JP2000146837A - 被検物保持装置及び屈折率分布測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に被検物
を保持し、被検物の屈折率の分布を測定する装置におい
て、試液の温度を一定に制御することができる被検物保
持装置を提供する。 【解決手段】 屈折率が被検物とほぼ等しい試液内Ｂに
被検物Ａを保持するとともに相互に平行な入射窓２５と
射出窓２７とを有するセル２１と、該セル２１の外側に
設けられセルの少なくとも一部を液体Ｃに浸す容器３１
と、上記セル２１内の被検物Ａを光軸と直交する軸周り
に回転自在に保持する支持手段２３と、上記支持手段を
回転させる駆動手段３０２と、上記液体を上記容器内と
の間で循環させる循環装置３０４と、上記容器の外周を
覆う断熱部材４２と、を有する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、干渉縞の解析によ
り被検物の屈折率分布を３次元的に測定する技術に関
し、特に、被検物を屈折率がほぼ等しい試液内に保持す
る被検物保持装置と、この被検物保持装置を用いた屈折
率分布測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、レーザプリンタやカメラなどの光
学機器に使用される光学レンズの材料としてプラスチッ
クを用いることが多くなっている。プラスチック成形レ
ンズはガラス研磨レンズに比較して、コスト低減や非球
面レンズの製作性に優れ、安価であるというメリットが
ある。

【０００３】しかし、その反面、ガラスレンズに比べ製
造上、屈折率分布が不安定でレンズの内部に不均一性を
生じることがある。レンズ内部に不均一性があると、光
学特性に大きな影響を及ぼし、画質の劣化やボケといっ
た原因につながる。従って、レンズ内部の屈折率分布を
高精度に測定し、光学レンズの均質性を評価する必要が
ある。

【０００４】そこで、本発明の出願人は、先願の特願平
６−２０３５０２号において、被検物を試液中に浸した
状態で光軸と直交する軸を中心に回転させ、複数の回転
角位置の各々で干渉縞の解析を行い、これらの干渉縞か
ら透過波面量を算出し、これを一次フーリエ変換し、さ
らに、二次元逆フーリエ変換を行って屈折率の分布を求
める方法を提案した。

【０００５】図７を用いて具体的に説明する。同図の装
置は、マハツェンダ型の干渉計を基本構成としており、
可干渉光としてのレーザ光を射出する光源１と、ビーム
エキスパンダ３と、光束分割用のビームスプリッタ５
と、２つの反射ミラー７、９と、光束重畳用のビームス
プリッタ１１と、結像レンズ１３と、ＣＣＤなどからな
る干渉縞検出器１５と、高速画像処理装置、マイクロコ
ンピュータなどからなる演算処理装置１７とを備えてい
る。以上の構成のうち、光源１から結像レンズ１３まで
で、干渉計を構成している。

【０００６】光源１より出射するレーザ光は、ビームエ
キスパンダ３によって光束径を拡大され、ビームスプリ
ッタ５によってこれを直進して参照波ａとなるレーザ光
束と、直角に屈折して被検物Ａとしての位相物体を透過
する被検波ｂとなるもう一つのレーザ光束とに分割され
る。参照波ａと被検波ｂとは、ほぼ１：１となるように
なっている。

【０００７】反射ミラー７は、ピエゾ素子などによる電
気−変位変換素子１９により支持され、位相シフト法に
よる干渉縞解析を行うために、参照波ａの光路長を波長
以下のオーダで変更できるものである。

【０００８】参照波ａは反射ミラー７で反射され、ビー
ムスプリッタ１１に達し、他方の被検波ｂは、被検物Ａ
を透過して反射ミラー９で反射され、ビームスプリッタ
１１に達して参照波ａと重なり合うが、電気−変位変換
素子１９により参照波ａと被検波ｂとの光路長には、ｎ
π／２の位相の差ができるように調整される。

【０００９】参照波ａと被検波ｂは重畳され、ビームス
プリッタ１１から射出されて結像レンズ１３に入射し、
干渉縞検出器１５の撮像面に干渉縞を結像する。干渉縞
検出器１５にはリニアＣＣＤやアレイ状のセンサを用い
る。

【００１０】被検物Ａの屈折率は空気の屈折率とはかな
り相違しており、被検物の入射面と射出面とが平行でな
い限り、被検物Ａを透過した被検波ｂは、不規則に収束
・発散する。一方、干渉計で干渉縞を結像させるには、
被検波ｂは、ほぼ平行な光束となっていなければならな
い。そこで、被検物Ａがどのような形状であっても、被
検物Ａを透過した被検波ｂがほぼ平行光束になるため
に、次のような構成としている。

【００１１】すなわち、被検物Ａは、被検波ｂの光路の
途中に設けられた容器状のセル２１内に設置する。セル
２１内には、その屈折率が被検物Ａの屈折率とほぼ同一
に調合された試液Ｂを満たしてある。なお、被検物Ａ
は、支持手段２３に把持され、支持手段２３は、図示し
ないサーボモータなどにより、被検波ｂに対して直交す
る軸を中心に任意の角度だけ回転自在である。セル２１
の両端、すなわち、被検波ｂの入射窓２５と射出窓２７
は互いに平行で、かつ、それぞれに面精度が高いオプチ
カルフラット２８，２９を取り付けて液密にシールドし
ている。したがって、被検物Ａと試液Ｂで充填されたセ
ル２１は、全体として均一な屈折率の物体となり、か
つ、入射面と射出面とが平行なので、セル２１内を透過
した被検波ｂは、ほぼ平行な光束となって射出されるよ
うになる。

【００１２】干渉縞像は、干渉縞検出器１５で検出さ
れ、光電変換されて電気的な画像信号となり、Ａ／Ｄ変
換器２０によってＡ／Ｄ変換された後、演算装置１７に
入力される。なお、演算装置１７は、位相シフト法など
による干渉縞像の解析によって透過波面の計測演算を行
う透過波面計測部１８を含んでいる。

【００１３】次に上述の構成よりなる測定装置を利用し
て被検物Ａの屈折率を計測する方法を説明する。まず、
被検物Ａを支持手段２３にセットしない状態で、干渉縞
検出器１５が出力する干渉縞像の画像信号を演算処理装
置１７に取り込んで演算処理装置内部の透過波面計測部
１８により干渉縞像の解析を行い、初期状態の透過波面
の計測をする。この計測結果に基づいて測定装置自身の
定常的な誤差成分を排除する初期処理を行う。

【００１４】次に、支持手段２３に被検物Ａをセット
し、支持手段２３がθ＝０の位置（基準となる位置）で
干渉縞検出器１５の撮像面に干渉縞を結像し、干渉縞検
出器１５が出力する干渉縞像の画像信号を演算処理装置
１７に取り込んで干渉縞像の解析を行う。

【００１５】支持手段２３が初期回転位置にある透過波
面の計測では、干渉縞像の解析結果は被検物Ａの厚み方
向（光軸方向）に積算されており、これだけでは屈折率
の不均一部分の空間的な位置を特定することができな
い。

【００１６】そこで、支持手段２３を初期回転位置よ
り、矢印に示すように、所定角度回転させ、支持手段２
３上の被検物Ａを被検波ｂの光軸に対して変化させる。
このように被検物Ａが回転変位しても干渉縞像は干渉縞
検出器１５の撮像面に結像する。この状態下にて干渉縞
検出器１５が出力する干渉縞像の画像信号を演算処理装
置１７に取り込んで透過波面の計測をする。こうしてた
とえば、１゜刻みで１８０゜（π）あるいは３６０゜
（２π）の方向から複数回に渡って干渉縞を形成し、こ
の透過波面を計測して、コンピュータ、すなわち、演算
処理装置１７上で再合成する。この画像の再構成は、公
知のＸ線ＣＴ（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈ
ｙ）解析の手法を用いて行うことができる。

【００１７】図８はＣＴ法の原理を示すものであり、角
度θから入射した被検波による透過波面のデータｐ
（ｘ，θ）を変数ｘについて一次元フーリエ変換すれ
ば、求めるべき屈折率の分布Δｎ（ｘ，ｙ）の二次元フ
ーリエ変換の極座標表現におけるθ方向成分が得られ
る。

【００１８】すなわち、０≦θ≦２π又は０≦θ≦πの
角度範囲にわたって透過波面を計測し、その透過波面デ
ータを一次元フーリエ変換し、フーリエ変換された各断
面の極座標データＰ（ｘ，θ）を直交座標データに変換
し、その後二次元逆フーリエ変換し、さらに屈折率に変
換する、ことにより被検物Ａの三次元屈折率分布を再構
成することができる。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の屈折
率分布測定方法によれば、被検物Ａとしての位相物体を
浸す試液Ｂは、装置のまわりの空気やレーザによる発熱
などの影響を受け、その温度が徐々に上昇する。そし
て、温度が変化すれば試液Ｂの屈折率も変化する。この
とき、温度変化が小さければ屈折率の変化も小さく、引
き続いて干渉縞の測定も可能である。しかし、温度変化
が大きくなると、屈折率の変化が大きくなり、被検物を
透過した被検波ｂの平行度が乱れ、干渉縞の結像が困難
になる。

【００２０】したがって、測定中の試液Ｂの温度変化を
一定の範囲内に制御し、試液の屈折率と被検物の屈折率
の差を小さく保てるようにすることが重要である。でき
れば、測定中の試液の温度を一定に保っておきたい。し
かし、上記の熱源は、装置に不可欠のものでもあり、試
液の温度変化を一定の範囲内に保つこととは二律背反の
関係になる。本発明は、上記の事実から考えられたもの
で、試液の温度を一定に制御することができる被検物保
持装置を提供することを目的としている。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の被検物保持装置は、屈折率が被検物とほぼ
等しい試液内に被検物を保持するとともに相互に平行な
入射窓と射出窓とを有するセルと、該セルの外側に設け
られセルの少なくとも一部を液体に浸す容器と、上記セ
ル内の被検物を光軸と直交する軸周りに回転自在に保持
する支持手段と、上記支持手段を回転させる駆動手段
と、上記液体を上記容器内との間で循環させる循環装置
と、上記容器の外周を覆う断熱部材と、を有することを
特徴としている。

【００２２】また、上記循環装置が、上記液体の温度調
節をする熱交換機を有する構成としたり、上記断熱部材
が、上記入射窓と射出窓とを通過する光束が遮蔽されな
いように容器を覆う構成としたり、上記循環装置が、上
記容器と管路で接続され、該管路が中間でコネクターに
よって切り離し自在に接続され、該コネクターが接続さ
れると開き切り離されると閉じる自動弁を有する構成と
することができる。

【００２３】上記の目的を達成するための本発明の屈折
率分布測定装置は、上記のいずれかに記載の被検物保持
装置と、光源からの可干渉光を参照波と被検物を透過す
る被検波とに分割し、両波を重ねて干渉させる干渉光学
系とを有することを特徴としている。

【００２４】また、上記被検物保持装置と、干渉光学系
とが同一基盤上にそれぞれ独立して設置された構成とし
たり、上記干渉光学系が、上記基盤の上に振動減衰の高
い機構を介して載置される構成とすることができる。ま
た、上記いずれか１つの屈折率分布測定装置にたいし、
上記いずれかに記載された被検物保持装置を複数設けた
構成としてもよい。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明の
実施例を詳細に説明する。図１は本発明の屈折率分布測
定装置の外観を示す図である。図１において、基盤１０
０は上面が水平になるように設置された台で、その上
に、図７に示す干渉光学系２００が設置されている。干
渉光学系２００は、具体的には、図７で説明した干渉
計、すなわち、光源１から結像レンズ１３までである
が、この実施例ではさらに、干渉縞検出器１５も含んで
いる。そして、これらの部分が１つのユニットとして箱
状に組み込まれたものである。箱状の干渉光学系２００
には凹部があり、ここに被検物保持装置３００の本体部
３０１を載置する。

【００２６】図２は、この本体部３０１の内部構造を示
す図である。被検物Ａはセル２１内に収容され、支持手
段２３に吊り下げられ、被検波ｂと直交する軸（支持手
段２３の軸）を中心として回動自在になっている。駆動
手段３０２は、干渉光学系２００の上に立設された支持
体３０３に取り付けられ、カプリング２２により支持手
段２３と結合し、ここで上下が分離できる。駆動手段３
０２としては、被検物Ａに１°程度といった微小な角度
の回転を与えることができるように、ステッピングモー
タを使用することが望ましい。

【００２７】セル２１内には試液Ｂが満たされている。
そして、セル２１は、入射窓２５と射出窓２７の設けら
れた面以外を容器３１で覆われ、この容器３１内に液体
Ｃが充填されている。

【００２８】さらに、容器３１の外側には、容器３１と
の間に空間が形成されるように外箱４１を設け、その空
間内に断熱部材４２を充填している。外箱４１と断熱部
材４２は、セル２１の入射窓２５と射出窓２７とに対向
する部分が窓４１ａとなっている。

【００２９】容器３１内の液体Ｃは、外箱４１に形成さ
れた入口４１ｂと出口４１ｃに接続された管路５１，５
２によって循環装置３０４に接続される。管路５１，５
２の中間には、コネクタ５３，５３が設けられ、ここで
管路５１，５２を自在に切断することができる。循環装
置３０４は、容器３１内の液体Ｃを循環するためのポン
プと、液体Ｃを所定の温度に加熱又は冷却するための熱
交換機とを有する。以上の構成によって、容器３１内の
液体Ｃは常時循環され、均一な温度分布となり、試液Ｂ
の温度分布をも一定に保つことができるようになる。

【００３０】しかしながら、液体Ｃの循環を続けると、
外気の影響によって、液体Ｃ自身の温度が変化し、試液
Ｂの温度を変化させてしまう。そこで、本発明の実施例
では、外箱４１を設けて断熱部材４２で覆った。この場
合、容器３１の全体を断熱部材４２で覆うことが望まし
いのではあるが、入射窓２５や射出窓２７のオプチカル
フラットの部分は覆うことはできないので、ここに窓４
１ａを開け、外気温の影響を極力排除できるようにし
た。さらに、管路５１，５２や循環装置３０４もその外
側を断熱部材で覆っておくとよい。

【００３１】被検物Ａの屈折率の測定が行われている
間、循環装置３０４は液体Ｃを循環させる。液体Ｃとし
て水を使用すれば、水は、安価で入手し易く、また、空
気などに比べて熱容量が大きく、適当な加熱・冷却手段
によって任意の温度に設定することができ、試液Ｂを短
時間で所望の温度範囲内に保つことが可能となる。

【００３２】実施例では液体Ｃを循環させているが、条
件によっては、静止した水でも目的を達成することがで
きる。また、セル２１は、その全体が液体Ｃ内に浸かっ
ているが、一部のみ液体Ｃと接触させるようにしてもよ
い。

【００３３】ところで、循環装置３０４で液体Ｃを循環
させる場合、液体Ｃの流動に伴って振動が発生し、その
振動が干渉光学系２００に伝わると、正確な測定ができ
なくなってしまう。

【００３４】そこで、本発明の実施例では、流動する液
体Ｃの入った被検物保持装置３００と、干渉光学系２０
０とを縁を切って基盤１００上に載置し、図３に示すよ
うに、基盤１００上に振動減衰効果の高い機構６０を設
置し、これによって干渉光学系２００を支持する構成と
している。この構成によって、被検物保持装置３００内
で液体Ｃが流動して振動が発生しても、その振動が干渉
光学系２００には伝わらないようになった。

【００３５】図４は、振動減衰効果の高い機構６０の構
成例を示すものである。同図に示すように、この機構６
０は、ダッシュポット６０ａとばね６０ｂとで構成さ
れ、通常の緩衝器と同じ構成である。ダッシュポット６
０ａは、振動のエネルギーをダッシュポット内の液体の
粘性により熱エネルギーに変化させて散逸させる。一
方、ばね６０ｂは、外乱振動の周波数と、基盤１００の
周波数が一致して共振が起こらないように系の固有振動
数を適当な振動数へとシフトさせる。すなわち、循環装
置３０４から送られてくる液体Ｃの流動に伴って発生す
る振動が、被検物保持装置３００から基盤１００に伝わ
っても、基盤１００から干渉光学系２００には伝達され
ないようになる。このため、干渉光学系２００は常に安
定した観測を継続できる。

【００３６】複数個の被検物を用意し、それらを順番に
測定する場合、被検物を順番にセル２１内の試液Ｂに浸
し、目的の温度に到達させるには、長い時間が必要とな
る。そこで、測定を効率よく行うために、被検物を予め
目的の温度にしておくことが望ましい。たとえば、測定
装置とは別に用意され温度管理されている試液内に被検
物を入れておき、測定を行う被検物のみをそこから取り
出してセル内にセットする方法が考えられる。

【００３７】しかしながら、この方法では、被検物を移
動する際に外気温度の影響により、被検物の温度が目的
の温度と異なる温度に変化してしまう。また、セル２１
内に被検物を挿入するために、セル２１の一部を開放す
る必要があるが、その際に、セル内の試液Ｂの温度が外
気の影響を受けて変化してしまい、セル内に被検物をセ
ットし、目的の温度に戻すには、かなりの時間が掛かっ
てしまう。

【００３８】そこで、図５に示すように、セル２１から
外箱４１までを一体化した本体部３０１と循環装置３０
４とを管路５１，５２で接続した被検物支持装置を３０
０，３００′……のように、複数個用意しておき、各セ
ットのセル２１内に被検物Ａを取り付け、目的温度に管
理した状態にしておき、測定時にこれらを交換するよう
にする。そうすれば、１つの被検物の測定を終え、次の
被検物を測定する際の時間を短縮することができる。

【００３９】ただし、一般的には、循環装置３０４は内
部に電動機付きポンプや、熱交換機等が収納されている
ので、重量が非常に重い。そのため、被検物を交換する
際に、循環装置３０４も交換するのは、作業性が悪い。

【００４０】そこで、図１の実施例では、管路５１，５
２にコネクター５３，５３を設け、本体部３０１と循環
装置３０４とを分離可能にし、被検物を交換する際に
は、本体部３０１のみを交換すればよいようにしてい
る。

【００４１】コネクター５３は、切り離されると自動的
に閉じ、接合されると自動的に開く自動弁を有してい
る。図６によりこの自動弁を説明する。コネクター５３
は雌コネクター５３ａと雄コネクター５３ｂとからなる
が、雌コネクターにはすり鉢型の弁座５３ａ１と、この
弁座に接離する弁体５３ａ２と、弁体を弁座に向けて付
勢するばね５３ａ３とが設けられている。他方の雄コネ
クターにも同様の弁座５３ｂ１と、弁体５３ｂ２と、ば
ね５３ｂ３とが設けられている。

【００４２】図６（ａ）に示すように、雌雄のコネクタ
ー５３ａ，５３ｂが切り離されると、弁体５３ａ２，５
３ｂ２はばね５３ａ３と５３ｂ３とによって弁座５３ａ
１，５３ｂ１に圧接させられて弁が閉じられ、液体Ｃの
漏れを自動的に防止する。

【００４３】図６（ｂ）に示すように、雌雄のコネクタ
ー５３ａ，５３ｂが接続されると、弁体５３ａ２，５３
ｂ２は相互に押し合って弁座から離れ、液体Ｃを自動的
に流動させることができる。

【００４４】駆動手段３０２はステッピングモータであ
るから、駆動することによって、熱が発生する。駆動手
段３０２の熱が液体Ｃに伝わり易く、液体の温度を一定
に保ちにくい。そこで、駆動手段３０２と支持手段２３
とは、プラスチック等の熱伝導性の悪い素材で接続した
り、支持手段自身を熱伝導性の悪い素材で形成するよう
にしている。そのような構成とすることによって、駆動
手段５１の熱が液体Ｃに伝わりにくくなり、液体Ｃの温
度を一定に保ち易くなる。

【００４５】

【発明の効果】以上に説明したように本発明の被検物保
持装置は、屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に被検物
を保持するとともに相互に平行な入射窓と射出窓とを有
するセルと、該セルの外側に設けられセルの少なくとも
一部を液体に浸す容器と、上記セル内の被検物を光軸と
直交する軸周りに回転自在に保持する支持手段と、上記
支持手段を回転させる駆動手段と、該駆動手段の制御装
置と、上記液体を上記容器内との間で循環させる循環装
置と、上記容器の外周を覆う断熱部材と、を有する構成
なので、被検物を所望の温度に容易に維持することがで
き、安定した屈折率分布の測定ができる。循環装置に、
上記液体の温度を制御する熱交換機を設ければ、さらに
確実な温度制御が可能になる。

【００４６】また、上記循環装置が、上記容器と管路で
接続され、該管路が中間で切り離し自在に接続されてい
る構成とすれば、被検物の交換に循環装置を移動する必
要がなく、被検物の交換が容易にできるようになる。

【００４７】上記管路の切り離し部がコネクターからな
り、該コネクターが接続されると開き切り離されると閉
じる自動弁を有する構成にすれば、管路を切り離して
も、液体が漏れることがなく、液体の温度を一定に保ち
易くなる。

【００４８】被検物保持装置と、干渉光学系とが同一基
盤上にそれぞれ独立して設置され、干渉光学系が、上記
基盤の上に振動減衰の高い機構を介して載置される構成
とすれば、液体の循環による振動が生じても、干渉光学
系には影響を与えることなく測定することができる。

【００４９】本発明のいずれか１つの屈折率分布測定装
置にたいし、本発明のいずれかの被検物保持装置を複数
設けた構成とすれば、測定に先だって予備となる被検物
保持装置に被検物をセットして所定の温度に保持してお
くことができ、複数の被検物を測定する場合に能率が向
上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の屈折率分布測定装置の全体を示す斜視
図である。

【図２】被検物保持装置の要部の構成を説明する図で、
（ａ）は側面断面図、（ｂ）は正面断面図である。

【図３】本発明の屈折率分布測定装置において、干渉光
学系の支持構造を示す図である。

【図４】振動減衰の高い機構の構成を示す図である。

【図５】複数の被検物保持装置を示す斜視図である。

【図６】コネクターの構成を示す断面図である。

【図７】従来の屈折率分布測定装置の構成を示す図であ
る。

【図８】ＣＴ解析の原理を説明する図である。

【符号の説明】 Ａ 被検物 Ｂ 試液 Ｃ 液体 ２１ セル ２３ 支持手段 ２５ 入射窓 ２７ 射出窓 ３１ 容器 ４１ 外箱 ４２ 断熱部材 ５１，５２ 管路 ５３ コネクター ６０ 振動減衰の高い機構 １００ 基盤 ２００ 干渉光学系 ３０２ 駆動手段 ３０４ 循環装置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 屈折率が被検物とほぼ等しい試液内に被
   検物を保持するとともに相互に平行な入射窓と射出窓と
   を有するセルと、該セルの外側に設けられセルの少なく
   とも一部を液体に浸す容器と、上記セル内の被検物を光
   軸と直交する軸周りに回転自在に保持する支持手段と、
   上記支持手段を回転させる駆動手段と、上記液体を上記
   容器内との間で循環させる循環装置と、上記容器の外周
   を覆う断熱部材と、を有することを特徴とする被検物保
   持装置。
2. 【請求項２】 上記循環装置が、上記液体の温度調節を
   する熱交換機を有することを特徴とする請求項１記載の
   被検物保持装置。
3. 【請求項３】上記断熱部材が、上記入射窓と射出窓とを
   通過する光束が遮蔽されないように容器を覆うことを特
   徴とする請求項１又は２記載の被検物保持装置。
4. 【請求項４】 上記循環装置が、上記容器と管路で接続
   され、該管路が中間でコネクターによって切り離し自在
   に接続され、該コネクターが接続されると開き切り離さ
   れると閉じる自動弁を有することを特徴とする請求項１
   から３のいずれかに記載の被検物保持装置。
5. 【請求項５】 請求項１から４のいずれかに記載の被検
   物保持装置と、光源からの可干渉光を参照波と被検物を
   透過する被検波とに分割し、両波を重ねて干渉させる干
   渉光学系とを有することを特徴とする屈折率分布測定装
   置。
6. 【請求項６】 上記被検物保持装置と、干渉光学系とが
   同一基盤上にそれぞれ独立して設置されたことを特徴と
   する請求項５記載の屈折率分布測定装置。
7. 【請求項７】 上記干渉光学系が、上記基盤の上に振動
   減衰の高い機構を介して載置されることを特徴とする請
   求項５又は６記載の屈折率分布測定装置。
8. 【請求項８】 請求項５から７に記載されたいずれか１
   つの屈折率分布測定装置に対し、請求項１から４のいず
   れかに記載された被検物保持装置を複数設けたことを特
   徴とする屈折率分布測定装置。