JP2000172845A - 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体 - Google Patents

表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体

Info

Publication number
JP2000172845A
JP2000172845A JP10345360A JP34536098A JP2000172845A JP 2000172845 A JP2000172845 A JP 2000172845A JP 10345360 A JP10345360 A JP 10345360A JP 34536098 A JP34536098 A JP 34536098A JP 2000172845 A JP2000172845 A JP 2000172845A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
defect
image processing
image
inspected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10345360A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Yamaka
義博 山華
Hitoshi Kubota
整 久保田
Katsuichi Ono
勝一 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzuki Motor Corp
Original Assignee
Suzuki Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzuki Motor Corp filed Critical Suzuki Motor Corp
Priority to JP10345360A priority Critical patent/JP2000172845A/ja
Publication of JP2000172845A publication Critical patent/JP2000172845A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 誤検出、検出漏れの発生を低減するという検
査性能を損なうことなく、メモリ使用量を少なくするこ
とができると共に、検査時間を短縮することができる表
面欠陥検出装置を提供する。 【解決手段】 表面欠陥検査装置1は、照明手段7によ
り被検査面3の検査領域に検査光5を照射し、被検査面
3の検査領域の照明状態を変えながら撮像手段11で撮
像し、照明状態を変える毎に撮像した画像から得られた
濃度値に微分処理を施し、この微分処理の値を加算し、
この加算値と予め設定されたしきい値とを比較して被検
査面3の欠陥を決定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面欠陥検査装
置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを
記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関し、
特に被検査面を光学的手法をもって微小欠陥の有無を検
査するための表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び
表面欠陥検査用プログラムを記録したコンピュータ読み
取り可能な記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】自動車のボディ表面(塗装面)を撮像
し、撮像した画像に対して所定の画像処理を施し、この
画像処理の結果に基づきボディ表面の欠陥を検出する手
法として、種々のものが提案されている。また、複数の
画像を用いて誤検出、検出漏れの発生を低減するための
手法が提案されている。この手法としては、例えば、特
開平8−145906号公報に記載されているものなど
がある。特開平8−145906号公報に記載されてい
る表面欠陥検査装置は、図7に示すように、スリットパ
ターンを形成することができる照明手段57を用いた装
置である。
【0003】この表面欠陥検査装置では、具体的には、
撮像手段61に対して被検査物の被検査面53を移動さ
せ、任意の時刻毎に撮像手段61で撮像した画像を画像
処理手段95に入力し、画像処理手段95で、入力した
互いに撮像時刻が異なる複数枚の画像から欠陥候補点を
抽出する。そして、被検査面53(被検査物)の移動量
Dと欠陥候補点dの移動量とを比較して欠陥の真偽を判
定する。以下、図7に示すように、これを連続的に実行
するようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
8−145906号公報の表面欠陥検査装置では、異な
る時刻の画像から抽出した欠陥候補点を保持するので、
多数の欠陥候補点が抽出される場合を想定して欠陥候補
点を保持するためのメモリに大容量のメモリを必要とし
ている。また、欠陥候補点の数が増すほど、移動量の読
込み、及び欠陥候補点の移動量と被検査面の移動量との
比較などの処理が検査時間を長引かせるという不都合が
生じる。
【0005】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに、誤検出や検出漏れ等の発生を低減す
ると共にメモリ使用量を少なくし且つ検査時間を短縮す
ることを可能とした表面欠陥検出装置及び表面欠陥検出
装置、更に表面欠陥検査用プログラムを記録したコンピ
ュータ読み取り可能な記録媒体を提供することを、その
目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1乃至5記載の各発明では、被検査面に対し
て照明状態を変更可能に検査光を照射する照明手段と、
被検査面を撮像する撮像手段と、この撮像手段で撮像さ
れた被検査面の画像に基づいて当該被検査面の欠陥を抽
出する画像処理手段とを備えている。そして、画像処理
手段は、前述した撮像手段で互いに異なる照明状態で撮
像された被検査面の画像のそれぞれに対して欠陥部分を
強調するための処理を施す第1の画像処理機能と、この
第1の画像処理機能が作動して各画像毎に得られる画像
処理の結果を加算して前述した被検査面の欠陥およびそ
の座標位置を抽出する第2の画像処理機能とを備えてい
る、という構成を採っている。
【0007】このため、前述した被検査面に欠陥が存在
すると、この欠陥において光が乱反射し、この欠陥部分
の光強度は周囲の部分の光強度と大きく異なるので、光
強度の変化を含む画像が撮像手段により得られる。
【0008】そして、異なる照明状態で撮像された一定
の検査領域の画像のそれぞれに対して欠陥部分を強調す
るための画像処理を施し、各画像毎に得られた画像処理
の結果を加算して検査領域の欠陥を抽出する。即ち、各
画像毎に得られた光強度の変化が大きい部分を強調して
加算することによって、欠陥の光強度が雑音に対して相
対的に強化され、これによって誤検出,検出漏れの発生
を低減することが可能となる。この欠陥の抽出において
は、画像処理の結果を加算するだけなので当該計算を簡
単かつ高速に行うことができ、このため、検査時間が短
くなる。また、各画像毎にその画像処理の結果を順次加
算値に加えるようにしたので、メモリ使用量が少なくな
る。
【0009】ここで、前述した第1の画像処理機能は、
互いに異なる照明状態で撮像された被検査面の画像から
得られる濃度値情報に対して微分処理を施す微分処理機
能とし、又前述した第2の画像処理機能は、各濃度値情
報の微分処理により得られる微分値を加算すると共にこ
の加算した値と予め設定されたしきい値とを比較して前
記被検査面の欠陥を抽出すると共にその座標位置を抽出
する欠陥抽出機能としてもよい。このようにすると、異
なる照明状態での画像のそれぞれにおける欠陥部分を、
適正に強調することができて都合がよい。
【0010】また、前述した照明手段は、相互に帯状に
分割された複数の光源ユニットからなる光源と、各光源
ユニットの点灯を切り換える切換機能を備えた照明制御
手段とを備えた構成とするとよい。このようにすると、
照明制御手段に制御されて各光源ユニットの点灯を切り
換えると、これに伴い被検査面における照明状態が迅速
に切り換わる。従って、所望の照明状態での被検査面を
撮像してその画像を即座に取り込むことが可能になり、
その結果、検査時間が短縮されることになる。
【0011】更に、前述した照明手段の照明制御手段
は、被検査面の照明状態が明部,明暗遷移部および暗部
となるように、光源ユニットの動作を制御するようにし
てもよい。このようにすると、撮像手段で撮像される検
査領域に対しては、それぞれ異なる光強度が含まれるよ
うに照明され、特に被検査面上の欠陥が明暗遷移部に位
置する場合においては、その明暗(コントラスト)が生
じ易く、欠陥をより鮮明に捕捉しやすくなる。
【0012】又、前述した画像処理手段については、少
なくとも異なる三つの照明状態での画像に基づいて前記
欠陥を抽出するようにするとよい。このように構成する
と、少なくとも異なる三つの照明状態における画像処理
の結果の加算値に基づき欠陥を抽出することになり、誤
検出や検出漏れの発生を大幅に少なく抑制することがで
きる。
【0013】請求項6乃至7記載の各発明では、被検査
面に検査光を照射する工程と、この検査光に照射された
前記被検査面を撮像する工程とを備え、この被検査面の
撮像情報に基づいて当該被検査面の欠陥を検出する表面
欠陥検査方法において、前述した被検査面の照明状態を
切り換えながらその都度当該被検査面を撮像する切換撮
像工程と、この撮像された被検査面の画像に対してその
都度欠陥部分を強調するための画像処理を施す画像処理
工程と、この切換撮像工程に対応して実行される画像処
理工程によって得られる画像処理の結果を加算する処理
データ加算工程と、この加算結果に基づいて前述した被
検査面の欠陥を抽出する欠陥検出工程とを備えている。
【0014】このため、この6乃至7記載の各発明でも
前述した請求項1記載の発明とどうように、被検査面に
おける欠陥の抽出に際しては、画像処理の結果を加算す
るための計算を簡単かつ高速に行うことができ、検査時
間が短くなる。また、各画像毎にその画像処理の結果を
順次加算値に加えるようにしたので、メモリ使用量が少
なくなり、且つ各工程を連続して設定し得るので、全体
の動作を円滑になし得るという利点がある。
【0015】ここで、前述した画像処理工程を、検査光
による照明状態を変える毎に得られる濃度値情報に微分
処理を施す工程とし、前述した処理データ加算工程は、
微分処理された濃度値情報を加算する工程とし、又、欠
陥検出工程は、処理データ加算工程で加算された値と予
め設定されたしきい値とを比較して前述した被検査面の
欠陥を決定し且つその座標情報を抽出する工程とすると
よい。このようにすることにより、より確実に且つ迅速
に画像情報の処理を実行することができる。
【0016】請求項8乃至9記載の表面欠陥検査用プロ
グラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
にかかる各発明では、被検査面に対して照明状態を変更
可能に検査光を照射するように照明手段を制御する照明
制御処理と、被検査面を撮像するように撮像装置を制御
する撮像制御処理と、この撮像装置により撮像した画像
に対して欠陥部分を強調するための画像処理等を施すた
めの画像処理手段を制御して該画像処理を実行可能とし
た表面欠陥検査用プログラムを備えている。更に、前述
した照明制御処理によって被検査面に対する照明状態を
変えながら撮像制御処理及び画像処理実行処理を所定回
数繰り返すように制御する繰返し制御処理と、この繰返
し毎に前述した画像処理の結果を加算する加算処理と、
この加算処理による画像処理の加算結果に基づいて被検
査面の欠陥を抽出する欠陥抽出処理とを可能とした表面
欠陥検査用プログラムを備えている、という構成を採っ
ている。
【0017】このため、これを所定のコンピュータに組
み込むことにより、当該コンピュータにより駆動制御さ
れる照明手段や撮像装置,更には画像処理手段等の各部
の動作を円滑に制御することが可能となり、前述した請
求項1記載の発明とほぼ同等の作用効果を得ることがで
きる。
【0018】ここで、前述した画像処理実行処理は、撮
像された被検査面の画像から得られた濃度値情報に微分
処理を施す処理からなり、又、前述した加算処理は、被
検査面の照明状態を変える毎に得られた濃度値情報に対
する微分処理の値を加算する処理からなり、更に、前述
した欠陥抽出処理は、加算した値と予め設定されたしき
い値とを比較して被検査面の欠陥を決定し座標上の位置
をと特定する処理からなるように構成するとよい。この
ようにすると、その処理を円滑に且つ高精度に実行する
ことができる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図面に基
づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態を示す全
体概略図である。この図1において、表面欠陥検査装置
1は、被検査物の被検査面3に対向して配設され、被検
査面3に対して所定の検査光5を照射する照明手段7を
備える。この照明手段7の近傍位置には、被検査面3か
らの反射光を受光して画像情報を生成する撮像手段11
が配設されている。この撮像手段11により生成された
画像情報はアナログ画像情報からなり、この画像情報は
所定の画像処理を行う画像処理手段45に入力され、所
定の工程にて信号処理される。また、これら手段の動作
は、主制御部18によって制御される。以下、これを詳
細に説明する。
【0020】[照明手段]前述した照明手段7は、図2
に示すように、前述した被検査面3に対して、明部,暗
部及び明暗遷移部を形成するように所定の検査光を照射
するスリット照明用光源8を有する。このスリット照明
用光源8は、図2に示すように、相互に分割された複数
の光源ユニットU1,U2,…,Unからなり、各光源
ユニットU1,…,Unは長方形状の平面上にマトリク
ス状に配置されている複数のLED素子21から構成さ
れている。
【0021】各光源ユニットU1,…,UnのLED素
子21の前面には、拡散板(図示せず)が配設され、こ
の拡散板によりLED素子21が発した光は僅かに拡散
されて被検査面3に照射される。各光源ユニットU1,
…,UnのLED素子21に対しては、そのオン/オフ
及びその光度が照明制御部34により制御される。この
ように構成された照明手段7を用いることにより、被検
査面3における明度が図3に示すように所定幅をもって
区画され且つ順次変化するように、当該照明状態を高速
に切り換えられるようになっている。
【0022】[撮像手段]次に、撮像手段11について
説明する。この撮像手段11は、被検査面3の表面から
反射された反射光を受光してアナログ信号として画像情
報を生成し出力するもので、例えば、撮像手段11をエ
リア型CCDカメラから構成することができる。尚、こ
の撮像手段11としてエリア型CCDカメラに限定され
ることはなく、被検査面3の画像を撮像可能なものであ
ればその種類は問われない。この撮像手段11で生成さ
れたアナログ画像情報は、画像処理手段45に取り込ま
れるようになっている。
【0023】[画像処理手段]画像処理手段45は、前
述した撮像手段11から取り込んだ画像に基づいて被検
査面3の欠陥を抽出するためのものである。この記画像
処理手段45は、前述した撮像手段11で互いに異なる
照明状態で撮像された被検査面3の画像のそれぞれに対
して欠陥部分を強調するための処理を施す第1の画像処
理機能と、この第1の画像処理機能が作動して各画像毎
に得られる画像処理の結果を加算して前述した被検査面
3の欠陥およびその座標位置を抽出する第2の画像処理
機能とを備えている。
【0024】ここで、この画像処理手段の第1の画像処
理機能は、互いに異なる照明状態で撮像された被検査面
3の画像から得られる濃度値情報に対して微分処理を施
すことをその内容としている。又、この画像処理手段の
前述した第2の画像処理機能は、各濃度値情報の微分処
理により得られる微分値を加算すると共にこの加算した
値と予め設定されたしきい値とを比較して前述した被検
査面3の欠陥を抽出すると共にその座標位置を抽出する
欠陥抽出機能をその内容とするものである。
【0025】換言すると、この画像処理手段では、撮像
手段11から取り込んだ被検査面3の画像から得られた
濃度値に対して微分処理を施し、照明手段7によって被
検査面3の照明状態を変化させる毎に得られた濃度値の
微分処理の値を加算し、この加算値と予め設定されたし
きい値とを比較して被検査面3の欠陥を決定するもので
ある。この微分処理の値の加算にはメモリ45aが用い
られ、照明状態を変化させる毎に得られた濃度値の微分
処理の値がメモリ45aに保持されている値に加算され
る。なお、画像処理手段45の動作の詳細については後
述する。
【0026】[主制御部]主制御部18は、照明制御部
34を介して光源ユニットU1,…,Unを点灯制御す
る。また、画像処理手段45の動作を制御する。そし
て、これにより得られた欠陥情報を受信して所定の出力
手段(図示せず)を介して検査結果を出力する。
【0027】[表面欠陥検査工程]次に、上記表面欠陥
検査装置1による表面欠陥検査の工程を説明する。図3
は、上記した照明手段7の特定の光源ユニットを発光さ
せて被検査面3の検査領域を照射することによって得ら
れた照明状態を示す図である。
【0028】この図3では、検査領域内のP3の部分を
中心に検査光5が照射されている照明状態を示してお
り、この照明状態は光源ユニットU3を点灯することに
よって形成される。この照明状態においては、P3の領
域が明部領域となり、また、その両側のP2とP4の領
域は僅かに検査光5が照射される明暗遷移部になり、P
1及びP5からPnまでの領域は検査光5が全く照射さ
れていない暗部領域になる。このような照明状態にある
P1からPnまでの検査領域が1画面として、撮像手段
11により撮像される。
【0029】図4は、被検査面3(図1参照)に欠陥が
存在する場合に照明手段7で検査光5を照射したときに
得られる画像を示す図である。この図4では、説明を簡
略するために、検査領域の幅(X方向)を5個分の光源
ユニットの照明範囲とする例を示す。この図4中、符号
(A)は、光源ユニットU1を点灯させた場合の照明状
態を示す。この図4中の符号(A)の照明状態では、検
査領域の左端部に検査光5が最も強く照射されており、
この領域が明部領域となっている。この照明状態におい
ては、明部である左端部に右隣の領域が明暗遷移部領域
となり、更に右方に位置する領域は検査光が全く照射さ
れない暗部領域となる。ここで、この図4に示すよう
に、検査領域中に欠陥が存在すると、この欠陥の部分は
光の乱反射によってスパイク状の反射光が生じ、周辺の
領域よりも明るくなる。
【0030】この照明状態にある検査領域を撮像する
と、図4(A)の照明状態図の下に表すように、この撮
像した検査領域の画像から光強度に比例する濃度値情報
が得られる。尚、ここでは、濃度値を縦軸に、検査領域
の長さ方向の位置を示すX座標を横軸にそれぞれ表して
いる。又、このグラフは、画像全体の中央部に存在する
欠陥を通り検査領域の長さ方向に沿って画像を走査した
場合における濃度値を表している。
【0031】この図4に示すグラフから、左端領域にお
いて濃度値(光強度)が最も高くなり、右端側に向かっ
て徐々に濃度値(光強度)が低下していることが分る。
但し、検査領域の中央部に存在する欠陥の部分では、濃
度値(光強度)が高いので、グラフに表されるように欠
陥の部分において濃度値(光強度)がスパイク状に変化
している。
【0032】この濃度値情報に対しては微分処理が施さ
れ、この微分処理による微分値が、更に下のグラフに示
すように得られる。尚、この微分値は絶対値で表され
る。この微分処理による微分値は濃度値変化(光強度変
化)の大きさを示す値となり、この値が予め設定された
しきい値より大きい部分は、欠陥部分として抽出するこ
とが可能である。
【0033】微分値が算出されると、この算出された微
分値はメモリ45aに既に保持されている加算値に加算
され、メモリ45aの加算値は更新される。この加算値
は、後述するように、欠陥の有無の判定に用いられ、こ
の加算値を用いることによって検査精度を向上させるこ
とが可能である。
【0034】次に、図4の符号(B)は、光源ユニット
U2を点灯させて明部を僅かに右方にずらした照明状態
を示す。これは、同じ検査領域に対して照明状態が照明
手段7により切り換えられた状態である。本図の符号
(B)の場合でも、符号(A)の場合と同様に、画像を
中央部に存在する欠陥を通り検査領域の長さ方向に沿っ
て走査すると、濃度値およびその微分値が得られ、この
微分値はメモリ45aの加算値に加算される。
【0035】更に、図4の符号(C)は、光源ユニット
U3を点灯させて明部を更に右方にずらした照明状態を
示し、本図の符号(C)の場合でも、符号(A)の場合
と同様に、画像を中央部に存在する欠陥を通り検査領域
の長さ方向に沿って走査すると、濃度値及びその微分値
が得られ、この微分値はメモリ45aの加算値に加算さ
れる。なお、この図4の図示例は、欠陥が存在する中央
部に検査光5が照射されている場合であり、この場合に
おいては、欠陥部分からの反射光の光強度が低く、その
周囲の光強度が高い状態にある。欠陥が存在する領域部
分に検査光5を照射する場合においては、この欠陥に対
応する濃度値(光強度)の変化状態は検査光5の照射の
仕方に応じて変化するが、その欠陥による濃度値(光強
度)の変化状態は微分値の大きさで表されるから、確実
に欠陥を検出することができる。
【0036】図5は、上記図3又は図4に示した表面欠
陥検査の手法を用いた工程を示すフローチャートであ
る。また、図6は、異なる照明状態で撮像された画像の
それぞれから得られた濃度値情報の微分値とその加算結
果を示す図である。
【0037】次に、上述した表面欠陥検査装置1による
欠陥検査工程を説明する。ここで、説明の便宜上、検査
する検査領域には二つの欠陥1,2が存在し、一方の欠
陥1は他方の欠陥2より小さいものとする。即ち、欠陥
1による光強度の変化は欠陥2による光強度変化により
小さいものとする。
【0038】先ず、図5に示すように、検査光5を照射
する領域を特定するための変数iに1が設定され(ステ
ップS1)、これに伴い変数i=1に対応する光源ユニ
ットU1が点灯するように制御され、検査光5がP1の
領域に照射される(ステップS2)。そして、このとき
の照明状態においては、P1領域の右隣のP2領域が明
暗遷移部領域となり、更に右方に位置するP3領域から
Pn領域までは検査光が全く照射されない暗部領域とな
る(図3を参照)。
【0039】この照明状態において、各欠陥部では光の
乱反射が生じ、この状態で被検査面3の検査領域が撮像
手段11により撮像され、撮像された原画像が画像処理
手段45に取り込まれる(ステップS3)。この原画像
には欠陥が写し出されることになる。
【0040】この原画像が取り込まれると、この原画像
を走査することによって濃度値情報が得られて濃度値の
微分値が計算される(ステップS4)。この微分値は、
図6の符号(A)に示すグラフで表される。ここでは、
図6(A)に示すように、欠陥1の位置に対応する微分
値はしきい値を超えておらず、欠陥2の位置に対応す微
分値及びノイズに対応する微分値がしきい値を超えてい
る。このことは、この1つの照明状態だけで得られた微
分値としきい値とを比較して欠陥を抽出する場合に、欠
陥1が欠陥として検出されず、ノイズによるものが欠陥
として検出されるという、検出漏れ及び誤検出が発生す
ることを示している。
【0041】そこで、本実施形態では、この構成により
検出漏れや誤検出の発生を極力少なく抑えるために、1
つの照明状態だけで欠陥を抽出するのではなく、少なく
とも3つ以上の異なる照明状態での画像を取り込み、そ
れぞれの微分値を加算し、この加算値と予め設定された
しきい値とを比較することによって、欠陥を決定するよ
うに構成している。よって、上記照明状態で得られた微
分値は、前述したようにメモリ45aに保持されている
加算値に加算される(ステップS5)。
【0042】次に、変数iが所定数n(3以上の整数)
に到達したか否かが判定され(ステップS6)、変数i
が所定数nに到達していなければ、変数iに1が加算さ
れ(ステップS10)、変数i=2に対応する光源ユニ
ットU2が点灯するように制御され、検査光5がP2の
領域に照射される(ステップS2)。
【0043】このときの照明状態においては、P2領域
の左右のP1及びP3領域が明暗遷移部領域となり、P
3領域の右方に位置する領域は検査光が全く照射されな
い暗部領域となる。そして、この照明状態においては、
同様に、この状態での被検査面3の検査領域が撮像され
て原画像が画像処理手段45に取り込まれる(ステップ
S3)。
【0044】この原画像を走査することによって濃度値
情報が得られて濃度値の微分値が計算される(ステップ
S4)。この微分値は、図6の符号(B)のグラフに示
す。ここでは、欠陥1の位置に対応する微分値及び欠陥
2の位置に対応す微分値がしきい値を超え、更に光源ユ
ニット1の点灯時におけるノイズと異なる他のノイズに
対応する微分値がしきい値を超えている。この照明状態
で得られた微分値は、メモリ45aに保持されている加
算値に加算される(ステップS5)。
【0045】そして、変数iが所定数nに到達していな
ければ(ステップS6)、変数iに1が加算され(ステ
ップS10)、変数iがmになると、変数iの値mに対
応する光源ユニットUmが点灯するように制御される
(ステップS2)。続いて、この照明状態での被検査面
3の検査領域が撮像されて原画像が画像処理手段45に
取り込まれ(ステップS3)、この原画像を走査するこ
とによって濃度値情報が得られて濃度値の微分値が計算
される(ステップS4)。この照明状態で得られた微分
値は、同様に、メモリ45aに保持されている加算値に
加算される(ステップS5)。
【0046】このように、この変数iを変更することに
よる照明状態の変更、その照明状態での撮像、濃度値に
対する微分値の計算、微分値の加算が、変数iが所定数
nに到達するまで繰り返される。この変数iが所定数n
の時点では、図6の符号(C)で示される微分値が得ら
れ、この照明状態においては、欠陥1の位置に対応する
微分値がしきい値を超えておらず、欠陥2の位置に対応
す微分値および更に他のノイズに対応する微分値がしき
い値を超えている。
【0047】この変数i=nの照明状態で得られた微分
値がメモリ45aの加算値に加算され(ステップS
5)、変数iが所定数nに到達したと判定されると(ス
テップS6)、メモリ45aに保持されている加算値と
予め設定されているしきい値とを比較し、その比較結果
に基づき欠陥を抽出する(ステップS7)。例えば、図
6の符号(D)に示すように、異なる照明状態での微分
値のそれぞれを加算した値すなわちメモリ45aに保持
されている加算値が得られたとすると、この加算値とし
きい値とが比較され、このしきい値を超えている加算値
の位置における欠陥1,2(欠陥が存在する位置)が欠
陥として決定される。
【0048】なお、例えば、上記光源ユニットU1の点
灯時の照明状態で発生したノイズによって欠陥としてみ
なされたものは各照明状態における微分値の加算により
平滑化され、このノイズ発生位置における加算値はしき
い値を超えず、欠陥として抽出されない。
【0049】この欠陥の抽出が終了すると、抽出した欠
陥を示す欠陥検出結果出力が主制御部8に入力され、主
制御部18により出力手段(図示せず)を介して検査結
果が出力される(ステップS8)。そして、検査の終了
指令が発せられているか否かが判断され(ステップS
9)、検査の終了指令が発せられていないときには、被
検査面3の検査領域を変更して(ステップS11)、次
の検査領域に対する表面欠陥検査を開始する。これに対
し、検査の終了指令が発せられているときには、表面欠
陥検査を終了する。
【0050】このように、本実施形態による表面欠陥検
査の方式では、微分処理による微分値を加算した値とし
きい値と比較して欠陥を抽出するので、この欠陥の抽出
において、微分処理による微分値を加算するための計算
を簡単かつ高速に行うことができ、検査時間を短縮する
ことができる。また、各画像毎にその微分値を加算値に
加えることにより、メモリ45aの使用量を少なくする
ことができる。更に、微分処理により異なる照明状態で
の画像のそれぞれにおける欠陥部分を適正に強調するこ
とができる。
【0051】更に、撮像手段11で撮像される検査領域
に対しては、それぞれ異なる光強度が含まれるように照
明されるので、特に、被検査面上の欠陥が明暗遷移部に
位置する場合においては、その明暗(コントラスト)が
生じ易く、この欠陥を欠陥として容易に検出することが
できる。更に、少なくとも異なる3つの照明状態での画
像に基づいて欠陥を抽出するので、誤検出や検出漏れの
発生を極力少なく抑制することができる。
【0052】また、以上の工程によって欠陥が検出され
た場合には、以下のような利用が考えられる。例えば、
自動車ボディの塗装面に対して欠陥を検出した場合に
は、塗装のやり直しや塗装面の修正のために、正常なラ
インとは異なるラインに自動車ボディを流すように、表
面欠陥検査装置1の検査結果に基づいて制御する等の利
用形態が考えられる。
【0053】尚、本発明の表面欠陥検査方法はコンピュ
ータを用いることにより容易に実施することができる。
即ち、照明手段7を制御する処理と、被検査面3を撮像
するように撮像手段11を制御する撮像制御処理と、こ
の撮像手段11により撮像した画像に対して欠陥部分を
強調するための画像処理を施す画像処理実行処理と、照
明制御処理によって照明状態を変更させて撮像制御処理
及び画像処理実行処理を所定回数繰り返すように制御す
る繰返し制御処理と、この繰返し毎に画像処理の結果を
加算する加算処理と、この加算処理による画像処理の加
算結果に基づき被検査面3の欠陥を抽出する欠陥抽出処
理とを、コンピュータで実行させるためのプログラムを
表面欠陥検査装置の一部として備えるようにしてもよ
い。又、上述した実施形態における画像処理手段では、
異なる証明状態で撮影された被検査面の画像を三枚加算
する場合を例示したが、二枚加算であっても、又4枚以
上の加算であってもよい。この場合、二枚加算では、時
にはノイズを被検査面の欠陥情報として検出する場合も
あるがその確率は極端に少ないことから、それほど精密
な検査を必要としない箇所については好適なものとな
り、4枚以上の加算の場合は、欠陥部分を確実に大きく
強調することができ欠陥抽出処理を有効に成し得るとい
う利点がある。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、画像
処理手段は、撮像手段で互いに異なる照明状態で撮像さ
れた被検査面の画像のそれぞれに対して欠陥部分を強調
するための画像処理を施し、各画像毎に得られた画像処
理の結果を加算して被検査面の欠陥を抽出する。このた
め、この欠陥の抽出において、誤検出、検出漏れの発生
を低減することができ、また、画像処理の結果を加算す
るための計算を簡単かつ高速に行うことができ、検査時
間を短縮することができる。また、各画像毎にその画像
処理の結果を加算値に加えることにより、メモリ使用量
を少なくすることができる。
【0055】また、本発明では、画像処理手段は、互い
に異なる照明状態で撮像された被検査面の画像から得ら
れた濃度値情報に微分処理を施し、各濃度値情報に対す
る微分処理により得られた微分値を加算し、この加算し
た値と予め設定されたしきい値とを比較して被検査面の
欠陥を抽出する。このため、異なる照明状態での画像の
それぞれにおける欠陥部分を適正に強調することができ
る、という優れた効果を生じる。
【0056】また、本発明では、照明手段の光源は、相
互に分割された複数の光源ユニットからなり、照明制御
手段は、各光源ユニットの点灯を切り換える切換機能を
有する。このため、照明制御手段が切換機能により各光
源ユニットの点灯を切り換えると、これに伴い被検査面
における照明状態が迅速に切り換わる。従って、所望の
照明状態での被検査面を撮像してその画像を即座に取り
込むことが可能になり、その結果、検査時間を更に短縮
することが可能になる、という優れた効果を生じる。
【0057】また、本発明では、照明手段の照明制御手
段は、被検査面の照明状態が明部、暗部及び明暗遷移部
となるように光源ユニットの動作を制御する。このた
め、撮像手段で撮像される検査領域に対しては、それぞ
れ異なる光強度が含まれるように照明され、特に、被検
査面上の欠陥が明暗遷移部に位置する場合においては、
その明暗(コントラスト)が生じ易く、この欠陥を欠陥
として検出し易い、といういう優れた効果を生じる。
【0058】更に、画像処理手段を、少なくとも異なる
三つの照明状態での画像に基づいて欠陥を抽出するよう
に構成した場合には、各照明状態での画像処理結果の加
算値に基づいて欠陥を抽出することになり、誤検出や検
出漏れの発生が非常に少なくなる、という優れた効果を
生じる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示す全体概略図である。
【図2】図1に開示した表面欠陥装置に使用される照明
手段の概略構成を示す斜視図である。
【図3】図2に開示した照明手段によって形成された検
査領域での照明状態を示す説明図である。
【図4】図2に開示した照明手段によって形成された照
明状態で撮像した画像,濃度情報およびその微分値を示
す説明図であり、図4(A)は光源ユニットU1点灯時
を示し、図4(B)は光源ユニットU2点灯時を示し、
図4(C)は光源ユニットU3点灯時を示す。
【図5】図1に開示した実施形態による表面欠陥検査工
程の手順を示すフローチャートである。
【図6】異なる照明状態で撮像された画像のそれぞれか
ら得られた濃度値情報の微分値とその加算結果を示す線
図で、図6(A)は光源ユニットU1 を点灯した場合の
濃度値情報の微分値を示し、図6(B)は光源ユニット
U2 を点灯した場合の濃度値情報の微分値を示し、図6
(C)は光源ユニットUnを点灯した場合の濃度値情報
の微分値を示し、図6(D)は図6(A)〜(C)の各
微分値の加算結果を示す線図である。
【図7】従来の表面欠陥検査装置を示す概略説明図図で
ある。
【符号の説明】
1 表面欠陥検査装置 3 被検査面 5 検査光 7 照明手段 11 撮像手段 18 主制御部 21 LED素子 34 照明制御部 45 画像処理手段 45a メモリ U1,U2,…,Un 光源ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 勝一 神奈川県横浜市都筑区桜並木2番1号 ス ズキ株式会社技術研究所内 Fターム(参考) 2F065 AA03 AA61 BB05 BB15 BB24 BB25 CC11 DD06 FF04 GG02 GG07 GG15 JJ03 JJ16 JJ26 QQ08 QQ13 QQ24 QQ25 QQ27 QQ31 QQ51 2G051 AA89 AB07 BA01 BA20 BC01 CA03 CA04 CB01 EA08 EA14 EB01 EB02 5B057 AA01 BA02 CA08 CA12 CA16 CC01 CE03 CE11 DA03 DA07 DB02 DB09 DC03

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査面に対して照明状態を変更可能に
    検査光を照射する照明手段と、前記被検査面を撮像する
    撮像手段と、前記撮像手段で撮像された被検査面の画像
    に基づいて前記被検査面の欠陥を抽出する画像処理手段
    とを備え、 前記画像処理手段は、前記撮像手段で互いに異なる照明
    状態で撮像された被検査面の画像のそれぞれに対して欠
    陥部分を強調するための処理を施す第1の画像処理機能
    と、この第1の画像処理機能が作動して各画像毎に得ら
    れる画像処理の結果を加算して前記被検査面の欠陥およ
    びその座標位置を抽出する第2の画像処理機能とを備え
    ていることを特徴とする表面欠陥検査装置。
  2. 【請求項2】 前記画像処理手段の第1の画像処理機能
    は、互いに異なる照明状態で撮像された被検査面の画像
    から得られる濃度値情報に対して微分処理を施す微分処
    理機能であり、 前記第2の画像処理機能は、各濃度値情報の微分処理に
    より得られる微分値を加算すると共にこの加算した値と
    予め設定されたしきい値とを比較して前記被検査面の欠
    陥を抽出すると共にその座標位置を抽出する欠陥抽出機
    能であることを特徴とした請求項1記載の表面欠陥検査
    装置。
  3. 【請求項3】 前記照明手段は、相互に帯状に分割され
    た複数の光源ユニットからなる光源と、前記各光源ユニ
    ットの点灯を切り換える切換機能を備えた照明制御手段
    とを備えた構成としたことを特徴とする請求項1又は2
    記載の表面欠陥検査装置。
  4. 【請求項4】 前記照明手段の照明制御手段は、前記被
    検査面の照明状態が明部、明暗遷移部及び暗部となるよ
    うに前記光源ユニットの動作を制御することを特徴とす
    る請求項3記載の表面欠陥検査装置。
  5. 【請求項5】 前記画像処理手段は、少なくとも異なる
    三つの照明状態での画像に基づいて前記欠陥を抽出する
    ことを特徴とする請求項1,2,3又は4記載の表面欠
    陥検査装置。
  6. 【請求項6】 被検査面に検査光を照射する工程と、こ
    の検査光に照射された前記被検査面を撮像する工程とを
    備え、この被検査面の撮像情報に基づいて当該被検査面
    の欠陥を検出する表面欠陥検査方法において、 前記被検査面の照明状態を切り換えながらその都度当該
    被検査面を撮像する切換撮像工程と、この撮像された被
    検査面の画像に対してその都度欠陥部分を強調するため
    の画像処理を施す画像処理工程と、この切換撮像工程に
    対応して実行される画像処理工程によって得られる画像
    処理の結果を加算する処理データ加算工程と、この加算
    結果に基づいて前記被検査面の欠陥を抽出する欠陥検出
    工程とを有することを特徴とした表面欠陥検査方法。
  7. 【請求項7】 前記画像処理工程は、前記検査光による
    照明状態を変える毎に得られる濃度値情報に微分処理を
    施す工程からなり、 前記処理データ加算工程は、前記微分処理された濃度値
    情報を加算する工程からなり、 前記欠陥検出工程は、前記加算した値と予め設定された
    しきい値とを比較して前記被検査面の欠陥を決定し且つ
    その座標情報を抽出する工程からなることを特徴とする
    請求項6記載の表面欠陥検査方法。
  8. 【請求項8】 被検査面に対して照明状態を変更可能に
    検査光を照射するように照明手段を制御する照明制御処
    理と、前記被検査面を撮像するように撮像装置を制御す
    る撮像制御処理と、この撮像装置により撮像した画像に
    対して欠陥部分を強調するための画像処理を施す画像処
    理実行処理とを備え、 更に、前記照明制御処理によって前記被検査面に対する
    照明状態を変えながら前記撮像制御処理及び前記画像処
    理実行処理を所定回数繰り返すように制御する繰返し制
    御処理と、この繰返し毎に前記画像処理の結果を加算す
    る加算処理と、この加算処理による画像処理の加算結果
    に基づいて前記被検査面の欠陥を抽出する欠陥抽出処理
    とを、コンピュータに実行させるための表面欠陥検査用
    プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録
    媒体。
  9. 【請求項9】 前記画像処理実行処理は、前記撮像され
    た被検査面の画像から得られた濃度値情報に微分処理を
    施す処理からなり、 前記加算処理は、前記被検査面の照明状態を変える毎に
    得られた濃度値情報に対する微分処理の値を加算する処
    理からなり、 前記欠陥抽出処理は、前記加算した値と予め設定された
    しきい値とを比較して前記被検査面の欠陥を決定し座標
    上の位置をと特定する処理からなることを特徴とする請
    求項8記載の表面欠陥検査用プログラムを記録したコン
    ピュータ読み取り可能な記録媒体。
JP10345360A 1998-12-04 1998-12-04 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体 Pending JP2000172845A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10345360A JP2000172845A (ja) 1998-12-04 1998-12-04 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10345360A JP2000172845A (ja) 1998-12-04 1998-12-04 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000172845A true JP2000172845A (ja) 2000-06-23

Family

ID=18376081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10345360A Pending JP2000172845A (ja) 1998-12-04 1998-12-04 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000172845A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011232192A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Arc Harima Co Ltd 表面性状測定装置および表面性状測定方法
WO2013118898A1 (ja) * 2012-02-08 2013-08-15 株式会社小糸製作所 検査照明装置
JP2016109532A (ja) * 2014-12-05 2016-06-20 コマツNtc株式会社 面の評価方法および面の評価装置
JP2018059883A (ja) * 2016-10-07 2018-04-12 株式会社豊田中央研究所 表面検査装置及び表面検査方法
JPWO2022113867A1 (ja) * 2020-11-30 2022-06-02

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011232192A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Arc Harima Co Ltd 表面性状測定装置および表面性状測定方法
WO2013118898A1 (ja) * 2012-02-08 2013-08-15 株式会社小糸製作所 検査照明装置
JP2016109532A (ja) * 2014-12-05 2016-06-20 コマツNtc株式会社 面の評価方法および面の評価装置
JP2018059883A (ja) * 2016-10-07 2018-04-12 株式会社豊田中央研究所 表面検査装置及び表面検査方法
JPWO2022113867A1 (ja) * 2020-11-30 2022-06-02
WO2022113867A1 (ja) 2020-11-30 2022-06-02 コニカミノルタ株式会社 解析装置、検査システム、および学習装置
JP7248201B2 (ja) 2020-11-30 2023-03-29 コニカミノルタ株式会社 解析装置、検査システム、および学習装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4150390B2 (ja) 外観検査方法及び外観検査装置
JP6745150B2 (ja) 照明装置、及び、画像検査装置
JP4322230B2 (ja) 表面欠陥検査装置及び表面欠陥検査方法
JP2002148195A (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
JP2007316019A (ja) 表面欠陥検査装置
JP3164003B2 (ja) 実装部品検査装置
JP2000172845A (ja) 表面欠陥検査装置、表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用プログラムを記録した記録媒体
JPH0979988A (ja) 表面欠陥検査装置
JP2004309426A (ja) 透光性基板の評価方法及び透光性基板の評価装置
JP3757694B2 (ja) 表面欠陥検査方法
JP2008026149A (ja) 外観検査装置
JP2001021332A (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
JP2004361085A (ja) 外観検査装置
JP2002310939A (ja) 気泡検査装置
JP2004037134A (ja) メタルマスク検査方法及びメタルマスク検査装置
JP4017585B2 (ja) 塗装面の検査装置
JP4967132B2 (ja) 対象物表面の欠陥検査方法
JPH11281581A (ja) 表面欠陥検査装置,表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査用のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP6402082B2 (ja) 表面撮像装置、表面検査装置、及び表面撮像方法
JP3721847B2 (ja) ハンダボールの検出方法
JP2006266934A (ja) フィルムの欠陥検出方法および欠陥検出装置
JP4792314B2 (ja) 基板検査装置および基板検査方法
JPH0814867A (ja) 表面状態検査方法及びその装置
JP3586339B2 (ja) 光学部材検査装置及び光学部材検査方法
JP6837296B2 (ja) 画像検査装置、及び、プログラム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040413

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070417

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070531

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070807