JP2000155436A - 電子写真感光体用支持体 - Google Patents
電子写真感光体用支持体Info
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な成膜外観および均一な電気、画像特性
を備えた電子写真感光体を製造することのできる、安価
でかつ容易に均一な表面が得られる支持体を提供する。 【解決手段】 表面加工がサンドブラスト加工により実
施された電子写真感光体用支持体において、該サンドブ
ラスト加工前の表面粗さＲｚ（μｍ）が該サンドブラス
ト加工で用いられた研掃材の平均粒径（μｍ）と同等か
それよりも小さい。
を備えた電子写真感光体を製造することのできる、安価
でかつ容易に均一な表面が得られる支持体を提供する。 【解決手段】 表面加工がサンドブラスト加工により実
施された電子写真感光体用支持体において、該サンドブ
ラスト加工前の表面粗さＲｚ（μｍ）が該サンドブラス
ト加工で用いられた研掃材の平均粒径（μｍ）と同等か
それよりも小さい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、その表面に感光層
が設けられて電子写真感光体が形成される電子写真感光
体用導電性支持体（以下単に「支持体」とも称する）に
関し、詳しくは、電子写真複写機および電子写真プリン
ターに適した電子写真感光体に用いられる支持体に関す
る。
が設けられて電子写真感光体が形成される電子写真感光
体用導電性支持体（以下単に「支持体」とも称する）に
関し、詳しくは、電子写真複写機および電子写真プリン
ターに適した電子写真感光体に用いられる支持体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】円筒形支持体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体においては、かかる円筒形支持体として主
にアルミニウムを使用するが、その上に設ける感光層の
特性を十分に発揮させるために、該支持体表面の仕上げ
加工にはさまざまな方法が用いられている。具体的に
は、バイトによる切削加工仕上げ、研磨材を用いたテー
プやホイールによる研削仕上げ、バフ研磨仕上げ、ホー
ニング仕上げ、化学研磨仕上げ等である。
子写真感光体においては、かかる円筒形支持体として主
にアルミニウムを使用するが、その上に設ける感光層の
特性を十分に発揮させるために、該支持体表面の仕上げ
加工にはさまざまな方法が用いられている。具体的に
は、バイトによる切削加工仕上げ、研磨材を用いたテー
プやホイールによる研削仕上げ、バフ研磨仕上げ、ホー
ニング仕上げ、化学研磨仕上げ等である。
【０００３】また、支持体の材質としてはＪＩＳ規格Ａ
１０００系、３０００系、６０００系等が好んで使用さ
れており、最近では、感光体市場価格の低下とともに、
押し出し管に引抜き加工やしごき加工を行うのみで所定
の表面状態や寸法精度が得られる無切削仕上げ素管が多
用されている。
１０００系、３０００系、６０００系等が好んで使用さ
れており、最近では、感光体市場価格の低下とともに、
押し出し管に引抜き加工やしごき加工を行うのみで所定
の表面状態や寸法精度が得られる無切削仕上げ素管が多
用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
無切削仕上げ素管表面は、ポートホール管特有のスジが
円筒軸方向に存在し、微小な傷や凹みを伴う場合もある
ため、必ずしも感光層の形成に際し十分な表面状態であ
るとは言えず、引き抜き応力、表面酸化度、表面硬度、
ぬれ性等のばらつきが顕著である。また、引き抜き時に
用いる高粘性油の均一な脱脂処理も難しく、これらの影
響により、感光層の形成の際に均一な膜厚・膜質を得る
ことが困難で、外観特性の低下や画像特性における濃度
ムラが発生し易かった。さらに、バイトによる切削加工
や研磨ホイール等による加工においても微小なバリやス
クラッチが発生するため、成膜後の画像品質を良好に保
つことは困難であった。
無切削仕上げ素管表面は、ポートホール管特有のスジが
円筒軸方向に存在し、微小な傷や凹みを伴う場合もある
ため、必ずしも感光層の形成に際し十分な表面状態であ
るとは言えず、引き抜き応力、表面酸化度、表面硬度、
ぬれ性等のばらつきが顕著である。また、引き抜き時に
用いる高粘性油の均一な脱脂処理も難しく、これらの影
響により、感光層の形成の際に均一な膜厚・膜質を得る
ことが困難で、外観特性の低下や画像特性における濃度
ムラが発生し易かった。さらに、バイトによる切削加工
や研磨ホイール等による加工においても微小なバリやス
クラッチが発生するため、成膜後の画像品質を良好に保
つことは困難であった。
【０００５】従って、高品質の成膜外観や画像を確実に
得るためには、様々な支持体表面の仕上げ加工を施すこ
とが必要となる。通常は粗仕上げ加工後に本仕上げ加工
を行うが、感光層の構成によっては、仕上げ加工後の表
面に陽極酸化膜等を形成することを必要とする場合もあ
った。このため、支持体は非常に高価なものとなり、製
造コストにおいて大きな比率を占め、その結果、高品質
な感光体を極めて安価な支持体を用いて製造すること
が、従来技術では解決できない大きな課題であった。
得るためには、様々な支持体表面の仕上げ加工を施すこ
とが必要となる。通常は粗仕上げ加工後に本仕上げ加工
を行うが、感光層の構成によっては、仕上げ加工後の表
面に陽極酸化膜等を形成することを必要とする場合もあ
った。このため、支持体は非常に高価なものとなり、製
造コストにおいて大きな比率を占め、その結果、高品質
な感光体を極めて安価な支持体を用いて製造すること
が、従来技術では解決できない大きな課題であった。
【０００６】そこで本発明の目的は、かかる点に鑑み、
良好な成膜外観および均一な電気、画像特性を備えた電
子写真感光体を製造することのできる、安価でかつ容易
に均一な表面が得られる支持体を提供することにある。
良好な成膜外観および均一な電気、画像特性を備えた電
子写真感光体を製造することのできる、安価でかつ容易
に均一な表面が得られる支持体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、サンドブラスト加工前の
支持体表面粗さＲｚと、該サンドブラスト加工で用いら
れた研掃材（メディア）の平均粒径とに特定の関係をも
たせることにより上記目的を達成し得ることを見出し、
本発明を完成するに至った。
解決すべく鋭意検討した結果、サンドブラスト加工前の
支持体表面粗さＲｚと、該サンドブラスト加工で用いら
れた研掃材（メディア）の平均粒径とに特定の関係をも
たせることにより上記目的を達成し得ることを見出し、
本発明を完成するに至った。
【０００８】即ち、本発明の支持体は、表面加工がサン
ドブラスト加工により実施された支持体において、該サ
ンドブラスト加工前の表面粗さＲｚ（μｍ）が該サンド
ブラスト加工で用いられた研掃材の平均粒径（μｍ）と
同等かそれよりも小さいことを特徴とするものである。
ドブラスト加工により実施された支持体において、該サ
ンドブラスト加工前の表面粗さＲｚ（μｍ）が該サンド
ブラスト加工で用いられた研掃材の平均粒径（μｍ）と
同等かそれよりも小さいことを特徴とするものである。
【０００９】前記サンドブラスト加工は、支持体表面積
の１００％未満で実施されていることが好ましい。
の１００％未満で実施されていることが好ましい。
【００１０】本発明においては、無切削仕上げ素管等の
安価に得ることのできる支持体材料を用いることができ
る。かかる支持体材料表面を、引き抜き加工やしごき加
工等の各種加工方法にて仕上げた後、清浄化して、本発
明に係る乾式ブラスト加工を施すことにより、体表面の
酸化度、表面硬度および表面ぬれ性を均一化することが
できる。また、前記ブラスト加工により微細かつ緻密に
粗れた表面状態が得られるために、入射光の乱反射によ
り、半導体レーザーのような長波長単色可干渉光の多重
反射による画像干渉縞模様の発生を抑制する効果が高い
ことが分かった。
安価に得ることのできる支持体材料を用いることができ
る。かかる支持体材料表面を、引き抜き加工やしごき加
工等の各種加工方法にて仕上げた後、清浄化して、本発
明に係る乾式ブラスト加工を施すことにより、体表面の
酸化度、表面硬度および表面ぬれ性を均一化することが
できる。また、前記ブラスト加工により微細かつ緻密に
粗れた表面状態が得られるために、入射光の乱反射によ
り、半導体レーザーのような長波長単色可干渉光の多重
反射による画像干渉縞模様の発生を抑制する効果が高い
ことが分かった。
【００１１】これらの作用により、積層型感光体製造の
際には、支持体上に初めに形成する機能材料膜を均一で
膜厚ムラの少ない安定した状態とすることができ、その
上に順次積層する機能材料膜についても同様に良好な状
態で形成することが可能となる。従って、全体として、
膜厚ムラの少ない安定した特性の高外観、高画像品質の
感光体を安価でかつ容易に得ることができる。
際には、支持体上に初めに形成する機能材料膜を均一で
膜厚ムラの少ない安定した状態とすることができ、その
上に順次積層する機能材料膜についても同様に良好な状
態で形成することが可能となる。従って、全体として、
膜厚ムラの少ない安定した特性の高外観、高画像品質の
感光体を安価でかつ容易に得ることができる。
【００１２】また、本発明による付随的効果として、表
面が微細に粗れるために加工前比で表面積が増大するこ
とから、感光材料と支持体との密着性が向上するという
利点もある。
面が微細に粗れるために加工前比で表面積が増大するこ
とから、感光材料と支持体との密着性が向上するという
利点もある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて説明する。本発明の支持体は、特に有機系電子写真
感光体への適用に有効であり、かかる有機系の機能材料
膜の形成方法としては、浸漬引上げ塗布法において大き
な効果が得られる。本発明に用いる支持体材料は主にア
ルミニウムまたはアルミニウム合金であるが、合成樹
脂、例えばポリエチレンテレクタレート（ＰＥＴ）、ポ
リイミド（ＰＩ）等の継ぎ目無しベルトにも用いること
が可能である。
いて説明する。本発明の支持体は、特に有機系電子写真
感光体への適用に有効であり、かかる有機系の機能材料
膜の形成方法としては、浸漬引上げ塗布法において大き
な効果が得られる。本発明に用いる支持体材料は主にア
ルミニウムまたはアルミニウム合金であるが、合成樹
脂、例えばポリエチレンテレクタレート（ＰＥＴ）、ポ
リイミド（ＰＩ）等の継ぎ目無しベルトにも用いること
が可能である。
【００１４】サンドブラスト加工前における支持体の表
面粗さは、Ｒｍａｘが５．０μｍ以下、ＪＩＳ規格の１
０点平均粗さＲｚが３．０μｍ以下のものが好ましく、
乾式のサンドブラスト加工に用いる研掃材としては、酸
化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（Ｓｉ
Ｃ）、鉄、ガラス、樹脂等が効果がある。特には、支持
体表面への研掃材残留時に感光体品質上影響の少ないＡ
ｌ２Ｏ３を用いるのが好ましい。
面粗さは、Ｒｍａｘが５．０μｍ以下、ＪＩＳ規格の１
０点平均粗さＲｚが３．０μｍ以下のものが好ましく、
乾式のサンドブラスト加工に用いる研掃材としては、酸
化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（Ｓｉ
Ｃ）、鉄、ガラス、樹脂等が効果がある。特には、支持
体表面への研掃材残留時に感光体品質上影響の少ないＡ
ｌ２Ｏ３を用いるのが好ましい。
【００１５】サンドブラスト加工前の研掃材の粒径と支
持体の表面粗さとの関係は、例えば、支持体表面粗さＲ
ｚが３．０μｍのものに対し、平均粒径１．５μｍのＡ
ｌ２Ｏ３の研掃材を用いてサンドブラスト加工した場
合、合理的な条件範囲ではもとの支持体が持つ粗さ成分
を顕著に変化させるまでには至らず、前加工で発生して
いる微小なバリやスクラッチを消すことはできない。ま
た、研掃材が微小になればなる程、研掃材を安定供給す
ることが困難になると同時に研掃材コストも高くなるた
め、高品質な支持体を安価で提供するという目的に対し
て意味をなさなくなる。一方、Ｒｚが１．５μｍの支持
体に平均粒径３μｍの研掃材を用いて加工した場合に
は、吹き付け圧にもよるが、加工前のバリやスクラッチ
が排除できると同時にランダムで微細に粗れた濡れ性の
良い表面を得ることができ、塗布ムラの軽減、画像欠陥
の低減が可能となる。さらに、支持体と研掃材とが共に
３μｍの場合にも、十分ではないが効果が確認された。
従って、本発明の効果を得るには、支持体粗さＲｚを研
掃材平均粒径と同等かそれよりも小さくすることが必要
である。
持体の表面粗さとの関係は、例えば、支持体表面粗さＲ
ｚが３．０μｍのものに対し、平均粒径１．５μｍのＡ
ｌ２Ｏ３の研掃材を用いてサンドブラスト加工した場
合、合理的な条件範囲ではもとの支持体が持つ粗さ成分
を顕著に変化させるまでには至らず、前加工で発生して
いる微小なバリやスクラッチを消すことはできない。ま
た、研掃材が微小になればなる程、研掃材を安定供給す
ることが困難になると同時に研掃材コストも高くなるた
め、高品質な支持体を安価で提供するという目的に対し
て意味をなさなくなる。一方、Ｒｚが１．５μｍの支持
体に平均粒径３μｍの研掃材を用いて加工した場合に
は、吹き付け圧にもよるが、加工前のバリやスクラッチ
が排除できると同時にランダムで微細に粗れた濡れ性の
良い表面を得ることができ、塗布ムラの軽減、画像欠陥
の低減が可能となる。さらに、支持体と研掃材とが共に
３μｍの場合にも、十分ではないが効果が確認された。
従って、本発明の効果を得るには、支持体粗さＲｚを研
掃材平均粒径と同等かそれよりも小さくすることが必要
である。
【００１６】サンドブラスト加工の条件としては、吹き
付け圧は５ｋｇ／ｃｍ２以下、支持体の回転数は５００
ｒｐｍ以下、支持体と吹き付けノズル間の距離は２００
ｍｍ以下、ノズルの移動速度は３〜５０ｍｍ／秒の範囲
内で、所望の表面が得られるように条件を設定して行う
ことが好ましい。
付け圧は５ｋｇ／ｃｍ２以下、支持体の回転数は５００
ｒｐｍ以下、支持体と吹き付けノズル間の距離は２００
ｍｍ以下、ノズルの移動速度は３〜５０ｍｍ／秒の範囲
内で、所望の表面が得られるように条件を設定して行う
ことが好ましい。
【００１７】上述のサンドブラスト加工で得られた本発
明の支持体は、サンドブラスト加工前の支持体に比べ、
若干ではあるが電荷注入抑制効果が高くなる。これは乾
式ブラスト加工によって酸化膜被覆率（酸化度）が高く
なるためである。
明の支持体は、サンドブラスト加工前の支持体に比べ、
若干ではあるが電荷注入抑制効果が高くなる。これは乾
式ブラスト加工によって酸化膜被覆率（酸化度）が高く
なるためである。
【００１８】また、本発明におけるサンドブラスト加工
は、加工時間の短縮および加工後の取扱等への考慮か
ら、支持体の両端をマスキングして実施することが好ま
しい。即ち、支持体の全表面積をサンドブラスト加工し
ない方が好ましい。
は、加工時間の短縮および加工後の取扱等への考慮か
ら、支持体の両端をマスキングして実施することが好ま
しい。即ち、支持体の全表面積をサンドブラスト加工し
ない方が好ましい。
【００１９】本発明の支持体を用いて感光体を成膜する
にあたっては、所望の品質を得るために電荷注入抑制作
用や画像欠陥抑制作用が必要な場合には、下引き層を設
けることが有効である。本発明によれば、容易に均一な
成膜が可能であるため、外観品質、画像品質共に優れた
感光体を得ることができる。
にあたっては、所望の品質を得るために電荷注入抑制作
用や画像欠陥抑制作用が必要な場合には、下引き層を設
けることが有効である。本発明によれば、容易に均一な
成膜が可能であるため、外観品質、画像品質共に優れた
感光体を得ることができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例に基づい
て説明する。実施例１ 肉厚０．７５ｍｍ、口径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ、表
面粗さＲｚ１．５μｍの無切削仕上げアルミニウム製素
管（支持体材料）を用意し、これを水系弱アルカリ洗浄
液（ＰＨ＝８）で脱脂して清浄化した後、図１に示す乾
式ブラスト装置によって加工を行った。図１に示す乾式
ブラスト装置において、円筒支持体１を回転支持台３上
に据え付けて、回転させながらサンドブラスト加工を施
した。研掃材吹き付けノズル２は、支持体１の軸方向Ｄ
に沿って移動させた。図中、ＡおよびＢは、それぞれ研
掃材および圧縮空気の供給を示しており、またＣは支持
体−ノズル間距離を示している。ブラスト加工条件は、
研掃材粒径＃３０００（平均粒径５μｍ）のＡｌ２Ｏ３
を用いて、４ｋｇ／ｃｍ２の吹き付け圧力で６０ｒｐｍ
で回転する支持体に吹き付け、研掃材吹き付けノズルを
８ｍｍ／秒の速度で支持体の軸方向に移動させてサンド
ブラスト加工を施した。この時の支持体−吹き付けノズ
ル間Ｃの距離は５０ｍｍに保った。サンドブラスト加工
は、加工時間の短縮および加工後の取扱等を考慮して支
持体の両端５ｍｍをマスキングして実施した（支持体表
面積の９６％）。
て説明する。実施例１ 肉厚０．７５ｍｍ、口径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ、表
面粗さＲｚ１．５μｍの無切削仕上げアルミニウム製素
管（支持体材料）を用意し、これを水系弱アルカリ洗浄
液（ＰＨ＝８）で脱脂して清浄化した後、図１に示す乾
式ブラスト装置によって加工を行った。図１に示す乾式
ブラスト装置において、円筒支持体１を回転支持台３上
に据え付けて、回転させながらサンドブラスト加工を施
した。研掃材吹き付けノズル２は、支持体１の軸方向Ｄ
に沿って移動させた。図中、ＡおよびＢは、それぞれ研
掃材および圧縮空気の供給を示しており、またＣは支持
体−ノズル間距離を示している。ブラスト加工条件は、
研掃材粒径＃３０００（平均粒径５μｍ）のＡｌ２Ｏ３
を用いて、４ｋｇ／ｃｍ２の吹き付け圧力で６０ｒｐｍ
で回転する支持体に吹き付け、研掃材吹き付けノズルを
８ｍｍ／秒の速度で支持体の軸方向に移動させてサンド
ブラスト加工を施した。この時の支持体−吹き付けノズ
ル間Ｃの距離は５０ｍｍに保った。サンドブラスト加工
は、加工時間の短縮および加工後の取扱等を考慮して支
持体の両端５ｍｍをマスキングして実施した（支持体表
面積の９６％）。
【００２１】前記サンドブラスト加工により、アルミニ
ウム製支持体表面は光沢のない灰色の表面となった。ま
た、ポートホール管の継ぎ目スジも解消されており、目
視において表面状態は極めて均一化された。微細に粗れ
た表面は良好な状態であって、レーザー顕微鏡による表
面状態観察においても研掃材の突き刺さりや残留等はな
かった。同様に非接触で表面粗さＲｍａｘを測定したと
ころ、１．０〜１．５μｍであった。接触式の粗さ計に
おいては約半分のＲｍａｘ０．５〜０．８μｍの値を得
た。以上のような加工、調査を行った支持体上に、浸漬
塗布法により常法に従い下引き層、電荷発生層および電
荷輸送層をそれぞれ４μｍ、０．３μｍおよび２０μｍ
の膜厚で順次積層して電子写真感光体を得た。
ウム製支持体表面は光沢のない灰色の表面となった。ま
た、ポートホール管の継ぎ目スジも解消されており、目
視において表面状態は極めて均一化された。微細に粗れ
た表面は良好な状態であって、レーザー顕微鏡による表
面状態観察においても研掃材の突き刺さりや残留等はな
かった。同様に非接触で表面粗さＲｍａｘを測定したと
ころ、１．０〜１．５μｍであった。接触式の粗さ計に
おいては約半分のＲｍａｘ０．５〜０．８μｍの値を得
た。以上のような加工、調査を行った支持体上に、浸漬
塗布法により常法に従い下引き層、電荷発生層および電
荷輸送層をそれぞれ４μｍ、０．３μｍおよび２０μｍ
の膜厚で順次積層して電子写真感光体を得た。
【００２２】比較例１ 実施例１で用いた表面粗さＲｚが１．５μｍの無切削仕
上げアルミ素管の代わりにＲｚが２．５μｍの切削加工
アルミ素管を、また実施例１で用いた研掃材粒径＃３０
００（平均粒径５μｍ）のＡｌ２Ｏ３の代わりに粒径＃
５０００（平均粒径２μｍ）のＡｌ２Ｏ３を用いた他は
実施例１と同様にしてサンドブラスト加工を実施し、そ
の他条件も実施例１と同様の処理を行って、電子写真感
光体を得た。
上げアルミ素管の代わりにＲｚが２．５μｍの切削加工
アルミ素管を、また実施例１で用いた研掃材粒径＃３０
００（平均粒径５μｍ）のＡｌ２Ｏ３の代わりに粒径＃
５０００（平均粒径２μｍ）のＡｌ２Ｏ３を用いた他は
実施例１と同様にしてサンドブラスト加工を実施し、そ
の他条件も実施例１と同様の処理を行って、電子写真感
光体を得た。
【００２３】実施例１および比較例１で得た電子写真感
光体を、画像特性、成膜外観および電気特性について評
価した。その結果を、以下の表１に示す。
光体を、画像特性、成膜外観および電気特性について評
価した。その結果を、以下の表１に示す。
【００２４】
【表１】 尚、表中の評価は、標準値を「○」とし、より優れた結
果を「◎」、より劣る結果を「△」として相対的に行っ
た。
果を「◎」、より劣る結果を「△」として相対的に行っ
た。
【００２５】上記表１より、本発明に係る実施例の感光
体は、画像特性、成膜外観および電気特性の全てにおい
て、比較例の感光体より優れていることが確認できた。
体は、画像特性、成膜外観および電気特性の全てにおい
て、比較例の感光体より優れていることが確認できた。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、安価かつ容易に均一な
表面の電子写真感光体用支持体を得ることができ、これ
を用いて良好な成膜外観、均一な電気／画像特性を備え
た電子写真感光体を製造、提供することが可能となる。
表面の電子写真感光体用支持体を得ることができ、これ
を用いて良好な成膜外観、均一な電気／画像特性を備え
た電子写真感光体を製造、提供することが可能となる。
【図１】本発明の実施例に係る乾式ブラスト装置の概念
図である。
図である。
１ 導電性円筒支持体 ２ 研掃材吹き付けノズル ３ 回転支持台 Ａ 研掃材供給 Ｂ 圧縮空気供給 Ｃ 支持体−ノズル間距離 Ｄ ノズルの移動方向
Claims (2)
- 【請求項１】 表面加工がサンドブラスト加工により実
施された電子写真感光体用支持体において、該サンドブ
ラスト加工前の表面粗さＲｚ（μｍ）が該サンドブラス
ト加工で用いられた研掃材の平均粒径（μｍ）と同等か
それよりも小さいことを特徴とする電子写真感光体用支
持体。 - 【請求項２】 前記サンドブラスト加工による表面加工
が、電子写真感光体用支持体の両端をマスキングして実
施された請求項１記載の電子写真感光体用支持体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33303298A JP2000155436A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 電子写真感光体用支持体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33303298A JP2000155436A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 電子写真感光体用支持体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000155436A true JP2000155436A (ja) | 2000-06-06 |
Family
ID=18261517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33303298A Pending JP2000155436A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | 電子写真感光体用支持体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000155436A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004010552A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Hisamitsu Pharmaceut Co Inc | 貼付剤 |
| JP2012058366A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
| JP2018156106A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-10-04 | 京セラ株式会社 | 電子写真感光体および画像形成装置 |
-
1998
- 1998-11-24 JP JP33303298A patent/JP2000155436A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004010552A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Hisamitsu Pharmaceut Co Inc | 貼付剤 |
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