JP2000121584A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光Ｘ線分析において、適切な分析条件の設
定を容易にし、迅速で正確な分析ができる装置を提供す
る。 【解決手段】 試料の品種ごとの適切な分析条件を記憶
する品種分析条件記憶手段11A のほか、以下の手段12A,
13A等を備える。選択情報表示制御手段12A は、前記品
種分析条件記憶手段11A に記憶した試料の品種から操作
者により所望の１品種を選択させるための情報を、表示
器16に表示させる。品種分析条件設定手段13A は、選択
された品種に適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手
段11A から呼び出して、試料の分析を実行する制御装置
15に与える。
定を容易にし、迅速で正確な分析ができる装置を提供す
る。 【解決手段】 試料の品種ごとの適切な分析条件を記憶
する品種分析条件記憶手段11A のほか、以下の手段12A,
13A等を備える。選択情報表示制御手段12A は、前記品
種分析条件記憶手段11A に記憶した試料の品種から操作
者により所望の１品種を選択させるための情報を、表示
器16に表示させる。品種分析条件設定手段13A は、選択
された品種に適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手
段11A から呼び出して、試料の分析を実行する制御装置
15に与える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に１次Ｘ線を
照射して発生する２次Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分
析装置に関するものである。
照射して発生する２次Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分
析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、試料に１次Ｘ線を照射して、
試料中の元素から発生する２次Ｘ線たる蛍光Ｘ線の強度
を測定し、その測定強度に基づいて、試料における元素
の濃度等を求めるいわゆる蛍光Ｘ線分析装置がある。か
かる蛍光Ｘ線分析においては、分析する試料の品種によ
って、分析対象とすべき成分（元素）、測定すべき蛍光
Ｘ線、測定雰囲気、検量線の次数等における適切な分析
条件が異なる。そこで、従来の蛍光Ｘ線分析装置におい
ては、主に操作者が経験に基づいて、これらの適切な分
析条件を設定していた。
試料中の元素から発生する２次Ｘ線たる蛍光Ｘ線の強度
を測定し、その測定強度に基づいて、試料における元素
の濃度等を求めるいわゆる蛍光Ｘ線分析装置がある。か
かる蛍光Ｘ線分析においては、分析する試料の品種によ
って、分析対象とすべき成分（元素）、測定すべき蛍光
Ｘ線、測定雰囲気、検量線の次数等における適切な分析
条件が異なる。そこで、従来の蛍光Ｘ線分析装置におい
ては、主に操作者が経験に基づいて、これらの適切な分
析条件を設定していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、熟練していな
い操作者にとっては、適切な分析条件の設定は容易でな
く、設定が不適切であれば、正確な分析ができない。
い操作者にとっては、適切な分析条件の設定は容易でな
く、設定が不適切であれば、正確な分析ができない。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、蛍光Ｘ線分析において、適切な分析条件の設定
を容易にし、迅速で正確な分析ができる装置を提供する
ことを目的とする。
もので、蛍光Ｘ線分析において、適切な分析条件の設定
を容易にし、迅速で正確な分析ができる装置を提供する
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置は、与えられた分析条
件にしたがって試料の分析を実行する制御装置を備え、
以下の品種分析条件記憶手段、選択情報表示制御手段お
よび品種分析条件設定手段を備えている。前記品種分析
条件記憶手段は、試料の品種ごとの適切な分析条件を記
憶する。前記選択情報表示制御手段は、その品種分析条
件記憶手段に記憶した試料の品種から操作者により所望
の１品種を選択させるための情報を、表示器に表示させ
る。前記品種分析条件設定手段は、選択された品種に適
切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段から呼び出し
て前記制御装置に与える。
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置は、与えられた分析条
件にしたがって試料の分析を実行する制御装置を備え、
以下の品種分析条件記憶手段、選択情報表示制御手段お
よび品種分析条件設定手段を備えている。前記品種分析
条件記憶手段は、試料の品種ごとの適切な分析条件を記
憶する。前記選択情報表示制御手段は、その品種分析条
件記憶手段に記憶した試料の品種から操作者により所望
の１品種を選択させるための情報を、表示器に表示させ
る。前記品種分析条件設定手段は、選択された品種に適
切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段から呼び出し
て前記制御装置に与える。
【０００６】請求項１の装置によれば、品種分析条件記
憶手段に試料の品種ごとの適切な分析条件が記憶される
ので、操作者は、分析対象の試料の品種を選択するのみ
で、その品種に適切な分析条件が設定できる。
憶手段に試料の品種ごとの適切な分析条件が記憶される
ので、操作者は、分析対象の試料の品種を選択するのみ
で、その品種に適切な分析条件が設定できる。
【０００７】請求項２の蛍光Ｘ線分析装置は、請求項１
の装置において、さらに、以下の修正情報表示制御手段
および修正分析条件設定手段を備えている。前記修正情
報表示制御手段は、選択された品種に適切な分析条件を
操作者により分析対象の試料の品種に適切な分析条件に
修正させるための情報を、表示器に表示させる。前記修
正分析条件設定手段は、その修正情報表示制御手段が用
いられた場合には、選択され修正された分析対象の試料
の品種に適切な分析条件を前記制御装置に与える。
の装置において、さらに、以下の修正情報表示制御手段
および修正分析条件設定手段を備えている。前記修正情
報表示制御手段は、選択された品種に適切な分析条件を
操作者により分析対象の試料の品種に適切な分析条件に
修正させるための情報を、表示器に表示させる。前記修
正分析条件設定手段は、その修正情報表示制御手段が用
いられた場合には、選択され修正された分析対象の試料
の品種に適切な分析条件を前記制御装置に与える。
【０００８】請求項２の装置によれば、かかる構成によ
り、品種分析条件記憶手段に分析対象の試料の品種に適
切な分析条件が記憶されていない場合でも、操作者は、
近似した品種を選択してその分析条件を修正するのみ
で、分析対象の試料の品種に適切な分析条件が設定でき
る。
り、品種分析条件記憶手段に分析対象の試料の品種に適
切な分析条件が記憶されていない場合でも、操作者は、
近似した品種を選択してその分析条件を修正するのみ
で、分析対象の試料の品種に適切な分析条件が設定でき
る。
【０００９】請求項３の蛍光Ｘ線分析装置は、与えられ
た分析条件にしたがって試料の分析を実行する制御装置
を備え、以下の要素分析条件記憶手段、特定情報表示制
御手段および要素分析条件設定手段を備えている。前記
要素分析条件記憶手段は、試料の品種および性状を特定
する要素ごとの適切な分析条件を記憶する。前記特定情
報表示制御手段は、分析対象の試料の品種および性状を
操作者により特定させるための情報を表示器に表示させ
る。前記要素分析条件設定手段は、その特定情報表示制
御手段が用いられた場合には、特定された分析対象の試
料の品種および性状に適切な分析条件を前記要素分析条
件記憶手段から呼び出して前記制御装置に与える。
た分析条件にしたがって試料の分析を実行する制御装置
を備え、以下の要素分析条件記憶手段、特定情報表示制
御手段および要素分析条件設定手段を備えている。前記
要素分析条件記憶手段は、試料の品種および性状を特定
する要素ごとの適切な分析条件を記憶する。前記特定情
報表示制御手段は、分析対象の試料の品種および性状を
操作者により特定させるための情報を表示器に表示させ
る。前記要素分析条件設定手段は、その特定情報表示制
御手段が用いられた場合には、特定された分析対象の試
料の品種および性状に適切な分析条件を前記要素分析条
件記憶手段から呼び出して前記制御装置に与える。
【００１０】請求項３の装置によれば、要素分析条件記
憶手段に試料の品種および性状を特定する要素ごとの適
切な分析条件が記憶されるので、操作者は、分析対象の
試料の品種および性状を要素の指定等により特定するの
みで、その品種および性状に適切な分析条件が設定でき
る。
憶手段に試料の品種および性状を特定する要素ごとの適
切な分析条件が記憶されるので、操作者は、分析対象の
試料の品種および性状を要素の指定等により特定するの
みで、その品種および性状に適切な分析条件が設定でき
る。
【００１１】請求項４の蛍光Ｘ線分析装置は、請求項１
ないし３のいずれかの装置において、さらに、以下の処
理条件記憶手段および処理条件表示制御手段を備えてい
る。前記処理条件記憶手段は、試料の品種を特定する要
素ごとの適切な試料処理条件を記憶する。処理条件表示
制御手段は、前記選択された品種または特定された品種
に適切な試料処理条件を、前記処理条件記憶手段から呼
び出して表示器に表示させる。
ないし３のいずれかの装置において、さらに、以下の処
理条件記憶手段および処理条件表示制御手段を備えてい
る。前記処理条件記憶手段は、試料の品種を特定する要
素ごとの適切な試料処理条件を記憶する。処理条件表示
制御手段は、前記選択された品種または特定された品種
に適切な試料処理条件を、前記処理条件記憶手段から呼
び出して表示器に表示させる。
【００１２】請求項４の装置によれば、かかる構成によ
り、選択した品種または特定した品種に適切な試料処理
条件が表示されるので、操作者は、分析対象の試料につ
いて容易に適切な試料処理ができる。
り、選択した品種または特定した品種に適切な試料処理
条件が表示されるので、操作者は、分析対象の試料につ
いて容易に適切な試料処理ができる。
【００１３】請求項５の蛍光Ｘ線分析装置は、請求項４
の装置において、さらに、以下の注意点記憶手段および
注意点表示制御手段を備えている。前記注意点記憶手段
は、分析条件および試料処理条件に基づく分析上の注意
点を記憶する。前記注意点表示制御手段は、前記制御装
置に与えられる分析条件および前記表示された試料処理
条件に対応する分析上の注意点を、前記注意点記憶手段
から呼び出して表示器に表示させる。
の装置において、さらに、以下の注意点記憶手段および
注意点表示制御手段を備えている。前記注意点記憶手段
は、分析条件および試料処理条件に基づく分析上の注意
点を記憶する。前記注意点表示制御手段は、前記制御装
置に与えられる分析条件および前記表示された試料処理
条件に対応する分析上の注意点を、前記注意点記憶手段
から呼び出して表示器に表示させる。
【００１４】請求項５の装置によれば、かかる構成によ
り、分析対象の試料に適切な分析条件および試料処理条
件についての分析上の注意点が表示されるので、操作者
は、それを考慮してより正確な分析ができる。
り、分析対象の試料に適切な分析条件および試料処理条
件についての分析上の注意点が表示されるので、操作者
は、それを考慮してより正確な分析ができる。
【００１５】請求項６の蛍光Ｘ線分析装置は、与えられ
た分析条件にしたがって試料の分析を実行する制御装置
を備え、さらに測定線設定手段を備えている。この測定
線設定手段は、分析対象の試料が基板上に形成された薄
膜である場合には、基板または薄膜に含まれる元素から
の蛍光Ｘ線の理論強度を算出し、その理論強度に基づい
て測定すべき蛍光Ｘ線を選択して適切な分析条件の一部
として前記制御装置に与える。
た分析条件にしたがって試料の分析を実行する制御装置
を備え、さらに測定線設定手段を備えている。この測定
線設定手段は、分析対象の試料が基板上に形成された薄
膜である場合には、基板または薄膜に含まれる元素から
の蛍光Ｘ線の理論強度を算出し、その理論強度に基づい
て測定すべき蛍光Ｘ線を選択して適切な分析条件の一部
として前記制御装置に与える。
【００１６】請求項６の装置によれば、分析対象の試料
が半導体ウエハ等のいわゆる薄膜試料である場合には、
測定線設定手段により、測定すべき蛍光Ｘ線が自動選択
され適切な分析条件の一部として設定されるので、操作
者は、分析条件のうち測定すべき蛍光Ｘ線を設定する必
要がない。
が半導体ウエハ等のいわゆる薄膜試料である場合には、
測定線設定手段により、測定すべき蛍光Ｘ線が自動選択
され適切な分析条件の一部として設定されるので、操作
者は、分析条件のうち測定すべき蛍光Ｘ線を設定する必
要がない。
【００１７】請求項７の蛍光Ｘ線分析装置は、請求項６
の装置において、前記測定設定手段が、さらに前記選択
した測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否を判断するも
のであり、また、その判断された分析の可否を表示器に
表示させる分析可否表示制御手段を備えている。
の装置において、前記測定設定手段が、さらに前記選択
した測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否を判断するも
のであり、また、その判断された分析の可否を表示器に
表示させる分析可否表示制御手段を備えている。
【００１８】請求項７の装置によれば、かかる構成によ
り、分析対象の試料が薄膜試料である場合に、自動選択
された測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否が表示され
るので、操作者は、不正確な分析を回避できる。
り、分析対象の試料が薄膜試料である場合に、自動選択
された測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否が表示され
るので、操作者は、不正確な分析を回避できる。
【００１９】請求項８の蛍光Ｘ線分析装置は、以下の波
長等記憶手段、加補正線選択手段および加補正線表示制
御手段を備えている。前記波長等記憶手段は、各蛍光Ｘ
線の波長またはエネルギーを記憶する。前記加補正線選
択手段は、分析対象の試料について重なり補正が必要で
ある場合には、前記波長等記憶手段に記憶した各蛍光Ｘ
線の波長またはエネルギーに基づいて、分析すべき蛍光
Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択する。前
記加補正線表示制御手段は、その加補正線選択手段によ
り選択された重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器
に表示させる。
長等記憶手段、加補正線選択手段および加補正線表示制
御手段を備えている。前記波長等記憶手段は、各蛍光Ｘ
線の波長またはエネルギーを記憶する。前記加補正線選
択手段は、分析対象の試料について重なり補正が必要で
ある場合には、前記波長等記憶手段に記憶した各蛍光Ｘ
線の波長またはエネルギーに基づいて、分析すべき蛍光
Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択する。前
記加補正線表示制御手段は、その加補正線選択手段によ
り選択された重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器
に表示させる。
【００２０】請求項８の装置によれば、かかる構成によ
り、分析対象の試料について重なり補正が必要である場
合には、用いるべき加補正線が自動選択され表示される
ので、操作者は、分析条件のうち加補正線については表
示にしたがうのみで適切な設定ができる。
り、分析対象の試料について重なり補正が必要である場
合には、用いるべき加補正線が自動選択され表示される
ので、操作者は、分析条件のうち加補正線については表
示にしたがうのみで適切な設定ができる。
【００２１】請求項９の蛍光Ｘ線分析装置は、請求項８
の装置において、前記加補正線選択手段が、分析すべき
蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択する
にあたり、さらに、分析すべき蛍光Ｘ線についてのバッ
クグラウンドの測定位置に基づく。
の装置において、前記加補正線選択手段が、分析すべき
蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択する
にあたり、さらに、分析すべき蛍光Ｘ線についてのバッ
クグラウンドの測定位置に基づく。
【００２２】請求項９の装置によれば、かかる構成によ
り、用いるべき加補正線の自動選択がより適切になる。
り、用いるべき加補正線の自動選択がより適切になる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態の装置
について説明する。まず、この装置の構成について、図
１にしたがって説明する。この装置は、まず、試料３が
固定される試料台８と、試料３に１次Ｘ線２を照射する
Ｘ線源１と、試料３から発生する２次Ｘ線６の強度を測
定する検出手段９とを備えている。検出手段９は、試料
３から発生した２次Ｘ線４を分光する分光器５と、分光
器５で分光された波長ごとの２次Ｘ線６の強度を測定す
る検出器７からなる。この装置は、分光器５と検出器７
がゴニオメータによって連動されるいわゆるスキャン型
の蛍光Ｘ線分析装置である。また、この装置は、与えら
れた分析条件にしたがってＸ線源１、ゴニオメータ、検
出器７等を作動させ試料３の分析を実行する制御装置１
５、ＣＲＴ等の表示器１６、ならびに、以下の記憶手段
１１、表示制御手段１２、設定手段１３および加補正線
選択手段１４を含む分析条件作成手段１０を備えてい
る。
について説明する。まず、この装置の構成について、図
１にしたがって説明する。この装置は、まず、試料３が
固定される試料台８と、試料３に１次Ｘ線２を照射する
Ｘ線源１と、試料３から発生する２次Ｘ線６の強度を測
定する検出手段９とを備えている。検出手段９は、試料
３から発生した２次Ｘ線４を分光する分光器５と、分光
器５で分光された波長ごとの２次Ｘ線６の強度を測定す
る検出器７からなる。この装置は、分光器５と検出器７
がゴニオメータによって連動されるいわゆるスキャン型
の蛍光Ｘ線分析装置である。また、この装置は、与えら
れた分析条件にしたがってＸ線源１、ゴニオメータ、検
出器７等を作動させ試料３の分析を実行する制御装置１
５、ＣＲＴ等の表示器１６、ならびに、以下の記憶手段
１１、表示制御手段１２、設定手段１３および加補正線
選択手段１４を含む分析条件作成手段１０を備えてい
る。
【００２４】記憶手段１１は、さらに、以下の品種分析
条件記憶手段１１Ａ、要素分析条件記憶手段１１Ｃ、処
理条件記憶手段１１Ｄ、注意点記憶手段１１Ｅおよび波
長等記憶手段１１Ｈを含んでいる。表示制御手段１２
は、さらに、以下の選択情報表示制御手段１２Ａ、修正
情報表示制御手段１２Ｂ、特定情報表示制御手段１２
Ｃ、処理条件表示制御手段１２Ｄ、注意点表示制御手段
１２Ｅ、分析可否表示制御手段１２Ｇおよび加補正線表
示制御手段１２Ｈを含んでいる。設定手段１３は、さら
に、以下の品種分析条件設定手段１３Ａ、修正分析条件
設定手段１３Ｂ、要素分析条件設定手段１３Ｃおよび測
定線設定手段１３Ｆを含んでいる。
条件記憶手段１１Ａ、要素分析条件記憶手段１１Ｃ、処
理条件記憶手段１１Ｄ、注意点記憶手段１１Ｅおよび波
長等記憶手段１１Ｈを含んでいる。表示制御手段１２
は、さらに、以下の選択情報表示制御手段１２Ａ、修正
情報表示制御手段１２Ｂ、特定情報表示制御手段１２
Ｃ、処理条件表示制御手段１２Ｄ、注意点表示制御手段
１２Ｅ、分析可否表示制御手段１２Ｇおよび加補正線表
示制御手段１２Ｈを含んでいる。設定手段１３は、さら
に、以下の品種分析条件設定手段１３Ａ、修正分析条件
設定手段１３Ｂ、要素分析条件設定手段１３Ｃおよび測
定線設定手段１３Ｆを含んでいる。
【００２５】前記品種分析条件記憶手段１１Ａは、試料
の品種ごとの適切な分析条件を記憶する。前記選択情報
表示制御手段１２Ａは、その品種分析条件記憶手段１１
Ａに記憶した試料の品種から操作者により所望の１品種
を選択させるための情報を、表示器１６に表示させる。
前記品種分析条件設定手段１３Ａは、選択された品種に
適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段１１Ａから
呼び出して前記制御装置１５に与える。
の品種ごとの適切な分析条件を記憶する。前記選択情報
表示制御手段１２Ａは、その品種分析条件記憶手段１１
Ａに記憶した試料の品種から操作者により所望の１品種
を選択させるための情報を、表示器１６に表示させる。
前記品種分析条件設定手段１３Ａは、選択された品種に
適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段１１Ａから
呼び出して前記制御装置１５に与える。
【００２６】前記修正情報表示制御手段１２Ｂは、選択
された品種に適切な分析条件を操作者により分析対象の
試料３の品種に適切な分析条件に修正させるための情報
を、表示器１６に表示させる。前記修正分析条件設定手
段１３Ｂは、その修正情報表示制御手段１２Ｂが用いら
れた場合には、選択され修正された分析対象の試料３の
品種に適切な分析条件を前記制御装置１５に与える。
された品種に適切な分析条件を操作者により分析対象の
試料３の品種に適切な分析条件に修正させるための情報
を、表示器１６に表示させる。前記修正分析条件設定手
段１３Ｂは、その修正情報表示制御手段１２Ｂが用いら
れた場合には、選択され修正された分析対象の試料３の
品種に適切な分析条件を前記制御装置１５に与える。
【００２７】前記要素分析条件記憶手段１１Ｃは、試料
の品種および性状を特定する要素ごとの適切な分析条件
を記憶する。前記特定情報表示制御手段１２Ｃは、分析
対象の試料３の品種および性状を操作者により特定させ
るための情報を表示器１６に表示させる。前記要素分析
条件設定手段１３Ｃは、その特定情報表示制御手段１２
Ｃが用いられた場合には、特定された分析対象の試料３
の品種および性状に適切な分析条件を前記要素分析条件
記憶手段１１Ｃから呼び出して前記制御装置１５に与え
る。
の品種および性状を特定する要素ごとの適切な分析条件
を記憶する。前記特定情報表示制御手段１２Ｃは、分析
対象の試料３の品種および性状を操作者により特定させ
るための情報を表示器１６に表示させる。前記要素分析
条件設定手段１３Ｃは、その特定情報表示制御手段１２
Ｃが用いられた場合には、特定された分析対象の試料３
の品種および性状に適切な分析条件を前記要素分析条件
記憶手段１１Ｃから呼び出して前記制御装置１５に与え
る。
【００２８】前記処理条件記憶手段１１Ｄは、試料の品
種を特定する要素ごとの適切な試料処理条件を記憶す
る。前記処理条件表示制御手段１２Ｄは、前記選択され
た品種または特定された品種に適切な試料処理条件を、
前記処理条件記憶手段１１Ｄから呼び出して表示器１６
に表示させる。
種を特定する要素ごとの適切な試料処理条件を記憶す
る。前記処理条件表示制御手段１２Ｄは、前記選択され
た品種または特定された品種に適切な試料処理条件を、
前記処理条件記憶手段１１Ｄから呼び出して表示器１６
に表示させる。
【００２９】前記注意点記憶手段１１Ｅは、分析条件お
よび試料処理条件に基づく分析上の注意点を記憶する。
前記注意点表示制御手段１２Ｅは、前記制御装置１５に
与えられる分析条件および前記表示された試料処理条件
に対応する分析上の注意点を、前記注意点記憶手段１１
Ｅから呼び出して表示器１６に表示させる。
よび試料処理条件に基づく分析上の注意点を記憶する。
前記注意点表示制御手段１２Ｅは、前記制御装置１５に
与えられる分析条件および前記表示された試料処理条件
に対応する分析上の注意点を、前記注意点記憶手段１１
Ｅから呼び出して表示器１６に表示させる。
【００３０】前記測定線設定手段１３Ｆは、分析対象の
試料３が基板上に形成された薄膜である場合には、基板
または薄膜に含まれる元素からの蛍光Ｘ線の理論強度を
算出し、その理論強度に基づいて測定すべき蛍光Ｘ線を
選択して適切な分析条件の一部として前記制御装置１５
に与え、さらに前記選択した測定すべき蛍光Ｘ線による
分析の可否を判断する。前記分析可否表示制御手段１２
Ｇは、その判断された分析の可否を表示器１６に表示さ
せる。
試料３が基板上に形成された薄膜である場合には、基板
または薄膜に含まれる元素からの蛍光Ｘ線の理論強度を
算出し、その理論強度に基づいて測定すべき蛍光Ｘ線を
選択して適切な分析条件の一部として前記制御装置１５
に与え、さらに前記選択した測定すべき蛍光Ｘ線による
分析の可否を判断する。前記分析可否表示制御手段１２
Ｇは、その判断された分析の可否を表示器１６に表示さ
せる。
【００３１】前記波長等記憶手段１１Ｈは、各蛍光Ｘ線
の波長またはエネルギーを記憶する。前記加補正線選択
手段１４は、分析対象の試料３について重なり補正が必
要である場合には、前記波長等記憶手段１１Ｈに記憶し
た各蛍光Ｘ線の波長またはエネルギー、および分析すべ
き蛍光Ｘ線についてのバックグラウンドの測定位置に基
づいて、分析すべき蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき
蛍光Ｘ線を選択する。前記加補正線表示制御手段１２Ｈ
は、その加補正線選択手段１４により選択された重なり
補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器１６に表示させる。
の波長またはエネルギーを記憶する。前記加補正線選択
手段１４は、分析対象の試料３について重なり補正が必
要である場合には、前記波長等記憶手段１１Ｈに記憶し
た各蛍光Ｘ線の波長またはエネルギー、および分析すべ
き蛍光Ｘ線についてのバックグラウンドの測定位置に基
づいて、分析すべき蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき
蛍光Ｘ線を選択する。前記加補正線表示制御手段１２Ｈ
は、その加補正線選択手段１４により選択された重なり
補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器１６に表示させる。
【００３２】次に、この装置の動作について説明する。
まず、あらかじめ、品種分析条件記憶手段１１Ａに、試
料の品種ごとの適切な分析条件を記憶させておく。そし
て、操作者が所望の品種を選択する旨を図示しない入力
手段から分析条件作成手段１０に入力すると、選択情報
表示制御手段１２Ａは、例えば以下のように、品種分析
条件記憶手段１１Ａに記憶した試料の品種から操作者に
より所望の１品種を選択させるための情報を、表示器１
６に表示させる。
まず、あらかじめ、品種分析条件記憶手段１１Ａに、試
料の品種ごとの適切な分析条件を記憶させておく。そし
て、操作者が所望の品種を選択する旨を図示しない入力
手段から分析条件作成手段１０に入力すると、選択情報
表示制御手段１２Ａは、例えば以下のように、品種分析
条件記憶手段１１Ａに記憶した試料の品種から操作者に
より所望の１品種を選択させるための情報を、表示器１
６に表示させる。
【００３３】まず、表示器１６に、金属、酸化物粉末、
ガラスビード、ポリマー、薄膜、液体等、試料の形態が
表示されるので、操作者は、所望の分析対象である試料
３の品種に合致する形態、例えば金属を選択して、入力
手段から分析条件作成手段１０に入力する。すると、表
示器１６に、例えば図２に示すように、鉄基、ニッケル
基、銅基、アルミニウム基等、主成分となる金属元素が
表示されるので、操作者は、所望の品種に合致する主成
分、例えば鉄基を選択して、入力手段から図１の分析条
件作成手段１０に入力する。
ガラスビード、ポリマー、薄膜、液体等、試料の形態が
表示されるので、操作者は、所望の分析対象である試料
３の品種に合致する形態、例えば金属を選択して、入力
手段から分析条件作成手段１０に入力する。すると、表
示器１６に、例えば図２に示すように、鉄基、ニッケル
基、銅基、アルミニウム基等、主成分となる金属元素が
表示されるので、操作者は、所望の品種に合致する主成
分、例えば鉄基を選択して、入力手段から図１の分析条
件作成手段１０に入力する。
【００３４】続いて、表示器１６に、ステンレス鋼、低
合金鋼、工具鋼、鋳鉄等、概略の品種が表示されるの
で、操作者は、所望の品種に合致する品種、例えばステ
ンレス鋼を選択して、入力手段から分析条件作成手段１
０に入力する。これにより、操作者の所望の１品種が選
択され、品種分析条件設定手段１３Ａは、選択された品
種に適切な分析条件を品種分析条件記憶手段１１Ａから
呼び出して制御装置１５に与え、その分析条件を表示器
１６に表示して操作者に確認させる。
合金鋼、工具鋼、鋳鉄等、概略の品種が表示されるの
で、操作者は、所望の品種に合致する品種、例えばステ
ンレス鋼を選択して、入力手段から分析条件作成手段１
０に入力する。これにより、操作者の所望の１品種が選
択され、品種分析条件設定手段１３Ａは、選択された品
種に適切な分析条件を品種分析条件記憶手段１１Ａから
呼び出して制御装置１５に与え、その分析条件を表示器
１６に表示して操作者に確認させる。
【００３５】このように本実施形態の装置によれば、品
種分析条件記憶手段１１Ａに試料の品種ごとの適切な分
析条件が記憶されるので、操作者は、分析対象の試料３
の品種を選択するのみで、その品種に適切な分析条件が
設定できる。
種分析条件記憶手段１１Ａに試料の品種ごとの適切な分
析条件が記憶されるので、操作者は、分析対象の試料３
の品種を選択するのみで、その品種に適切な分析条件が
設定できる。
【００３６】さて、品種分析条件記憶手段１１Ａに分析
対象の試料３の品種に十分適切な分析条件が記憶されて
いない場合もあり得る。例えば、分析対象の試料３が通
常のステンレス鋼とは組成が一部異なり、前記表示され
たステンレス鋼の分析条件のうち、分析成分において追
加したい成分がある場合には、操作者はその旨を入力手
段から分析条件作成手段１０に入力する。
対象の試料３の品種に十分適切な分析条件が記憶されて
いない場合もあり得る。例えば、分析対象の試料３が通
常のステンレス鋼とは組成が一部異なり、前記表示され
たステンレス鋼の分析条件のうち、分析成分において追
加したい成分がある場合には、操作者はその旨を入力手
段から分析条件作成手段１０に入力する。
【００３７】すると、修正情報表示制御手段１２Ｂは、
選択された品種に適切な分析条件を操作者により分析対
象の試料３の品種に適切な分析条件に修正させるための
情報、この場合は選択したステンレス鋼の分析成分に追
加すべき種々の元素を、表示器１６に例えば図３のよう
に表示させるので、操作者は、追加すべき分析成分を選
択して入力手段から図１の分析条件作成手段１０に入力
する。これにより、選択された品種に適切な分析条件が
分析対象の試料３の品種に適切な分析条件に修正され、
修正分析条件設定手段１３Ｂは、修正情報表示制御手段
１２Ｂが用いられた場合には、選択され修正された分析
対象の試料３の品種に適切な分析条件を制御装置１５に
与える。
選択された品種に適切な分析条件を操作者により分析対
象の試料３の品種に適切な分析条件に修正させるための
情報、この場合は選択したステンレス鋼の分析成分に追
加すべき種々の元素を、表示器１６に例えば図３のよう
に表示させるので、操作者は、追加すべき分析成分を選
択して入力手段から図１の分析条件作成手段１０に入力
する。これにより、選択された品種に適切な分析条件が
分析対象の試料３の品種に適切な分析条件に修正され、
修正分析条件設定手段１３Ｂは、修正情報表示制御手段
１２Ｂが用いられた場合には、選択され修正された分析
対象の試料３の品種に適切な分析条件を制御装置１５に
与える。
【００３８】このように本実施形態の装置によれば、品
種分析条件記憶手段１１Ａに分析対象の試料３の品種に
適切な分析条件が記憶されていない場合でも、操作者
は、近似した品種を選択してその分析条件を修正するの
みで、分析対象の試料３の品種に適切な分析条件が設定
できる。
種分析条件記憶手段１１Ａに分析対象の試料３の品種に
適切な分析条件が記憶されていない場合でも、操作者
は、近似した品種を選択してその分析条件を修正するの
みで、分析対象の試料３の品種に適切な分析条件が設定
できる。
【００３９】さて、上述のように、品種分析条件記憶手
段１１Ａに記憶させた試料の品種ごとの適切な分析条件
を選択し、場合によってそれを修正するのでは、広い範
囲の分析対象の試料３に容易かつ正確に対応するために
は、必ずしも十分ではない。そこで、本実施形態の装置
では、さらに、要素分析条件記憶手段１１Ｃに、試料の
品種および性状を特定する要素ごとの適切な分析条件を
記憶させておく。ここで、試料の性状を特定する要素に
は、試料の寸法形状や重量を含めることができる。そし
て、操作者が分析対象の試料３の品種および性状を特定
する旨を入力手段から分析条件作成手段１０に入力する
と、特定情報表示制御手段１２Ｃは、分析対象の試料３
の品種および性状を操作者により特定させるための情報
を表示器１６に表示させ、要素分析条件設定手段１３Ｃ
は、特定情報表示制御手段１２Ｃが用いられた場合に
は、特定された分析対象の試料３の品種および性状に適
切な分析条件を要素分析条件記憶手段１１Ｃから呼び出
して制御装置１５に与える。
段１１Ａに記憶させた試料の品種ごとの適切な分析条件
を選択し、場合によってそれを修正するのでは、広い範
囲の分析対象の試料３に容易かつ正確に対応するために
は、必ずしも十分ではない。そこで、本実施形態の装置
では、さらに、要素分析条件記憶手段１１Ｃに、試料の
品種および性状を特定する要素ごとの適切な分析条件を
記憶させておく。ここで、試料の性状を特定する要素に
は、試料の寸法形状や重量を含めることができる。そし
て、操作者が分析対象の試料３の品種および性状を特定
する旨を入力手段から分析条件作成手段１０に入力する
と、特定情報表示制御手段１２Ｃは、分析対象の試料３
の品種および性状を操作者により特定させるための情報
を表示器１６に表示させ、要素分析条件設定手段１３Ｃ
は、特定情報表示制御手段１２Ｃが用いられた場合に
は、特定された分析対象の試料３の品種および性状に適
切な分析条件を要素分析条件記憶手段１１Ｃから呼び出
して制御装置１５に与える。
【００４０】例えば、表示された試料の形態から、操作
者が、分析対象の試料３の品種に合致する形態として液
体を選択して、入力手段から分析条件作成手段１０に入
力すると、分析条件のうち測定雰囲気においてヘリウム
雰囲気が適切なものとして要素分析条件記憶手段１１Ｃ
から呼び出されて制御装置１５に与えられる。また、例
えば、試料の寸法形状を入力せよとの表示に対し、操作
者が、分析対象の試料３の寸法形状を入力手段から分析
条件作成手段１０に入力すると、分析条件のうち分析面
積において適切な分析面積（具体的には適切な大きさの
マスクやダイアフラム）が要素分析条件記憶手段１１Ｃ
から呼び出されて制御装置１５に与えられる。
者が、分析対象の試料３の品種に合致する形態として液
体を選択して、入力手段から分析条件作成手段１０に入
力すると、分析条件のうち測定雰囲気においてヘリウム
雰囲気が適切なものとして要素分析条件記憶手段１１Ｃ
から呼び出されて制御装置１５に与えられる。また、例
えば、試料の寸法形状を入力せよとの表示に対し、操作
者が、分析対象の試料３の寸法形状を入力手段から分析
条件作成手段１０に入力すると、分析条件のうち分析面
積において適切な分析面積（具体的には適切な大きさの
マスクやダイアフラム）が要素分析条件記憶手段１１Ｃ
から呼び出されて制御装置１５に与えられる。
【００４１】また、例えば、操作者が、分析対象の品種
に合致する形態としてガラスビードを選択し、分析成分
のひとつ（この場合は酸化物）に酸化ジルコニウムを選
択し、試料の寸法形状および重量を入力すると、分析条
件のうち測定すべき蛍光Ｘ線として試料が無限厚となる
Ｚr −Ｌα線が要素分析条件記憶手段１１Ｃから呼び出
されて制御装置１５に与えられる。
に合致する形態としてガラスビードを選択し、分析成分
のひとつ（この場合は酸化物）に酸化ジルコニウムを選
択し、試料の寸法形状および重量を入力すると、分析条
件のうち測定すべき蛍光Ｘ線として試料が無限厚となる
Ｚr −Ｌα線が要素分析条件記憶手段１１Ｃから呼び出
されて制御装置１５に与えられる。
【００４２】このように本実施形態の装置によれば、要
素分析条件記憶手段１１Ｃに試料の品種および性状を特
定する要素ごとの適切な分析条件が記憶されるので、操
作者は、分析対象の試料３の品種および性状を要素の指
定等により特定するのみで、その品種および性状に適切
な分析条件が設定できる。
素分析条件記憶手段１１Ｃに試料の品種および性状を特
定する要素ごとの適切な分析条件が記憶されるので、操
作者は、分析対象の試料３の品種および性状を要素の指
定等により特定するのみで、その品種および性状に適切
な分析条件が設定できる。
【００４３】さて、蛍光Ｘ線分析の正確さは試料処理に
よるところが大きいが、従来は、操作者が経験や調査に
基づいて適切と思われる試料処理を行っていた。しか
し、熟練していない操作者にとっては、適切な試料処理
を行うことは容易でなく、不適切であれば正確な分析が
できない。そこで、本実施形態の装置では、あらかじ
め、処理条件記憶手段１１Ｄに、試料の品種を特定する
要素ごとの適切な試料処理条件を記憶させておく。する
と、処理条件表示制御手段１２Ｄは、前記選択された品
種または特定された品種に適切な試料処理条件、具体的
には、研磨機の種類、研磨剤の種類等を、処理条件記憶
手段１１Ｄから呼び出して表示器１６に表示させる。例
えば、ステンレス鋼に対しては、ベルト研磨機およびコ
ランダム系で粗さ２００の研磨剤が適切な試料処理条件
として表示される。
よるところが大きいが、従来は、操作者が経験や調査に
基づいて適切と思われる試料処理を行っていた。しか
し、熟練していない操作者にとっては、適切な試料処理
を行うことは容易でなく、不適切であれば正確な分析が
できない。そこで、本実施形態の装置では、あらかじ
め、処理条件記憶手段１１Ｄに、試料の品種を特定する
要素ごとの適切な試料処理条件を記憶させておく。する
と、処理条件表示制御手段１２Ｄは、前記選択された品
種または特定された品種に適切な試料処理条件、具体的
には、研磨機の種類、研磨剤の種類等を、処理条件記憶
手段１１Ｄから呼び出して表示器１６に表示させる。例
えば、ステンレス鋼に対しては、ベルト研磨機およびコ
ランダム系で粗さ２００の研磨剤が適切な試料処理条件
として表示される。
【００４４】このように本実施形態の装置によれば、選
択した品種または特定した品種に適切な試料処理条件が
表示されるので、操作者は、分析対象の試料３について
容易に適切な試料処理ができる。
択した品種または特定した品種に適切な試料処理条件が
表示されるので、操作者は、分析対象の試料３について
容易に適切な試料処理ができる。
【００４５】さて、分析条件や試料処理条件によって
は、分析上注意すべき事項がある。そこで、本実施形態
の装置では、あらかじめ、注意点記憶手段１１Ｅに、分
析条件および試料処理条件に基づく分析上の注意点を記
憶させておく。すると、注意点表示制御手段１２Ｅは、
前記制御装置１５に与えられる分析条件および前記表示
された試料処理条件に対応する分析上の注意点を、注意
点記憶手段１１Ｅから呼び出して表示器１６に表示させ
る。
は、分析上注意すべき事項がある。そこで、本実施形態
の装置では、あらかじめ、注意点記憶手段１１Ｅに、分
析条件および試料処理条件に基づく分析上の注意点を記
憶させておく。すると、注意点表示制御手段１２Ｅは、
前記制御装置１５に与えられる分析条件および前記表示
された試料処理条件に対応する分析上の注意点を、注意
点記憶手段１１Ｅから呼び出して表示器１６に表示させ
る。
【００４６】例えば、鉄鋼に対してコランダム系の研磨
剤を用いるべきとする場合であってアルミニウムを分析
成分（元素）に含む場合には、コランダム系の研磨剤が
アルミナを主成分とすることから、微量なアルミニウム
の分析に問題があるという注意点が表示される。また、
例えば、融剤にほう酸ナトリウムを用い、溶融温度１２
００℃で、Ｎa2Ｏ、ＳＯ3 を含むガラスビード試料の場
合には、融剤と共通する元素を含むＮa2Ｏの分析が不可
能であるという注意点、溶融中にＳＯ3 が揮散するとい
う注意点が表示される。
剤を用いるべきとする場合であってアルミニウムを分析
成分（元素）に含む場合には、コランダム系の研磨剤が
アルミナを主成分とすることから、微量なアルミニウム
の分析に問題があるという注意点が表示される。また、
例えば、融剤にほう酸ナトリウムを用い、溶融温度１２
００℃で、Ｎa2Ｏ、ＳＯ3 を含むガラスビード試料の場
合には、融剤と共通する元素を含むＮa2Ｏの分析が不可
能であるという注意点、溶融中にＳＯ3 が揮散するとい
う注意点が表示される。
【００４７】このように本実施形態の装置によれば、分
析対象の試料３に適切な分析条件および試料処理条件に
ついての分析上の注意点が表示されるので、操作者は、
それを考慮してより正確な分析ができる。
析対象の試料３に適切な分析条件および試料処理条件に
ついての分析上の注意点が表示されるので、操作者は、
それを考慮してより正確な分析ができる。
【００４８】さて、薄膜試料においては、新しい品種が
多く開発され、品種分析条件記憶手段１１Ａに品種ごと
の適切な分析条件を記憶させておくことが容易でない。
また、薄膜試料では、各層の厚さと組成の両方を分析し
たり、同一元素が異なる層に含まれる場合もあり、とり
わけ測定すべき蛍光Ｘ線の選択が、操作者にとって容易
でない。そこで、本実施形態の装置では、測定線設定手
段１３Ｆは、分析対象の試料３が基板上に形成された薄
膜である場合には、基板または薄膜に含まれる元素から
の蛍光Ｘ線の理論強度を算出し、その理論強度に基づい
て測定すべき蛍光Ｘ線を選択して適切な分析条件の一部
として制御装置１５に与える。
多く開発され、品種分析条件記憶手段１１Ａに品種ごと
の適切な分析条件を記憶させておくことが容易でない。
また、薄膜試料では、各層の厚さと組成の両方を分析し
たり、同一元素が異なる層に含まれる場合もあり、とり
わけ測定すべき蛍光Ｘ線の選択が、操作者にとって容易
でない。そこで、本実施形態の装置では、測定線設定手
段１３Ｆは、分析対象の試料３が基板上に形成された薄
膜である場合には、基板または薄膜に含まれる元素から
の蛍光Ｘ線の理論強度を算出し、その理論強度に基づい
て測定すべき蛍光Ｘ線を選択して適切な分析条件の一部
として制御装置１５に与える。
【００４９】例えば、分析対象の試料３が銅の基板上に
形成された銅と亜鉛からなる薄膜（厚さ５００nm）につ
いて薄膜（層）の厚さと組成を分析する場合には、ま
ず、層の各成分すなわち銅、亜鉛についてあらかじめ定
めておいた蛍光Ｘ線、ここでは、Ｃu −Ｋα線、Ｃu −
Ｌα線、Ｚn −Ｋα線およびＺn −Ｌα線について、代
表的な試料での層の厚さと組成において、理論強度を算
出する。次に、層の各成分について、その成分の付着量
を１％増やした場合の層の厚さと組成において、同様に
前記各蛍光Ｘ線について理論強度を算出する。そして、
各蛍光Ｘ線において算出した理論強度を比較し、付着量
を増やしたことによる変化率の大きい順に、分析に必要
な測定すべき蛍光Ｘ線を選択する。
形成された銅と亜鉛からなる薄膜（厚さ５００nm）につ
いて薄膜（層）の厚さと組成を分析する場合には、ま
ず、層の各成分すなわち銅、亜鉛についてあらかじめ定
めておいた蛍光Ｘ線、ここでは、Ｃu −Ｋα線、Ｃu −
Ｌα線、Ｚn −Ｋα線およびＺn −Ｌα線について、代
表的な試料での層の厚さと組成において、理論強度を算
出する。次に、層の各成分について、その成分の付着量
を１％増やした場合の層の厚さと組成において、同様に
前記各蛍光Ｘ線について理論強度を算出する。そして、
各蛍光Ｘ線において算出した理論強度を比較し、付着量
を増やしたことによる変化率の大きい順に、分析に必要
な測定すべき蛍光Ｘ線を選択する。
【００５０】この場合は、層の厚さと２成分からなる組
成を求めるから、２つの蛍光Ｘ線を測定すべきである
が、基板に含まれる銅の影響を受けにくいＺn −Ｋα線
とＺn−Ｌα線が選択される。なお、ここで例えば基板
が鉄であれば、層でなく基板に含まれる鉄からのＦe −
Ｋα線を測定すべき蛍光Ｘ線としてもよい。こうして選
択された測定すべき蛍光Ｘ線が適切な分析条件の一部と
して制御装置１５に与えられる。
成を求めるから、２つの蛍光Ｘ線を測定すべきである
が、基板に含まれる銅の影響を受けにくいＺn −Ｋα線
とＺn−Ｌα線が選択される。なお、ここで例えば基板
が鉄であれば、層でなく基板に含まれる鉄からのＦe −
Ｋα線を測定すべき蛍光Ｘ線としてもよい。こうして選
択された測定すべき蛍光Ｘ線が適切な分析条件の一部と
して制御装置１５に与えられる。
【００５１】このように本実施形態の装置によれば、分
析対象の試料３が半導体ウエハ等のいわゆる薄膜試料で
ある場合には、測定線設定手段１３Ｆにより、測定すべ
き蛍光Ｘ線が自動選択され適切な分析条件の一部として
設定されるので、操作者は、分析条件のうち測定すべき
蛍光Ｘ線を設定する必要がない。
析対象の試料３が半導体ウエハ等のいわゆる薄膜試料で
ある場合には、測定線設定手段１３Ｆにより、測定すべ
き蛍光Ｘ線が自動選択され適切な分析条件の一部として
設定されるので、操作者は、分析条件のうち測定すべき
蛍光Ｘ線を設定する必要がない。
【００５２】さらに、測定線設定手段１３Ｆは、選択し
た測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否を判断し、分析
可否表示制御手段１２Ｇは、その判断された分析の可否
を表示器１６に表示させる。すなわち、選択した測定す
べき蛍光Ｘ線について、代表的な組成はそのままで厚さ
を無限大にして理論強度を算出し、変化がない場合はそ
の蛍光Ｘ線について層が無限厚になっているので、厚さ
について分析ができないと判断され、その旨が表示され
る。
た測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否を判断し、分析
可否表示制御手段１２Ｇは、その判断された分析の可否
を表示器１６に表示させる。すなわち、選択した測定す
べき蛍光Ｘ線について、代表的な組成はそのままで厚さ
を無限大にして理論強度を算出し、変化がない場合はそ
の蛍光Ｘ線について層が無限厚になっているので、厚さ
について分析ができないと判断され、その旨が表示され
る。
【００５３】このように本実施形態の装置によれば、分
析対象の試料３が薄膜試料である場合に、自動選択され
た測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否が表示されるの
で、操作者は、不正確な分析を回避できる。
析対象の試料３が薄膜試料である場合に、自動選択され
た測定すべき蛍光Ｘ線による分析の可否が表示されるの
で、操作者は、不正確な分析を回避できる。
【００５４】さて、蛍光Ｘ線の重なりがある場合、正確
な定量分析のためには重なり補正が必要であるが、従来
は、操作者が経験や調査に基づいて、分析すべき蛍光Ｘ
線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線、すなわち加補正
線を選択していた。しかし、熟練していない操作者にと
っては、適切に加補正線を選択することは容易でなく、
不適切であれば正確な分析ができない。また、分析すべ
き蛍光Ｘ線と近接する蛍光Ｘ線との間でバックグラウン
ドを測定する場合には、この重なり補正は不要である
が、このような判断も熟練していない操作者にとっては
容易でない。
な定量分析のためには重なり補正が必要であるが、従来
は、操作者が経験や調査に基づいて、分析すべき蛍光Ｘ
線の重なり補正に用いるべき蛍光Ｘ線、すなわち加補正
線を選択していた。しかし、熟練していない操作者にと
っては、適切に加補正線を選択することは容易でなく、
不適切であれば正確な分析ができない。また、分析すべ
き蛍光Ｘ線と近接する蛍光Ｘ線との間でバックグラウン
ドを測定する場合には、この重なり補正は不要である
が、このような判断も熟練していない操作者にとっては
容易でない。
【００５５】そこで、本実施形態の装置では、あらかじ
め、波長等記憶手段１１Ｈは、各蛍光Ｘ線の波長または
エネルギーを記憶させておく。すると、加補正線選択手
段１４は、分析対象の試料３について重なり補正が必要
である場合には、波長等記憶手段１１Ｈに記憶した各蛍
光Ｘ線の波長またはエネルギー、および分析すべき蛍光
Ｘ線についてのバックグラウンドの測定位置に基づい
て、分析すべき蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光
Ｘ線を選択する。そして、加補正線表示制御手段１２Ｈ
は、その加補正線選択手段１４により選択された重なり
補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器１６に表示させる。
め、波長等記憶手段１１Ｈは、各蛍光Ｘ線の波長または
エネルギーを記憶させておく。すると、加補正線選択手
段１４は、分析対象の試料３について重なり補正が必要
である場合には、波長等記憶手段１１Ｈに記憶した各蛍
光Ｘ線の波長またはエネルギー、および分析すべき蛍光
Ｘ線についてのバックグラウンドの測定位置に基づい
て、分析すべき蛍光Ｘ線の重なり補正に用いるべき蛍光
Ｘ線を選択する。そして、加補正線表示制御手段１２Ｈ
は、その加補正線選択手段１４により選択された重なり
補正に用いるべき蛍光Ｘ線を表示器１６に表示させる。
【００５６】例えば、分析対象の試料３がステンレス鋼
で、Ｃu −Ｋα線が分析すべき蛍光Ｘ線である場合に
は、その近傍で加補正線とすべき蛍光Ｘ線として、波長
等記憶手段１１Ｈに記憶した蛍光Ｘ線から、Ｎi −Ｋβ
1 線が選択され表示される。ただし、分析条件のうち測
定すべき蛍光Ｘ線において、Ｎi −Ｋβ1 線でなく同系
列のＮi −Ｋα線が設定されている場合には、加補正線
としてＮi −Ｋα線が選択され表示される。また、Ｃu
−Ｋα線（分光角２θ＝４５．０４度）についてのバッ
クグラウンドの測定位置が、分光角で４４．６４度と４
５．４４度である場合には、Ｎi −Ｋβ1 線の分光角は
４３．７５度で、低角度側のバックグラウンドの測定位
置よりもさらに低角度であるから、重なり補正は不要と
判断され、加補正線は選択、表示されない。なお、加補
正線の選択にあたり、各元素の濃度を考慮すべくパラメ
ータに含めてもよい。
で、Ｃu −Ｋα線が分析すべき蛍光Ｘ線である場合に
は、その近傍で加補正線とすべき蛍光Ｘ線として、波長
等記憶手段１１Ｈに記憶した蛍光Ｘ線から、Ｎi −Ｋβ
1 線が選択され表示される。ただし、分析条件のうち測
定すべき蛍光Ｘ線において、Ｎi −Ｋβ1 線でなく同系
列のＮi −Ｋα線が設定されている場合には、加補正線
としてＮi −Ｋα線が選択され表示される。また、Ｃu
−Ｋα線（分光角２θ＝４５．０４度）についてのバッ
クグラウンドの測定位置が、分光角で４４．６４度と４
５．４４度である場合には、Ｎi −Ｋβ1 線の分光角は
４３．７５度で、低角度側のバックグラウンドの測定位
置よりもさらに低角度であるから、重なり補正は不要と
判断され、加補正線は選択、表示されない。なお、加補
正線の選択にあたり、各元素の濃度を考慮すべくパラメ
ータに含めてもよい。
【００５７】このように本実施形態の装置によれば、分
析対象の試料３について重なり補正が必要である場合に
は、用いるべき加補正線が自動選択され表示されるの
で、操作者は、分析条件のうち加補正線については表示
にしたがうのみで適切な設定ができる。
析対象の試料３について重なり補正が必要である場合に
は、用いるべき加補正線が自動選択され表示されるの
で、操作者は、分析条件のうち加補正線については表示
にしたがうのみで適切な設定ができる。
【００５８】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、品種分析条件記憶手段等に試料の品種等ごとの適
切な分析条件が記憶され、操作者は分析しようとする試
料の品種を選択する等のみで、その品種に適切な分析条
件が設定でき、したがって、熟練していない操作者で
も、迅速で正確な分析ができる。
れば、品種分析条件記憶手段等に試料の品種等ごとの適
切な分析条件が記憶され、操作者は分析しようとする試
料の品種を選択する等のみで、その品種に適切な分析条
件が設定でき、したがって、熟練していない操作者で
も、迅速で正確な分析ができる。
【図１】本発明の一実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示す
概略図である。
概略図である。
【図２】同装置の表示器における表示の一例を示す図で
ある。
ある。
【図３】同装置の表示器における表示の他の例を示す図
である。
である。
２…１次Ｘ線、３…試料、４，６…２次Ｘ線（蛍光Ｘ
線）、１１Ａ…品種分析条件記憶手段、１１Ｃ…品種分
析条件記憶手段、１１Ｄ…処理条件記憶手段、１１Ｅ…
注意点記憶手段、１１Ｈ…波長等記憶手段、１２Ａ…選
択情報表示制御手段、１２Ｂ…修正情報表示制御手段、
１２Ｃ…特定情報表示制御手段、１２Ｄ…処理条件表示
制御手段、１２Ｅ…注意点表示制御手段、１２Ｇ…分析
可否表示制御手段、１２Ｈ…加補正線表示制御手段、１
３Ａ…品種分析条件設定手段、１３Ｂ…修正分析条件設
定手段、１３Ｃ…要素分析条件設定手段、１３Ｆ…測定
線設定手段、１４…加補正線選択手段、１５…制御装
置、１６…表示器。
線）、１１Ａ…品種分析条件記憶手段、１１Ｃ…品種分
析条件記憶手段、１１Ｄ…処理条件記憶手段、１１Ｅ…
注意点記憶手段、１１Ｈ…波長等記憶手段、１２Ａ…選
択情報表示制御手段、１２Ｂ…修正情報表示制御手段、
１２Ｃ…特定情報表示制御手段、１２Ｄ…処理条件表示
制御手段、１２Ｅ…注意点表示制御手段、１２Ｇ…分析
可否表示制御手段、１２Ｈ…加補正線表示制御手段、１
３Ａ…品種分析条件設定手段、１３Ｂ…修正分析条件設
定手段、１３Ｃ…要素分析条件設定手段、１３Ｆ…測定
線設定手段、１４…加補正線選択手段、１５…制御装
置、１６…表示器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松尾 尚 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2F076 BA01 BE04 BE06 BE10 BE14 2G001 AA01 BA04 CA01 EA01 FA06 FA25 GA01 JA13 JA14 KA01 KA11 LA02 LA05 LA06 MA02 MA05 NA06 NA10 NA11 NA13 NA17 RA01 SA29
Claims (9)
- 【請求項１】 与えられた分析条件にしたがって試料の
分析を実行する制御装置を備え、試料に１次Ｘ線を照射
して発生する２次Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析装
置であって、 試料の品種ごとの適切な分析条件を記憶する品種分析条
件記憶手段と、 その品種分析条件記憶手段に記憶した試料の品種から操
作者により所望の１品種を選択させるための情報を、表
示器に表示させる選択情報表示制御手段と、 選択された品種に適切な分析条件を前記品種分析条件記
憶手段から呼び出して前記制御装置に与える品種分析条
件設定手段とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 選択された品種に適切な分析条件を操作者により分析対
象の試料の品種に適切な分析条件に修正させるための情
報を、表示器に表示させる修正情報表示制御手段と、 その修正情報表示制御手段が用いられた場合には、選択
され修正された分析対象の試料の品種に適切な分析条件
を前記制御装置に与える修正分析条件設定手段とを備え
た蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 与えられた分析条件にしたがって試料の
分析を実行する制御装置を備え、試料に１次Ｘ線を照射
して発生する２次Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析装
置であって、 試料の品種および性状を特定する要素ごとの適切な分析
条件を記憶する要素分析条件記憶手段と、 分析対象の試料の品種および性状を操作者により特定さ
せるための情報を表示器に表示させる特定情報表示制御
手段と、 その特定情報表示制御手段が用いられた場合には、特定
された分析対象の試料の品種および性状に適切な分析条
件を前記要素分析条件記憶手段から呼び出して前記制御
装置に与える要素分析条件設定手段とを備えた蛍光Ｘ線
分析装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかにおいて、 試料の品種を特定する要素ごとの適切な試料処理条件を
記憶する処理条件記憶手段と、 前記選択された品種または特定された品種に適切な試料
処理条件を、前記処理条件記憶手段から呼び出して表示
器に表示させる処理条件表示制御手段とを備えた蛍光Ｘ
線分析装置。 - 【請求項５】 請求項４において、 分析条件および試料処理条件に基づく分析上の注意点を
記憶する注意点記憶手段と、 前記制御装置に与えられる分析条件および前記表示され
た試料処理条件に対応する分析上の注意点を、前記注意
点記憶手段から呼び出して表示器に表示させる注意点表
示制御手段とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項６】 与えられた分析条件にしたがって試料の
分析を実行する制御装置を備え、試料に１次Ｘ線を照射
して発生する２次Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析装
置であって、 分析対象の試料が基板上に形成された薄膜である場合に
は、基板または薄膜に含まれる元素からの蛍光Ｘ線の理
論強度を算出し、その理論強度に基づいて測定すべき蛍
光Ｘ線を選択して適切な分析条件の一部として前記制御
装置に与える測定線設定手段を備えた蛍光Ｘ線分析装
置。 - 【請求項７】 請求項６において、 前記測定設定手段が、さらに、前記選択した測定すべき
蛍光Ｘ線による分析の可否を判断するものであり、 その判断された分析の可否を表示器に表示させる分析可
否表示制御手段を備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項８】 試料に１次Ｘ線を照射して発生する２次
Ｘ線の強度を測定する蛍光Ｘ線分析装置であって、 各蛍光Ｘ線の波長またはエネルギーを記憶する波長等記
憶手段と、 分析対象の試料について重なり補正が必要である場合に
は、前記波長等記憶手段に記憶した各蛍光Ｘ線の波長ま
たはエネルギーに基づいて、分析すべき蛍光Ｘ線の重な
り補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択する加補正線選択手
段と、 その加補正線選択手段により選択された重なり補正に用
いるべき蛍光Ｘ線を表示器に表示させる加補正線表示制
御手段とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項９】 請求項８において、 前記加補正線選択手段が、分析すべき蛍光Ｘ線の重なり
補正に用いるべき蛍光Ｘ線を選択するにあたり、さら
に、分析すべき蛍光Ｘ線についてのバックグラウンドの
測定位置に基づく蛍光Ｘ線分析装置。
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