JP2000182375A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
置を提供する。 【解決手段】本発明は多数個の入力受信器を有する半導
体メモリ装置に係り、基準電圧を伝送する配線141、
外部クロック信号CLKのデューティーサイクルを補正
して内部クロック信号PCLKを発生する遅延同期ルー
プ回路111、内部クロック信号PCLKに同期して外
部から入力されるデータIN1〜INnを配線141を
通して伝送される基準電圧Vrefと比較して、データ
IN1〜INnの電圧レベルを変換する多数個の入力受
信器IR1〜IRn、及び配線141にゲートが連結さ
れて遅延同期ループ回路111に印加される第1接地電
圧Vss1がソース/ドレーンに印加される少なくとも一
つのMOSキャパシタC1〜Cnを備えることによって、
多数個の入力受信器間の入力特性をほぼ同一にする。
Description
係り、特に多数個の入力受信器を有するラムバスDRAM
(Rambus DRAM)半導体装置に関する。
速化に伴って半導体メモリ装置のデータ処理速度も益々
速くなっており、半導体メモリ装置のデータ処理速度を
向上させようとする研究が活発に進められている。その
結果、ラムバスDRAM半導体装置が開発された。ラムバス
DRAM半導体装置は外部から入力されるデータの電圧レベ
ルをラムバスDRAM半導体装置に適するように変換させる
多数個の入力受信器を備えている。
電圧と比較する差動増幅部を備えている。差動増幅部
は、データによりゲーティング(gating)される第1NMOS
トランジスタと基準電圧によりゲーティングされる第2
NMOSトランジスタを備えている。多数個の入力受信器が
同時に動作する場合において、第2NMOSトランジスタの
ゲートとドレーン間に存在するオーバーラップキャパシ
タンス(Overlap Capacitance)が大きくなれば、基準電
圧は多数個の入力受信器が誤動作する程の電圧以上に変
動(fluctuation)する場合がある。
て現れる。特に、基準電圧が印加される箇所から遠く離
れた所に位置する入力受信器であるほど、この雑音のレ
ベルはさらに大きくなる。
ルが大きければ、多数個の入力受信器は相異なる入力特
性を有するようになって、多数個の入力受信器間のセッ
トアップタイム(Set-up Time)及びホールドタイム(Hold
Time)の差が甚だしくなる。セットアップタイムは、
クロック信号が遷移(transition)する前段階で有効なデ
ータが入力受信器に入力されていなければならない時間
であり、ホールドタイムは、有効なデータがクロック信
号が遷移された以後にも続けて維持されなければならな
い最小時間である。クロック信号に同期して多数個の入
力受信器が動作すると、基準電圧が印加される箇所から
遠く離れた所に位置する入力受信器のセットアップタイ
ム及びホールドタイムのマージン損失が大きくなる。こ
れが、ラムバスDRAM半導体装置の誤動作を誘発する恐れ
がある。
する技術的課題は、例えば、基準電圧とデータを入力す
る多数個の入力受信器を備える半導体メモリ装置におい
て、基準電圧の変動幅を減少させることにある。
るため、本発明に係る半導体メモリ装置は、基準電圧を
伝送する配線、外部クロック信号のデューティーサイク
ルを補正して内部クロック信号を発生する遅延同期ルー
プ回路、前記内部クロック信号に同期されて外部から入
力されるデータを前記配線を通して伝送される基準電圧
と比較して前記データの電圧レベルを変換する多数個の
入力受信器、及び前記配線にゲートが連結されて前記遅
延同期ループ回路に印加される第1接地電圧がソース/
ドレーンに印加される多数個のMOSキャパシタを備え
る。
置に備わる多数個の入力受信器間の入力特性はほぼ同一
になる。
び本発明の実施により達成される目的を十分に理解する
ためには本発明の望ましい実施の形態を例示する添付図
面及び添付図面に記載された内容を参照するべきであ
る。
ましい実施の形態を説明することによって、本発明を詳
しく説明する。各図面に提示された同一の参照符号は同
一の部材を示す。
るラムバスDRAM半導体装置を概略的に示したブロック図
である。図1を参照すると、本発明の望ましい実施の形
態によるラムバスDRAM半導体装置101は、多数個のパ
ッドpd1〜pdn、多数個の入力受信器IR1〜IRn、多数個
のMOSキャパシタ(MOS Capacitor)C1〜Cn、遅延同期ル
ープ回路(Delay Locked Loop)111、インタフェース
ロジック(Interface Logic)121及びメモリセルアレ
ー(Memory Cell Array)131を備える。
1電源電圧Vcc1、第1接地電圧Vss1、第2電源電圧Vc
c2及び第2接地電圧Vss2が入力される。パッドpd6を
通して基準電圧Vrefが外部から入力される。ここで、基
準電圧VrefはラムバスDRAM半導体装置101の内部で発
生して供給される場合もある。
を通して入力される外部クロック信号CLKに応答して内
部クロック信号PCLKを発生する。遅延同期ループ回路1
11は、外部クロック信号CLKのデューティーサイクル
(Duty Cycle)が50%より長い時及び短い時に、これを
50%に補正して内部クロック信号PCLKとして発生す
る。外部クロック信号CLKのデューティーサイクルが5
0%であれば、外部クロック信号CLKはそのまま内部クロ
ック信号PCLKとして出力される。遅延同期ループ回路1
11には第1電源電圧Vcc1と第1接地電圧Vss1が印加
される。
ッドpd7〜pdnを通して入力される外部データIN1〜INn
と基準電圧Vrefを入力して、内部クロック信号PCLKに同
期して外部データIN1〜INnの電圧レベルを内部回路1
21、131に適合した電圧レベルに変換する。多数個
の入力受信器IR1〜IRnには第2電源電圧Vcc2と第2接
地電圧Vss2が印加される。
〜Cnが連結されている。MOSキャパシタC1〜Cnは、各々
NMOSトランジスタで構成され、NMOSトランジスタのゲー
トは第1電極を構成し、NMOSトランジスタのソースとド
レーンは互いに接続されて第2電極を構成する。なお、
MOSキャパシタC1〜Cnは、各々PMOSトランジスタ、或い
は他の多様な形態で構成することができる。
41に連結され、MOSキャパシタC1〜Cnの第2電極には
遅延同期ループ回路111に印加される第1接地電圧Vs
s1が印加される。ここで、多数個の入力受信器IR1〜I
Rnに印加される第2接地電圧Vss2をMOSキャパシタC1
〜Cnの第2電極に印加する場合は、多数個の入力受信器
IR1〜IRnの動作特性が悪くなる。なぜなら、第2接地
電圧Vss2は遅延同期ループ回路111に印加される第
1接地電圧Vss1に比べてその変動幅が大きく、それに
よって多数個の入力受信器IR1〜IRnに印加される基準
電圧Vrefの変動幅も大きくなるためである。
は、配線141に連結される。このように、基準電圧Vr
efを伝送する配線141にMOSキャパシタC1〜Cnが連結
されることによって、MOSキャパシタC1〜Cnに、配線1
41を通して伝送される基準電圧Vrefに発生する雑音を
バイパス(bypass)させる。したがって、基準電圧Vrefの
変動幅は減少され、それによって入力受信器IR1〜IRn
の入力特性はかなり安定し、パッドpd6から遠く離れた
所に位置する入力受信器、例えば第n入力受信器IRnのセ
ットアップタイム及びホールドタイムのマージン損失も
減少される。
地電圧Vss1は、遅延同期ループ回路111に印加され
る第1接地電圧Vss1と同等或いはそれ以上の安定性を
有する接地電圧が印加されることが望ましい。また、本
発明の効果は、例えば、各入力受信器の近傍に各々少な
くとも一つのMOSキャパシタが連結される場合であって
も、多数個の入力受信器IR1〜IRnの特性に応じて少な
くとも一つのMOSキャパシタが配線141の特定の箇所
にのみ連結され場合であっても達成される。
の入力受信器IR1〜IRnから出力されるデータをメモリ
セルアレー131に格納し、メモリセルアレー131か
ら出力されるデータを複数個の入力受信器IR1〜IRnに
伝送する役割をする。
配線141に多数個のMOSキャパシタC1〜Cnを連結し、
MOSキャパシタC1〜Cnの第2電極に第1接地電圧Vss1
を印加することにより、多数個の入力受信器IR1〜IRn
に入力される基準電圧Vrefの変動幅は、図3に示された
ように、微少な電圧値以下に低減される。すなわち、基
準電圧Vrefの雑音は非常に減少される。したがって、第
1入力受信器IR1に入力される基準電圧Vrefや第n入力
受信器IRnに入力される基準電圧Vrefの大きさはほぼ同
等になり、多数個の入力受信器IR1〜IRnの入力特性が
ほぼ同一になって、多数個の入力受信器IR1〜IRn間の
セットアップタイム及びホールドタイムのマージン差も
低減される。
IRnとMOSキャパシタC1〜Cnは、ラムバスDRAM半導体装
置101のみならず、基準電圧Vrefと入力されるデータ
IN1〜INnとを比較してデータIN1〜INnの電圧レベルを
変換する入力受信器IR1〜IRnを具備する全ての半導体
メモリ装置に同様に適用することができる。
1を具体的に示す回路図である。図1に示された多数個
の入力受信器IR1〜IRnはすべて同一の構造及び作用を
有するので、ここでは代表的に第1入力受信器IR1に関
して説明する。図2を参照すると、第1入力受信器IR1
は、レベル変換器(Level Shifter)320、主増幅器3
22、キャパシタンス固定回路324及びスタティック
セル(static cell)を備える。
wing)幅を有する外部データIN1を入力し、基準電圧Vre
fと比較してCMOSレベルの入力信号D1、D2を出力す
る。入力信号D1、D2は互いに相補的な値を有する。レ
ベル変換器320は典型的な差動比較器である。トラン
ジスタQ5は、差動比較器の能動負荷として動作し、一
定の大きさの電流が差動比較器に流れるようにする。
時は、トランジスタQ3に流れる電流がトランジスタQ4
に流れる電流より大きい。したがって、入力信号D1が
入力信号D2より小さくなる。一方、外部データIN1が
基準電圧Vrefより小さい時は、トランジスタQ3に流れ
る電流がトランジスタQ4に流れる電流より小さい。こ
れにより、入力信号D1が入力信号D2より大きくなる。
の立上りエッジ(rising edge)でレベル変換器320か
らの入力信号D1、D2を取り込み、それらの信号を増幅
して、増幅された信号OUT1、OUT2を出力する。
に同期して動作する差動増幅器の構造を有する。内部ク
ロック信号PCLKが"ロー(low)"レベルである時、トラン
ジスタQ6、Q7、Q10がすべてターンオン(turn-on)さ
れて信号OUT1、OUT2が"ハイ(high)"レベルにプリチャ
ージ(Precharge)される。一方、内部クロック信号PCLK
が“ハイ”レベルに遷移すると、トランジスタQ15、Q
16がターンオンされる。そして、入力信号D1、D2の
状態によってトランジスタQ13、Q14の中いずれか一
つがターンオンされる。これによりトランジスタQ1
1、Q12の中いずれか一つがターンオンされて、増幅
された信号OUT1、OUT2の論理レベルが変わるようにな
る。
信号D2より大きい場合を説明する。この場合、トラン
ジスタQ13がトランジスタQ14より速くターンオンさ
れ、これによりトランジスタQ11のドレーン電圧がト
ランジスタQ12のドレーン電圧より速くプルダウンさ
れる。そして、トランジスタQ8〜Q10の作用によりト
ランジスタQ11、Q12のドレーンにおける電圧レベル
は安定化する。トランジスタQ11、Q12のドレーン電
圧レベルは増幅された信号OUT1、OUT2として出力され
る。外部データIN1が“ロー”レベルの時、信号OUT
1、OUT2は各々“ロー”、“ハイ”レベルを有する。
また、外部データIN1が“ハイ”レベルの際、信号OUT
1、OUT2は各々“ハイ”、“ロー”レベルを有する。
ティックセル326を主増幅器322の出力端に安定に
整合させるためのものである。キャパシタンス固定化回
路324はインバータI1、I2を含む。インバータI1
は信号OUT1を反転して出力し、インバータI2は信号OU
T2を反転して出力する。
2により増幅された信号OUT1、OUT2の論理状態を貯蔵
し、貯蔵された信号を出力するようになる。スタティッ
クセル326は前記主増幅器322から信号OUT1、OUT
2を受け入れ、受け入れた信号を保持し、保持した信号
を出力データDOとして出力する。信号OUT1、OUT2が
“ハイ”レベルにプリチャージされている間は、トラン
ジスタQ17〜Q20はすべてターンオフ(turn-off)状態
にある。内部クロック信号PCLKが“ハイ”レベルに遷移
された後、信号OUT1、OUT2の中いずれか一つが“ロ
ー”に変化すると、これによりトランジスタQ17、Q1
8の中いずれか一つとトランジスタQ19、Q20の中い
ずれか一つがターンオンされて、データがトランジスタ
Q21〜Q24で構成されたメモリセルに格納される。ス
タティックセル326の出力データDOは、外部データIN
1と反対の論理レベルを有する。
は、反転器(図示せず)により反転されて後段の回路に
供給される。ここで、外部データIN1が実際のデータで
あれば、スタティックセル326の出力データDOは、メ
モリセルアレー131を構成するメモリセルのうちアド
レスにより指定されるメモリセルに格納され、外部デー
タIN1が制御信号の場合には、出力データDOは、このよ
うな制御信号が必要な回路に供給される。
い実施の形態について、基準電圧の波形図を説明する。
まず、基準電圧Vrefは1.5ボルトで、内部クロック信
号PCLKは0〜3ボルトであると仮定する。従来技術のよ
うに、基準電圧Vrefを伝送する配線141にMOSキャパ
シタC1〜Cnを使用しない場合は、基準電圧311の変
動幅が非常に大きく、本発明の望ましい実施の形態のよ
うに、配線141にMOSキャパシタC1〜Cnを連結する場
合は、基準電圧331の変動幅は非常に小さくなること
が分かる。ここで、MOSキャパシタC1〜Cnに印加される
接地電圧Vss1を多数個の入力受信器IR1〜IRnに印加さ
れる接地電圧Vss2に変更した場合は、基準電圧321
の変動幅は従来技術による基準電圧311の変動幅より
は小さいが、本発明の望ましい実施の形態による基準電
圧331よりは大きくなる。したがって、より大きな効
果を達成するためには、例えば、MOSキャパシタC1〜Cn
に印加される接地電圧Vss1を、遅延同期ループ回路1
11に印加される第1接地電圧Vss1と同等或いはそれ
以上の安定性を有する接地電圧とすることが望ましい。
パシタC1〜Cnを、基準電圧Vrefを伝送する配線141
に連結し、MOSキャパシタC1〜Cnの接地電圧として、例
えば遅延同期ループ回路111に印加される接地電圧で
ある安定した接地電圧を用いることによって、多数個の
入力受信器IR1〜IRnに入力される基準電圧Vrefの雑音
を低減することができる。それによって、例えば、多数
個の入力受信器IR1〜IRnの入力特性がほぼ同一にな
り、多数個の入力受信器IR1〜IRn間のセットアップタ
イム及びホールドタイムのマージン差が低減される。
用語が用いられたが、これは単に本発明の理解を容易に
する目的で用いたに過ぎず、意味限定や特許請求範囲に
記載された本発明の技術的範囲を制限するために用いた
のではない。また、本技術分野の通常の知識を有する者
であれば、上記の実施の形態に多様な変形を加え、或い
は、均等な他の実施の形態を採用することが可能である
ことを理解されたい。したがって、本発明の真の技術的
範囲は、特許請求範囲の技術的思想により定まるべきで
ある。
動を抑えることができる。
AM半導体装置を概略的に示したブロック図である。
る。
いて、基準電圧の波形を比較した図面である。
Claims (6)
- 【請求項1】 基準電圧を伝送する配線と、 外部クロック信号のデューティーサイクルを補正して内
部クロック信号を発生する遅延同期ループ回路と、 前記内部クロック信号に同期して外部から入力されるデ
ータを前記配線を通して伝送される基準電圧と比較して
前記データの電圧レベルを変換する多数個の入力受信器
と、 前記配線にゲートが連結されて、前記遅延同期ループ回
路に印加される第1接地電圧がソース/ドレーンに印加
される少なくとも一つのMOSキャパシタと、 を備えることを特徴とする半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記第1接地電圧は、前記多数個の入力
受信器に印加される第2接地電圧より安定した電圧であ
ることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装
置。 - 【請求項3】 前記第1接地電圧と前記第2接地電圧
は、前記半導体メモリ装置の外部から入力されることを
特徴とする請求項2に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 前記半導体メモリ装置は、ラムバスDRAM
半導体装置であることを特徴とする請求項1に記載の半
導体メモリ装置。 - 【請求項5】 前記少なくとも一つのMOSキャパシタ
は、前記配線のうち、前記多数個の入力受信器の近い部
分又は特定の部分に連結されることを特徴とする請求項
1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項6】 前記基準電圧は、前記半導体メモリ装置
の外部又は内部から供給されることを特徴とする請求項
1に記載の半導体メモリ装置。
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- 1998-12-09 KR KR1019980053936A patent/KR100284740B1/ko not_active IP Right Cessation
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1999
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