JP2000129470A - パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液 - Google Patents
パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 下地層を侵食することなく、パラジウムまた
はパラジウム合金を高い剥離速度で剥離でき、毒性の強
い鉛化合物を含有しない剥離液を提供する。 【解決手段】 パラジウムまたはパラジウム合金を剥離
するための剥離液を、ニトロ基を含む芳香族化合物と、
シアン化アルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有
した剥離液とする。
はパラジウム合金を高い剥離速度で剥離でき、毒性の強
い鉛化合物を含有しない剥離液を提供する。 【解決手段】 パラジウムまたはパラジウム合金を剥離
するための剥離液を、ニトロ基を含む芳香族化合物と、
シアン化アルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有
した剥離液とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームや
コネクター等においてニッケル等の下地層上にめっきに
より形成されたパラジウムまたはパラジウム合金を剥離
するための剥離液に関する。
コネクター等においてニッケル等の下地層上にめっきに
より形成されたパラジウムまたはパラジウム合金を剥離
するための剥離液に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ＩＣリードフレームやコネクタ
ー等には、その導電性を高めるために、ニッケルめっき
を施した後に銀めっきが施されていた。しかし、近年、
環境配慮の観点から、人体に対する銀の毒性が指摘され
るようになり、銀めっきからパラジウムめっきに移行す
る傾向にある。
ー等には、その導電性を高めるために、ニッケルめっき
を施した後に銀めっきが施されていた。しかし、近年、
環境配慮の観点から、人体に対する銀の毒性が指摘され
るようになり、銀めっきからパラジウムめっきに移行す
る傾向にある。
【０００３】一方、パターン形成工程や不要となったパ
ターンの回収工程等において、リードフレーム上の銀め
っきやパラジウムめっきの除去、回収が行われる。銀め
っきの剥離液は、従来から種々開発され実用化されてい
る。また、パラジウムめっきの剥離液としては、例え
ば、強酸性浴にフッ素やヨウ素等のハロゲン物質を添加
したパラジウムめっき剥離液、貴金属めっき用の剥離液
（特開平１０−１５８８６７号）等が開発されている。
ターンの回収工程等において、リードフレーム上の銀め
っきやパラジウムめっきの除去、回収が行われる。銀め
っきの剥離液は、従来から種々開発され実用化されてい
る。また、パラジウムめっきの剥離液としては、例え
ば、強酸性浴にフッ素やヨウ素等のハロゲン物質を添加
したパラジウムめっき剥離液、貴金属めっき用の剥離液
（特開平１０−１５８８６７号）等が開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
パラジウムめっき剥離液は、下地のニッケルめっきを激
しく侵食するため、ＩＣリードフレームやコネクター等
に適用できないという問題があった。
パラジウムめっき剥離液は、下地のニッケルめっきを激
しく侵食するため、ＩＣリードフレームやコネクター等
に適用できないという問題があった。
【０００５】また、特開平１０−１５８８６７号に開示
されている貴金属めっき用の剥離液は、毒性の強い鉛化
合物を含むという問題があり、さらに、剥離速度が遅
い、あるいは、下地ニッケルめっきの侵食を伴うという
問題もあった。
されている貴金属めっき用の剥離液は、毒性の強い鉛化
合物を含むという問題があり、さらに、剥離速度が遅
い、あるいは、下地ニッケルめっきの侵食を伴うという
問題もあった。
【０００６】本発明は、上述のような実情に鑑みてなさ
れたものであり、下地層を侵食することなく、パラジウ
ムまたはパラジウム合金を高い剥離速度で剥離でき、毒
性の強い鉛化合物を含有しない剥離液を提供することを
目的とする。
れたものであり、下地層を侵食することなく、パラジウ
ムまたはパラジウム合金を高い剥離速度で剥離でき、毒
性の強い鉛化合物を含有しない剥離液を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のパラジウムまたはパラジウム合金の
剥離液は、ニトロ基を含む芳香族化合物と、シアン化ア
ルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有するような
構成とした。
るために、本発明のパラジウムまたはパラジウム合金の
剥離液は、ニトロ基を含む芳香族化合物と、シアン化ア
ルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有するような
構成とした。
【０００８】また、本発明のパラジウムまたはパラジウ
ム合金の剥離液は、前記ニトロ基を含む芳香族化合物の
含有量が５〜２００ｇ／ｌの範囲内、前記シアン化アル
カリの含有量が３〜１００ｇ／ｌの範囲内、前記イオウ
化合物の含有量が０．０２〜５０ｇ／ｌの範囲内である
ような構成とした。
ム合金の剥離液は、前記ニトロ基を含む芳香族化合物の
含有量が５〜２００ｇ／ｌの範囲内、前記シアン化アル
カリの含有量が３〜１００ｇ／ｌの範囲内、前記イオウ
化合物の含有量が０．０２〜５０ｇ／ｌの範囲内である
ような構成とした。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の最適な実施形態に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１０】本発明のパラジウムまたはパラジウム合金
の剥離用の剥離液は、ニトロ基を含む芳香族化合物と、
シアン化アルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有
した水溶液である。
の剥離用の剥離液は、ニトロ基を含む芳香族化合物と、
シアン化アルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有
した水溶液である。
【００１１】上記のニトロ基を含む芳香族化合物として
は、例えば、パラニトロ安息香酸、メタニトロ安息香
酸、オルトニトロ安息香酸等のニトロ安息香酸およびそ
の塩（例えば、メタニトロ安息香酸ナトリウム、メタニ
トロ安息香酸カリウム等）、メタニトロベンゼンスルホ
ン酸およびその塩（例えば、メタニトロベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム）、メタニトロアニリン、メタニトロフ
ェノール等を挙げることができる。
は、例えば、パラニトロ安息香酸、メタニトロ安息香
酸、オルトニトロ安息香酸等のニトロ安息香酸およびそ
の塩（例えば、メタニトロ安息香酸ナトリウム、メタニ
トロ安息香酸カリウム等）、メタニトロベンゼンスルホ
ン酸およびその塩（例えば、メタニトロベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム）、メタニトロアニリン、メタニトロフ
ェノール等を挙げることができる。
【００１２】本発明の剥離液における上記のようなニト
ロ基を含む芳香族化合物の含有量は、５ｇ／ｌ以上、好
ましくは２５ｇ／ｌ以上の範囲で設定することができ
る。ニトロ基を含む芳香族化合物の含有量が５ｇ／ｌ未
満であると、パラジウムまたはパラジウム合金の溶解速
度が低下して、剥離除去に供し得なくなる。一方、ニト
ロ基を含む芳香族化合物の含有量の上限は特に限定され
ないが、パラジウムまたはパラジウム合金の剥離速度と
経済性を考慮すると、２００ｇ／ｌ以下が好ましい。
ロ基を含む芳香族化合物の含有量は、５ｇ／ｌ以上、好
ましくは２５ｇ／ｌ以上の範囲で設定することができ
る。ニトロ基を含む芳香族化合物の含有量が５ｇ／ｌ未
満であると、パラジウムまたはパラジウム合金の溶解速
度が低下して、剥離除去に供し得なくなる。一方、ニト
ロ基を含む芳香族化合物の含有量の上限は特に限定され
ないが、パラジウムまたはパラジウム合金の剥離速度と
経済性を考慮すると、２００ｇ／ｌ以下が好ましい。
【００１３】上記のシアン化アルカリとしては、例え
ば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化
カルシウム等を挙げることができる。このようなシアン
化アルカリの本発明の剥離液における含有量は、３ｇ／
ｌ以上、好ましくは５ｇ／ｌ以上の範囲で設定すること
ができる。シアン化アルカリの含有量が３ｇ／ｌ未満で
あると、パラジウムまたはパラジウム合金の溶解速度が
低下して、剥離除去に供し得なくなる。一方、シアン化
アルカリの含有量の上限は、パラジウムまたはパラジウ
ム合金の剥離速度からは特に限定されないが、経済性と
剥離液の使い易さを考慮すると、１００ｇ／ｌ以下が好
ましい。
ば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化
カルシウム等を挙げることができる。このようなシアン
化アルカリの本発明の剥離液における含有量は、３ｇ／
ｌ以上、好ましくは５ｇ／ｌ以上の範囲で設定すること
ができる。シアン化アルカリの含有量が３ｇ／ｌ未満で
あると、パラジウムまたはパラジウム合金の溶解速度が
低下して、剥離除去に供し得なくなる。一方、シアン化
アルカリの含有量の上限は、パラジウムまたはパラジウ
ム合金の剥離速度からは特に限定されないが、経済性と
剥離液の使い易さを考慮すると、１００ｇ／ｌ以下が好
ましい。
【００１４】上記のイオウ化合物としては、例えば、チ
オシアン酸ナトリウム、チオ尿素、チオ硫酸ナトリウ
ム、テトラメチルチオ尿素、Ｌ−シスチン、ハイドロサ
ルファイト、ペルオキソニ硫酸アンモニウム、スルファ
チアゾール、アミド硫酸、サッカリン、２−ベンゾチア
ゾールチオール、８−ヒドロキシ−７−ヨード−５−キ
ノリンスルホン酸、２−チアゾリン−２−チオール、
３，３´−チオジプロピオン酸、チオリンゴ酸、β−チ
オジグリコール、アミノベンゾチアゾール、チオシアヌ
ル酸、１−アリル−２−チオ尿素、スルファメチゾー
ル、２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール、５−
スルホサリチル酸、２−イミダゾリジンチオン、スルフ
ァメトキサゾール、２−メルカプト−１−メチルイミダ
ゾール、１−アリル−３−β−ヒドロキシエチル−２−
チオ尿素、２−メルカプトベンズイミダゾール、スルフ
ァピリジン、２，２−ジチオニ酢酸、Ｎ，Ｎ−ジエチル
−ｐ−フェニレンジアミン、スルファニルアミド、スル
ファニル酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルホンアミド、
４，５−ヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸二
ナトリウム、２−アミノチアゾール、メルカプト酢酸、
硫化ナトリウム等を挙げることができる。
オシアン酸ナトリウム、チオ尿素、チオ硫酸ナトリウ
ム、テトラメチルチオ尿素、Ｌ−シスチン、ハイドロサ
ルファイト、ペルオキソニ硫酸アンモニウム、スルファ
チアゾール、アミド硫酸、サッカリン、２−ベンゾチア
ゾールチオール、８−ヒドロキシ−７−ヨード−５−キ
ノリンスルホン酸、２−チアゾリン−２−チオール、
３，３´−チオジプロピオン酸、チオリンゴ酸、β−チ
オジグリコール、アミノベンゾチアゾール、チオシアヌ
ル酸、１−アリル−２−チオ尿素、スルファメチゾー
ル、２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール、５−
スルホサリチル酸、２−イミダゾリジンチオン、スルフ
ァメトキサゾール、２−メルカプト−１−メチルイミダ
ゾール、１−アリル−３−β−ヒドロキシエチル−２−
チオ尿素、２−メルカプトベンズイミダゾール、スルフ
ァピリジン、２，２−ジチオニ酢酸、Ｎ，Ｎ−ジエチル
−ｐ−フェニレンジアミン、スルファニルアミド、スル
ファニル酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルホンアミド、
４，５−ヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸二
ナトリウム、２−アミノチアゾール、メルカプト酢酸、
硫化ナトリウム等を挙げることができる。
【００１５】本発明の剥離液における上記のようなイオ
ウ化合物の含有量は、０．０２〜５０ｇ／ｌの範囲内
で、使用するイオウ化合物に応じて適宜設定することが
できる。すなわち、パラジウムまたはパラジウム合金の
剥離速度が所定速度以上（例えば、パラジウムの剥離速
度が０．１５μｍ以上／５分）となるイオウ化合物の含
有量の範囲内で、下地層の侵食を生じないことを目的と
する場合のイオウ化合物の含有量Ａと、パラジウムまた
はパラジウム合金を剥離して回収することのみを目的と
する（下地層の多少の侵食があってもよい）場合のイオ
ウ化合物の含有量Ｂとを、使用するイオウ化合物に応じ
て適宜設定することができる。上記の含有量Ａと含有量
Ｂにおいて、含有量Ａの範囲は含有量Ｂに含まれるが、
含有量Ａの範囲が含有量Ｂの範囲の低含有量側に位置す
るか、高含有量側に位置するかは、使用するイオウ化合
物によって異なる。いずれにしても、本発明の剥離液に
おけるイオウ化合物の含有量が０．０２ｇ／ｌ未満であ
ると、パラジウムまたはパラジウム合金の剥離速度を向
上させるというイオウ化合物添加の効果が得られず、５
０ｇ／ｌを超えると、パラジウムまたはパラジウム合金
の剥離が困難になったり、ニッケルめっき等の下地層の
侵食を生じることがあり好ましくない。
ウ化合物の含有量は、０．０２〜５０ｇ／ｌの範囲内
で、使用するイオウ化合物に応じて適宜設定することが
できる。すなわち、パラジウムまたはパラジウム合金の
剥離速度が所定速度以上（例えば、パラジウムの剥離速
度が０．１５μｍ以上／５分）となるイオウ化合物の含
有量の範囲内で、下地層の侵食を生じないことを目的と
する場合のイオウ化合物の含有量Ａと、パラジウムまた
はパラジウム合金を剥離して回収することのみを目的と
する（下地層の多少の侵食があってもよい）場合のイオ
ウ化合物の含有量Ｂとを、使用するイオウ化合物に応じ
て適宜設定することができる。上記の含有量Ａと含有量
Ｂにおいて、含有量Ａの範囲は含有量Ｂに含まれるが、
含有量Ａの範囲が含有量Ｂの範囲の低含有量側に位置す
るか、高含有量側に位置するかは、使用するイオウ化合
物によって異なる。いずれにしても、本発明の剥離液に
おけるイオウ化合物の含有量が０．０２ｇ／ｌ未満であ
ると、パラジウムまたはパラジウム合金の剥離速度を向
上させるというイオウ化合物添加の効果が得られず、５
０ｇ／ｌを超えると、パラジウムまたはパラジウム合金
の剥離が困難になったり、ニッケルめっき等の下地層の
侵食を生じることがあり好ましくない。
【００１６】本発明の剥離液を用いてパラジウムまたは
パラジウム合金の剥離を行う場合、剥離液（処理浴）の
温度には特に制限はないが、例えば、２０〜６０℃の範
囲で設定することができる。
パラジウム合金の剥離を行う場合、剥離液（処理浴）の
温度には特に制限はないが、例えば、２０〜６０℃の範
囲で設定することができる。
【００１７】尚、パラジウムまたはパラジウム合金が形
成される下地層は特に制限はなく、例えば、ニッケルめ
っき層等が挙げられる。
成される下地層は特に制限はなく、例えば、ニッケルめ
っき層等が挙げられる。
【００１８】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）剥離液の調製 まず、ニトロ基を含む芳香族化合物としてメタニトロ安
息香酸ナトリウムを用い、シアン化アルカリとしてシア
ン化カリウムを用いて、これらを下記の濃度で含有する
水溶液を調製して基本浴とした。
明する。 （実施例１）剥離液の調製 まず、ニトロ基を含む芳香族化合物としてメタニトロ安
息香酸ナトリウムを用い、シアン化アルカリとしてシア
ン化カリウムを用いて、これらを下記の濃度で含有する
水溶液を調製して基本浴とした。
【００１９】 基本浴の組成 ・メタニトロ安息香酸ナトリウム … ５４ｇ／ｌ ・シアン化カリウム … １０ｇ／ｌ 次に、上記の基本浴に、イオウ化合物として、チオシア
ン酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ尿素、およ
び、２−チアゾリン−２−チオールを、それぞれ下記の
表１に示される濃度となるように添加して１７種の剥離
液（試料Ａ１〜Ａ５、試料Ｂ１〜Ｂ４、試料Ｃ１〜Ｃ
４、試料Ｄ１〜Ｄ４）を調製した。
ン酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ尿素、およ
び、２−チアゾリン−２−チオールを、それぞれ下記の
表１に示される濃度となるように添加して１７種の剥離
液（試料Ａ１〜Ａ５、試料Ｂ１〜Ｂ４、試料Ｃ１〜Ｃ
４、試料Ｄ１〜Ｄ４）を調製した。
【００２０】また、比較として、毒性の強い鉛化合物を
含む下記の組成の２種の剥離液Ｉ、IIを調製した。
含む下記の組成の２種の剥離液Ｉ、IIを調製した。
【００２１】 剥離液Ｉの組成 ・ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム … ５０ｇ／ｌ ・酢酸鉛 …０．２５ｇ／ｌ ・シアン化カリウム … １０ｇ／ｌ ・蓚酸 … ２ｇ／ｌ 剥離液IIの組成 ・ニトロベンゼン安息香酸ナトリウム … ５０ｇ／ｌ ・酢酸鉛 …０．２５ｇ／ｌ ・シアン化カリウム … １０ｇ／ｌ ・蓚酸 … ２ｇ／ｌ被剥離試料の作製 一方、被剥離試料を下記のように作製した。すなわち、
１０×６．７ｃｍの銅製ハルセルパネルをアルカリ電解
脱脂により洗浄し、これをメルテックス（株）製エンス
アシッド８２に室温で１分間浸漬して前処理を施した。
次いで、日本リー・ロナール（株）製ナイカルＰＣ−３
を用いたワッツ浴（浴温度＝５５℃）に浸漬し４Ａ／ｄ
ｍ2 の電流を６分間通電して厚み約５μｍのニッケルめ
っきを行い下地層を形成した。次いで、日本リー・ロナ
ール（株）製パラデュア２００を用いた浴（浴温度＝５
０℃）に浸漬し１Ａ／ｄｍ2 の電流を１２５秒間通電し
て厚み約０．５μｍのパラジウム層を形成した。パラジウム剥離 上記のように作製した被剥離試料を６０℃のメルテック
ス（株）製クリーナー１６０中に浸漬し３Ａ／ｄｍ2 の
電流を１分間通電して陽極洗浄を行い、更に１０％硫酸
に３０秒間浸漬した。次に、５０℃に保った上記の各剥
離液（液量＝２００ｍｌ）に被剥離試料を浸漬してパラ
ジウム層の剥離を行った。この剥離処理におけるパラジ
ウムの溶解速度（被剥離試料を５分間浸漬した後の重量
減少分から換算）と、剥離後の被剥離試料の外観とを下
記の表１に示した。
１０×６．７ｃｍの銅製ハルセルパネルをアルカリ電解
脱脂により洗浄し、これをメルテックス（株）製エンス
アシッド８２に室温で１分間浸漬して前処理を施した。
次いで、日本リー・ロナール（株）製ナイカルＰＣ−３
を用いたワッツ浴（浴温度＝５５℃）に浸漬し４Ａ／ｄ
ｍ2 の電流を６分間通電して厚み約５μｍのニッケルめ
っきを行い下地層を形成した。次いで、日本リー・ロナ
ール（株）製パラデュア２００を用いた浴（浴温度＝５
０℃）に浸漬し１Ａ／ｄｍ2 の電流を１２５秒間通電し
て厚み約０．５μｍのパラジウム層を形成した。パラジウム剥離 上記のように作製した被剥離試料を６０℃のメルテック
ス（株）製クリーナー１６０中に浸漬し３Ａ／ｄｍ2 の
電流を１分間通電して陽極洗浄を行い、更に１０％硫酸
に３０秒間浸漬した。次に、５０℃に保った上記の各剥
離液（液量＝２００ｍｌ）に被剥離試料を浸漬してパラ
ジウム層の剥離を行った。この剥離処理におけるパラジ
ウムの溶解速度（被剥離試料を５分間浸漬した後の重量
減少分から換算）と、剥離後の被剥離試料の外観とを下
記の表１に示した。
【００２２】
【表１】 表１に示されるように、各剥離液（試料Ａ１〜Ａ５、試
料Ｂ１〜Ｂ４、試料Ｃ１〜Ｃ４、試料Ｄ１〜Ｄ３）は、
いずれもパラジウムの溶解速度が基本浴に比べて向上し
ており、イオウ化合物を添加することにより溶解速度が
増加することが確認された。
料Ｂ１〜Ｂ４、試料Ｃ１〜Ｃ４、試料Ｄ１〜Ｄ３）は、
いずれもパラジウムの溶解速度が基本浴に比べて向上し
ており、イオウ化合物を添加することにより溶解速度が
増加することが確認された。
【００２３】また、イオウ化合物の添加量の好ましい範
囲は含有するイオウ化合物により異なり、使用するイオ
ウ化合物に応じて含有量を適宜設定できることが確認さ
れた。さらに、イオウ化合物の添加量の好ましい範囲
は、パラジウム層の剥離目的が、下地層であるニッケル
めっきの光沢を損なわないことを目的とする場合と、パ
ラジウム層を回収することのみを目的とする場合とで異
なることが確認された。すなわち、例えば、イオウ化合
物としてチオシアン酸ナトリウムを使用した場合、下地
層であるニッケルめっきの光沢を損なわないことを目的
とする添加量の好ましい範囲は２０〜４０ｇ／ｌであ
り、一方、単にパラジウム層を回収することを目的とす
る添加量の好ましい範囲は１〜４０ｇ／ｌとなる。
囲は含有するイオウ化合物により異なり、使用するイオ
ウ化合物に応じて含有量を適宜設定できることが確認さ
れた。さらに、イオウ化合物の添加量の好ましい範囲
は、パラジウム層の剥離目的が、下地層であるニッケル
めっきの光沢を損なわないことを目的とする場合と、パ
ラジウム層を回収することのみを目的とする場合とで異
なることが確認された。すなわち、例えば、イオウ化合
物としてチオシアン酸ナトリウムを使用した場合、下地
層であるニッケルめっきの光沢を損なわないことを目的
とする添加量の好ましい範囲は２０〜４０ｇ／ｌであ
り、一方、単にパラジウム層を回収することを目的とす
る添加量の好ましい範囲は１〜４０ｇ／ｌとなる。
【００２４】一方、比較の剥離液Ｉは、パラジウムの溶
解速度は基本浴よりも速く本発明の剥離液に近いもので
あるが、剥離後の被剥離試料の外観はムラがあり、ま
た、剥離液IIは剥離後の被剥離試料の外観は良好なもの
の、パラジウムの溶解速度が本発明の剥離液に比べて大
きく劣り、いずれの剥離液もＩＣリードフレームやコネ
クター等への使用に供し得ないことが確認された。 （実施例２）剥離液の調製 まず、実施例１と同組成の基本浴を調製した。次に、イ
オウ化合物として下記の表２に示される各種の物質を使
用し、３３種の剥離液（試料１〜３３）を調製した。
尚、各イオウ化合物の含有量は表２に示した。パラジウム剥離 実施例１と同様に作製した被剥離試料を６０℃のメルテ
ックス（株）製クリーナー１６０中に浸漬し３Ａ／ｄｍ
2 の電流を１分間通電して陽極洗浄を行い、更に１０％
硫酸に３０秒間浸漬した。この被剥離試料を、５０℃に
保った上記の３３種の各剥離液（液量＝２００ｍｌ）に
浸漬してパラジウム層の剥離を行った。この剥離処理に
おけるパラジウムの溶解速度（被剥離試料を５分間浸漬
した後の重量減少分から換算）と、剥離後の被剥離試料
の外観とを下記の表２に示した。
解速度は基本浴よりも速く本発明の剥離液に近いもので
あるが、剥離後の被剥離試料の外観はムラがあり、ま
た、剥離液IIは剥離後の被剥離試料の外観は良好なもの
の、パラジウムの溶解速度が本発明の剥離液に比べて大
きく劣り、いずれの剥離液もＩＣリードフレームやコネ
クター等への使用に供し得ないことが確認された。 （実施例２）剥離液の調製 まず、実施例１と同組成の基本浴を調製した。次に、イ
オウ化合物として下記の表２に示される各種の物質を使
用し、３３種の剥離液（試料１〜３３）を調製した。
尚、各イオウ化合物の含有量は表２に示した。パラジウム剥離 実施例１と同様に作製した被剥離試料を６０℃のメルテ
ックス（株）製クリーナー１６０中に浸漬し３Ａ／ｄｍ
2 の電流を１分間通電して陽極洗浄を行い、更に１０％
硫酸に３０秒間浸漬した。この被剥離試料を、５０℃に
保った上記の３３種の各剥離液（液量＝２００ｍｌ）に
浸漬してパラジウム層の剥離を行った。この剥離処理に
おけるパラジウムの溶解速度（被剥離試料を５分間浸漬
した後の重量減少分から換算）と、剥離後の被剥離試料
の外観とを下記の表２に示した。
【００２５】
【表２】 表２に示されるように、各剥離液（試料１〜３３）は、
いずれもパラジウムの溶解速度が基本浴に比べて向上し
ており、イオウ化合物を添加することにより溶解速度が
増加することが確認された。また、イオウ化合物含有量
の好ましい範囲は含有するイオウ化合物により異なり、
使用するイオウ化合物に応じて含有量を適宜設定できる
ことが確認された。
いずれもパラジウムの溶解速度が基本浴に比べて向上し
ており、イオウ化合物を添加することにより溶解速度が
増加することが確認された。また、イオウ化合物含有量
の好ましい範囲は含有するイオウ化合物により異なり、
使用するイオウ化合物に応じて含有量を適宜設定できる
ことが確認された。
【００２６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば剥
離液を、ニトロ基を含む芳香族化合物と、シアン化アル
カリと、イオウ化合物とを少なくとも含有する水溶液と
するので、ニッケルめっき等の下地層上にめっきにより
設けられたパラジウムまたはパラジウム合金を高い剥離
速度で剥離できるとともに、使用するイオウ化合物の種
類に応じて含有量を適宜設定することにより、下地層の
侵食を防止することがなく、さらに、鉛化合物等の毒性
の強い物質を含有しないので、環境保全の点でも安全で
あるという効果が奏される。
離液を、ニトロ基を含む芳香族化合物と、シアン化アル
カリと、イオウ化合物とを少なくとも含有する水溶液と
するので、ニッケルめっき等の下地層上にめっきにより
設けられたパラジウムまたはパラジウム合金を高い剥離
速度で剥離できるとともに、使用するイオウ化合物の種
類に応じて含有量を適宜設定することにより、下地層の
侵食を防止することがなく、さらに、鉛化合物等の毒性
の強い物質を含有しないので、環境保全の点でも安全で
あるという効果が奏される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 初川 拓朗 埼玉県大宮市吉野町２丁目３番地１号 メ ルテックス株式会社研究部内 (72)発明者 永倉 雅之 埼玉県大宮市吉野町２丁目３番地１号 メ ルテックス株式会社研究部内 (72)発明者 鈴木 裕子 埼玉県大宮市吉野町２丁目３番地１号 メ ルテックス株式会社研究部内 Ｆターム(参考） 4K057 WA18 WB11 WB15 WE15 WE30 WG03 WN01
Claims (2)
- 【請求項１】 ニトロ基を含む芳香族化合物と、シアン
化アルカリと、イオウ化合物とを少なくとも含有するこ
とを特徴とするパラジウムまたはパラジウム合金の剥離
液。 - 【請求項２】 前記ニトロ基を含む芳香族化合物の含有
量が５〜２００ｇ／ｌの範囲内、前記シアン化アルカリ
の含有量が３〜１００ｇ／ｌの範囲内、前記イオウ化合
物の含有量が０．０２〜５０ｇ／ｌの範囲内であること
を特徴とする請求項１に記載のパラジウムまたはパラジ
ウム合金の剥離液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10319815A JP2000129470A (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10319815A JP2000129470A (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000129470A true JP2000129470A (ja) | 2000-05-09 |
Family
ID=18114520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10319815A Pending JP2000129470A (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | パラジウムまたはパラジウム合金の剥離液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000129470A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007049750A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | パラジウム選択的エッチング液およびエッチングの選択性を制御する方法 |
| JP2008106354A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-05-08 | Mec Kk | 金属除去液及びこれを用いた金属除去方法 |
| CN107955942A (zh) * | 2016-10-14 | 2018-04-24 | 上村工业株式会社 | 化学镀镍浴 |
-
1998
- 1998-10-22 JP JP10319815A patent/JP2000129470A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007049750A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | パラジウム選択的エッチング液およびエッチングの選択性を制御する方法 |
| JP5011122B2 (ja) * | 2005-10-28 | 2012-08-29 | 関東化学株式会社 | パラジウム選択的エッチング液およびエッチングの選択性を制御する方法 |
| KR101321084B1 (ko) | 2005-10-28 | 2013-10-23 | 간또 가가꾸 가부시끼가이샤 | 팔라듐 선택적 에칭액 및 에칭의 선택성을 제어하는 방법 |
| JP2008106354A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-05-08 | Mec Kk | 金属除去液及びこれを用いた金属除去方法 |
| CN107955942A (zh) * | 2016-10-14 | 2018-04-24 | 上村工业株式会社 | 化学镀镍浴 |
| CN107955942B (zh) * | 2016-10-14 | 2021-09-07 | 上村工业株式会社 | 化学镀镍浴 |
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