬに延在される。
渦流形成穴室２２は、板中心線方向ＢＬにおいて、一方の穴室端２２Ｂから段々に拡径しつつ延在して、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに開口される。
渦流形成穴室２２は、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに開口する渦流出口３２を有する。
渦流出口３２は、図１乃至図４、図９、図１２及び図１４に示すように、渦流円板２７と同心に配置される。渦流出口３２は、口直径ｄ（穴直径）を有して、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに開口される。
渦流出口３２の口直径ｄは、渦流円板２７の板直径Ｄより小径（ｄ＜Ｄ）である。
これにより、渦流出口３２及び渦流円板２７の板外周２７Ａの間には、渦流形成幅Ｆ（渦流形成間隔）の板表平面２７Ｂを有する。
渦流出口３２の口直径ｄは、渦流円板２７の板直径Ｄより小径（ｄ＜Ｄ）である。
これにより、渦流出口３２及び渦流円板２７の板外周２７Ａの間には、渦流形成幅Ｆ（渦流形成間隔）の板表平面２７Ｂを有する。
複数の液絞り穴２３～２６は、図１乃至図５、及び図９乃至図１６に示すように、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）に形成される。
各液絞り穴２３，２４（以下、「上流側・液絞り穴」という）は、図１４に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流円板２７の板中心線方向ＢＬ）において、渦流円板２７の板表平面２７Ｂから穴配置間隔Ｌ１を有して、渦流形成穴室２２の一方の穴室端２２Ｂ側に配置される。各上流側・液絞り穴２３，２４は、穴中心線Ｂの方向ＢＬの同一位置に配置される。
各上流側・液絞り穴２３，２４は、図２、図３、図１２及び図１５に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線回り（渦流円板２７の周方向）に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。
上流側・液絞り穴２３，２４は、図１５に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂに直交する直交直線ＬＮにおいて、直交直線ＬＮと直交する両側に穴位置間隔Ｌ２，Ｌ２を隔てる各穴中心直線ＬＭ，ＬＭに穴中心線ａ，ａを一致して配置される。上流側・液絞り穴２３，２４は、各穴中心直線ＬＭ，ＬＭに沿って渦流形成部２８を貫通する。
各上流側・液絞り穴２３，２４は、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流形成部２８の円錐外周２８Ａ（円錐外周面）及び渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（円錐内周面）に開口される。
上流側・液絞り穴２３，２４は、図１５に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂに直交する直交直線ＬＮにおいて、直交直線ＬＮと直交する両側に穴位置間隔Ｌ２，Ｌ２を隔てる各穴中心直線ＬＭ，ＬＭに穴中心線ａ，ａを一致して配置される。上流側・液絞り穴２３，２４は、各穴中心直線ＬＭ，ＬＭに沿って渦流形成部２８を貫通する。
各上流側・液絞り穴２３，２４は、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流形成部２８の円錐外周２８Ａ（円錐外周面）及び渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（円錐内周面）に開口される。
各液絞り穴２５，２６（以下、「下流側・液絞り穴」という）は、図１４に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流円板２７の板中心線方向ＢＬ）において、渦流円板２７の板表平面２７Ｂから穴配置間隔Ｌ２を有して、渦流形成穴室２２の渦流出口３２側に配置される。穴配置間隔Ｌ２は、穴配置間隔Ｌ１より短い（Ｌ２＜Ｌ１）。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、穴中心線Ｂの方向ＢＬの同一位置に配置される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、穴中心線Ｂの方向ＢＬの同一位置に配置される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、図２、図３、図１２及び図１６に示すように、渦流形成穴室２２の穴中心線回り（渦流円板２７の周方向）に等間隔（角度：１８０度の間隔）を隔てて配置される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬにおいて、間隔を隔てて各上側・液絞り穴２３，２４に並列（並設）される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、図１６に示すように、各上流側・液絞り穴２３，２４と同様に、直交直線ＬＮと直交する両側に穴位置間隔Ｌ３，Ｌ３を隔てる各穴中心直線ＬＰ，ＬＰに穴中心線ｂ，ｂを一致して配置される。穴位置間隔Ｌ３は、穴位置間隔Ｌ２より広い間隔であって、各下流・液絞り穴２５，２６を各上流側・液絞り穴２３，２４に並列（並設）できる間隔である。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、各穴中心直線ＬＰ，ＬＰに沿って渦流形成部２８を貫通する。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流形成部２８の円錐外周２８Ａ（円錐外周面）及び渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（円錐内周面）に開口される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬにおいて、間隔を隔てて各上側・液絞り穴２３，２４に並列（並設）される。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、図１６に示すように、各上流側・液絞り穴２３，２４と同様に、直交直線ＬＮと直交する両側に穴位置間隔Ｌ３，Ｌ３を隔てる各穴中心直線ＬＰ，ＬＰに穴中心線ｂ，ｂを一致して配置される。穴位置間隔Ｌ３は、穴位置間隔Ｌ２より広い間隔であって、各下流・液絞り穴２５，２６を各上流側・液絞り穴２３，２４に並列（並設）できる間隔である。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、各穴中心直線ＬＰ，ＬＰに沿って渦流形成部２８を貫通する。
各下流側・液絞り穴２５，２６は、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）を貫通して、渦流形成部２８の円錐外周２８Ａ（円錐外周面）及び渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（円錐内周面）に開口される。
各止め突起２９は、図１、図２、図４、図５、及び図９乃至図１４に示すように、例えば、渦流円板２７（渦流形成本体２１）に一体に形成される。各止め突起２９は、渦流形成幅Ｆ（渦流形成間隔）に位置する渦流円板２７の板表平面２７Ｂに配置される。各止め突起２９は、図１２に示すように、渦流出口３２に液流れ間隔σを隔てて、渦流円板の板外周面２７Ａに隣接（隣設）される。
各止め突起２９は、渦流円板２７の周方向（渦流形成穴室２２の穴中心線回り）に等間隔（角度：９０度の間隔）を隔てて、各液絞り穴溝３１の間に配置される。
止め突起２９は、図１３に示すように、渦流円板２７の板中心線Ｂ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂ）に直交する第１止め配置直線Ｌａ、渦流円板２７の板穴中心線Ｂ及び第１止め配置直線Ｌａと直交する第２止め位置直線Ｌｂとすると、第１及び第２止め配置直線Ｌａ，Ｌｂに配置される。
２つの止め突起２９は、第１止め配置直線Ｌａ上に配置され、残りの２つの止め突起２９は、第２止め配置直線Ｌｂ上に配置される。
各止め突起２９は、渦流円板２７の周方向（渦流形成穴室２２の穴中心線回り）に等間隔（角度：９０度の間隔）を隔てて、各液絞り穴溝３１の間に配置される。
止め突起２９は、図１３に示すように、渦流円板２７の板中心線Ｂ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂ）に直交する第１止め配置直線Ｌａ、渦流円板２７の板穴中心線Ｂ及び第１止め配置直線Ｌａと直交する第２止め位置直線Ｌｂとすると、第１及び第２止め配置直線Ｌａ，Ｌｂに配置される。
２つの止め突起２９は、第１止め配置直線Ｌａ上に配置され、残りの２つの止め突起２９は、第２止め配置直線Ｌｂ上に配置される。
各止め突起２９は、図１、図２、図４、及び図９乃至図１３に示すように、止め軸部２９Ａ及び止め部２９Ｂを有する。各止め突起２９において、止め部２９Ｂは、渦流円板２７の板表平面２７Ｂから渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ）に離間しつつ突出される。
各止め突起２９において、止め部２９Ｂは、止め軸部２９Ａに一体に形成される。止め部２９Ｂは、止め軸部２９Ａの先端側から渦流円板２７の径外方（板外周面２７Ａの外側）に突出される。
各止め突起２９において、止め部２９Ｂは、止め軸部２９Ａに一体に形成される。止め部２９Ｂは、止め軸部２９Ａの先端側から渦流円板２７の径外方（板外周面２７Ａの外側）に突出される。
支持軸３０は、図４、図９、図１０、図１１及び図１４に示すように、渦流形成部２８に一体に形成される。支持軸３０は、渦流形成部２８（渦流円板２７、渦流形成穴室２２）と同心に配置される。
支持軸３０は、渦流形成穴室２２の穴室端２２Ｂを閉塞する渦流形成部２８の円錐上面２８Ｂ（一方の端）から渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ）に離間しつつ延在される。
支持軸３０は、図４、図９、図１０、図１１及び図１４に示すように、複数の支持穴溝３３，３４を有する。各支持穴溝３３，３４は、支持軸３０の軸中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ）に間隔を隔てて、支持軸３０に形成される。
支持軸３０は、渦流形成穴室２２の穴室端２２Ｂを閉塞する渦流形成部２８の円錐上面２８Ｂ（一方の端）から渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ）に離間しつつ延在される。
支持軸３０は、図４、図９、図１０、図１１及び図１４に示すように、複数の支持穴溝３３，３４を有する。各支持穴溝３３，３４は、支持軸３０の軸中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ）に間隔を隔てて、支持軸３０に形成される。
支持穴溝３３は、渦流形成部２８の円錐上面２８Ｂに隣接する支持軸３０の一方の軸端３０Ａ側に形成される。支持穴溝３３は、支持軸３０の軸中心線回りの方向（周方向）にわたって形成され、支持軸３０の径方向に穴溝深さを有して、支持軸３０の外周（軸外周面）に開口される。
支持穴溝３４は、支持軸３０の他方の軸端３０Ｂ側に形成される。支持穴溝３４は、支持軸３０の軸中心線回りの方向（周方向）に形成され、支持軸３０の径方向に穴溝深さを有して、支持軸３０の外周（軸外周面）に開口される。
第１の渦流形成体２は、図１５及び図１６に示すように、各上流側・液絞り穴２３，２４及び各下流側・液絞り穴２５，２６から液体を渦流形成穴室２２に噴出（噴射）して、渦流形成穴室２２の液体に、渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（円錐内周面／内周面）に沿った第１の渦流δ１を渦流形成穴室２２に形成（発生）する。
第１の渦流δ１（第１の旋回流）の回転方向ε１（旋回方向）は、例えば、時計回りである。
第１の渦流δ１（第１の旋回流）の回転方向ε１（旋回方向）は、例えば、時計回りである。
第２の渦流形成体３は、図１乃至図６に示すように、第１の渦流形成体２及び流出口９の間の液流路穴１０（液流入穴１２）内に配置される。第２の渦流形成体３は、第１の渦流δ１及び液流路穴１０の穴内周１０Ａ（穴内周面）の間における液体に、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１（旋回方向）で液流路穴１０の穴中心線回りの第２渦流δ２を形成（発生）する。
第２の渦流形成体３は、図３、図５、及び図９乃至図１４に示すように、複数（４つ）の液絞り流路穴４４と、複数（４の）の液流れガイド４５を備える。
各液絞り流路穴４４は、図５に示すように、例えば、各液絞り穴溝３１及び液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周）にて形成される。
各液流れガイド４５は、液体を第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に案内（ガイド）する。各液流れガイド４５は、図１乃至６、及び図９乃至図１４に示すように、例えば、渦流形成本体２１に配置される。各液流れガイド４５は、渦流円板２７（板表平面２７Ｂ）に一体に形成される。
各液流れガイド４５は、図９乃至図１４に示すように、渦流円板２７の板中心線回り（周方向）に等間隔（角度：９０度の間隔を隔てて、各止め突起２９及び各液絞り穴溝３１の間に配置される。
各液流れガイド４５は、図１３に示すように、第１及び第２止め配置直線Ｌａ，Ｌｂから第１の渦流δ１（第２の渦流δ２）の回転方向ε１において、各止め突起２９及び各液絞り穴溝３１の間に配置される。
各液流れガイド４５は、図１３に示すように、第１及び第２止め配置直線Ｌａ，Ｌｂから第１の渦流δ１（第２の渦流δ２）の回転方向ε１において、各止め突起２９及び各液絞り穴溝３１の間に配置される。
各ガイド流れガイド４５は、図１、図４、図５、図９乃至図１１、及び図１４に示すように、渦流円板２７の板表平面２７Ｂ（渦流形成本体２１）から渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ）に離間して突出される。
各液流れガイド４５は、渦流円板２７の板外周面２７Ａ及び渦流出口３２の間に配置される。各液流れガイド４５は、渦流円板２７の板外周面２７Ａから渦流円板２７の径内方（渦流円板２７の板中心線Ｂ、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂ）に向けて突出され、渦流出口３２（渦流形成穴室２２）に渦流間隔Ｇ（渦流隙間）を隔てて配置される。
各液流れガイド４５は、渦流円板２７の板外周面２７Ａ及び渦流出口３２の間に配置される。各液流れガイド４５は、渦流円板２７の板外周面２７Ａから渦流円板２７の径内方（渦流円板２７の板中心線Ｂ、渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂ）に向けて突出され、渦流出口３２（渦流形成穴室２２）に渦流間隔Ｇ（渦流隙間）を隔てて配置される。
各液流れガイド４５は、図１３に示すように、複数（一対）のガイド平面５１，５２を有する。ガイド平面５１は、渦流出口３２側（渦流形成穴室２２側）の内側に配置される（以下、「内側ガイド平面」という）。ガイド平面５２は、渦流円板２７の板外周面２７Ａ側の外側に配置される（以下、「外側ガイド平面」という）。
内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、図９及び図１３に示すように、渦流円板２７の板表平面２７Ｂに直交して配置され、板表平面２７Ｂから渦流円板２７の板中心線Ｂの方向ＢＬ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂの方向ＢＬ）に離間して延在される。
内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、間隔を隔てて平行に配置される。
内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、間隔を隔てて平行に配置される。
各液流れガイド４５において、内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、図１３に示すように、第１止め配置直線Ｌａ、及び第２止め配置直線Ｌｂから第１の渦流δ１（第２の渦流δ２）の回転方向ε１（例えば、時計回り方向）に傾斜角度θ（例えば、θ＝１５度）を有して傾斜される。
内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、渦流円板２７の板外周面２７Ａから傾斜角度θで傾斜しつつ、渦流円板２７の径内方及び回転方向ε１に延在され、内側ガイド平面５１は、渦流出口３２（渦流形成穴室２２）に渦流間隔Ｇ（渦流隙間）を有して配置される。
内側ガイド平面５１、及び外側ガイド平面５２は、渦流円板２７の板外周面２７Ａから傾斜角度θで傾斜しつつ、渦流円板２７の径内方及び回転方向ε１に延在され、内側ガイド平面５１は、渦流出口３２（渦流形成穴室２２）に渦流間隔Ｇ（渦流隙間）を有して配置される。
カートリッジ保持体４は、図４乃至図６、図１７及び図１８に示すように、脱塩素用カートリッジＣＴを保持する。
カートリッジ保持体４は、渦流形成本体２１（第１の渦流形成体２）に配置される。カートリッジ保持体４は、メッシュ板６１、及びキャップ６２を備える。
カートリッジ保持体４は、渦流形成本体２１（第１の渦流形成体２）に配置される。カートリッジ保持体４は、メッシュ板６１、及びキャップ６２を備える。
メッシュ板６１は、図４乃至図６、図６及び図１７に示すように、例えば、円板状に形成される（メッシュ円板６１）。メッシュ板６１は、メッシュ軸穴６３、及び複数のメッシュ液穴６４を有する。
メッシュ軸穴６３は、メッシュ板６１と同心に配置されて、メッシュ板６１に形成される。メッシュ軸穴６３は、メッシュ板６１の板中心線の方向において、メッシュ板６１を貫通して、メッシュ板表平面６１Ａ及びメッシュ板裏平面６１Ｂに開口される。
各メッシュ液穴６４は、メッシュ軸穴６３の回りに配置（メッシュ板６１の外周面及びメッシュ軸穴６３の間にわたって配置）されて、メッシュ板６１に形成される。各メッシュ液穴６４は、メッシュ板６１の板中心線の方向において、メッシュ板６１を貫通して、メッシュ板６１のメッシュ板表平面６１Ａ及びメッシュ板裏平面６１Ｂに開口される。
メッシュ軸穴６３は、メッシュ板６１と同心に配置されて、メッシュ板６１に形成される。メッシュ軸穴６３は、メッシュ板６１の板中心線の方向において、メッシュ板６１を貫通して、メッシュ板表平面６１Ａ及びメッシュ板裏平面６１Ｂに開口される。
各メッシュ液穴６４は、メッシュ軸穴６３の回りに配置（メッシュ板６１の外周面及びメッシュ軸穴６３の間にわたって配置）されて、メッシュ板６１に形成される。各メッシュ液穴６４は、メッシュ板６１の板中心線の方向において、メッシュ板６１を貫通して、メッシュ板６１のメッシュ板表平面６１Ａ及びメッシュ板裏平面６１Ｂに開口される。
メッシュ板６１は、図４及び図６に示すように、渦流円板２７の板中心線Ｂ（渦流形成穴室２２の穴中心線Ｂ）と同心に配置されて、渦流形成本体２１（支持軸３０）に取外自在に取付けられる。
メッシュ板６１は、メッシュ軸穴６３を支持軸３０の他方の軸端３０Ｂから、支持軸３０に外嵌して配置される。メッシュ板６１は、支持穴溝３３に挿入されて、支持軸３０（渦流形成本体２１）に取付られる。
メッシュ板６１は、メッシュ軸穴６３を支持軸３０の他方の軸端３０Ｂから、支持軸３０に外嵌して配置される。メッシュ板６１は、支持穴溝３３に挿入されて、支持軸３０（渦流形成本体２１）に取付られる。
キャップ６２は、図４乃至図６、及び図１８に示すように、例えば、円筒状に形成される（筒キャップ６２／円筒キャップ６２）。
キャップ６２は、キャップ筒本体６５、キャップ板６６、キャップ軸穴６７及び複数のキャップ液穴６８を有する。
キャップ６２は、キャップ筒本体６５、キャップ板６６、キャップ軸穴６７及び複数のキャップ液穴６８を有する。
キャップ筒本体６５は、例えば、円筒状に形成される（キャップ円筒本体６５）。
キャップ板６６は、例えば、円形板に形成される（キャップ円板６６）。キャップ板６６は、キャップ筒本体６５と同心に配置される。キャップ筒本体６５は、キャップ筒本体６５の一方の筒端を閉塞して、キャップ筒本体６５と一体に形成される。
キャップ板６６は、例えば、円形板に形成される（キャップ円板６６）。キャップ板６６は、キャップ筒本体６５と同心に配置される。キャップ筒本体６５は、キャップ筒本体６５の一方の筒端を閉塞して、キャップ筒本体６５と一体に形成される。
キャップ軸穴６７は、キャップ筒本体６５（キャップ板６６）と同心に配置され、キャップ板６６に形成される。キャップ軸穴６７は、キャップ筒本体６５の筒中心線の方向において、キャップ板６６を貫通して、キャップ板６６のキャップ板表平面６６Ａ及びキャップ板裏平面６６Ｂに開口される。
各キャップ液穴６８は、キャップ軸穴６７の回りに配置（キャップ板６６の板が周面及びキャップ軸穴６７の間に配置）されて、キャップ板６６に形成される。各キャップ液穴６８は、キャップ筒本体６５の筒中心線の方向において、キャップ板６６を貫通して、キャップ板６６のキャップ板表平面６６Ａ及びキャップ板裏平面６６Ｂに開口される。
各キャップ液穴６８は、キャップ軸穴６７の回りに配置（キャップ板６６の板が周面及びキャップ軸穴６７の間に配置）されて、キャップ板６６に形成される。各キャップ液穴６８は、キャップ筒本体６５の筒中心線の方向において、キャップ板６６を貫通して、キャップ板６６のキャップ板表平面６６Ａ及びキャップ板裏平面６６Ｂに開口される。
キャップ６２は、図４及び図６に示すように、キャップ板６６を渦流形成部２８（メッシュ板６１）に向けて渦流円板２７の板中心線と同心に配置されて、渦流形成本体２１に取外自在に取付けられる。
キャップ６２は、キャップ軸穴６７を支持軸３０の他方の軸端３０Ｂから、支持軸３０に外嵌して配置される、キャップ６２は、支持穴溝３４に挿入されて、支持軸３０（渦流形成本体２１）に取付けられる。
キャップ６２は、キャップ軸穴６７を支持軸３０の他方の軸端３０Ｂから、支持軸３０に外嵌して配置される、キャップ６２は、支持穴溝３４に挿入されて、支持軸３０（渦流形成本体２１）に取付けられる。
カートリッジ保持体４を渦流形成本体２１に取付けた組立体ＳＹ（第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３及びカートリッジ保持体４の組立体）は、図１乃至図６に示すように、各止め突起２９、及び液流れガイド４５を、液流路体１の流入口８（液流入穴１２）に向けて配置されて、各止め突起２９から液流路穴１０内に配置される。
組立体ＳＹは、各止め部２９Ｂを液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に摺接して、各止め突起２９を液流路穴１０の穴中心線Ａに向けて弾性変形しつつ液流路穴１０に挿入される。
組立体ＳＹは、渦流形成本体２１の渦流形成部２８、メッシュ板６１及びキャップ６２を液流入穴１２に挿入して、液流入穴１２内に配置される。
組立体ＳＹは、各止め部２９Ｂを液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に摺接して、各止め突起２９を液流路穴１０の穴中心線Ａに向けて弾性変形しつつ液流路穴１０に挿入される。
組立体ＳＹは、渦流形成本体２１の渦流形成部２８、メッシュ板６１及びキャップ６２を液流入穴１２に挿入して、液流入穴１２内に配置される。
組立体ＳＹにおいて、カートリッジ保持体４のメッシュ板６１は、図４及び図５に示すように、メッシュ板外周面を液流入穴１２の穴内周１２Ａに摺接して、液流入穴１２内（液流路穴１０内）に挿入（配置）される。
カートリッジ保持体４のキャップ６２は、図４及び図５に示すように、キャップ筒本体６５の筒外周面を液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に摺接して、液流入穴１２内（液流路穴１０内）に液密に挿入（配置）される。
これにより、支持軸３０、メッシュ板６１、キャップ６２及び液流入穴１２の穴内周１２Ａは、図４及び図５に示すように、液流入穴１２内に脱塩素用カートリッジＣＴを収納するカートリッジ収納空間ＣＪを区画する。
カートリッジ保持体４のキャップ６２は、図４及び図５に示すように、キャップ筒本体６５の筒外周面を液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に摺接して、液流入穴１２内（液流路穴１０内）に液密に挿入（配置）される。
これにより、支持軸３０、メッシュ板６１、キャップ６２及び液流入穴１２の穴内周１２Ａは、図４及び図５に示すように、液流入穴１２内に脱塩素用カートリッジＣＴを収納するカートリッジ収納空間ＣＪを区画する。
組立体ＳＹは、各止め突起２９の止め部２９Ｂを液流入穴１２の穴内周１２Ａ（穴内周面）に摺接し、及び弾性変形した状態で、流入口８から液流路体１の穴段部１３Ａに向けて挿入される。
各止め突起２９は、液流入穴１２への挿入に伴って、止め部２９Ｂを液流路体１の各保持穴溝１１に挿入し、及び弾性変形を解除（開放）して、止め部２９Ｂを各保持穴溝１１の溝底面１１Ａに当接する。
これにより、各止め突起２９は、図１乃至図４に示すように、第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３、及びカートリッジ保持体４を液流入穴１２（液流路穴１０）に位置決めして配置する。
第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３、及びカートリッジ保持体４は、各止め突起２９及び各保持穴溝１１で位置決めされて、液流入穴１２（液流路穴１０）に配置（挿入）される。
各止め突起２９は、液流入穴１２への挿入に伴って、止め部２９Ｂを液流路体１の各保持穴溝１１に挿入し、及び弾性変形を解除（開放）して、止め部２９Ｂを各保持穴溝１１の溝底面１１Ａに当接する。
これにより、各止め突起２９は、図１乃至図４に示すように、第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３、及びカートリッジ保持体４を液流入穴１２（液流路穴１０）に位置決めして配置する。
第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３、及びカートリッジ保持体４は、各止め突起２９及び各保持穴溝１１で位置決めされて、液流入穴１２（液流路穴１０）に配置（挿入）される。
液流路穴１０（液流入穴１２）内に配置された第１の渦流形成体２において、渦流形成本体２１は、液流路体１の穴段部１３Ａに隣接（隣設）して液流入穴１２内に配置される。
渦流形成本体２１は、渦流円板２７の板外周面２７Ａを液流入穴１２の穴内周１２Ａに圧接して、液流入穴１２（液流路穴１０）と同心に配置される。
渦流形成本体２１は、図４及び図５に示すように、渦流円板２７の板外周２７Ａを液流入穴１２の穴内周１２Ａに圧接して液流入穴１２（液流路穴１０）に液密に配置され、液流路穴１０を液流入穴１２及び液流出穴１３に区画する。
渦流形成本体２１は、渦流円板２７の板外周面２７Ａを液流入穴１２の穴内周１２Ａに圧接して、液流入穴１２（液流路穴１０）と同心に配置される。
渦流形成本体２１は、図４及び図５に示すように、渦流円板２７の板外周２７Ａを液流入穴１２の穴内周１２Ａに圧接して液流入穴１２（液流路穴１０）に液密に配置され、液流路穴１０を液流入穴１２及び液流出穴１３に区画する。
渦流形成本体２１において、渦流形成部２８は、図４及び図５に示すように、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬにおいて、流入口８に向けて段々に縮径しつつ延在され、円錐外周２８Ａ及び液流入穴１２の穴内周面１２Ａの間に液流入空間Ｈを区画（形成）する。
渦流形成本体２１において、渦流形成穴室２２は、図１乃至図５に示すように、液流路穴１０（液流入穴１２）と同心に配置される。渦流形成穴室２２は、液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周１２Ａ）に渦流形成間隔Ｆ（渦流形成幅Ｆ）を隔てて、渦流形成本体２１に形成される。渦流形成穴室２２は、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬに延在され、液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口される。渦流形成穴室２２は、渦流出口３２にて液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口する。
渦流形成穴室２２は、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬにおいて、穴室端２２Ｂから段々に拡径しつつ延在されて、液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口（連通）される。
渦流形成穴室２２は、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬにおいて、穴室端２２Ｂから段々に拡径しつつ延在されて、液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口（連通）される。
渦流形成本体２１において、上流側・液絞り穴２３，２４、及び下流側・液絞り穴２５，２６は、図１、図２、図４及び図５に示すように、渦流形成部２８（渦流形成本体２１）を貫通して、液流入空間Ｈ（液流入穴１２）及び渦流形成穴室２２に開口される。
渦流形成本体２１において、支持軸３０は、図４及び図５に示すように、渦流形成部２８から液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬに離間しつつ液流入穴１２内を延在して、液流路穴１０と同心に配置される。支持軸３０は、液流路穴１０の穴中心線方向ＡＬにおいて、渦流形成部２８から流入口８に向けて延在される。
第２の渦流形成体３は、渦流円板２７の板外周２７Ａを液流入穴１２の穴内周１２Ａに圧接して形成される複数の液絞り流路穴４４を備える。
各液絞り流路穴４４は、液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周１２Ａ）及び渦流出口３２の間に配置される。
各液絞り流路穴４４は、図１乃至図３、及び図５に示すように、液流路穴１０の穴中心線回りの方向に間隔（等間隔／角度：９０度の間隔）を隔てて渦流円板２７（渦流形成本体２１）に形成される。各液絞り流路穴４４は、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬにおいて、渦流円板２７（渦流形成本体２１）を貫通して、液流入空間Ｈ（液流入穴１２）及び液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口（連通）される。
各液絞り流路穴４４は、液流入穴１２の穴内周１２Ａに液密に圧接された渦流円板２７（渦流形成本体２１）の各液絞り穴溝３１、及び液流入穴１２の穴内周１２Ａ（液流路穴１０の穴内周１０Ａ）にて形成される。
各液絞り流路穴４４は、液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周１２Ａ）及び渦流出口３２の間に配置される。
各液絞り流路穴４４は、図１乃至図３、及び図５に示すように、液流路穴１０の穴中心線回りの方向に間隔（等間隔／角度：９０度の間隔）を隔てて渦流円板２７（渦流形成本体２１）に形成される。各液絞り流路穴４４は、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬにおいて、渦流円板２７（渦流形成本体２１）を貫通して、液流入空間Ｈ（液流入穴１２）及び液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）に開口（連通）される。
各液絞り流路穴４４は、液流入穴１２の穴内周１２Ａに液密に圧接された渦流円板２７（渦流形成本体２１）の各液絞り穴溝３１、及び液流入穴１２の穴内周１２Ａ（液流路穴１０の穴内周１０Ａ）にて形成される。
液流路穴１０（液流入穴１２）内に配置された第２の渦流形成体３において、各液流れガイド４５は、図１乃至図３に示すように、渦流円板２７の板表平面２７Ｂ（渦流形成本体２１）から液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬに突出される。各液流れガイド４５は、液流入穴１２（液流路穴１０）内において、液流路穴１０の穴中心線Ａの方向ＡＬから穴段部１３Ａに当接され、又は穴段部１３Ａに隙間を隔てて配置される。各液流れガイド４５は、渦流円板２７の板外周面２７Ａ側の一部を穴段部１３Ａに当接し、又は穴段部１３Ａに隙間を隔てて配置される。
各液流れガイド４５は、液流路穴１０の穴中心線回りの方向において、各液絞り流路穴４４の間に配置される。
各液流れガイド４５は、流出小径穴１３Ｂ（液流出穴１３）の内側に延在されて、液体を第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に案内する。
各液流れガイド４５は、液流路穴１０の穴中心線回りの方向において、各液絞り流路穴４４の間に配置される。
各液流れガイド４５は、流出小径穴１３Ｂ（液流出穴１３）の内側に延在されて、液体を第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に案内する。
バブル発生装置Ｘは、図４及び図５に示すように、液流路体１（液流路筒本体７）の流入口８から液体が液流入穴１２（液流路穴１０）に流入され、液流路穴１０（液流入穴１２及び液流出穴１３）を液体で満たす。
液流入穴１２に流入した液体は、キャップ６２の各キャップ液穴６８、メッシュ板６１の各メッシュ液穴６４を通って、液流入空間Ｈ（液流入穴１２）に流入される。
液流入穴１２に流入した液体は、キャップ６２の各キャップ液穴６８、メッシュ板６１の各メッシュ液穴６４を通って、液流入空間Ｈ（液流入穴１２）に流入される。
液流入空間Ｈに流入した液体は、図３乃至図５に示すように、各上流側・液絞り穴２３，２４、及び各下流側・液絞り穴２５，２５に流入され、各液絞り穴２３～２６は、液体を渦流形成穴室２２に噴出（進噴射）する。
液流入空間Ｈに流入した液体は、各液絞り流路穴４４に流入され、各液絞り流路穴４４は、液体を渦流円板２７の板表平面２７Ｂに噴出（噴射）する。
液流入空間Ｈに流入した液体は、各液絞り流路穴４４に流入され、各液絞り流路穴４４は、液体を渦流円板２７の板表平面２７Ｂに噴出（噴射）する。
各液絞り穴２３～２６から渦流形成穴室２２に噴出された液体は、図３に示すように、渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（穴内周）に沿って旋回して流れる。
これにより、第１の渦流形成体２は、各液絞り穴２３～２６から液流入穴１２（液流入空間Ｈ）を渦流形成穴室２２に噴出（噴射）して、渦流形成穴室２２及び液流出穴１３の液体に、渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（穴内周）に沿った第１の渦流δ１（第１の旋回流）を形成（発生）する。
第１の渦流δ１は、液流路穴１０の穴中心線回りの渦流（旋回流）であって、例えば、時計回り方向に回転する。第１の渦流δ１は、渦流出口３２の穴直径と略同一の渦直径となる。
第１の渦流δ１は、渦流出口３２から第２の渦流形成体（各液絞り流路穴４４、及び各液流れガイド４５）の内側、及び液流出穴１３を通って、流出口９に進む。
これにより、第１の渦流形成体２は、各液絞り穴２３～２６から液流入穴１２（液流入空間Ｈ）を渦流形成穴室２２に噴出（噴射）して、渦流形成穴室２２及び液流出穴１３の液体に、渦流形成穴室２２の円錐内周２２Ａ（穴内周）に沿った第１の渦流δ１（第１の旋回流）を形成（発生）する。
第１の渦流δ１は、液流路穴１０の穴中心線回りの渦流（旋回流）であって、例えば、時計回り方向に回転する。第１の渦流δ１は、渦流出口３２の穴直径と略同一の渦直径となる。
第１の渦流δ１は、渦流出口３２から第２の渦流形成体（各液絞り流路穴４４、及び各液流れガイド４５）の内側、及び液流出穴１３を通って、流出口９に進む。
各液絞り流路穴４４から噴出した液体は、図３に示すように、第１の渦流δ１によって、渦流出口３２（第１の渦流δ１）及び液流入穴１２の穴内周１２Ａの間の渦流円板２７の板表平面２７Ｂに沿って、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に流れる。
渦流円板２７の板表平面２７Ｂを流れる液体は、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１に接触して、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１にて第１の渦流δ１と同一回転方向ε１にガイド（案内）されつつ旋回して流れる。
各液流れガイド４５は、液体を内側ガイド平面５１にてガイド（案内）して、渦流間隔Ｇ（渦流隙間）から第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に旋回して流す。
これにより、第２の渦流形成体３は、各液絞り流路穴４４から液流入穴１２（液流路空間Ｈ）を流れる液体を、渦流出口３２（第１の渦流δ１）及び液流入穴１２の穴内周１２Ａ（液流路穴１０の穴内周１０Ａ）の間の液流入穴１２（液流路穴１０）に噴出して、渦流出口３２（第１の渦流δ１）及び液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周１２Ａ）の間における液流出穴１３の液体に、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１であって、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１に沿った第２の渦流δ２を形成（発生）する。
第２の渦流δ２は、液流路穴１０の穴中心線回りの渦流れであって、例えば、時計回り方向に回転する。第２の渦流δ２は、第１の渦流δ１の外周り（第１の渦流δ１の外側）に形成され、第１の渦流δ１と一体となって、同一回転方向ε１に旋回して進む。
第２の渦流δ２は、渦流形成本体２１の渦流円板２７（板表平面２７Ｂ）から液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）を通って、流出口９に進む。
渦流円板２７の板表平面２７Ｂを流れる液体は、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１に接触して、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１にて第１の渦流δ１と同一回転方向ε１にガイド（案内）されつつ旋回して流れる。
各液流れガイド４５は、液体を内側ガイド平面５１にてガイド（案内）して、渦流間隔Ｇ（渦流隙間）から第１の渦流δ１と同一回転方向ε１に旋回して流す。
これにより、第２の渦流形成体３は、各液絞り流路穴４４から液流入穴１２（液流路空間Ｈ）を流れる液体を、渦流出口３２（第１の渦流δ１）及び液流入穴１２の穴内周１２Ａ（液流路穴１０の穴内周１０Ａ）の間の液流入穴１２（液流路穴１０）に噴出して、渦流出口３２（第１の渦流δ１）及び液流路穴１０の穴内周１０Ａ（液流入穴１２の穴内周１２Ａ）の間における液流出穴１３の液体に、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１であって、各液流れガイド４５の内側ガイド平面５１に沿った第２の渦流δ２を形成（発生）する。
第２の渦流δ２は、液流路穴１０の穴中心線回りの渦流れであって、例えば、時計回り方向に回転する。第２の渦流δ２は、第１の渦流δ１の外周り（第１の渦流δ１の外側）に形成され、第１の渦流δ１と一体となって、同一回転方向ε１に旋回して進む。
第２の渦流δ２は、渦流形成本体２１の渦流円板２７（板表平面２７Ｂ）から液流出穴１３（流出小径穴１３Ｂ）を通って、流出口９に進む。
各液絞り穴２３～２６、及び各液絞り流路穴４４から噴出した液体は、液流出穴１３を流れて流出口９から流出される。
液体は、第１の渦流δ１、及び第２の渦流δ２にて乱流となり、液流出穴１３を流れる。
これにより、液体中の空気（気泡）は、乱流によって、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位に気泡（ウルトラファインバブル）に粉砕（剪断）される。
マイクロ単位の気泡（マイクロバブル）、及びナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）は、液体に混入及び溶込む。
十分な量（多数慮）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数慮）のナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）の混入、溶込んだ気泡混入液体は、液流路本体１（液流入穴１０）の液流出穴１３を通って流出口９から流出される。
このように、バブル発生装置Ｘは、第１の渦流形成体２で第１の渦流δ１を形成（発生）し、及び第２の渦流形成体３で第１の渦流δ１の外周り（外側）重ねて、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１の第２の渦流δ２を形成（発生）することで、液体中の空気を微細に粉砕（剪断）でき、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡（ウルトラファンバブル）を液体に混入、溶込ませることができる。
これにより、液体中の空気（気泡）は、乱流によって、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位に気泡（ウルトラファインバブル）に粉砕（剪断）される。
マイクロ単位の気泡（マイクロバブル）、及びナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）は、液体に混入及び溶込む。
十分な量（多数慮）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数慮）のナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）の混入、溶込んだ気泡混入液体は、液流路本体１（液流入穴１０）の液流出穴１３を通って流出口９から流出される。
このように、バブル発生装置Ｘは、第１の渦流形成体２で第１の渦流δ１を形成（発生）し、及び第２の渦流形成体３で第１の渦流δ１の外周り（外側）重ねて、第１の渦流δ１と同一回転方向ε１の第２の渦流δ２を形成（発生）することで、液体中の空気を微細に粉砕（剪断）でき、十分な量（多数量）のマイクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡（ウルトラファンバブル）を液体に混入、溶込ませることができる。
バブル発生装置Ｘは、図１９乃至図２１に示すように、シャワーヘッドＹに適用できる。
なお、図１９乃至図２１において、図１乃至図１８と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
なお、図１９乃至図２１において、図１乃至図１８と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
図１９及び図２１において、バブル発生装置Ｘは、シャワーヘッドＹ及び液体管Ｚに連結されて、気泡混入液体をシャワーヘッドＹに流出する。
シャワーヘッドＹは、図１９乃至図２１に示すように、シャワー本体７１、シャワー筒部７２、散水ノズル７３、シャワー流通穴７４、及びシールリング７６を有する。
シャワー筒部７２は、図２０及び図２１に示すように、例えば、円筒状に形成される。シャワー筒部７２は、シャワー本体７１の一方のシャワー端７１Ａに連続し、シャワー本体７１と一体に形成される。
シャワー筒部７２は、シャワー本体７１の一方のシャワー端７１Ａ（シャワー端面）から縮径して形成される。シャワー筒部７２は、一方のシャワー端７１Ａから突出して形成される。
シャワー筒部７２は、シャワー雄ネジ７５（シャワー雄ネジ部）を有する。シャワー雄ネジ７５は、シャワー筒部７２の筒外周（筒外周面）に形成される。
シャワー筒部７２は、シャワー本体７１の一方のシャワー端７１Ａ（シャワー端面）から縮径して形成される。シャワー筒部７２は、一方のシャワー端７１Ａから突出して形成される。
シャワー筒部７２は、シャワー雄ネジ７５（シャワー雄ネジ部）を有する。シャワー雄ネジ７５は、シャワー筒部７２の筒外周（筒外周面）に形成される。
散水ノズル７３は、図１９及び図２０に示すように、シャワー本体７１の他方のシャワー端７１Ｂに配置される。散水ノズル７３は、他方のシャワー端７１Ｂにおいて、シャワー本体７１に取付けられる。散水ノズル７３は、複数の散水絞り穴７７（散水穴）を有する。
シャワー流通穴７４は、図２０に示すように、シャワー本体７１に形成される。シャワー流通穴７４は、シャワー本体７１を貫通して、シャワー筒部７２の筒端７２Ａに開口して、散水ノズル７３の各散水絞り穴７７に連通される。
シールリング７６は、合成ゴム等の弾性材で形成される。シールリング７６は、図２０に示すように、筒端７２Ａからシャワー筒部７２に外嵌されて、シャワー本体７１の一方のシャワー端７１Ａ側に配置される。
液体管Ｚ（液体管ユニット／液体管体）は、図１９及び図２１に示すように、シャワーホース８１、及びホース接続具８２を有する。
シャワーホース８１は、例えば、可撓性ホースで形成される。
ホース接続具８２は、シャワーホース８１に摺動自在に外嵌されて、シャワーホース８１に取付けられる。ホース接続具８２は、シャワーホース８１に連通される接続穴８３を有する。ホース接続具８２は、接続雌ネジ８４（雌ネジ部）を有し、接続雌ネジ８４は、接続穴８３の穴内周に形成される。
バブル発生装置Ｘは、図１９及び図２１に示すように、シャワーヘッドＸ及び液体管Ｚの間に配置される。
シャワーヘッドＹは、バルブ発生装置Ｘの流出口９側に配置され、液体管Ｚは、バブル発生装置Ｘの流入口８側に配置される。
シャワーヘッドＹは、バルブ発生装置Ｘの流出口９側に配置され、液体管Ｚは、バブル発生装置Ｘの流入口８側に配置される。
シャワーヘッドＹは、図２１に示すように、一方のシャワー端７１Ａ（シャワー筒部７２）からバブル発生装置Ｘ（液流路筒本体７）に装着される。
シャワーヘッドＹは、シャワー筒部７２を、バブル発生装置Ｘの流出口９から螺入（螺着）して液流路筒本体７（液流路体１）に取付けられる。シャワー筒部７２は、図２１に示すように、シャワー雄ネジ７５を液流出穴１３の雌ネジ１４に螺入して、バブル発生装置Ｘ（液流路筒本体７）に取付けられる。シャワーヘッドＹは、シールリング７６を液流出穴１３に圧接して、バブル発生装置Ｘ（液流路体１／液流路筒本体７）に液密に取付けられる。
これにより、シャワーヘッドＹにおいて、シャワー流通穴７４は、バブル発生装置Ｘ（液流路体１）の液流路穴１０（液流入穴１２、液流出穴１３）に連通される。散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）は、シャワー流通穴７４を通して、バブル発生装置Ｘ（液流路体１）の液流路穴１０（液流入穴１２及び液流出穴１３）に連通される。
シャワーヘッドＹは、シャワー筒部７２を、バブル発生装置Ｘの流出口９から螺入（螺着）して液流路筒本体７（液流路体１）に取付けられる。シャワー筒部７２は、図２１に示すように、シャワー雄ネジ７５を液流出穴１３の雌ネジ１４に螺入して、バブル発生装置Ｘ（液流路筒本体７）に取付けられる。シャワーヘッドＹは、シールリング７６を液流出穴１３に圧接して、バブル発生装置Ｘ（液流路体１／液流路筒本体７）に液密に取付けられる。
これにより、シャワーヘッドＹにおいて、シャワー流通穴７４は、バブル発生装置Ｘ（液流路体１）の液流路穴１０（液流入穴１２、液流出穴１３）に連通される。散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）は、シャワー流通穴７４を通して、バブル発生装置Ｘ（液流路体１）の液流路穴１０（液流入穴１２及び液流出穴１３）に連通される。
液体管Ｚは、図２１に示すように、ホース接続具８２の接続雌ネジ８４にバブル発生装置Ｘ（液流路体１）の雄ネジ７Ｄを螺入（螺着）して、バブル発生装置Ｘ（液流路筒本体７）に取付けられる。
これにより、シャワーホース８１は、ホース接続具８２の接続穴８３を通して、バブル発生装置Ｘの液流路穴１０（液流入穴１２）に液密に連通される。
これにより、シャワーホース８１は、ホース接続具８２の接続穴８３を通して、バブル発生装置Ｘの液流路穴１０（液流入穴１２）に液密に連通される。
バブル発生装置ＸにシャワーヘッドＹ及び液体管Ｚを取付けると、液体供給源（図示しない）から液体をシャワーホース８１に流入（給水）する。液体は、シャワーホース８１を流れて、バブル発生装置Ｘの流入口８から液流路穴１０（液流入穴１２）に流入される。
バブル発生装置Ｘは、液体を液流入穴１２に流入すると、図１乃至図１８で説明したと同様に、第１及び第２の渦流形成体２，３にて、液流出穴１３、シャワー流通穴７４の液体に、第１の渦流δ１及び第２の渦流δ２を形成（発生）する。
これにより、液流出穴１３の液体、シャワー流通穴７４の液体に、十分な量（多数量）のマクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）を混入、溶込ませる。
気泡混入液体は、バブル発生装置Ｘの流出口９からシャワーヘッドＹのシャワー流通穴７４に流出される。
シャワー流通穴７４に流入した気泡混入液体は、シャワー流通穴７４を流れて、散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）から噴出（噴射）される。
これにより、シャワーヘッドＸは、散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）から気泡混入液体を噴出（噴射）できる。
バブル発生装置Ｘは、液体を液流入穴１２に流入すると、図１乃至図１８で説明したと同様に、第１及び第２の渦流形成体２，３にて、液流出穴１３、シャワー流通穴７４の液体に、第１の渦流δ１及び第２の渦流δ２を形成（発生）する。
これにより、液流出穴１３の液体、シャワー流通穴７４の液体に、十分な量（多数量）のマクロ単位の気泡（マイクロバブル）及び十分な量（多数量）のナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）を混入、溶込ませる。
気泡混入液体は、バブル発生装置Ｘの流出口９からシャワーヘッドＹのシャワー流通穴７４に流出される。
シャワー流通穴７４に流入した気泡混入液体は、シャワー流通穴７４を流れて、散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）から噴出（噴射）される。
これにより、シャワーヘッドＸは、散水ノズル７３（各散水絞り穴７７）から気泡混入液体を噴出（噴射）できる。
バブル発生装置Ｘは、シャワーヘッドＹに適用する他に、噴射ノズルに直接、連結しても良く、水栓に連結しても良い。
次に、バブル発生装置Ｘの他の実施形態について、図２２を参照して説明する。
図２２において、図１乃至図１８と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
図２２において、図１乃至図１８と同一符号は、同一部材、同一構成であるので、その詳細な説明は省略する。
図２２において、バブル発生装置Ｘは、図１乃至図１８で説明したと同様に、液流路体１、第１の渦流形成体２、第２の渦流形成体３、及びカートリッジ保持体４を備える。
バブル発生装置Ｘは、脱塩素用カートリッジＣＴ（液体処理カートリッジ／水処理カートリッジ）を備える。脱塩素用カートリッジＣＴは、渦流形成本体２１（渦流形成部２８）及び流入口８の間の液流入穴１２（カートリッジ収納空間ＣＪ）内に配置される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、液流入穴１２において、メッシュ板６１及びキャップ６２の間に配置される。
バブル発生装置Ｘは、脱塩素用カートリッジＣＴ（液体処理カートリッジ／水処理カートリッジ）を備える。脱塩素用カートリッジＣＴは、渦流形成本体２１（渦流形成部２８）及び流入口８の間の液流入穴１２（カートリッジ収納空間ＣＪ）内に配置される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、液流入穴１２において、メッシュ板６１及びキャップ６２の間に配置される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、カートリッジケース９１、及び液体処理層９２（水処理層）を備える。
カートリッジケース９１は、外ケース本体９３、内ケース本体９４、複数（一対）のケース蓋９５，９６を有する。
外ケース本体９３は、例えば、円筒状に形成される（外円筒ケース本体９３）。内ケース本体９４は、外ケース本体９３より小径の円筒状に形成される（内円筒ケース本体９４）。
内ケース本体９４は、外ケース本体９３内に収納（挿入）されて、外ケース本体９３と同心に配置される。
内ケース本体９４は、外ケース本体９３内に収納（挿入）されて、外ケース本体９３と同心に配置される。
各ケース蓋９５，９６（ケース上蓋９５、ケース下蓋９６）は、例えば、円環状の蓋板であって、外ケース本体９３の各筒端及び内ケース本体９４の各筒端において、外ケース本体９３の筒内周及び内ケース本体９４の筒外周の間を閉塞して、外ケース本体９３及び内ケース本体９４に取付けられる。
これにより、カートリッジケース９１は、各ケース本体９３，９４及び各ケース蓋９５，９６にて区画（形成）された処理層収納空間ＥＰ（収納空間）を有する。
これにより、カートリッジケース９１は、各ケース本体９３，９４及び各ケース蓋９５，９６にて区画（形成）された処理層収納空間ＥＰ（収納空間）を有する。
各ケース蓋９５，９６は、複数の蓋液穴９７を有し、各蓋液穴９７は、各ケース蓋９５，９６を貫通して、収納空間ＥＰに連通（開口）される。
液体処理層９２は、カートリッジケース９１の処理層収納空間ＥＰに収納される。液体処理層９２（浄化材）は、液体が通過可能（通過自在）として処理層収納空間ＥＰに収納される。
液体処理層９２は、液体（水）の接触によって水質を変える浄化材等である。浄化材は、脱塩素機能を有する材質（材料）であって、例えば、亜硫酸カルシウム、アスコルビン酸、活性炭素等である。浄化材は、液体（水）から塩素を除去する。
液体処理層９２は、液体（水）の接触によって水質を変える浄化材等である。浄化材は、脱塩素機能を有する材質（材料）であって、例えば、亜硫酸カルシウム、アスコルビン酸、活性炭素等である。浄化材は、液体（水）から塩素を除去する。
脱塩素用カートリッジＣＴは、外ケース本体９３の筒外周９３Ａ（筒外周面）を液流入穴１２の穴内周１２Ａ（液流路穴１０の穴内周１０Ａ）に接触（当接）して、液流入穴１２内に配置（挿入）される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、内ケース本体９４内に渦流形成本体２１の支持軸３０を貫通して、支持軸３０に外嵌される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、メッシュ板６１及びキャップ６２の間のカートリッジ収納空間ＣＪに配置される。脱塩素用カートリッジＣＴは、カートリッジ収納空間ＣＪにおいて、ケース上蓋９５をメッシュ板６１に当接し、ケース下蓋９６をキャップ６２に当接して、メッシュ板６１及びキャップ６２（カートリッジ保持体４）にて挟まれて保持される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、内ケース本体９４内に渦流形成本体２１の支持軸３０を貫通して、支持軸３０に外嵌される。
脱塩素用カートリッジＣＴは、メッシュ板６１及びキャップ６２の間のカートリッジ収納空間ＣＪに配置される。脱塩素用カートリッジＣＴは、カートリッジ収納空間ＣＪにおいて、ケース上蓋９５をメッシュ板６１に当接し、ケース下蓋９６をキャップ６２に当接して、メッシュ板６１及びキャップ６２（カートリッジ保持体４）にて挟まれて保持される。
図２２において、液体は、液流路体１の流入口８から液流入穴１２（液流路穴１０）に流入され、キャップ６２の各キャップ液穴６８、及びケース下蓋９６の各蓋液穴９７を通って、脱塩素用カートリッジＣＴの液体処理層９２（処理層収納空間ＥＰ）に流入する。
液体は、水処理層９２内を流れ、浄化材にて塩素が除かれて、ケース上蓋９５の各蓋液穴９７、メッシュ板６１の各メッシュ液穴６４を通って、液流入空間Ｈに流入する。
これにより、バブル発生装置Ｘは、脱塩素の気泡混入液体を流出口９から流出できる。
なお、脱塩素用カートリッジＣＴは、キャップ６２を支持軸３０から取外して、カートリッジケース９１を流入口８に向けて引くことで液流入穴１２及び支持軸３０から取出すことができ、新しい脱塩素用カートリッジＣＴと交換可能である。
液体は、水処理層９２内を流れ、浄化材にて塩素が除かれて、ケース上蓋９５の各蓋液穴９７、メッシュ板６１の各メッシュ液穴６４を通って、液流入空間Ｈに流入する。
これにより、バブル発生装置Ｘは、脱塩素の気泡混入液体を流出口９から流出できる。
なお、脱塩素用カートリッジＣＴは、キャップ６２を支持軸３０から取外して、カートリッジケース９１を流入口８に向けて引くことで液流入穴１２及び支持軸３０から取出すことができ、新しい脱塩素用カートリッジＣＴと交換可能である。
本発明は、マクロ単位の気泡（マイクロバブル）、及びナノ単位の気泡（ウルトラファインバブル）を液体に混入、溶込ませるのに最適である。
Ｘ バブル発生装置
１ 液流路体
２ 第１の渦流形成体（第１の渦流発生体）
３ 第２の渦流形成体（第２の渦流発生体）
８ 流入口
９ 流出口
１０ 液流路穴
１２ 液流入穴
１３ 液流出穴
δ１ 第１の渦流
δ２ 第２の渦流
ε１ 回転方向（渦流の回転方向）
１ 液流路体
２ 第１の渦流形成体（第１の渦流発生体）
３ 第２の渦流形成体（第２の渦流発生体）
８ 流入口
９ 流出口
１０ 液流路穴
１２ 液流入穴
１３ 液流出穴
δ１ 第１の渦流
δ２ 第２の渦流
ε１ 回転方向（渦流の回転方向）
Claims (3)
- 流入口、流出口、前記流入口側の液流入穴及び前記流出口側の液流出穴が連続する液流路穴を有し、液体が前記流入口から前記液流路穴に流入し、及び前記液流路穴に流入した前記液体が前記流出口から流出する液流路体と、
前記液流入穴に配置される第１の渦流形成体と、
前記第１の渦流形成体及び前記流出口の間の前記液流路穴に配置される第２の渦流形成体と、を備え、
前記第１の渦流形成体は、
前記液流路穴の穴内周に間隔を隔てて前記液流路穴と同心に配置され、前記液流出穴に開口する渦流出口を有する渦流形成穴室と、
前記液流入穴及び前記渦流形成穴室に開口される液絞り穴と、を備え、
前記液絞り穴から前記液流入穴を流れる前記液体を前記渦流形成穴室に噴出して、前記渦流形成穴室及び前記液流出穴の前記液体に、前記液流路穴の穴中心線回りの第１の渦流れを形成し、
前記２の渦流形成体は、
前記液流路穴の穴内周及び前記渦流出口の間に配置され、前記液流入穴及び前記液流出穴に開口される液絞り流路穴を備え、
前記液絞り流路穴から前記液流入穴を流れる前記液体を、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間の前記液流路穴に噴出して、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間における前記液流出穴の前記液体に、前記第１の渦流と同一回転方向で前記液流路穴の穴中心線回りの第２の渦流を形成する
ことを特徴とするバブル発生装置。
- 前記第１の渦流形成体は、
前記液流路穴に液密に配置され、前記液流路穴を前記液流入穴及び前記液流出穴に区画する渦流形成本体と、
前記液流路穴と同心に配置され、前記液流路穴の穴内周に間隔を隔てて前記渦流形成本体に形成され、前記液流入穴側の穴室端を閉塞して前記液流入穴の穴中心線の方向に延在され、及び前記液流出穴に開口する渦流出口を有する渦流形成穴室と、
前記渦流形成本体に形成され、前記渦流形成本体を貫通して前記液流入穴及び前記渦流形成穴室に開口される複数の液絞り穴と、を備え、
前記各液絞り穴から前記液流入穴を流れる前記液体を前記渦流形成穴室に噴出して、前記渦流形成穴室及び前記液流出穴の前記液体に、前記渦流形成穴室の穴内周に沿った前記液流路穴の穴中心線回りの第１の渦流を形成する
ことを特徴とする請求項１に記載のバブル発生装置。 - 前記第２の渦流形成体は、
前記液流路穴の穴内周及び前記渦流出口の間に配置され、前記液流路穴の穴中心線回りの方向に間隔を隔てて前記渦流形成本体に形成され、前記渦流形成本体を貫通して前記液流入穴及び前記液流出穴に開口される複数の液絞り流路穴と、
前記渦流形成本体から突出して前記液流入穴に配置され、前記各液絞り流路穴の間に配置されて、前記液体を前記第１の渦流と同一回転方向に案内する複数の液流れガイドと、
を備え、
前記各液絞り流路穴から前記液流入穴を流れる前記液体を、前記渦流出口及び前記液流路穴の穴内周の間の前記液流出穴に噴出して、前記渦流出口及び前記液流路の穴内周の間における前記液流出穴の前記液体に、前記第１の渦流と同一回転方向であって、前記各液流れガイドに沿った前記液流路穴の穴中心線回りの第２の渦流を形成する
ことを特徴とする請求項２に記載のバブル発生装置。
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