JP2000173912A - 試料観察方法およびデバイス製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料上の所望の観察位置が観察野内に入って
いない場合にそのいち早い探索を可能にする。 【解決手段】 顕微鏡と相対的に移動可能な試料保持手
段に保持された試料の表面を該顕微鏡を介して観察する
ために、該顕微鏡による観察画像を撮像し記憶し表示す
る際、該試料と該顕微鏡とを相対的に移動して該試料表
面の前記観察画像に隣接するかまたは該観察画像の一部
を含む領域の画像である周辺画像を撮像および記憶し、
記憶した観察画像および周辺画像を合成して前記顕微鏡
の視野よりも広視野の画像を表示する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、試料観察方法に関
し、特に、コンピュータ端末を介して操作を行なう半導
体製造装置等のデバイス製造装置に適用して好適な試料
観察方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の半導体露光装置について、図１を
参照しながら説明する。同図において、ウエハ８はプリ
アライメント装置６により、おおまかな位置決めがされ
た後、ＸＹステージ１０上に搬送され、ＸＹステージ１
０上のウエハチャック９で真空吸着により保持される。
ＸＹステージ１０上に保持されたウエハ８上に焼付けら
れたパターンを顕微鏡４およびＴＶカメラ１７を通して
画像として取り込む。そして、画像記憶処理装置３内に
記憶されたアライメントマークのパターンと取り込んだ
画像とをパターンマッチングにより照合し、アライメン
トマークが検出された場合にはそのアライメントマーク
のずれ量を算出する。これら一連の処理を自動的に行な
う作業を自動アライメントと呼ぶ。

【０００３】自動アライメント処理時、取り込んだ画像
中に注目すべきマークが検出されなかった場合には、オ
ペレータがマニュアル操作でアライメントマークを探す
作業を行なう。この作業を手動アライメントと呼ぶ。手
動アライメント時オペレータは、顕微鏡４およびＴＶカ
メラ１７を経てモニタ１１に映し出される映像を見なが
ら、アライメントマークが顕微鏡４の視野に入るよう
に、コンピュータ端末７に付随するジョイスティック等
の入力手段を用いて、マスクステージやウエハステージ
の駆動操作を行なう。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ステッパな
どの半導体製造装置では、高倍率の顕微鏡をアライメン
トに使用するため、顕微鏡の視野範囲が必然的に狭くな
ると言う問題があった。従来の技術においては、撮像範
囲の狭い顕微鏡の映像をそのまま操作者に呈示していた
ので、手動アライメントを行なう操作者は、顕微鏡の狭
い像範囲に目的のマークが見えるまで、繰り返しステー
ジ駆動操作を行なう必要があった。したがって、手動ア
ライメントの作業時間、すなわち装置の一時停止時間が
長くなり、生産性を低下させる要因となっていた。

【０００５】また、本出願人により特開平９−１９９４
００号公報に開示された装置は、顕微鏡画像をコンピュ
ータ端末上に表示し、手動アライメントの操作性向上を
図ったものであるが、顕微鏡視野が狭い場合には、やは
りオペレータは繰り返しステージ駆動操作を行なわねば
ならなかった。

【０００６】観察専用に低倍率の顕微鏡を装置上に設け
たり、顕微鏡倍率を低倍率に切り替える装置を設ける方
法も考えられるが、これは装置の製造コストの上昇につ
ながり、適当な方法ではない。

【０００７】本発明は、かかる問題に鑑みてなされたも
ので、試料上の所望の観察位置が観察視野内に入ってい
ない場合にこれをいち早く探索することが可能な試料観
察方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の試料観察方法は、顕微鏡と相対的に移動可能
な試料保持手段に保持された試料の表面を該顕微鏡を介
して観察するために、該顕微鏡による観察画像を撮像し
記憶し表示する際、該試料と該顕微鏡とを相対的に移動
して該試料表面の前記観察画像に隣接するかまたは該観
察画像の一部を含む領域の画像である周辺画像を撮像お
よび記憶し、記憶した観察画像および周辺画像を合成し
て前記顕微鏡の視野よりも広視野の画像を表示すること
を特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明によれば、顕微鏡の視野よりも広視野の
画像を表示するため、観察対象物が顕微鏡の視野内に無
い場合でも、容易に探索することができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の一形態に
係る試料観察方法は、試料を保持するための試料保持手
段と、試料表面を観察する顕微鏡と、該顕微鏡による観
察画像を記憶し演算処理により画像データを加工するた
めの画像記憶演算手段と、該観察画像データを操作者に
呈示するための画像表示手段と、該試料保持手段あるい
は顕微鏡位置を移動させる駆動手段とを有する半導体製
造装置に適用され、顕微鏡の視野範囲の画像とその周辺
の観察画像を得るための、試料保持手段あるいは顕微鏡
の座標位置を算出する撮像位置算出工程と、前記撮像位
置算出工程により得られた複数の座標位置に自動的に前
記試料保持手段あるいは顕微鏡の位置を移動し、各座標
位置において顕微鏡の観察画像を撮影し、得られた複数
の観察画像を記憶する繰り返し撮像工程と、前記繰り返
し撮像工程により得られた複数の観察画像データを合成
し、顕微鏡の視野範囲より広範囲の観察画像データを出
力する画像処理工程と、前記画像処理工程により得られ
た広範囲の観察画像データを走査者に呈示する広視野画
像表示工程とを有することを特徴とする。

【００１１】また、本発明の好ましい実施の他の形態に
係る試料観察方法は、試料を保持するための試料保持手
段と、試料表面を観察する顕微鏡と、該顕微鏡による観
察画像を記憶し、演算処理により画像データを加工する
ための画像記憶演算手段と、該観察画像データを操作者
に呈示するための画像表示手段と、該試料保持手段ある
いは顕微鏡位置を駆動させる駆動手段と、前記画像表示
手段の表示面上の小領域を操作者が指示するための入力
手段とを有する半導体製造装置に適用され、顕微鏡の視
野範囲の画像とその周辺の観察画像を得るための試料保
持手段あるいは顕微鏡の座標位置を算出する撮像位置算
出工程と、前記撮像位置算出工程により得られた複数の
座標位置に自動的に試料保持手段あるいは顕微鏡の位置
を移動し、各座標位置において顕微鏡の観察画像を撮影
し、得られた複数の観察画像を記憶する繰り返し撮像工
程と、前記繰り返し撮像工程により得られた複数の観察
画像データを合成し、顕微鏡の視野範囲より広範囲の観
察画像データを出力する画像処理工程と、前記画像処理
工程により得られた広範囲の観察画像データを操作者に
呈示する広視野画像呈示工程と、前記広範囲の観察画像
データ上の操作者が指定した座標に対応する位置を前記
顕微鏡で観察できるように、顕微鏡あるいは試料保持手
段を移動させるための駆動量を計算する、次観察位置算
出工程とを有することを特徴とする。

【００１２】上述の構成において、前記画像処理工程
は、前記広範囲の観察画像データを画像表示手段で表示
可能なように、解像度を下げることが好ましい。

【００１３】上記実施形態に係る試料観察方法が適用さ
れた半導体製造装置では、手動アライメント時、ステー
ジ位置もしくは顕微鏡位置を、顕微鏡の視野範囲分のス
テップで複数回ステップ駆動し、各位置でＴＶカメラに
よりウエハ上を撮像する。撮像により得られた画像をつ
なぎ合わせ、広視野画像を作成し、これを操作者に呈示
する。これにより、操作者は、顕微鏡の撮像範囲より広
い領域を観察しながら、手動検出作業を行なうことがで
き、手動アライメント作業の操作効率が向上する。

【００１４】

【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 （実施例１）図１は本発明の一実施例に係る半導体製造
装置の概略を示すブロック図である。同図において、１
はレチクル、２は縮小投影レンズ、３は画像記憶演算装
置、４は顕微鏡、５は中央演算処理装置、６はプリアラ
イメント装置、７は中央演算処理装置５の演算結果の呈
示や操作者からのコマンド入力などに用いるコンピュー
タ端末、８はウエハ、９はウエハチャック、１０はＸＹ
ステージ、１１は顕微鏡４からの画像を直接観察するた
めの表示手段であるモニタ、１７はＴＶカメラである。

【００１５】図２は、本発明の図１の装置において自動
アライメント処理時、取り込んだ画像中に注目すべきマ
ークが検出されなかった場合、自動的に、またはオペレ
ータが手動アライメントを選択した場合、その選択に応
じて、行なわれる試料観察処理の流れを示す工程図であ
る。本実施例の試料観察処理は大きく分けて４つの工程
からなる。各々、撮像位置計算工程（図２のＳ２０
１）、繰り返し撮像工程（Ｓ２０２）、画像処理工程
（Ｓ２０３）、および広視野画像呈示工程（Ｓ２０４）
である。

【００１６】撮像位置計算工程Ｓ２０１では、顕微鏡の
視野範囲外の周辺部の画像を撮影するために、ＸＹステ
ージを駆動する座標の計算を行なう。図３は、ウエハ８
を顕微鏡４で観察するときの模式図である。図３におい
て、１２は顕微鏡の視野範囲である。視野範囲をステー
ジ上の座標に換算したときの、Ｘ方向の視野範囲をＬ
ｖ、Ｙ方向の視野範囲をＬｈとする。自動アライメント
から手動アライメントに切り替わった直後のステージ座
標位置を（Ｘ０，Ｙ０）としたとき、周辺画像撮影のた
めのステージ位置として、例えば次のように選ぶことが
可能である。

【００１７】

【表１】 撮像位置計算工程Ｓ２０１では、このような座標の組合
せを計算し、その座標位置を中央制御装置５に記憶して
おく。本実施例では、視野範囲の周辺３×３の領域を撮
影するように決めたが、この撮影領域の大きさを変えて
計算しても良い。

【００１８】繰り返し撮像工程Ｓ２０２では、撮像位置
計算工程Ｓ２０１で計算した各座標位置にＸＹステージ
を駆動し、各座標位置で画像の取り込みを行なう。この
工程Ｓ２０２で得られた、複数の画像データを中央制御
装置５に記憶する。

【００１９】なお本実施例では、ＸＹステージを駆動し
て、指定された座標位置に顕微鏡中心を合わせるように
記述するが、顕微鏡自身が駆動できる構造であれば、顕
微鏡または顕微鏡とＸＹステージの双方を駆動して指定
された座標位置に顕微鏡中心を合わせるような仕組みに
しても、もちろん構わない。

【００２０】画像処理工程Ｓ２０３では、撮像位置計算
工程Ｓ２０１で算出した座標位置情報を用いて、繰り返
し撮像工程Ｓ２０２で得られた複数の画像を張り合わ
せ、１枚の広視野画像を作成する。

【００２１】広視野画像呈示工程Ｓ２０４では、繰り返
し撮像工程Ｓ２０２で得られた広視野画像を、コンピュ
ータ端末７のディスプレイ上に表示する。コンピュータ
端末の表示サイズに合わせるために、画像処理工程Ｓ２
０３で得た画像データの解像度や表示倍率を下げてもも
ちろん構わない。

【００２２】図４は、本実施例の方法を用いて手動アラ
イメント操作を行なう場合の、コンピュータ端末７とモ
ニタ１１の表示の例である。図中、１３は図２の処理を
経て表示された広視野画像である。１４はジョイスティ
ックで、これをタッチパネルやマウス等の入力手段を用
いて操作することで、ＸＹステージを駆動させる。

【００２３】１５は広視野画像更新ボタンで、オペレー
タがこれを選択したとき、図２の処理を行ない、広視野
画像を更新するようにしておく。１６はマーク確認ボタ
ンで、オペレータがモニタ視野内にアライメントマーク
を追い込むことが出来たことを確認するためのボタンで
ある。オペレータがこのボタンを押下したとき、アライ
メントマークの自動検出処理を行ない、もしアライメン
トマークが検出できれば、自動アライメント処理に切り
替わるようにしておく。

【００２４】このようなグラフィックユーザーインター
フェースをコンピュータ端末７上に実現すれば、オペレ
ータはモニタ１１と広視野画像とを観察しながら、アラ
イメントマークの探索を行なうことができる。

【００２５】本実施例の処理を行なえば、高倍率の顕微
鏡を用いてウエハ上を観察する際にも、広い視野の観察
画像をオペレータに呈示することが可能となり、オペレ
ータはモニタ１１の周辺の様子を容易に理解できるよう
になり、手動アライメントの作業効率が向上する。

【００２６】（実施例１の変形例）実施例１の広視野画
像呈示工程Ｓ２０４においては、コンピュータ端末７の
ディスプレイ上に広視野画像を呈示するようにし、オペ
レータはモニタ１１の映像と、広視野画像１３の両方を
見ながらアライメントマークの探索を行なうようにし
た。この場合、オペレータがジョイスティック１４によ
りステージ位置を操作した時点では、広視野画像１３は
更新されない。ステージ移動の後、広視野画像を更新し
たい場合は、更新ボタン１５を押す必要がある。

【００２７】本変形例では、広視野画像１３の表示領域
の一部を、オペレータがタッチパネル、マウスなどの入
力手段で指示することにより、自動的に選択した部分を
中心とした広視野画像を新たに呈示するようにし、更な
る操作性の向上を実現する。

【００２８】本変形例の処理の流れを図５のフローチャ
ートを用いて説明する。ステップＳ５０１では、実施例
１の方法（図２の工程Ｓ２０１〜Ｓ２０４）で広視野画
像を作成する。ただし、Ｓ２０１の周辺画像撮影のため
のステージ座標を計算するとき、（Ｘ０，Ｙ０）は撮像
位置計算工程Ｓ２０１に入る直前のステージ位置として
計算を行なう。

【００２９】ステップＳ５０２はオペレータからの入力
待ち処理で、マウスやタッチパネルなどの入力手段を用
いてオペレータがコンピュータ端末７に表示された広視
野画像１３内の一点を指定したときステップＳ５０３に
進む。オペレータがマーク確認ボタン１６（図６参照）
を押した場合は、自動アライメント工程に進む。

【００３０】ステップＳ５０３では、広視野画像上のオ
ペレータが指示した点Ｐに対応するＸＹステージ座標の
位置を座標変換により計算する。具体的には、図６に示
すように、広視野画像上で顕微鏡視野域を１ｖ×１ｈ
（ｐｉｘｅｌ）で表わしたとき、点Ｐの広視野画像の中
心からの相対座標を（ｘｐ，ｙｐ）［ｐｉｘｅｌ］とす
ると、点Ｐに対応する位置に顕微鏡の視野中心がくるよ
うにするためのステージ駆動量（ΔＸ、ΔＹ）は、 ΔＸ＝ｘｐ×（Ｌｈ／１ｈ） ΔＹ＝ｙｐ×（Ｌｖ／１ｖ） となる。

【００３１】ステップＳ５０４では、前ステップで得ら
れたステージ駆動量に応じてＸＹステージを駆動する。
駆動後は、Ｓ５０１に戻り、Ｓ５０４でオペレータが確
認ボタン１６を押すまで、一連の処理を繰り返す。

【００３２】このような処理を行なえば、オペレータは
入力手段によりコンピュータ端末７上の点を指示するだ
けで、指示した点を中心とした広視野画像を自動的に得
ることが出来る。また、オペレータはモニタ１１の映像
を同時に観察する必要が無くなるので、手動アライメン
トの作業効率をより向上させることが可能となる。

【００３３】（デバイス生産方法の実施例）次に上記説
明した試料観察方法を適用した露光装置を利用したデバ
イスの生産方法の実施例を説明する。図７は微小デバイ
ス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣ
Ｄ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフロ
ーを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパタ
ーン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計
したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステ
ップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を
用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセ
ス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを
用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回
路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と
呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて
半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダ
イシング、ボンディング）、パッケージング工程（チッ
プ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステ
ップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、
耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半
導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）され
る。

【００３４】図８は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明したアライメント装置を
有する露光装置によってマスクの回路パターンをウエハ
に焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウ
エハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像
したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。

【００３５】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。

【００３６】

【発明の効果】本発明によれば、顕微鏡の視野よりも広
視野の画像を表示するため、観察対象物が顕微鏡の視野
内に無い場合でも、容易に探索することができる。特
に、本発明を半導体製造装置等のデバイス製造装置にお
ける位置検出方法に適用すれば、手動アライメント作業
に、顕微鏡の視野範囲よりも広範囲の領域を観察しなが
ら作業を行なえるため、試料上のマークをいち早く探索
することが可能となり、装置の一時停止時間を短縮する
ことが出来、生産性を向上することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概
略を示すブロック図である。

【図２】 本発明の第１の実施例に係る試料観察処理の
流れを示す工程図である。

【図３】 図１の装置においてウエハを顕微鏡で観察し
た時の模式図である。

【図４】 図１の装置におけるコンピュータ端末７とモ
ニタ１１の表示例を示す図である。

【図５】 第１の実施例の変形例の処理の流れを示すフ
ローチャートである。

【図６】 実施例１の変形例におけるコンピュータ端末
７の表示と座標変換を説明する図である。

【図７】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。

【図８】 図７におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。

【符号の説明】

１：レチクル、２：縮小投影レンズ、３：画像記憶演算
装置、４：顕微鏡、５：中央演算処理装置、６：プリア
ライメント装置、７：コンピュータ端末、８：ウエハ、
９：ウエハチャック、１０：ＸＹステージ、１１：モニ
タ、１２：顕微鏡４の視野範囲、１３：広視野画像、１
４：ジョイスティック、１５：広視野画像更新ボタン、
１６：マーク確認ボタン、１７：ＴＶカメラ。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 顕微鏡と相対的に移動可能な試料保持手
   段に保持された試料の表面を該顕微鏡を介して観察する
   ために、該顕微鏡による観察画像を撮像し記憶し表示す
   る際、該試料と該顕微鏡とを相対的に移動して該試料表
   面の前記観察画像に隣接するかまたは該観察画像の一部
   を含む領域の画像である周辺画像を撮像および記憶し、
   記憶した観察画像および周辺画像を合成して前記顕微鏡
   の視野よりも広視野の画像を表示することを特徴とする
   試料観察方法。
2. 【請求項２】 試料を保持するための試料保持手段と、
   前記試料の表面を観察する顕微鏡と、該顕微鏡による観
   察画像を記憶し、演算処理により画像データを加工する
   ための画像記憶演算手段と、該観察画像データを操作者
   に呈示するための画像表示手段と、該試料保持手段と顕
   微鏡の位置を相対的に移動させる駆動手段とを有するデ
   バイス製造装置における試料観察方法であって、 前記観察画像の周辺の画像を得るための、試料保持手段
   または顕微鏡の座標位置を算出する撮像位置算出工程
   と、 前記撮像位置算出工程により得られた複数の座標位置に
   自動的に前記試料保持手段または顕微鏡の位置を移動
   し、各座標位置における顕微鏡の観察画像を前記周辺の
   画像として撮影し、得られた周辺画像を記憶する繰り返
   し撮像工程と、 前記繰り返し撮像工程により得られた周辺画像および前
   記観察画像を合成し、前記顕微鏡の視野範囲より広範囲
   の合成画像データを作成する画像処理工程と、 前記画像処理工程により得られた、前記顕微鏡の視野よ
   り広範囲の合成画像データを表示する広視野画像表示工
   程とを有することを特徴とする試料観察方法。
3. 【請求項３】 試料を保持するための試料保持手段と、
   前記試料の表面を観察する顕微鏡と、該顕微鏡による観
   察画像を記憶し、演算処理により画像データを加工する
   ための画像記憶演算手段と、該観察画像データを操作者
   に呈示するための画像表示手段と、該試料保持手段と顕
   微鏡の位置を相対的に駆動させる駆動手段と、前記画像
   表示手段の表示面上の小領域を操作者が指定するための
   入力手段とを有するデバイス製造装置における試料観察
   方法であって、 前記観察画像の周辺の画像を得るための、試料保持手段
   または顕微鏡の座標位置を算出する撮像位置算出工程
   と、 前記撮像位置算出工程により得られた複数の座標位置に
   自動的に前記試料保持手段または顕微鏡の位置を移動
   し、各座標位置における顕微鏡の観察画像を前記周辺の
   画像として撮影し、得られた周辺画像を記憶する繰り返
   し撮像工程と、 前記繰り返し撮像工程により得られた周辺画像および前
   記観察画像を合成し、前記顕微鏡の視野範囲より広範囲
   の合成画像データを作成する画像処理工程と、 前記画像処理工程により得られた、前記顕微鏡の視野よ
   り広範囲の合成画像データを表示する広視野画像表示工
   程と、 前記広範囲の合成画像データ上の操作者が指定した小領
   域に対応する位置を前記顕微鏡で観察できるように、前
   記顕微鏡または試料保持手段を移動させるための駆動量
   を計算する、次観察位置算出工程とを有することを特徴
   とする試料観察方法。
4. 【請求項４】 前記画像処理工程は、前記広範囲の合成
   画像データを画像表示手段で表示可能なように、解像度
   または表示倍率を下げることを特徴とする請求項２また
   は３に記載の試料観察方法。
5. 【請求項５】 試料を保持するための試料保持手段と、
   該試料の表面を観察する顕微鏡と、該顕微鏡による観察
   画像を記憶し、演算処理により画像データを加工するた
   めの画像記憶演算手段と、該観察画像データを操作者に
   呈示するための画像表示手段と、該試料保持手段に対す
   る顕微鏡位置を駆動させる駆動手段とを有するデバイス
   製造装置において、 前記観察画像の周辺の画像を得るための、前記試料保持
   手段または顕微鏡の座標位置を算出する撮像位置算出手
   段と、 前記撮像位置算出手段により得られた複数の座標位置の
   各々に前記試料保持手段または顕微鏡の位置を移動し、
   各座標位置における前記顕微鏡の観察画像を前記周辺の
   画像として撮影し、得られた周辺画像を記憶する繰り返
   し撮像手段と、 前記繰り返し撮像手段により得られた周辺画像および前
   記観察画像を観察画像データを合成し、前記顕微鏡の視
   野範囲より広範囲の合成画像データを出力する画像処理
   手段と、 前記画像処理手段により得られた、広範囲の合成画像デ
   ータを操作者に呈示する広視野画像呈示手段とを有する
   ことを特徴とするデバイス製造装置。
6. 【請求項６】 前記画像表示手段の表示面上の小領域を
   操作者が指示するための入力手段と、前記広範囲の合成
   画像データ上の前記入力手段により指定された小領域を
   前記顕微鏡で観察できるように、顕微鏡あるいは試料保
   持手段を移動させるための駆動量を計算する、次観察位
   置算出手段とを、さらに有することを特徴とする請求項
   ５記載のデバイス製造装置。
7. 【請求項７】 前記画像処理手段は、前記広範囲の観察
   画像データを画像表示手段で表示可能なように、解像度
   または表示倍率を下げることを特徴とする請求項５また
   は６に記載のデバイス製造装置。
8. 【請求項８】 請求項５〜７のいずれかに記載のデバイ
   ス製造装置を用いてデバイスを製造することを特徴とす
   るデバイス製造方法。