JP2000128579A - 光触媒ガラスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】フロートガラス基板に直接、高品質且つ高耐久
性を有する光触媒膜を形成することが可能な光触媒ガラ
スの製造方法に関する。 【解決手段】フロートガラス基板のトップ面に直接、有
機チタン化合物を含む溶液を塗布したのち、７０〜２８
０℃の昇温速度で焼成温度まで昇温し焼成するに際し、
ガラス中に含まれるナトリウムイオンの熱拡散温度以上
での加熱時間を１〜４分間とするように制御して焼成す
ることにより、該ガラス基板表面に光触媒機能を有する
酸化物被膜を形成する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、建築用、自動車用
等の窓ガラス、さらには鏡等の各種の分野のガラス物品
において用いられる光触媒機能を有する光触媒ガラスの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】最近、防汚・消臭・抗菌・親水等のため
にガラスの表面に光触媒機能を有する被膜を形成するこ
とが行われている。例えば、特開平５ー２５３５４４号
公報に記載のアナターゼ型ＴiＯ₂を主体とする光触媒微
粉末をその一部がバインダ層表面から露出するようにし
た板状部材、特開平７−２３２０８０号公報に記載の光
触媒微粒子がＴiＯ₂、ＺnＯ、ＳrＴiＯ₂、Ｆe₂Ｏ₃、Ｗ
Ｏ₃、ＦeＴiＯ₂、Ｂi₂Ｏ₃、ＳnＯ₂等であり、光触媒粒
子の間隙充填粒子がＳn、Ｔi、Ａg、Ｃu、Ｚn、Ｆe、Ｐ
t、Ｃo、Ｎiの金属または酸化物である光触媒機能を有
する多機能材、特開平９−５９０４２号公報記載の光触
媒性の平均結晶粒子径が約０.１μm以下のＴiＯ₂の粒子
を含有する防曇性被膜で覆われた透明基材等が知られて
いる。

【０００３】また従来、ガラス表面に各種の機能性膜を
被覆するに際し、ガラスから機能性膜へのナトリウムイ
オンの拡散を防止するために、該機能性膜の下層にアン
ダーコート膜を形成する事が知られている。例えば、特
開平４−１８２３７号公報記載のＺnＯを含有した紫外
線吸収膜の下層にＳiＯ₂を主成分とする金属酸化物被膜
を設けた表面処理ガラス、特開平７−３１５８８０号公
報記載のガラス板表面にＳiＯ₂を主成分とする薄膜、Ｔ
iＯ₂を主成分とする薄膜、ＳnＯ₂を主成分とする薄膜を
順次被覆させた透明導電膜付きガラス板、特開平８−１
９００８８号公報記載のガラス基板からのアルカリ金属
イオンの拡散を防止する金属酸化物の障壁層と該障壁層
の上層の金属含有被覆からなるガラス物品等が知られて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】 上
記従来の光触媒膜をガラス上に形成した光触媒ガラスに
おいては、該光触媒膜をガラス表面に直接被覆する場合
には、高温で処理するとガラス中に含まれるナトリウム
イオンが該光触媒膜中に拡散し、光触媒膜のＴiＯ₂の酸
化作用を促進する電子を中和してしまい、上述の光触媒
機能が損なわれてしまう欠点があった。

【０００５】また、前記ナトリウムイオンが光触媒膜に
拡散するのを防止するために、光触媒膜の下層に下地層
としてのＳiＯ₂等の膜を被覆した場合には光触媒膜と下
地層との密着性を向上させることが難しく、耐久性評価
試験で光触媒膜が剥離してしまう等の欠点が生じた。

【０００６】さらにまた、従来の方法のように下地層を
設けることは、工程が煩雑となるばかりでなく、コスト
アップの要因となり、好ましいものではなかった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、フロートガラ
ス基板上に直接酸化チタンを主成分とする光触媒膜を形
成出来ないか種々検討した結果、有機チタン化合物を主
成分として含む薬液をフロートガラスのトップ面に直接
塗布後、ガラス中に含有されるナトリウムイオンの拡散
温度以上の温度での加熱時間と、焼成温度に到達するま
での昇温速度を制御することにより、下地層を形成しな
くても高品質且つ高耐久性を有する光触媒膜を形成出来
ることが判明した。

【０００８】本発明のガラスは、従来のように二層の膜
構成にする必要がないために製造工程が単純であるとと
もに下地層と光触媒層との密着性の問題もなく、さらに
薄膜の屈折率、膜厚を規定することで、刺激純度が小さ
く、且つ色はニュートラル色に近く、反射率が小さい光
触媒ガラスを得ることができる。

【０００９】すなわち、本発明は、フロートガラス基板
のトップ面に直接、有機チタン化合物を含む溶液を塗布
したのち、７０〜 ２８０℃／分の昇温速度で焼成温度
まで昇温して焼成するに際し、ガラス中に含まれるナト
リウムイオンの熱拡散温度以上での加熱時間を１〜４分
間となるように制御して焼成することにより、該ガラス
基板表面に光触媒機能を有する酸化物被膜を形成するこ
とを特徴とする光触媒ガラスの製造方法に関する。

【００１０】また、本発明の酸化物被膜は、光触媒機能
を有するチタニアが４５〜９０重量％、マトリックス形
成用酸化物が５〜３０重量％、酸化物超微粒子が５〜２
５重量％からなることが好ましい。

【００１１】さらに、本発明の酸化物被膜は、酸化物超
微粒子をマトリックス形成用酸化物に均一に分散させた
多孔質酸化物とすることが、表面積が大きくなりより光
触媒性能が発揮されるので好ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明に用いられるフロートガラ
ス基板は、汎用の板ガラスを製造する際のフロート法と
一般に呼ばれている方法で製造される。この方法は、溶
融・清澄の終わった溶融ガラスをティンバスと呼ばれる
溶融錫が収容された室に導き、該溶融ガラスを該溶融錫
上に水平に浮遊させ製板することにより、冷却されたガ
ラスはその両表面が非常に平坦となる。該ガラスは、溶
融錫と接触する表面（以下、ボトム面と呼ぶ）と溶融錫
と接触しない面（以下、トップ面と呼ぶ）の二面が形成
される。本発明は、フロートガラス基板のトップ面に光
触媒機能を有する被膜を直接被覆させるが、トップ面に
被覆した方がボトム面に被覆する場合に比較して高性能
の光触媒機能性等が得られる。その理由は明白ではない
が、トップ面はボトム面に比較してガラス表面に付着さ
れた酸化スズの量が極めて少なく、この酸化錫の付着量
の差がフロートガラスのトップ面に被覆した方が光触媒
性能（例えば、親水性能）がより良好になる原因と考え
られる。

【００１３】本発明の光触媒性能を有する酸化物被膜
は、酸化チタンを主成分とする膜からなり、その酸化チ
タンの主な原料としては、金属アルコキド類である。そ
の具体例としてはテトライソプロポキシチタン、テトラ
ノルマルブトキシチタン、トリイソプロポキシチタンモ
ノアセチルアセトナ−ト等が使用できる。ＴiＯ₂前駆体
としては、前記Ｔiアルコキシド類に安定化剤を加えた
溶液やＴiのアセチルアセトナート類に水を加えて加水
分解したＴiＯ₂ゾル、或いはＴiアセチルアセトナート
類、ＴiＣl₄、Ｔi(ＳＯ₄)₂等を各種溶媒に溶解させた溶
液等である。

【００１４】また、ＴiＯ₂を含有する混合ゾルは、前記
ＴiＯ₂前駆体をＴiＯ₂以外のＳiＯ₂、Ａl₂Ｏ₃、Ｐ
₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、ＺrＯ₂、ＳnＯ₂、Ｔa₂Ｏ₅等の金属酸化
物の内の少なくとも１種と混合したもの、或いは予めＴ
iＯ₂の結晶性又は非晶質性のＴiＯ₂微粒子を前記金属酸
化物ゾルに分散剤等を用いて分散させたＴiＯ₂混合ゾル
等である。

【００１５】光触媒性能を有する酸化物被膜中の酸化チ
タンの含有量は１０〜１００重量％の範囲で含有できる
が、特に４５〜９０重量％の範囲とすることが光触媒機
能及び耐久性等の点より好ましい。

【００１６】光触媒機能を有するＴiＯ₂以外の酸化物と
しては、マトリックス形成用酸化物としてのＳiＯ₂、Ａ
l₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、ＺrＯ₂、ＳnＯ₂、Ｔa₂Ｏ₅等、
或いは酸化物超微粒子を添加することができ、特にマト
リックス形成用酸化物としてのＳiＯ₂は、膜強度を向上
させる成分として有効であり、酸化チタンが４５〜９０
重量％、シリカ等のマトリックス形成用酸化物が５〜３
０重量％、酸化物超微粒子が５〜２５重量％のものは特
に好ましい。

【００１７】例えばマトリックス形成用ＳiＯ₂の主な原
料としては、前記金属アルコキド類であるが、具体例と
しては、Ｓiアルコキシド類が、テトラエトキシシラ
ン、テトラメトキシシラン、モノメチルトリエトキシシ
ラン、モノメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、その他のテト
ラアルコキシシラン化合物、その他のアルキルアルコキ
シシラン化合物等が使用でき、その他の酸化物も上記の
シリカの原料と同様なものを用いることが出来る。

【００１８】酸化物超微粒子としては、結晶性のシリカ
又は無定型、ガラス状の何れかであってもよいが、Ｔｉ
Ｏ₂、Ａｌ₂０₃の超微粒子なども使われる。特に親水性
機能を重視する被膜の場合には、保水性の大きなＳｉＯ
₂、Ａｌ₂０₃の超微粒子が特に好ましい。

【００１９】また、希釈溶媒としては、具体例として
は、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−
ル、エチレングリコ−ル、ヘキシレングリコ−ル、など
のアルコール系溶媒が好ましく、さらには酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、さらにはメ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ
などのセロソルブ類及びこれらを混合した溶媒、さらに
は増粘剤としてポリエチレングリコ−ル（平均分子量２
００）、ポリプロピレングリコ−ル（平均分子量４０
０）等を加えても良いし、レベリング剤としてジメチル
シリコーンなどのメチルシリコーン類やフッ素系レベリ
ング剤を適量加えても良い。本来溶液中に含まれるアル
コ−ル系やセロソルブ系のもの単独または混合物を、該
溶液の蒸発速度や粘度を勘案して選択すればよい。な
お、上記溶媒に可溶な、例えばアルコール系溶媒の場合
に、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、
ポリエチレングリコール等のアルコールに可溶な有機高
分子を添加すると、形成された被膜は多孔質となり、表
面積が極めて増大して光触媒性能が向上するので、特に
好ましい。

【００２０】塗布法としては、特に限定されるものでは
ないが、生産性などの面からは例えばスピンコート法あ
るいはディップコ−ト法、またリバ−スコ−ト法、フレ
キソ印刷法、その他のロールコート法であり、さらには
ノズルコ−ト法、スプレーコ−ト法、スクリーン印刷法
などが適宜採用し得るものである。これら塗布法で塗布
成膜する際の塗布液中の固形分濃度としては約１〜３０
重量％程度で、塗布液粘度としては１〜１００ポイズ程
度が好ましい。

【００２１】またさらに、塗布後の乾燥処理としては、
乾燥温度が常温〜３００℃程度で乾燥時間が０.５ 〜６
０分間程度が好ましく、より好ましくは前記乾燥温度が
１００〜２５０℃程度で乾燥時間が 1〜３０分間程度で
ある。

【００２２】また、乾燥後の焼成条件としては、焼成温
度までの昇温速度は７０〜２８０℃／分に制御するとと
もに、且つガラス中に含まれるナトリウムイオンの拡散
温度（５１０℃）以上での加熱時間を１〜４分に制御す
る。なお、焼成温度は、約５１０℃〜７００℃の範囲が
好ましい。

【００２３】昇温速度及び加熱時間を上記のように制御
することにより、成膜された光触媒膜が高性能の品質と
なる理由は、昇温の際に急激に温度が加えられことで膜
表面が急速に硬化(緻密化)し、保持時間が短ければ基板
内部とのタイムラグによりアルカリ拡散量が少ない状態
で、または光触媒性能に影響が少ない程度で焼成が終了
するからと考えられる。昇温速度を７０℃／分よりも遅
くするか或いは加熱時間を４分間よりも長く保持する
と、ガラス中に含まれるアルカリイオンの拡散の影響を
受けながら膜の硬化がおこるため、成膜後の光触媒膜は
充分な光触媒性能を発揮出来ず、一方昇温速度を２８０
℃／分よりも早くするか或いは加熱時間を１分間より短
くすると、充分な焼成が出来ずチタニアの結晶が充分に
結晶化されず、充分な光触媒性能を発揮しないものとな
る。

【００２４】さらに、焼成温度が約５５０ 〜７００ ℃
程度の場合には、被膜の焼成とガラスの熱強化または／
および熱曲げ加工時に同時に行うことも出来る。なお、
本発明の成膜条件に準じた工程を得ることで、前記のよ
うな５５０℃以上の高温での熱強化および／または熱曲
げ加工を行っても、ガラスからのアルカリの拡散を光触
媒性能に影響のない程度に止める利点を有する。

【００２５】

【実施例１】ガラスの準備：フロート法で製造された
フロートガラス基板のトップ面を選択したのち、該ガラ
スを水洗式ブラシ洗浄機により中性洗剤を用いて洗浄す
る。

【００２６】薬液の調整：チタニアゾル（ＣＧ−Ｔ、
日本曹達社製）とシリカゾル（コルコートＰ、コルコー
ト社製）とコロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ−Ｓ、日産
化学製）を用い、酸化物換算で５０：３０：２０（重量
％）とした溶液に増粘剤としてニトロセルロースＨ７
（ダイセル製）を薬液全体の約１６重量％添加し、該光
触媒膜形成用薬液の溶質濃度が酸化物換算で１.６重量
％となるよう、エチルカルビトールを溶媒として添加
し、良く混合撹拌し光触媒膜形成用印刷薬液とする。な
お、薬液の粘度は２８ポイズで行った。

【００２７】薬液の塗布：上記の工程において洗浄
の終了したフロートガラスのトップ面上に、所定形状に
パターニングした３５０メッシュのテトロンスクリーン
をのせ、ショアー硬度ＨＳ６１のスキージーを用いて前
記光触媒膜形成用印刷薬液でトップ面を選択してガラス
基材表面にスクリーン印刷する。

【００２８】焼成：焼成炉において昇温速度７０℃／
分で５５０℃まで昇温し、５１０℃以上の温度に１分間
加熱して加熱処理を行った。

【００２９】品質評価：焼成・固化した光触媒膜は、
膜厚が１２０ｎｍのものが得られた。得られた光触媒ガ
ラスの光触媒活性を評価した結果、水の接触角が照射前
の５４から４時間後には６になり、さらに２４ 時間後
には２以下となり、光触媒膜付きガラスが非常に高い光
触媒活性を有することが確認できた。

【００３０】なお、得られた光触媒ガラスの光触媒活性
の評価は下記のように行った。 〔光触媒活性試験〕１重量％オレイン酸アセトン溶液を
用いて光触媒膜表面にオレイン酸を均一に付着させ人工
的に汚れを形成した。これにブラックライトＦＬ１５Ｂ
ＬＢ(東芝電気)で０．５ｍＷ／ｃｍ²（３６５ｎｍ）の
紫外線を２時間照射した。照射後４時間および２４時間
経過後の水の接触角変化で光活性を評価した。表１に品
質評価の結果を示す。なお、表２の品質評価の欄の光触
媒活性の評価は、◎印（接触角：０〜５°）、○印（接
触角：６〜１０°）、×印（接触角：３０°以上）を示
し、接触角５°以下を合格とした。また、フロートガラ
スの塗布面の欄のＴ，Ｂは、フロートガラスのトップ
面、ボトム面をそれぞれ示す。

【００３１】

【表１】

【００３２】

【実施例２】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇温
した以外は、実施例１と同じ方法で行った。光触媒活性
を評価した結果、水の接触角が照射前の５９から４時間
後には５になり、該光触媒膜付きガラスが非常に高い光
触媒活性を有することが確認できた。

【００３３】

【実施例３】５１０℃以上での加熱時間を４分間とした
以外は、実施例１と同じ方法で行った。光触媒活性を評
価した結果、水の接触角が照射前の５６から４時間後に
は８になり、さらに２４時間後には２以下となり、非常
に高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００３４】

【実施例４】昇温速度を２８０℃／分で５５０℃まで昇
温し、５１０℃以上での加熱時間を４分間とした以外は
実施例１と同じ方法で行った。光触媒活性を評価した結
果、水の接触角が照射前の５８から４時間後には３にな
り、非常に高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００３５】

【実施例５】光触媒膜形成用薬液の溶質濃度を酸化物換
算で２．０重量％となるようにした以外は実施例１と同
じ方法で行った。結果、膜厚が１１８ｎｍの光触媒膜付
きガラスが得られた。光触媒活性を評価した結果、水の
接触角が照射前の５８から４時間後には３になり、非常
に高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００３６】

【実施例６】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇温
した以外は、実施例５と同じ方法で行った。光触媒活性
を評価した結果、水の接触角が照射前の５３から４時間
後には４になり、非常に高い光触媒活性を有することが
確認できた。

【００３７】

【実施例７】５１０℃以上での加熱時間を４分間とした
以外は実施例５と同じ方法で行った。光触媒活性を評価
した結果、水の接触角が照射前の５７から４時間後には
６になり、さらに２４時間後には２以下となり、非常に
高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００３８】

【実施例８】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇温
し、５１０℃以上での加熱時間を４分間とした以外は実
施例５と同じ方法で行った。光触媒活性を評価した結
果、水の接触角が照射前の５４から４時間後には４にな
り、該光触媒膜付きガラスが非常に高い光触媒活性を有
することが確認できた。

【００３９】

【実施例９】溶液中のチタニアゾル（ＣＧ−Ｔ、日本曹
達社製）とシリカゾル（コルコートＰ、コルコート社
製）とコロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ−Ｓ、日産化学
製）を用い、酸化物換算で５５：２０：２５（固形分重
量％）とした以外は実施例１と同じ方法で行った。結
果、膜厚が１２３ｎｍの光触媒膜付きガラスが得られ、
光触媒活性を評価した結果、水の接触角が照射前の５８
から４時間後には４になり、非常に高い光触媒活性を有
することが確認できた。

【００４０】

【実施例１０】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇
温した以外は実施例９と同じ方法で行った。光触媒活性
を評価した結果、水の接触角が照射前の５２から４時間
後には３になり、さらに２４時間後には３以下となり、
該光触媒膜付きガラスが非常に高い光触媒活性を有する
ことが確認できた。

【００４１】

【実施例１１】５１０℃以上での加熱時間を４分間とし
た以外は実施例９と同じ方法で行った。光触媒活性を評
価した結果、水の接触角が照射前の５５から４時間後に
は５になり、さらに２４時間後には２以下となり、非常
に高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００４２】

【実施例１２】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇
温し、５１０℃以上での加熱時間を４分間とした以外は
実施例９と同じ方法で行った。光触媒活性を評価した結
果、水の接触角が照射前の５５から４時間後には３にな
り、非常に高い光触媒活性を有することが確認できた。

【００４３】

【実施例１３】溶液中のチタニアゾル（ＣＧ−Ｔ、帝国
化学社製）とシリカゾル（コルコートＰ、コルコート社
製）とコロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ−Ｓ、日産化学
製）を用い、酸化物換算で８０：１０：１０（固形分重
量％）とした溶液に増粘剤としてニトロセルロースＨ７
（ダイセル製）を薬液全体の約１６重量％添加し、該光
触媒膜形成用薬液の溶質濃度が酸化物換算で１．６重量
％となるよう、エチルカルビトールを溶媒として添加し
た以外は実施例１と同じ方法で行った。結果、膜厚が１
１８ｎｍの光触媒膜付きガラスが得られ、光触媒活性を
評価した結果、水の接触角が照射前の５８から４時間後
には２以下になり、該光触媒膜付きガラスが非常に高い
光触媒活性を有することが確認できた。

【００４４】

【実施例１４】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇
温した以外は実施例１３と同じ方法で行った。光触媒活
性を評価した結果、水の接触角が照射前の５５から４時
間後には４になり、非常に高い光触媒活性を有すること
が確認できた。

【００４５】

【実施例１５】５１０℃以上での加熱時間を４分間とし
た以外は実施例１３と同じ方法で行った。光触媒活性を
評価した結果、水の接触角が照射前の５８から４時間後
には４になり、非常に高い光触媒活性を有することが確
認できた。

【００４６】

【実施例１６】昇温速度２８０℃／分で５５０℃まで昇
温し、５１０℃以上での加熱時間を４分間とした以外
は、実施例１３と同じ方法で行った。光触媒活性を評価
した結果、水の接触角が照射前の５７から４時間後には
３になり、非常に高い光触媒活性を有することが確認で
きた。

【００４７】

【比較例１】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例１と同じ方法で行った。結果、膜
厚が１２２ｎｍの光触媒膜付きガラスが得られ、光触媒
活性を評価した結果、水の接触角が照射前の５５から４
時間後には５３であり、さらに２４時間後でも５１であ
った。該光触媒膜を成膜する際にガラス基板のトップ面
とボトム面を選択することにより光触媒活性に差異が生
じることを確認できた。

【００４８】

【比較例２】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例２と同じ方法で行った。光触媒活
性を評価した結果、水の接触角が照射前の５８から４時
間後には４８であり、さらに２４時間後でも４２であっ
た。

【００４９】

【比較例３】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例３と同じ方法で行った。光触媒活
性を評価した結果、水の接触角が照射前の５６から４時
間後には５２であり、さらに２４時間後でも５０であっ
た。

【００５０】

【比較例４】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例４と同じ方法で行った。光触媒活
性を評価した結果、水の接触角が照射前の４９から４時
間後には４８であり、さらに２４時間後にも４４であっ
た。

【００５１】

【比較例５】５５０℃までの昇温速度を６０℃／分とし
た以外は実施例１と同じ方法で行った。光触媒活性を評
価した結果、水の接触角が照射前の５３から４時間後に
は４８であり、さらに２４時間後にも４０であった。

【００５２】

【比較例６】ナトリウムイオンの拡散温度（５１０℃）
以上での加熱時間を６分間とした以外は実施例１と同じ
方法で行った。光触媒活性を評価した結果、水の接触角
が照射前の５３から４時間後には５０であり、さらに２
４時間後にも４６であった。

【００５３】

【比較例７】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例９と同じ方法で行った。光触媒活
性を評価した結果、水の接触角が照射前の５１から４時
間後には５０であり、さらに２４時間後にも４６であっ
た。

【００５４】

【比較例８】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例１０と同じ方法で行った。光触媒
活性を評価した結果、水の接触角が照射前の５１から４
時間後には４９であり、さらに２４時間後にも４８であ
った。

【００５５】

【比較例９】フロートガラスのボトム面を選択して印刷
を行った以外は実施例１１と同じ方法で行った。膜厚が
１２０ｎｍの光触媒膜付きガラスが得られ、光触媒活性
を評価した結果、水の接触角が照射前の５２から４時間
後には４９であり、さらに２４時間後にも４４であっ
た。

【００５６】

【比較例１０】フロートガラスのボトム面を選択して印
刷を行った以外は実施例１２と同じ方法で行った。光触
媒活性を評価した結果、水の接触角が照射前の５２から
４時間後には４８であり、さらに２４時間後にも４４で
あった。

【００５７】

【発明の効果】本発明は、フロートガラス基板のトップ
面に直接、高品質且つ高耐久性を有する光触媒膜を形成
出来、製造工程が単純で安価に製造できるとともに、下
地層がないので刺激純度が小さく且つ色調がニュートラ
ル色に近く、反射率が小さいものを得ることができる効
果も併せて有する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西田 佳弘 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所内 (72)発明者 本城 啓司 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所内 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AA11 AB14 AC21 AC22 EA01 EA04 EA18 EB05 4G069 AA08 AA11 AA15 BA04A BA04B BA14A BA14B BA48A BA48C CD10 DA05 EA08 ED02 FB23 FB30

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フロートガラス基板のトップ面に直接、有
   機チタン化合物を含む溶液を塗布したのち、７０〜 ２
   ８０℃／分の昇温速度で焼成温度まで昇温し焼成するに
   際し、ガラス中に含まれるナトリウムイオンの熱拡散温
   度以上での加熱時間を１〜４分間となるように制御して
   焼成することにより、該ガラス基板表面に光触媒機能を
   有する酸化物被膜を形成することを特徴とする光触媒ガ
   ラスの製造方法。
2. 【請求項２】酸化物被膜は、光触媒機能を有するチタニ
   アが４５〜９０重量％、マトリックス形成用酸化物が５
   〜３０重量％、酸化物超微粒子が５〜２５重量％からな
   ることを特徴とする請求項１記載の光触媒ガラスの製造
   方法。
3. 【請求項３】酸化物被膜は、酸化物超微粒子をマトリッ
   クス形成用酸化物に均一に分散させた多孔質酸化物から
   なることを特徴とする請求項１乃至２記載の光触媒ガラ
   スの製造方法。