JP2000167568A - 廃水回収再利用方法 - Google Patents
廃水回収再利用方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多量に使用されている水を回収して、純水製
造の原水や、冷却塔補給水等の雑用水として再利用でき
る廃水の回収再利用方法を提供する。 【解決手段】 シリカを飽和溶解度に近い濃度まで含む
廃水に薬品注入装置1 からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９
以上に調整する。ｐＨ調整した廃水を蒸留器2 に供給す
る。蒸留器2 は蒸気エジェクター式の３効用蒸発器であ
る。蒸発器2 の蒸留水は処理水槽3 に貯えられ、その一
部はボイラ4 へ送られ、ここで得られた蒸気が蒸発器2
の蒸気エジェクターに供給される。蒸発器2 における蒸
気の凝縮は冷却塔5 から来る冷却水によって行われる。
蒸発器2 の蒸留水は、導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純
度である。蒸発器2 の濃縮水は、既設の排水処理設備へ
送られて他の廃水と混合された後、適切に処理され放流
される。
造の原水や、冷却塔補給水等の雑用水として再利用でき
る廃水の回収再利用方法を提供する。 【解決手段】 シリカを飽和溶解度に近い濃度まで含む
廃水に薬品注入装置1 からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９
以上に調整する。ｐＨ調整した廃水を蒸留器2 に供給す
る。蒸留器2 は蒸気エジェクター式の３効用蒸発器であ
る。蒸発器2 の蒸留水は処理水槽3 に貯えられ、その一
部はボイラ4 へ送られ、ここで得られた蒸気が蒸発器2
の蒸気エジェクターに供給される。蒸発器2 における蒸
気の凝縮は冷却塔5 から来る冷却水によって行われる。
蒸発器2 の蒸留水は、導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純
度である。蒸発器2 の濃縮水は、既設の排水処理設備へ
送られて他の廃水と混合された後、適切に処理され放流
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガラス基板、液
晶、半導体工業等の電子工業で排出され、シリカを多量
に含む廃水の回収再利用方法に関する。
晶、半導体工業等の電子工業で排出され、シリカを多量
に含む廃水の回収再利用方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の廃水は凝集沈殿法により
処理され、液成分は性状によりそのまま放流されるか、
または更に生物処理されて放流され、固形物は脱水機で
スラッジとして取り出され、産業廃棄物処理業者に引き
取り処分されていた。
処理され、液成分は性状によりそのまま放流されるか、
または更に生物処理されて放流され、固形物は脱水機で
スラッジとして取り出され、産業廃棄物処理業者に引き
取り処分されていた。
【０００３】半導体のＣＭＰ（chemical mechanical po
lishing ）廃水の一般的な処理方法を図５に示す。この
処理方法では、廃水は、薬品注入装置(51)からＨ2 ＳＯ
4 等の酸あるいはＮａＯＨ等のアルカリの添加により中
和されるとともに、凝集剤注入装置(52)から高分子凝集
剤あるいは無機系凝集剤の添加によって反応槽(53)内で
フロックを生成する。発生したフロックは沈降槽(54)で
沈降分離され、上澄み液は、必要に応じて更に廃水処理
施設で生物処理され、排水として放流される。沈降槽(5
4)で分離されたフロック（フロック）は槽底部から引き
抜かれ、フィルタープレス等の脱水機(55)で脱水され、
ケーキ（スラッジ）として産業廃棄物処理業者に引き取
られ処分される。
lishing ）廃水の一般的な処理方法を図５に示す。この
処理方法では、廃水は、薬品注入装置(51)からＨ2 ＳＯ
4 等の酸あるいはＮａＯＨ等のアルカリの添加により中
和されるとともに、凝集剤注入装置(52)から高分子凝集
剤あるいは無機系凝集剤の添加によって反応槽(53)内で
フロックを生成する。発生したフロックは沈降槽(54)で
沈降分離され、上澄み液は、必要に応じて更に廃水処理
施設で生物処理され、排水として放流される。沈降槽(5
4)で分離されたフロック（フロック）は槽底部から引き
抜かれ、フィルタープレス等の脱水機(55)で脱水され、
ケーキ（スラッジ）として産業廃棄物処理業者に引き取
られ処分される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、環境問題への関
心の高まりから、工場からの産業廃棄物排出ゼロ化が求
められており、特に半導体製造工場ではその意識が高
い。また、ＩＳＯ14001 （環境管理システムの国際規
格）を満足するため、発生源である製造プロセスでの廃
水対策が重要であり、排水についても有効利用（再利用
化）による低減が望まれている。さらに、新規工場設置
に当たっては、取水条件・排水条件とも厳しく規制され
ており、全体の水の有効利用が求められている。
心の高まりから、工場からの産業廃棄物排出ゼロ化が求
められており、特に半導体製造工場ではその意識が高
い。また、ＩＳＯ14001 （環境管理システムの国際規
格）を満足するため、発生源である製造プロセスでの廃
水対策が重要であり、排水についても有効利用（再利用
化）による低減が望まれている。さらに、新規工場設置
に当たっては、取水条件・排水条件とも厳しく規制され
ており、全体の水の有効利用が求められている。
【０００５】上述した従来の処理方法では、使用された
水は排水として放流されている。
水は排水として放流されている。
【０００６】ガラス基板、液晶、半導体とも生産性およ
び歩留りを向上させるために、製造対象品はサイズの大
きなものとなってきており（例えば液晶用ガラスは６０
ｍｍ×６０ｍｍのものが１００ｍｍ×１００ｍｍに、ウ
エハは２００ｍｍφのものが３００ｍｍφになりつつあ
る）、それに伴い使用される純水量が多くなっている。
び歩留りを向上させるために、製造対象品はサイズの大
きなものとなってきており（例えば液晶用ガラスは６０
ｍｍ×６０ｍｍのものが１００ｍｍ×１００ｍｍに、ウ
エハは２００ｍｍφのものが３００ｍｍφになりつつあ
る）、それに伴い使用される純水量が多くなっている。
【０００７】さらに、半導体分野では、製品の高度化に
対応するため、ＣＭＰ処理適用の対象範囲が広くなって
いて、シリカを多量に含む排水の量が多くなりつつあ
る。
対応するため、ＣＭＰ処理適用の対象範囲が広くなって
いて、シリカを多量に含む排水の量が多くなりつつあ
る。
【０００８】本発明の目的は、多量に使用されている水
を回収して、純水製造の原水や、冷却塔補給水等の雑用
水として再利用し、水を有効利用することができる廃水
の回収再利用方法を提供することにある。
を回収して、純水製造の原水や、冷却塔補給水等の雑用
水として再利用し、水を有効利用することができる廃水
の回収再利用方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
シリカを多量に含む廃水を処理するに当たり、該廃水を
アルカリ性に望ましくはｐＨ９以上に調整してシリカの
溶解度を増し、蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用
し、濃縮液を排水処理設備で処理する廃水回収再利用方
法である。この方法は、廃水をアルカリ性にするｐＨ調
整槽とその下流の上記蒸発器から構成される廃水回収装
置で実施され得る。
シリカを多量に含む廃水を処理するに当たり、該廃水を
アルカリ性に望ましくはｐＨ９以上に調整してシリカの
溶解度を増し、蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用
し、濃縮液を排水処理設備で処理する廃水回収再利用方
法である。この方法は、廃水をアルカリ性にするｐＨ調
整槽とその下流の上記蒸発器から構成される廃水回収装
置で実施され得る。
【００１０】請求項２記載の発明は、シリカとＳＳ成分
を多量に含む廃水を処理するに当たり、該廃水を中性に
して溶解シリカが析出し易くするとともに、凝集剤を添
加してＳＳ成分をフロック化し、沈降槽でフロックを分
離し、フロック分離後の上澄み液をアルカリ性に望まし
くはｐＨ９．５以上に調整し、蒸発器で処理し、蒸留水
を回収再利用し、濃縮液を冷却器で冷却した後廃水側へ
返送して処理する廃水回収再利用方法である。この方法
は、廃水を中性にするｐＨ調整装置と凝集剤を添加する
凝集剤注入装置、これらの下流の凝集反応槽、上記フロ
ックを分離する沈降槽、上記澄み液をアルカリ性にする
薬品注入装置、上記蒸発器、上記冷却器から構成される
廃水回収装置で実施され得る。
を多量に含む廃水を処理するに当たり、該廃水を中性に
して溶解シリカが析出し易くするとともに、凝集剤を添
加してＳＳ成分をフロック化し、沈降槽でフロックを分
離し、フロック分離後の上澄み液をアルカリ性に望まし
くはｐＨ９．５以上に調整し、蒸発器で処理し、蒸留水
を回収再利用し、濃縮液を冷却器で冷却した後廃水側へ
返送して処理する廃水回収再利用方法である。この方法
は、廃水を中性にするｐＨ調整装置と凝集剤を添加する
凝集剤注入装置、これらの下流の凝集反応槽、上記フロ
ックを分離する沈降槽、上記澄み液をアルカリ性にする
薬品注入装置、上記蒸発器、上記冷却器から構成される
廃水回収装置で実施され得る。
【００１１】請求項３記載の発明は、シリカとアンモニ
アを多量に含む廃水を処理するに当たり、廃水をアルカ
リ性に望ましくはｐＨ９以上に調整し、アンモニアスト
リッピング塔でアンモニアを除去し、アンモニア除去後
の液を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液
を廃水設備で処理する廃水回収再利用方法である。この
方法は、廃水をアルカリ性にするｐＨ調整槽、該廃水を
熱回収する熱交換器、上記アンモニアストリッピング塔
および上記蒸発器から構成される廃水回収装置で実施さ
れ得る。
アを多量に含む廃水を処理するに当たり、廃水をアルカ
リ性に望ましくはｐＨ９以上に調整し、アンモニアスト
リッピング塔でアンモニアを除去し、アンモニア除去後
の液を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液
を廃水設備で処理する廃水回収再利用方法である。この
方法は、廃水をアルカリ性にするｐＨ調整槽、該廃水を
熱回収する熱交換器、上記アンモニアストリッピング塔
および上記蒸発器から構成される廃水回収装置で実施さ
れ得る。
【００１２】請求項４記載の発明は、シリカ、アンモニ
アとＳＳ成分を含む廃水を処理するに当たり、廃水を中
性にして溶解シリカが析出し易くするとともに、凝集剤
を添加してＳＳ成分をフロック化し、沈降槽でフロック
を分離し、フロック分離後の上澄み液をアルカリ性に望
ましくはｐＨ９．５以上に調整し、アンモニアストリッ
ピング塔でアンモニアを除去し、アンモニア除去後の液
を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液を冷
却器で冷却した後廃水側へ返送して処理する廃水回収再
利用方法である。この方法は、廃水を中性にするｐＨ調
整装置と凝集剤を添加する凝集剤注入装置、これらの下
流の凝集反応槽、上記フロックを分離する沈降槽、上記
澄み液をアルカリ性にする薬品注入装置、該廃水を熱回
収する熱交換器、上記アンモニアストリッピング塔、上
記蒸発器、上記冷却器から構成される廃水回収装置で実
施され得る。
アとＳＳ成分を含む廃水を処理するに当たり、廃水を中
性にして溶解シリカが析出し易くするとともに、凝集剤
を添加してＳＳ成分をフロック化し、沈降槽でフロック
を分離し、フロック分離後の上澄み液をアルカリ性に望
ましくはｐＨ９．５以上に調整し、アンモニアストリッ
ピング塔でアンモニアを除去し、アンモニア除去後の液
を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液を冷
却器で冷却した後廃水側へ返送して処理する廃水回収再
利用方法である。この方法は、廃水を中性にするｐＨ調
整装置と凝集剤を添加する凝集剤注入装置、これらの下
流の凝集反応槽、上記フロックを分離する沈降槽、上記
澄み液をアルカリ性にする薬品注入装置、該廃水を熱回
収する熱交換器、上記アンモニアストリッピング塔、上
記蒸発器、上記冷却器から構成される廃水回収装置で実
施され得る。
【００１３】請求項５記載の発明は、蒸発器として多重
効用蒸発器を用いる請求項１〜４のいずれか１項記載の
廃水回収再利用方法である。
効用蒸発器を用いる請求項１〜４のいずれか１項記載の
廃水回収再利用方法である。
【００１４】
【発明の実施の形態】実施例１ 図１はシリカを多量に含む廃水の回収再利用方法を示す
ものである。
ものである。
【００１５】ｐＨが酸性あるいは中性でありシリカを飽
和溶解度に近い濃度まで含む廃水を対象液として、これ
に薬品注入装置(1) からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９以
上に調整する。廃水中のシリカは、ｐＨをアルカリにす
ることにより溶解度を増す。廃水の１／２量を回収再利
用したい場合はｐＨ９．１、２／３量を回収したい場合
はｐＨ９．７、３／４量を回収したい場合はｐＨ１０に
それぞれｐＨを調整する。
和溶解度に近い濃度まで含む廃水を対象液として、これ
に薬品注入装置(1) からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９以
上に調整する。廃水中のシリカは、ｐＨをアルカリにす
ることにより溶解度を増す。廃水の１／２量を回収再利
用したい場合はｐＨ９．１、２／３量を回収したい場合
はｐＨ９．７、３／４量を回収したい場合はｐＨ１０に
それぞれｐＨを調整する。
【００１６】こうしてｐＨ調整した廃水を蒸留器(2) に
供給する。蒸留器(2) として、この例では蒸気エジェク
ター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段フ
ラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。蒸発器(2)
の蒸留水は処理水槽(3) に貯えられ、その一部はボイラ
(4) へ送られ、ここで得られた蒸気が蒸発器(2) の蒸気
エジェクターに供給される。蒸発器(2) における蒸気の
凝縮は冷却塔(5) から来る冷却水によって行われる。蒸
発器(2) の蒸留水は、１／２量回収の場合、導電率１０
μＳ／ｃｍ以下の高純度であるので、これを純水製造の
原水として再利用する。回収率が高くなっても水質的に
はある程度高純度が保たれるので、上記蒸留水は純水製
造の原水や、冷却塔補給水等の他の雑用水に再利用され
る。
供給する。蒸留器(2) として、この例では蒸気エジェク
ター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段フ
ラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。蒸発器(2)
の蒸留水は処理水槽(3) に貯えられ、その一部はボイラ
(4) へ送られ、ここで得られた蒸気が蒸発器(2) の蒸気
エジェクターに供給される。蒸発器(2) における蒸気の
凝縮は冷却塔(5) から来る冷却水によって行われる。蒸
発器(2) の蒸留水は、１／２量回収の場合、導電率１０
μＳ／ｃｍ以下の高純度であるので、これを純水製造の
原水として再利用する。回収率が高くなっても水質的に
はある程度高純度が保たれるので、上記蒸留水は純水製
造の原水や、冷却塔補給水等の他の雑用水に再利用され
る。
【００１７】蒸発器(2) の濃縮水は、既設の排水処理設
備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処理され
放流される。
備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処理され
放流される。
【００１８】実施例２ 図２はシリカとＳＳ成分を多量に含む廃水の回収再利用
を示す。
を示す。
【００１９】ｐＨがアルカリ性でありシリカを飽和溶解
度に近い濃度まで含む廃水を対象液として、これに集水
槽(6) において後述する蒸発器(12)の濃縮水が混合され
る。この混合液に薬品注入装置(7) からＮａＯＨまたは
Ｈ2 ＳＯ4 を添加し、ｐＨを中性に調整する。ｐＨを中
性にすることによりシリカの溶解度を小さくし、シリカ
を凝集沈殿し易くするとともに、後工程への溶解シリカ
の持ち込み量をできるだけ少なくする。ついで、この混
合液に凝集剤注入装置(8) から凝集剤例えば高分子凝集
剤（ＰＡＣ）、無機系凝集剤（塩化第二鉄）を注入し、
全体を反応槽(9) で攪拌しＳＳフロックを生成させる。
ＳＳフロックを含む廃水を沈降槽(10)に送り、ＳＳフロ
ックを沈降分離する。沈降槽(10)で分離されたＳＳフロ
ックは槽底部から引き抜かれ、脱水機(14)で脱水されス
ラッジ（ケーキ）として取り出される。このスラッジ
は、産業廃棄物処理業者により引き取り処分される。
度に近い濃度まで含む廃水を対象液として、これに集水
槽(6) において後述する蒸発器(12)の濃縮水が混合され
る。この混合液に薬品注入装置(7) からＮａＯＨまたは
Ｈ2 ＳＯ4 を添加し、ｐＨを中性に調整する。ｐＨを中
性にすることによりシリカの溶解度を小さくし、シリカ
を凝集沈殿し易くするとともに、後工程への溶解シリカ
の持ち込み量をできるだけ少なくする。ついで、この混
合液に凝集剤注入装置(8) から凝集剤例えば高分子凝集
剤（ＰＡＣ）、無機系凝集剤（塩化第二鉄）を注入し、
全体を反応槽(9) で攪拌しＳＳフロックを生成させる。
ＳＳフロックを含む廃水を沈降槽(10)に送り、ＳＳフロ
ックを沈降分離する。沈降槽(10)で分離されたＳＳフロ
ックは槽底部から引き抜かれ、脱水機(14)で脱水されス
ラッジ（ケーキ）として取り出される。このスラッジ
は、産業廃棄物処理業者により引き取り処分される。
【００２０】沈降槽(10)の上澄み液に薬品注入装置(11)
からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９．５以上に調整する。
ｐＨ調整した上澄み液を蒸発器(12)に供給する。
からＮａＯＨを添加し、ｐＨを９．５以上に調整する。
ｐＨ調整した上澄み液を蒸発器(12)に供給する。
【００２１】蒸発器(12)として、この例では蒸気エジェ
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。
【００２２】蒸発器(12)の蒸留水としてその１／２量が
回収される。その水質は導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高
純度であるので、これを純水製造の原水あるいは雑用水
として再利用される。
回収される。その水質は導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高
純度であるので、これを純水製造の原水あるいは雑用水
として再利用される。
【００２３】蒸発器(12)の濃縮水は、冷却器(13)へ送ら
れて３５℃に冷却される。冷却器(13)は、この例では冷
却塔タイプのものであるが、シェル・アンド・チューブ
式、プレート式のものであっても良い。
れて３５℃に冷却される。冷却器(13)は、この例では冷
却塔タイプのものであるが、シェル・アンド・チューブ
式、プレート式のものであっても良い。
【００２４】廃水から持ち込まれるＢＯＤ、ＣＯＤ、Ｔ
ＯＣ成分や添加薬品の塩濃度が系内である濃度以上にな
らないように、冷却された濃縮水の一部が強制的にブロ
ーされる。ブロー量は廃水中の不純物の量によって決ま
るが、例えば廃水流量の１／１０量がブローされる。こ
のブロー液は廃水タンク(18)に集められ、既設の廃水処
理設備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処理
され放流される。冷却され一部ブローされた残りの濃縮
水は、集水槽(6) に返送される。
ＯＣ成分や添加薬品の塩濃度が系内である濃度以上にな
らないように、冷却された濃縮水の一部が強制的にブロ
ーされる。ブロー量は廃水中の不純物の量によって決ま
るが、例えば廃水流量の１／１０量がブローされる。こ
のブロー液は廃水タンク(18)に集められ、既設の廃水処
理設備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処理
され放流される。冷却され一部ブローされた残りの濃縮
水は、集水槽(6) に返送される。
【００２５】実施例３ 図３はシリカとアンモニアを多量に含む廃水の回収再利
用を示す。
用を示す。
【００２６】シリカを飽和溶解度に近い濃度まで含みし
かもアンモニアを数百ｐｐｍまで含む廃水を対象液と
し、これに薬品注入装置(19)からＮａＯＨを添加し、ｐ
Ｈを９以上に調整する。廃水中のアンモニアは、ｐＨを
アルカリにすることにより液中の気体成分の比率が大き
くなるため、蒸気ストリッピングで除去し易くなる。
かもアンモニアを数百ｐｐｍまで含む廃水を対象液と
し、これに薬品注入装置(19)からＮａＯＨを添加し、ｐ
Ｈを９以上に調整する。廃水中のアンモニアは、ｐＨを
アルカリにすることにより液中の気体成分の比率が大き
くなるため、蒸気ストリッピングで除去し易くなる。
【００２７】ｐＨ調整した廃水を熱交換器(20)で熱回収
し、アンモニアストリッピング塔(21)に供給する。同ス
トリッピング塔(21)は、下部からストリッピング蒸気を
供給し、減圧下で操作する。減圧操作するために真空ポ
ンプ(23)が設けてある。
し、アンモニアストリッピング塔(21)に供給する。同ス
トリッピング塔(21)は、下部からストリッピング蒸気を
供給し、減圧下で操作する。減圧操作するために真空ポ
ンプ(23)が設けてある。
【００２８】アンモニアストリッピング塔(21)でアンモ
ニアを除去する。アンモニアを含む蒸気は塔頂から出
て、熱交換器(20)で凝縮される。ストリッピング蒸気が
多い場合は、これは更に熱交換器(22)で凝縮される。
ニアを除去する。アンモニアを含む蒸気は塔頂から出
て、熱交換器(20)で凝縮される。ストリッピング蒸気が
多い場合は、これは更に熱交換器(22)で凝縮される。
【００２９】アンモニアを含むこの凝縮液は蒸発器(24)
の濃縮水とともに廃水タンク(28)に貯えられた後、他の
廃水と混合され、既設の排水処理設備で適切に処理され
放流される。
の濃縮水とともに廃水タンク(28)に貯えられた後、他の
廃水と混合され、既設の排水処理設備で適切に処理され
放流される。
【００３０】このアンモニアストリッピング塔でアンモ
ニアを１ｐｐｍ以下まで取り除いた廃水が蒸発器(24)に
供給される。蒸発器(24)としてはこの例では蒸気エジェ
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。蒸留水と
して蒸発器(24)の供給水の１／２量が回収される。この
回収蒸留水は、導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純度であ
るので、純水製造の原水や他の雑用水（冷却塔補給水
等）として再利用される。
ニアを１ｐｐｍ以下まで取り除いた廃水が蒸発器(24)に
供給される。蒸発器(24)としてはこの例では蒸気エジェ
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。蒸留水と
して蒸発器(24)の供給水の１／２量が回収される。この
回収蒸留水は、導電率１０μＳ／ｃｍ以下の高純度であ
るので、純水製造の原水や他の雑用水（冷却塔補給水
等）として再利用される。
【００３１】蒸発器(24)の濃縮水は、上述のようにアン
モニアを含む凝縮液とともに既設の排水処理設備へ送ら
れて他の廃水と混合された後、適切に処理され放流され
る。
モニアを含む凝縮液とともに既設の排水処理設備へ送ら
れて他の廃水と混合された後、適切に処理され放流され
る。
【００３２】実施例４ 図４は、シリカ、アンモニア、ＳＳ成分を多量に含む廃
水の回収再利用を示す。
水の回収再利用を示す。
【００３３】シリカとＳＳ成分を多量に含みしかもアン
モニアを数百ｐｐｍまで含む廃水を対象液とし、これを
集水槽(29)で後述する蒸発器(39)の濃縮水と混合する。
この混合液に薬品注入装置(30)からＮａＯＨまたはＨ2
ＳＯ4 を添加し、ｐＨを中性に調整する。こうしてｐＨ
を中性にすることにより、シリカの溶解度を小さくし、
シリカを凝集沈殿し易くするとともに、後工程への溶解
シリカの持ち込み量をできるだけ少なくする。
モニアを数百ｐｐｍまで含む廃水を対象液とし、これを
集水槽(29)で後述する蒸発器(39)の濃縮水と混合する。
この混合液に薬品注入装置(30)からＮａＯＨまたはＨ2
ＳＯ4 を添加し、ｐＨを中性に調整する。こうしてｐＨ
を中性にすることにより、シリカの溶解度を小さくし、
シリカを凝集沈殿し易くするとともに、後工程への溶解
シリカの持ち込み量をできるだけ少なくする。
【００３４】上記混合液に凝集剤注入装置(31)から凝集
剤例えば高分子凝集剤（ＰＡＣ）、無機系凝集剤（塩化
第二鉄）を注入する。凝集剤と廃水を反応槽(32)で攪拌
しＳＳフロックを生成させる。ＳＳフロックを含む廃水
を沈降槽(33)に輸送し、ＳＳフロックを沈降分離する。
沈降槽(33)で分離されたＳＳフロックは引き抜かれ、脱
水機(45)で脱水されスラッジとして取り出される。この
スラッジは、産業廃棄物処理業者により引き取り処分さ
れる。
剤例えば高分子凝集剤（ＰＡＣ）、無機系凝集剤（塩化
第二鉄）を注入する。凝集剤と廃水を反応槽(32)で攪拌
しＳＳフロックを生成させる。ＳＳフロックを含む廃水
を沈降槽(33)に輸送し、ＳＳフロックを沈降分離する。
沈降槽(33)で分離されたＳＳフロックは引き抜かれ、脱
水機(45)で脱水されスラッジとして取り出される。この
スラッジは、産業廃棄物処理業者により引き取り処分さ
れる。
【００３５】沈降槽(33)の上澄み液に、薬品注入装置(3
4)からＮａＯＨを添加し、ｐＨ９．５上に調整する。
4)からＮａＯＨを添加し、ｐＨ９．５上に調整する。
【００３６】アンモニアは、ｐＨをアルカリにすること
により液中の気体成分の比率が大きくなるため、蒸気ス
トリッピングで除去し易くなる。
により液中の気体成分の比率が大きくなるため、蒸気ス
トリッピングで除去し易くなる。
【００３７】ｐＨ調整した上澄み液を熱交換器(35)で熱
回収し、アンモニアストリッピング塔(36)に供給する。
同ストリッピング塔(36)は、下部からストリッピング蒸
気を供給し、減圧下で操作する。減圧操作するために真
空ポンプ(38)が設けてある。
回収し、アンモニアストリッピング塔(36)に供給する。
同ストリッピング塔(36)は、下部からストリッピング蒸
気を供給し、減圧下で操作する。減圧操作するために真
空ポンプ(38)が設けてある。
【００３８】アンモニアストリッピング塔でアンモニア
を除去する。アンモニアを含む蒸気は熱交換器(35)で凝
縮される。ストリッピング蒸気が多い場合は、更に熱交
換器(37)で凝縮される。
を除去する。アンモニアを含む蒸気は熱交換器(35)で凝
縮される。ストリッピング蒸気が多い場合は、更に熱交
換器(37)で凝縮される。
【００３９】アンモニアを含むこの凝縮液は、後述の強
制ブロー水とともに既設の排水処理設備へ送られて他の
廃水と混合された後、適切に処理され放流される。
制ブロー水とともに既設の排水処理設備へ送られて他の
廃水と混合された後、適切に処理され放流される。
【００４０】このアンモニアストリッピング塔でアンモ
ニアを１ｐｐｍ以下まで取り除いた廃水が蒸発器(24)に
供給される。蒸発器(39)としてはこの例では蒸気エジェ
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。
ニアを１ｐｐｍ以下まで取り除いた廃水が蒸発器(24)に
供給される。蒸発器(39)としてはこの例では蒸気エジェ
クター式の３効用蒸発器を使用するが、これ以外の多段
フラッシュ、単効用蒸発器等を用いても良い。
【００４１】蒸留水として蒸発器(39)の供給水の１／２
量が回収される。この回収蒸留水は、導電率１０μＳ／
ｃｍ以下の高純度であるので、純水製造の原水や、冷却
塔補給水等の他の雑用水として再利用される。
量が回収される。この回収蒸留水は、導電率１０μＳ／
ｃｍ以下の高純度であるので、純水製造の原水や、冷却
塔補給水等の他の雑用水として再利用される。
【００４２】蒸発器(39)の濃縮水は、冷却器(40)へ送ら
れて３５℃に冷却される。冷却器(40)は、この例では冷
却塔タイプのものを使用しているが、シェル・アンド・
チューブ式、プレート式のものを用いても良い。
れて３５℃に冷却される。冷却器(40)は、この例では冷
却塔タイプのものを使用しているが、シェル・アンド・
チューブ式、プレート式のものを用いても良い。
【００４３】廃水から持ち込まれるＢＯＤ、ＣＯＤ、Ｔ
ＯＣ成分や添加薬品の塩濃度が系内である濃度以上にな
らないように、冷却された濃縮水の一部が強制的にブロ
ーされる。ブロー量は廃水中の不純物の量によって決ま
るが、例えば廃水流量の１／１０量がブローされる。こ
のブロー液は、廃水タンク(44)に集められ、既設の排水
処理設備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処
理され放流される。冷却され一部ブローされた残りの濃
縮水は、集水槽(29)に返送される。
ＯＣ成分や添加薬品の塩濃度が系内である濃度以上にな
らないように、冷却された濃縮水の一部が強制的にブロ
ーされる。ブロー量は廃水中の不純物の量によって決ま
るが、例えば廃水流量の１／１０量がブローされる。こ
のブロー液は、廃水タンク(44)に集められ、既設の排水
処理設備へ送られて他の廃水と混合された後、適切に処
理され放流される。冷却され一部ブローされた残りの濃
縮水は、集水槽(29)に返送される。
【００４４】
【発明の効果】本発明により、シリカを多く含む廃水を
純水製造の原水や雑用水として再利用することができ
る。この再利用率は、実施例１では５０〜７５％、実施
例２ではでは９０％、実施例３では５０〜７５％、実施
例４では６０％である。
純水製造の原水や雑用水として再利用することができ
る。この再利用率は、実施例１では５０〜７５％、実施
例２ではでは９０％、実施例３では５０〜７５％、実施
例４では６０％である。
【図１】実施例１（シリカを多量に含む廃水の回収再利
用例）を示すフローシートである
用例）を示すフローシートである
【図２】実施例２（シリカとＳＳ成分を多量に含む廃水
の回収再利用例）を示すフローシートである。
の回収再利用例）を示すフローシートである。
【図３】実施例３（シリカとアンモニアを多量に含む廃
水の回収再利用例）を示すフローシートである。
水の回収再利用例）を示すフローシートである。
【図４】実施例４（シリカ、アンモニア、ＳＳ成分を多
量に含む廃水の回収再利用例）を示すフローシートであ
る。
量に含む廃水の回収再利用例）を示すフローシートであ
る。
【図５】ＣＭＰ廃水の一般的な処理方法を示すフローシ
ートである。
ートである。
６，29：集水槽 １，７，11，19，，30，，34，51：薬品注入装置 ８，31，52：凝集剤注入装置 ９，32，53：反応槽 10，33，54：沈降槽 ２，12，20，22，24，35，37：熱交換器 ５，17，27，：冷却塔 13，40：冷却器 14，55：脱水機 ３，15，25：処理水槽 ４，16，26：ボイラ 18，28：廃水タンク 21，36：アンモニアストリッピング塔 23，38：真空ポンプ 39：蒸発器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 司朗 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 Ｆターム(参考） 4D038 AA08 AB29 AB57 BA02 BA04 BB02 BB03 BB13 BB17 BB18 BB20
Claims (5)
- 【請求項１】 シリカを多量に含む廃水を処理するに当
たり、該廃水をアルカリ性に調整してシリカの溶解度を
増し、蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液
を排水処理設備で処理する廃水回収再利用方法。 - 【請求項２】 シリカとＳＳ成分を多量に含む廃水を処
理するに当たり、該廃水を中性にして溶解シリカが析出
し易くするとともに、凝集剤を添加してＳＳ成分をフロ
ック化し、沈降槽でフロックを分離し、フロック分離後
の上澄み液をアルカリ性に調整し、蒸発器で処理し、蒸
留水を回収再利用し、濃縮液を冷却器で冷却した後廃水
側へ返送して処理する廃水回収再利用方法。 - 【請求項３】 シリカとアンモニアを多量に含む廃水を
処理するに当たり、廃水をアルカリ性に調整し、アンモ
ニアストリッピング塔でアンモニアを除去し、アンモニ
ア除去後の液を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用
し、濃縮液を廃水設備で処理する廃水回収再利用方法。 - 【請求項４】 シリカ、アンモニアとＳＳ成分を含む廃
水を処理するに当たり、廃水を中性にして溶解シリカが
析出し易くするとともに、凝集剤を添加してＳＳ成分を
フロック化し、沈降槽でフロックを分離し、フロック分
離後の上澄み液をアルカリ性に調整し、アンモニアスト
リッピング塔でアンモニアを除去し、アンモニア除去後
の液を蒸発器で処理し、蒸留水を回収再利用し、濃縮液
を冷却器で冷却した後廃水側へ返送して処理する廃水回
収再利用方法。 - 【請求項５】 蒸発器として多重効用蒸発器を用いる請
求項１〜４のいずれか１項記載の廃水回収再利用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35090998A JP3861191B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 廃水回収再利用方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP35090998A JP3861191B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 廃水回収再利用方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000167568A true JP2000167568A (ja) | 2000-06-20 |
| JP3861191B2 JP3861191B2 (ja) | 2006-12-20 |
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|---|---|---|---|
| JP35090998A Expired - Fee Related JP3861191B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 廃水回収再利用方法 |
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| JP (1) | JP3861191B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002224524A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-08-13 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 不純物除去装置 |
| JP2005349346A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Ael:Kk | 珪素含有廃水の処理方法、並びにその生成物を用いた難燃性断熱材および難燃性積層物 |
| KR100809554B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-03-07 | 두산중공업 주식회사 | 담수화 시스템의 라임 도징 장치 |
| JP2011203031A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Aquas Corp | 冷却水水質の測定方法、冷却水水質の管理方法、および冷却水への水処理薬剤注入方法 |
| JP2016180517A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社 | 冷却システムの運転方法 |
| CN114409133A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-04-29 | 新疆天业汇合新材料有限公司 | 一种有效去除高硅浓盐废水中硅的方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN110015707B (zh) * | 2019-03-05 | 2020-11-27 | 厦门顺米可微电子科技有限公司 | 一种光刻胶废剥离液回收装置 |
-
1998
- 1998-12-10 JP JP35090998A patent/JP3861191B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2011203031A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Aquas Corp | 冷却水水質の測定方法、冷却水水質の管理方法、および冷却水への水処理薬剤注入方法 |
| JP2016180517A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社 | 冷却システムの運転方法 |
| CN114409133A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-04-29 | 新疆天业汇合新材料有限公司 | 一种有效去除高硅浓盐废水中硅的方法 |
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