JP2000155282A

JP2000155282A - 光走査装置及びこれを有する画像形成装置

Info

Publication number: JP2000155282A
Application number: JP10329948A
Authority: JP
Inventors: Koji Masuda; 浩二増田
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1998-11-19
Filing date: 1998-11-19
Publication date: 2000-06-06

Abstract

(57)【要約】【課題】光学性能の劣化を抑制しつつ光折曲手段による
光の折曲げ角度を複数設定可能であって複数のタイプの
画像形成装置に共通して適用可能な安価な光走査装置の
提供。【解決手段】レーザービームを放射する光源２と、レー
ザービームを偏向して潜像担持体１２上を走査するため
の光偏向手段３と、光偏向手段３によって偏向されたレ
ーザービームを潜像担持体１２に向けて折り曲げる光折
曲手段１１とを有し、光折曲手段１１は、レーザービー
ムの折曲げ角度を可変であり、光折曲手段１１によるレ
ーザービームの折曲げ角度に応じて、レーザービームの
偏光方向を設定する光走査装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置、詳し
くは同一の光折曲手段を用いてもその光の折曲げ角度を
複数設定可能であって、複数のタイプの画像形成装置に
共通して適用可能な光走査装置及びこれを有する画像形
成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】複写機、ファクシミリ、プリンタ等の画
像形成装置に具備された光走査装置が従来知られてい
る。光走査装置は、レーザービームを放射する光源と、
レーザービームを偏向して潜像担持体上を走査するため
の光偏向手段と、光偏向手段によって偏向されたレーザ
ービームを潜像担持体に向けて折り曲げる光折曲手段等
を有している。従来の光走査装置は、静電潜像担持体の
配置位置に応じて光折曲手段の配置位置及び折曲げ角度
すなわち設置角を決定していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにし
て光折曲手段の配置位置等を決定していたのでは、走査
結像素子等によって決定される光学特性が等しい画像形
成装置であっても、静電潜像担持体と光走査装置との配
置関係が異なれば、その配置位置等を変えなければなら
ないため、画像形成装置ごとに光走査装置を設計する必
要があった。

【０００４】一方、近年資源の有効利用の観点から、光
走査装置においてもそのリサイクルの必要性が高まって
いる。リサイクルは、製品のサイクルが短期化している
近年においてとくに要請が高まってきているが、１つの
タイプの画像形成装置にのみ使用可能な光走査装置は、
静電潜像担持体と光走査装置との配置関係が異なる他の
タイプの画像形成装置に使用できないため、このような
要請に応えることが困難である。

【０００５】また、光折曲手段として通常結像性能を持
たないミラーを用いた場合には、ビームスポット径や等
速性といったパラメータに関して影響を与えることはな
いが、その設置角すなわちレーザービームの反射角が、
光走査時における１ラインの光強度変動すなわちシェー
ディングに大きな変動を与えるという特性がある。しか
し、光折曲手段の配置位置等は潜像担持体との配置関係
によって決定されるため、シェーディングを向上させる
ための手段として、光折曲手段、例えば、ミラー表面へ
の蒸着を選択するとすれば、蒸着膜の形成には大きなコ
ストがかかるため、装置のコストアップを招いてしま
う。

【０００６】本発明は、光学性能の劣化を抑制しつつ光
折曲手段による光の折曲げ角度を複数設定可能であって
複数のタイプの画像形成装置に共通して適用可能な安価
な光走査装置及びこれを有する画像形成装置を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、レーザービームを放射する
光源と、レーザービームを偏向して潜像担持体上を走査
するための光偏向手段と、光偏向手段によって偏向され
たレーザービームを潜像担持体に向けて折り曲げる光折
曲手段とを有する光走査装置において、上記光折曲手段
は、レーザービームの折曲げ角度を可変であり、上記光
折曲手段によるレーザービームの折曲げ角度に応じて、
レーザービームの偏光方向を設定することを特徴とす
る。

【０００８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
走査装置において、上記光折曲手段を回動可能に支持す
る支持手段を有し、この支持手段により上記光折曲手段
の支持角度を変えて、レーザービームの折曲げ角度を設
定することを特徴とする。

【０００９】請求項３記載の発明は、請求項１記載の光
走査装置において、上記光折曲手段を複数の取付角で取
り付け可能な取付部を有し、取付位置を選択することに
よりレーザービームの折曲げ角度を設定することを特徴
とする。

【００１０】請求項４記載の発明は、請求項１ないし３
の何れか１つに記載の光走査装置において、上記光源は
光軸の回りに回動可能であり、上記光源を回動すること
によりレーザービームの偏光方向を設定することを特徴
とする。

【００１１】請求項５記載の発明は、請求項１ないし４
の何れか１つに記載の光走査装置において、上記光折曲
手段の取付位置を複数有することを特徴とする。

【００１２】請求項６記載の発明は、請求項１ないし５
の何れか１つに記載の光走査装置において、レーザービ
ームの偏光方向に応じてレーザービームのスポット径を
制御する径制御手段を有することを特徴とする。

【００１３】請求項７記載の発明は、請求項１ないし６
の何れか１つに記載の光走査装置を有する画像形成装置
にある。

【００１４】

【実施例】図１に示すように、光走査装置１は、レーザ
ービーム（以下「ビーム」という）を放射する半導体レ
ーザである光源２と、光源２からのビームを偏向して潜
像担持体としての感光体１２上を走査するための光偏向
手段としての回転多面鏡であるポリゴンミラー３と、ポ
リゴンミラー３を回転駆動するスキャナモータ４と、光
源２から放射されたビームを弱い収束性の光束に変換す
るカップリングレンズ５と、カップリングレンズ５を透
過したビームのビームスポット径を制御する開口７を有
する径制御手段としてのアパーチャー６と、アパーチャ
ー６からのビームをポリゴンミラー３の偏向反射面とし
ての反射面９上に細長い線像として集光するシリンドリ
カルレンズ８と、単玉のｆθレンズからなりポリゴンミ
ラー３からのビームを感光体１２上に結像するための走
査結像レンズ１０と、走査結像レンズ１０を透過したビ
ームを感光体１２に向けて折り曲げる、すなわち反射す
る光折曲手段としてのミラー１１と、ポリゴンミラー２
により偏向されミラー１１に入射する前のビームを検知
する書込み開始用の同期検知センサ１３とを有してい
る。

【００１５】本実施例においてもそうであるように、光
折曲手段としては、通常、ミラーが用いられる。その理
由の１つは、光走査光学系の光路長すなわち本実施例に
おいてポリゴンミラー３である光偏向手段から本実施例
において感光体１２である潜像担持体までの距離は、画
像形成装置のタイプによるが１５０ｍｍ〜数１００ｍｍ
と比較的長いため、光走査装置を小型化するには、光路
をミラーによって折り曲げることが適しているからであ
る。もう１つの理由としては、画像形成装置内における
潜像担持体の位置と光走査装置との配置関係は画像形成
装置のタイプによって様々であるにもかかわらず、所望
の位置すなわち潜像担持体上にビームを導くためには、
ミラーを用いてレイアウトの自由度を担保する必要があ
ることがあげられる。このため本実施例においても光折
曲手段としてミラー１１を用いているのであるが、上述
の理由から、その数は１枚でなく２枚以上でもよい。ま
た、光折曲手段としてプリズムを用いることもできる
し、ミラーとプリズムを組み合わせて用いてもよい。

【００１６】図２に示すように、ミラー１１は、その両
端を支持手段１６により回動可能に支持されている。支
持手段１６は、ミラー１１の端部を挟持する挟持部１４
と、挟持部１６に一体の回動軸１５とを有している。回
動軸１５の端部は光走査装置１のケーシング１７に図示
しない軸受を介して回転自在に支持されている。回動軸
１５を回転させることにより、ミラー１１の支持角度を
変え、ビームの折曲げ角度を設定することができる。ミ
ラー１１を感光体１２の配置位置等に応じて適切な位置
に取り付けることができるよう、ミラー１１の取付位置
は２点鎖線で示す位置にも取り付けることができるよう
になっている。このように光走査装置１はミラー１１の
支持角度を変化できることやミラーの取付位置を複数有
することにより、静電潜像担持体と光走査装置との配置
関係が異なるタイプの画像形成装置に共通して適用でき
る。

【００１７】図３に、ビームの折曲げ角度を可変とする
構成として、上述の支持手段とは別の構成である取付部
を示す。取付部１８は階段状をなし、ミラーを複数の取
付角すなわち傾斜角度で取付可能とし、支持角度を変化
させることができるようにしたものであり、取付位置を
選択することによりビームの折曲げ角度を設定するもの
である。図示した取付部１８はケーシング１７に形成し
たものであるが、取付部１８はケーシング１７とは別の
部材に設け、これをケーシング１７に固定することもで
きる。取付部１８は図２に２点鎖線で示したのと同様
に、光路中の複数箇所に設けることもできる。取付部１
８は支持手段１６と同様の作用を有する。光折曲手段と
してプリズムを用いる場合においても、支持手段、取付
部を適用できる。

【００１８】光源２には、一般的な光走査装置に用いら
れている、図４に示すような半導体レーザ１９を使用し
ている。半導体レーザ１９は活性層２０をクラッド層２
１で挟み込んだ構造である。実施例においてビームをな
す光束２３は、活性層２０から出射する。光束２３は、
その長軸方向が活性層の接合面に垂直な方向θ⊥を向い
た楕円形状のファーフィールドパターンを示す。また、
偏光状態については、振動方向２２が活性層の接合面に
平行な方向θ//を向く直線偏光をなしている。よって方
向θ⊥、方向θ//のそれぞれに関し、垂直横モード２
４、垂直横モード２４よりも幅の狭い水平横モード２５
をなしている。

【００１９】図５に本実施例のポリゴンミラー３におけ
る偏向反射面９の反射率を例示するが、一般に走査光学
装置である光走査装置を構成する光学素子の光減衰率す
なわち光の透過率、反射率は、光源の偏光状態によって
大きく異なる。Φは直線偏光の偏光方向が副走査方向と
なす角度で、偏光状態を表しており、Φ＝０°のとき偏
光反射面９に対してｓ偏光入射であり、Φ＝９０°のと
きｐ偏光入射である。図からも判るように、通常、入射
角すなわちビームの進行方向と主走査方向とのなす角度
が大きくなると、偏光状態による反射率のバラツキが大
きくなるというシェーディング特性がある。

【００２０】本実施例において、かかるシェーディング
特性に影響を与え得る光学素子としては、反射面９、走
査結像レンズ１０、ミラー１１がある。反射面９の偏向
角、走査結像レンズ１０の形状は、光学性能や書込み幅
等の要因によって決定されるためシェーディング特性を
優先的に考慮した選択を行うことができない。ミラー１
１においては、支持手段１６（図２）によりその折曲げ
角度すなわち反射角を変化することでシェーディングを
調整することも考えられるが、上述のように折曲げ角度
は光走査装置の小型化や、そのレイアウト上の条件を優
先して決定されるため、やはりミラー１１についてもこ
れをシェーディングを調整するための手段として用いる
ことはできない。もちろん、反射面９、走査結像レンズ
１０、ミラー１１等の光路中に存する部材に蒸着膜を不
均一に形成することによりシェーディングを向上させる
こともできるが、これは先に述べたようにコストの上昇
を招くので好ましくない。

【００２１】そこで本実施例では、光源２において放射
するビームの偏光状態を変化させることにより、シェー
ディングを変化させる構成すなわち、ミラー１１による
ビームの折曲げ角度に応じてビームの偏光方向を設定す
る構成を採用している。

【００２２】本実施例における光学データは、反射面９
から数えた面番号をｉ、各面の近軸曲率半径について主
走査方向にＲｉ、副走査方向にｒｉ、面間隔をｄｉ、屈
折率をＮとすると、 i Ri ri di N 0 - - 38.7 1.0 （偏向反射面） 1 202.336 -23.834 15.9 1.5193 （走査結像レンズ第１面） 2 -150.224 -13.000 86.3 1.0 （走査結像レンズ第２面） 3 - - 50.0 1.0 （ミラー） 4 - - - - （感光体面）である。

【００２３】ｉ＝１，２である走査結像レンズ１０の第
１、第２面は非球面形状をなしており、レンズ光軸方向
にＸ、主走査方向にＹを取ると、その形状は X=(Y²/R)/[1+√{1-(1+K)(Y/R)²}]+AY⁴+BY⁶+CY⁸+DY¹⁰+・・
・なる周知式に従う。ここで、 i K A B C D 1 -16.123 -7.040E-7 1.228E-10 2.718E-14 -8.114E-18 2 5.773 -1.895E-7 -7.874E-11 3.428E-14 7.277E-18 である。

【００２４】この条件において、ミラー１１によるビー
ムの折曲げ角度すなわち反射角θを図６に示すように２
０°とした場合における、直線偏光の偏光方向が副走査
方向となす角度Φとシェーディングとの関係表す計算結
果を図７に示し、反射角θを図８に示すように８０°と
した場合における角度Φとシェーディングとの関係を図
９に示す。

【００２５】図７、図９に表れた着目すべきデータを抜
き出すと、 Φ＝０° Φ＝３０° Φ＝６０° Φ＝９０° θ＝２０° ７．８％６．９％２．４％７．３％ θ＝８０° ７．８％９．３％４．７％８．３％であり、これより、本実施例においては、ビームをΦ＝
６０°程度の直線偏光状態とすることによりシェーディ
ングを良好にすることができることが分かった。したが
って本実施例においては、Φ＝６０°としているが、角
度Φは反射角θに応じて決定されるものである。

【００２６】角度Φを調整する手段としては、光源２を
光軸の回りに回動する構成を採用している。図示を省略
するが、光源２は円筒状の支持体に嵌め込み支持されて
いて、この支持体がケーシング１７に設けられた円筒状
の孔に勘合されている。ケーシング１７の孔の周り、支
持体にはそれぞれ角度を示すメモリと、取付方向を示す
印が付けられていて、偏光方向を確認しながら支持体を
孔に勘合できるようになっている。支持体は多角形断面
をなす筒状としてもよく、この場合、孔もその断面形状
に対応した形状となる。角度Φを調整する手段として
は、位相差板、電気光学デバイス等の周知の手段を用い
ることもできるが、部品コストの低廉さ、構成の単純
さ、効果の大きさを考慮すると、本実施例のように光源
２そのものを回転可能としてこれを回転させることが好
ましい。

【００２７】光源２を回転すると、これに伴いビームの
発光分布も変化するが、光源２とポリゴンミラー３との
間にアパーチャー６を設置し、開口７を通過させること
で、ビームスポット径を制御することができる。図１０
に、像高０ｍｍでの主走査方向のビームスポット径と角
度Φとの関係を示す。◇印は開口７を２．３５ｍｍ×
２．２１ｍｍとし、□印はΦ＝３０°のとき開口径を
２．５０ｍｍ×２．１７ｍｍとし、Φ＝６０°のとき開
口径を２．８２ｍｍ×２．０４ｍｍとし、Φ＝９０°の
とき開口径を３．００ｍｍ×１．９５ｍｍとしてビーム
スポット径を計算した結果である。図１０から明らかな
ように、光源２を回転しても、開口７の径を変えること
により、同等のビームスポット径を得ることができ、ビ
ームスポット径を所望の大きさに制御できる。

【００２８】光走査装置に関し、本実施例においては、
防音ガラスや防塵ガラス等の説明を省略しているが、こ
れらが光路中に存する場合であっても、上述した構成を
用いてそれらを調整することにより、シェーディングを
良好とすることができる。走査結像レンズ１０は単玉の
ｆθレンズであるが、２枚以上のｆθレンズであっても
よいし、同様の機能をもつのであれば、ｆθミラー等を
用いてもよい。

【００２９】本実施例は以上のような構成であるから、
光源２において放射された所望の偏光方向に調節された
ビームは、カップリングレンズ５で弱い収束性の光束に
変換され、所望のビームスポット系となるよう大きさを
決定された開口７を通過し、シリンドリカルレンズ８を
経て回転するポリゴンミラー３の反射面９上に細長い潜
像として集光して反射され、走査結像レンズ１０を透過
した後ミラー１１によって折り曲げられ、感光体１２上
を走査し、結像する。光源２の偏光方向はミラー１１の
折曲げ角度に応じシェーディングを良好にするように設
定されているため、感光体１２上に結像するビームの強
度は感光体１２の幅方向に亘ってほぼ均一となり、よっ
て静電潜像の電位はほぼ均一となる。

【００３０】ビームのミラー１１への入射開始側に配設
されている同期検知センサ１３がポリゴンミラー３によ
るレーザービームの偏向タイミングを検知し、これに基
づいて感光体１２に対する書込み開始のタイミングを制
御するとともに、画像形成装置本体側に存する形成画像
のデータに基づき、光源２の発光が制御され、所望の画
像を形成するための静電潜像が感光体１２上に正確に形
成される。光走査装置１によれば、シェーディングが良
好であるので、ムラのない良好な形成画像を得ることが
できる。

【００３１】ミラー１１は、支持手段１６、あるいは取
付部１７により、ビームの折曲げ角度を設定することが
できるようになっているうえ、光源２は、ミラー１１に
よるビームの折曲げ角度に応じてその偏光方向を設定で
きるようになっているので、同一のミラーや光源を用い
ても、光走査装置１はその感光体との配置関係が異なる
複数の機種の画像形成装置に対応でき、リサイクルにも
適している。

【００３２】図１１に光走査装置１を有する画像形成装
置としての複写機を示す。画像形成装置としては、複写
機の他、ファクシミリ、プリンタ等が挙げられる。複写
機６０は、画像読み取り手段としての画像読み取り装置
５１、画像形成部としてのプリンタ部５２及び自動原稿
送り装置５３などを有する。自動原稿送り装置５３はセ
ットされた原稿を１枚ずつ搬送して原稿台としてのコン
タクトガラス５４上にセットし、このコンタクトガラス
５４上の原稿を画像読み取り後に排出する。

【００３３】画像読み取り装置５１は、照明ランプ５５
及び反射鏡５６からなる光源と第１ミラー５７とを装備
した第１キャリッジと、第２ミラー５８及び第３ミラー
５９を装備した第２キャリッジと、フィルタ４０と、レ
ンズ４１と、撮像素子としてのＣＣＤからなるラインセ
ンサ４２とを有する。

【００３４】原稿画像読み取り時には、第１キャリッジ
が一定の速度で往動して第２キャリッジが第１キャリッ
ジの１／２の速度で第１キャリッジに追従して往動する
ことによりコンタクトガラス５４上の画像が光学的に走
査され、コンタクトガラス５４が照明ランプ５５及び反
射鏡５６により照明されてその反射光像が第１ミラー５
７、第２ミラー５８、第３ミラー５９、フィルタ４０を
介してレンズ４１によりラインセンサ４２上に結像され
る。

【００３５】ラインセンサ４２は結像された原稿の反射
光像を光電変換してアナログ画像信号として出力し、原
稿の画像読み取りが行われる。このとき、フィルタ４０
はＮＤフィルタが用いられ、単色の画像読み取りが行わ
れる。１枚の原稿の画像読み取りが終了すると、第１キ
ャリッジと第２キャリッジがホームポジションに復動す
る。

【００３６】なお、フィルタ４０としてレッド、グリー
ン、ブルー各色の色フィルタを有するものを用いてこの
３つの色フィルタを１回の画像読み取り毎に順次に切り
換えてラインセンサ４２からレッド、グリーン、ブルー
各色のアナログ画像信号を順次に得るようにしてもよ
い。また、ラインセンサ４２としてそれぞれレッド、グ
リーン、ブルー各色の色フィルタを備えた３ラインのＣ
ＣＤを用いるようにしてもよい。

【００３７】ラインセンサ４２からのアナログ画像信号
は、アナログ／デジタル変換器によりデジタル画像信号
に変換され、画像処理手段としての画像処理板４３にて
種々の画像処理（２値化、多値化、階調処理、変倍処
理、編集処理など）が施され、図示しない半導体駆動板
に送られる。

【００３８】プリンタ部５２においては、感光体１２
は、感光体ドラムを用いたが、感光体ベルトを用いても
よい。感光体１２は、複写動作時には、駆動部により回
転駆動されて帯電装置４６により均一に帯電されてか
ら、光走査装置１によりビームで露光されて画像が書き
込まれることにより静電潜像が形成される。このとき、
光走査装置１は画像処理板４３からのデジタル画像信号
により上記半導体駆動板で駆動される光源２からのビー
ムで感光体１２を露光し、感光体１２は光走査装置１に
よる画像書き込み位置では副走査方向に移動する。光走
査装置１においては、光源２は上記半導体駆動板にて画
像処理板４３からのデジタル画像信号により駆動されて
該デジタル画像信号により変調されたビームを出射す
る。光走査装置１は上述のよう構成であるから、感光体
１２上に所望の潜像が正確に形成される。感光体１２上
の静電潜像は現像装置４８により現像されてトナー像と
なる。

【００３９】一方、給紙装置３３〜３５のうち操作部な
どの選択手段で選択されたものから転写紙が選択された
転写紙としてレジストローラ３６へ給紙され（又は給紙
装置３３〜３５のいずれかより操作部又は自動用紙選択
手段からなる選択手段で選択されたサイズの転写紙が選
択された転写紙としてレジストローラ３６へ給紙さ
れ）、レジストローラ３６によりその転写紙が感光体１
２上の画像（トナー像）とタイミングを合わせて送出さ
れる。

【００４０】このレジストローラ３６から送出された転
写紙は、転写手段としての転写装置３０により感光体１
２上の画像が転写され、分離装置３１により感光体１２
から分離されて搬送装置３７により搬送される。この搬
送装置３７により搬送された転写紙は、定着装置３８に
より画像が定着され、コピーとしてトレイ３９上に排出
される。転写紙上の画像は、光走査装置１においてシェ
ーディングが良好であるので、ムラのない良好な画像で
ある。また、感光体１２は、転写紙分離後にクリーニン
グ装置３２によりクリーニングされて残留トナーが除去
される。

【００４１】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、レーザー
ビームを放射する光源と、レーザービームを偏向して潜
像担持体上を走査するための光偏向手段と、光偏向手段
によって偏向されたレーザービームを潜像担持体に向け
て折り曲げる光折曲手段とを有する光走査装置におい
て、上記光折曲手段は、レーザービームの折曲げ角度を
可変であり、上記光折曲手段によるレーザービームの折
曲げ角度に応じて、レーザービームの偏光方向を設定す
るので、光学性能すなわちシェーディングの劣化を抑制
しつつ光折曲手段による光の折曲げ角度を設定できるか
ら、光学的レイアウト上の自由度が高く、複数のタイプ
の画像形成装置に共通して適用可能な小型の光走査装置
であって、ムラがなく良好な画像形成を行うことができ
る画像形成装置に資する光走査装置を提供することがで
きる。

【００４２】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の光走査装置において、上記光折曲手段を回動可能に
支持する支持手段を有し、この支持手段により上記光折
曲手段の支持角度を変えて、レーザービームの折曲げ角
度を設定するので、簡易な構成で容易かつ自在にレーザ
ービームの折曲げ角度を設定でき、光学的レイアウト上
の自由度が高く、複数のタイプの画像形成装置に共通し
て適用可能な小型の光走査装置を提供することができ
る。

【００４３】請求項３記載の発明によれば、請求項１記
載の光走査装置において、上記光折曲手段を複数の取付
角で取り付け可能な取付部を有し、取付位置を選択する
ことによりレーザービームの折曲げ角度を設定するの
で、簡易な構成できわめて容易にレーザービームの折曲
げ角度を設定でき、光学的レイアウト上の自由度が高
く、複数のタイプの画像形成装置に共通して適用可能な
小型の光走査装置を提供することができる。

【００４４】請求項４記載の発明によれば、請求項１な
いし３の何れか１つに記載の光走査装置において、上記
光源は光軸の回りに回動可能であり、上記光源を回動す
ることによりレーザービームの偏光方向を設定するの
で、簡易な構成で容易に偏光方向を設定でき、複数のタ
イプの画像形成装置に共通して適用可能な小型で安価な
光走査装置であって、ムラがなく良好な画像形成を行う
ことができる画像形成装置に資する光走査装置を提供す
ることができる。

【００４５】請求項５記載の発明によれば、請求項１な
いし４の何れか１つに記載の光走査装置において、上記
光折曲手段の取付位置を複数有するので、シェーディン
グに有利な折曲げ角度となる取付位置を選択することが
できるから、光学的レイアウト上の自由度がさらに高
く、より多くのタイプの画像形成装置に共通して適用可
能な小型の光走査装置であって、ムラがなく良好な画像
形成を行うことができる画像形成装置に資する安価な光
走査装置を提供することができる。

【００４６】請求項６記載の発明によれば、請求項１な
いし５の何れか１つに記載の光走査装置において、レー
ザービームの偏光方向に応じてレーザービームのスポッ
ト径を制御する径制御手段を有するので、レーザービー
ムの偏光方向によらず所望のビームスポット径を得るこ
とができ、光学的レイアウト上の自由度が高く、複数の
タイプの画像形成装置に共通して適用可能な光走査装置
であって、ムラがなく良好な画像形成を行うことができ
る画像形成装置に資する光走査装置を提供することがで
きる。

【００４７】請求項７記載の発明は、請求項１ないし６
の何れか１つに記載の光走査装置を有する画像形成装置
にあるので、上述の効果を奏する光走査装置を有する、
設計上の自由度の高い画像形成装置を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光走査装置を示す斜視図であ
る。

【図２】支持手段を示す概略斜視図である。

【図３】取付部を示す断面図である。

【図４】光源に用いた半導体レーザ及びその特性を示す
概略図である。

【図５】直線偏光の偏光方向、入射角、反射率の相関図
である。

【図６】折曲手段による反射角を示す概略側面図であ
る。

【図７】図６に示した光走査装置における偏光方向とシ
ェーディングとの相関図である。

【図８】折曲手段による他の反射角を示す概略側面図で
ある。

【図９】図８に示した光走査装置における偏光方向とシ
ェーディングとの相関図である。

【図１０】偏光方向とビームスポット径及びビームスポ
ット径の制御結果を示す相関図である。

【図１１】本発明を適用した画像形成装置を示す概略側
視図である。

【符号の説明】

１光走査装置２光源３光偏向手段６径制御手段１１光折曲手段１２潜像担持体１６支持手段１７取付部６０画像形成装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H045 AA01 AG09 BA41 CA88 CA98 CB03 CB05 CB22 CB24 CB35 DA02 DA04 2H076 AB05 AB12 AB18 EA04 5C072 AA03 BA02 BA08 CA06 DA04 DA12 DA21 DA23 FB12 HA02 HB10 LA15 RA16 UA02 XA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザービームを放射する光源と、レーザ
ービームを偏向して潜像担持体上を走査するための光偏
向手段と、光偏向手段によって偏向されたレーザービー
ムを潜像担持体に向けて折り曲げる光折曲手段とを有す
る光走査装置において、上記光折曲手段は、レーザービームの折曲げ角度を可変
であり、上記光折曲手段によるレーザービームの折曲げ角度に応
じて、レーザービームの偏光方向を設定することを特徴
とする光走査装置。
【請求項２】請求項１記載の光走査装置において、上記
光折曲手段を回動可能に支持する支持手段を有し、この
支持手段により上記光折曲手段の支持角度を変えて、レ
ーザービームの折曲げ角度を設定することを特徴とする
光走査装置。
【請求項３】請求項１記載の光走査装置において、上記
光折曲手段を複数の取付角で取り付け可能な取付部を有
し、取付位置を選択することによりレーザービームの折
曲げ角度を設定することを特徴とする光走査装置。
【請求項４】請求項１ないし３の何れか１つに記載の光
走査装置において、上記光源は光軸の回りに回動可能で
あり、上記光源を回動することによりレーザービームの
偏光方向を設定することを特徴とする光走査装置。
【請求項５】請求項１ないし４の何れか１つに記載の光
走査装置において、上記光折曲手段の取付位置を複数有
することを特徴とする光走査装置。
【請求項６】請求項１ないし５の何れか１つに記載の光
走査装置において、レーザービームの偏光方向に応じて
レーザービームのスポット径を制御する径制御手段を有
することを特徴とする光走査装置。
【請求項７】請求項１ないし６の何れか１つに記載の光
走査装置を有する画像形成装置。