JP2001183316A - 表面分析機器におけるスペクトル表示装置 - Google Patents
表面分析機器におけるスペクトル表示装置Info
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Abstract
線分光器とを共に装着した表面分析機器において、波長
分散型Ｘ線分光器を用いた詳細・精密な分析を行うとき
に必要な情報を素早く得ることができるようにしたスペ
クトル表示装置を提供する。 【解決手段】 波長分散型Ｘ線分光器４とエネルギー分
散型Ｘ線分光器７とを共に装着した電子プローブマイク
ロアナライザにおいて、エネルギー分散型Ｘ線分光器７
で得られたスペクトルｅを表示部10に表示すると共に、
該スペクトルｅ上に波長分散型Ｘ線分光器４で用いる分
光結晶５の高次線位置を表示し、波長分散型Ｘ線分光器
特有の高次線の情報をエネルギー分散型Ｘ線分光器のス
ペクトル上で明らかにする。
Description
分光器（ＷＤＳと略称されている）とエネルギー分散型
Ｘ線分光器（ＥＤＳと略称されている）とを共に装着し
た電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡと略称さ
れている）などの表面分析機器におけるスペクトル表示
装置に関する。
ギー分散型Ｘ線分光器とを共に装着した電子プローブマ
イクロアナライザなどの表面分析機器においては、エネ
ルギー分散型Ｘ線分光器を用いてすばやく試料表面に含
まれる存在元素の概略を分析し、より詳細・精密な分析
は波長分散型Ｘ線分光器を用いて行われる。波長分散型
Ｘ線分光器は分光結晶を用いて分光するため、波長分散
型Ｘ線分光器のスペクトルには、次式（１）に示すＢra
ggの式から明らかなように、ｎ＝２以上のいわゆる高次
線が現れる。 ２ｄ・ sinθ＝ｎλ ・・・・・・
・・・・（１） ここで、ｄは分光結晶の格子面間隔、θは分光結晶への
Ｘ線の入射角、λはＸ線の波長、ｎは自然数で回折次数
を表す。
クトルには、このような高次線は現れないため、従来は
エネルギー分散型Ｘ線分光器のスペクトル上には、波長
分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶の高次線位置を表示
するマーカ等は表示されていない。このため、エネルギ
ー分散型Ｘ線分光器での概略分析結果に基づき、波長分
散型Ｘ線分光器で詳細・精密な分析を行うときに、目的
元素の１次Ｘ線の近傍に他の特性Ｘ線の高次線が現れ、
それに対応した処理を行わなければならない場合であっ
ても、エネルギー分散型Ｘ線分光器のスペクトルにはこ
のような高次線は現れないため、エネルギー分散型Ｘ線
分光器のスペクトルからだけでは、波長分散型Ｘ線分光
器の分析で、このような高次線が現れるかどうかはわか
らないのが現状である。
分光器とエネルギー分散型Ｘ線分光器とを共に装着した
表面分析機器においては、上記のようにエネルギー分散
型Ｘ線分光器のスペクトルには波長分散型Ｘ線分光器に
特有の高次線情報が何も表示されていないため、波長分
散型Ｘ線分光器で用いる目的１次線の近傍に他の特性Ｘ
線の高次線が現れる場合であっても、エネルギー分散型
Ｘ線分光器のスペクトルからだけでは、そのような態様
を知ることができず、したがって波長分散型Ｘ線分光器
を用いた詳細・精密な分析を行うときに必要な情報をで
きるだけ素早く得るというエネルギー分散型Ｘ線分光器
としての役割の上では十分でなかった。
エネルギー分散型Ｘ線分光器とを共に装着した表面分析
機器における上記問題点を解消するためになされたもの
で、波長分散型Ｘ線分光器を用いた詳細・精密な分析を
行うときに必要な情報を素早く得ることができるように
した表面分析機器におけるスペクトル表示装置を提供す
ることを目的とする。
め、請求項１に係る発明は、波長分散型Ｘ線分光器とエ
ネルギー分散型Ｘ線分光器とを共に装着した表面分析機
器において、表示手段を備え、該表示手段はエネルギー
分散型Ｘ線分光器で得られたスペクトルを表示すると共
に、該スペクトル上に波長分散型Ｘ線分光器で用いる分
光結晶の高次線位置を表示するようにして表面分析機器
におけるスペクトル表示装置を構成するものである。こ
のように構成することにより、波長分散型Ｘ線分光器特
有の高次線の情報がエネルギー分散型Ｘ線分光器のスペ
クトル上で明らかとなり、波長分散型Ｘ線分光器で詳細
・精密な分析を行うときに必要な情報を素早く得ること
ができ、その分析の際に高次線の影響をなくしたり、抑
えたりする処理を適確に行うことが可能となる。
光器とエネルギー分散型Ｘ線分光器とを共に装着した表
面分析機器において、表示手段と指定手段を備え、該表
示手段はエネルギー分散型Ｘ線分光器で得られたスペク
トルを表示すると共に、前記スペクトル上に前記指定手
段により任意に指定されたエネルギー範囲を表示し、更
に波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶の前記指定さ
れた範囲内に位置する高次線のリストを同一表示面上に
表示するようにして表面分析機器におけるスペクトル表
示装置を構成するものである。このように構成すること
により、指定されたエネルギー範囲における波長分散型
Ｘ線分光器特有の高次線の情報がエネルギー分散型Ｘ線
分光器スペクトルと対比されて明らかとなり、波長分散
型Ｘ線分光器で詳細・精密な分析を行う際の有効な情報
を迅速に得ることができる。
係る表面分析機器におけるスペクトル表示装置におい
て、波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶のうちの１
種類を指定し、前記表示手段はその１種類の分光結晶の
高次線位置又は高次線リストのみを表示するように構成
されていることを特徴とするものである。このように構
成することにより、指定した１種類の分光結晶の高次線
情報がエネルギー分散型Ｘ線分光器スペクトルと対比し
て明らかとなり、その１種類の分光結晶を用いた波長分
散型Ｘ線分光器による分析において適確な分析処理を行
うことが可能となる。
係る表面分析機器におけるスペクトル表示装置におい
て、波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶のうちの複
数種類を指定し、前記表示手段はその複数種類の分光結
晶の高次線位置又は高次線リストを表示するように構成
されていることを特徴とするものである。このように構
成することにより、指定した複数種類の分光結晶の高次
線情報がエネルギー分散型Ｘ線分光器スペクトルと対比
して明らかとなり、その複数種類の分光結晶を用いた波
長分散型Ｘ線分光器による分析において適確な分析処理
を行うことが可能となる。
ずれか１項に係る表面分析機器におけるスペクトル表示
装置において、表示する高次線位置又は高次線リスト
は、エネルギー分散型Ｘ線分光器で得られたスペクトル
に基づく定性分析で存在が確認された元素又はそれに任
意に追加・削除した元素の特性Ｘ線の高次線位置又は高
次線リストであることを特徴とするものである。このよ
うに構成することにより、エネルギー分散型Ｘ線分光器
で得られたスペクトルに基づく定性分析で確認された元
素、あるいは前記確認元素の中で誤認されたと思われる
ものは前記確認元素から削除し、前記確認元素の他に存
在可能性ありと思われるものは前記確認元素に追加して
高次線位置又は高次線リストを表示することができ、一
層効率的に波長分散型Ｘ線分光器の適確な分析処理を行
うことができる。
ずれか１項に係る表面分析機器におけるスペクトル表示
装置において、表示する高次線位置又は高次線リスト
は、当該表面分析機器において分析可能な全ての元素又
はそれから任意に削除した元素の特性Ｘ線の高次線位置
又は高次線リストであることを特徴とするものである。
これにより、当該表面分析機器において分析可能な全て
の元素、あるいはそれから存在可能性のない元素を除い
て、高次線位置又は高次線リストを表示することがで
き、漏れなく効率的に波長分散型Ｘ線分光器の適確な分
析処理を行うことができる。
る。図１は、本発明に係る表面分析機器のスペクトル表
示装置の実施の形態を示すブロック構成図である。この
実施の形態は、本発明を電子プローブマイクロアナライ
ザに適用したもので、図１において、１は電子線、２は
対物レンズ、３は試料、４は波長分散型Ｘ線分光器、５
は分光結晶、６はＸ線検出器、７はエネルギー分散型Ｘ
線分光器、８は電子線の照射された試料のＸ線発生点、
９は波長分散型Ｘ線分光器４のＸ線検出器６及びエネル
ギー分散型Ｘ線分光器７からの検出信号の処理、並びに
各分光器等の各部の制御を行う処理・制御部、10は処理
・制御部９で処理されて得られたエネルギー分散型Ｘ線
分光器スペクトル、エネルギー分散型Ｘ線分光器スペク
トルにより存在の確認された元素に関する、波長分散型
Ｘ線分光器で用いる分光結晶の高次線位置、波長分散型
Ｘ線分光器スペクトル等を表示する表示部、11はエネル
ギー分散型Ｘ線分光器で得られたスペクトル上のエネル
ギー範囲を指定したり、波長分散型Ｘ線分光器で用いる
分光結晶の指定などに用いる操作指示部である。
説明に先立ち、エネルギー分散型Ｘ線分光器で検出され
るＸ線スペクトルについて、図２に基づいて説明する。
図２において、横軸はエネルギー（ｅＶ）を縦軸はＸ線
の強度（カウント値）を示している。図中のｅがＸ線ス
ペクトルで、ｅ１〜ｅ７は試料中に存在する元素の特性
Ｘ線（１次線）を示している。エネルギー分散型Ｘ線分
光器だけしか装着されていない装置では、波長分散型Ｘ
線分光器特有の高次線の情報は不必要であるが、本発明
の如く、エネルギー分散型Ｘ線分光器での概略分析結果
に基づき波長分散型Ｘ線分光器で詳細・精密な分析を行
う、波長分散型Ｘ線分光器とエネルギー分散型Ｘ線分光
器とを共に装着した電子プローブマイクロアナライザで
は、波長分散型Ｘ線分光器特有の高次線の情報がエネル
ギー分散型Ｘ線分光器のスペクトル上で明らかとなれ
ば、波長分散型Ｘ線分光器で詳細・精密な分析をする際
に、高次線の影響をなくしたり、抑えたりして適確な分
析処理を行うことができる。
散型Ｘ線分光器スペクトル上に、該スペクトルに基づい
て存在の確認された元素に関する、波長分散型Ｘ線分光
器で用いる分光結晶の高次線の位置を表示するもので、
図３はエネルギー分散型Ｘ線分光器のスペクトルｅ上
に、特性Ｘ線Ａの分光結晶を用いたときに現れる２次
線Ａ（２），分光結晶を用いたときに現れる３次線Ａ
（３）と４次線Ａ（４），分光結晶を用いたときに現
れる５次線Ａ（５），及び別の特性Ｘ線Ｂの分光結晶
を用いたときに現れる２次線Ｂ（２）と分光結晶を用
いたときに現れる３次線Ｂ（３）のそれぞれの位置を表
示した例を示している。
の線の種類（実線、点線、波線）の違いで示している
が、カラーディスプレイ上に表示される場合は、色の違
いで示してもよい。また、表示する特性Ｘ線の種類は、
１種類でも複数種類でも任意に選択でき、分光結晶の種
類も１種類でも複数種類でも任意に選択でき、高次線の
次数も１種類でも複数種類でも任意に選択でき、これら
は操作指示部11からの指示により選択できるようになっ
ている。
とした例を示しているが、高次線として表示する特性Ｘ
線ｉのエネルギーをＥi ，高次線の次数をｎとすると、
エネルギー分散型Ｘ線分光器スペクトルの横軸（エネル
ギー軸）上に表示する特性Ｘ線ｉのｎ次線マーカの位置
は、Ｅi ／ｎの位置である。
ペクトルｅ上に任意のエネルギー範囲Ｗを指定し、ｎ次
線マーカ位置Ｅi ／ｎがエネルギー範囲Ｗに入っている
特性Ｘ線について、分光結晶名、Ｘ線名、高次線の次数
（ｎ）、そのＸ線のエネルギーを次数で割った値（Ｅi
／ｎ）、及び分光位置Ｌ（Ｒをローランド円半径、θを
分光結晶へのＸ線の入射角としたとき、直進集光式Ｘ線
分光器の場合には、例えばＬ＝２Ｒ・ sinθで表され
る）を示す表を、エネルギー分散型Ｘ線分光器スペクト
ル画面上に表示した例を示す。図４は、４次線以下の表
を示した例であり、これにより、指定されたエネルギー
範囲Ｗにおける波長分散型Ｘ線分光器特有の高次線の情
報がエネルギー分散型Ｘ線分光器スペクトルと対比され
て明らかとなり、波長分散型Ｘ線分光器で詳細・精密な
分析を行う際の有効な情報を得ることができる。
ペクトルから同定された特性Ｘ線Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３に対
して、波長分散型Ｘ線分光器で現れる高次線〔特性Ｘ線
Ｃ２の２次線Ｃ２（２）及び３次線Ｃ２（３），特性Ｘ
線Ｃ３の２次線Ｃ３（２），３次線Ｃ３（３），４次線
Ｃ３（４）及び５次線Ｃ３（５）〕の位置を、エネルギ
ー分散型Ｘ線分光器のスペクトル画面上に表示した例を
示している。各高次線を分光できる波長分散型Ｘ線分光
器の分光結晶の種類（分光結晶，，）に応じて、
高次線表示マーカの線の種類（実線、点線、波線）を変
えて表示している。
Ｘ線分光器特有の高次線の情報がエネルギー分散型Ｘ線
分光器のスペクトル上で明らかとなり、波長分散型Ｘ線
分光器で詳細・精密な分析を行うときに必要な情報を素
早く得ることができ、その分析の際に高次線の影響をな
くしたり、抑えたりする処理を適確に行うことができる
ものであるが、この点について更に述べると、波長分散
型Ｘ線分光器を用いた分析を行うときに、１次線の近く
に他の特性Ｘ線の高次線がある場合は、その情報に基づ
き、波高分析器をその高次線をカットしやすく設定した
り、その高次線を避けるようにバックグラウンド測定位
置を決めたりすることができ、これにより高次線の影響
を事前に避けたり小さくすることができる。
に、請求項１に係る発明によれば、エネルギー分散型Ｘ
線分光器で得られたスペクトル上に波長分散型Ｘ線分光
器で用いる分光結晶の高次線位置を表示するように構成
したので、波長分散型Ｘ線分光器特有の高次線の情報
が、エネルギー分散型Ｘ線分光器スペクトル上で明らか
となり、波長分散型Ｘ線分光器で詳細・精密な分析を行
うときに必要な情報を素早く得ることができ、その分析
の際に高次線の影響をなくしたり、抑えたりする処理を
適確に行うことができる。また請求項２に係る発明によ
れば、指定されたエネルギー範囲における波長分散型Ｘ
線分光器特有の高次線の情報がエネルギー分散型Ｘ線分
光器スペクトルと対比されて明らかとなり、波長分散型
Ｘ線分光器で詳細・精密な分析を行う際の有効な情報を
迅速に得ることができる。また請求項３に係る発明によ
れば、１種類の分光結晶における高次線情報がエネルギ
ー分散型Ｘ線分光器スペクトルと対比して明らかとな
り、その１種類の分光結晶を用いた波長分散型Ｘ線分光
器による分析において適確な分析処理を行うことが可能
となる。また請求項４に係る発明によれば、複数種類の
分光結晶における高次線情報がエネルギー分散型Ｘ線分
光器スペクトルと対比して明らかとなり、その複数種類
の分光結晶を用いた波長分散型Ｘ線分光器による分析に
おいて適確な分析処理を行うことが可能となる。また請
求項５に係る発明によれば、エネルギー分散型Ｘ線分光
器で得られたスペクトルに基づく定性分析で存在が確認
された元素又はそれに任意に追加・削除した元素の特性
Ｘ線の高次線位置又は高次線リストを表示するようにし
ているので、効率的に波長分散型Ｘ線分光器の適確な分
析処理を行うことができる。また請求項６に係る発明に
よれば、分析可能な全ての元素又はそれから任意に削除
した元素の特性Ｘ線の高次線位置又は高次線リストを表
示するようにしているので、漏れなく効率的に波長分散
型Ｘ線分光器の適確な分析処理を行うことができる。
表示装置の実施の形態を示すブロック構成図である。
スペクトルのみを示す図である。
スペクトル上に波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶
の高次線位置を表示した態様を示す図である。
意のエネルギー範囲を指定し、波長分散型Ｘ線分光器で
用いる分光結晶の前記指定範囲内に位置する高次線リス
トを同一画面上に表示した態様を示す図である。
同定された特性Ｘ線に対して、波長分散型Ｘ線分光器で
表される高次線位置をエネルギー分散型Ｘ線分光器のス
ペクトル上に表示した態様を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 波長分散型Ｘ線分光器とエネルギー分散
型Ｘ線分光器とを共に装着した表面分析機器において、
表示手段を備え、該表示手段はエネルギー分散型Ｘ線分
光器で得られたスペクトルを表示すると共に、該スペク
トル上に波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶の高次
線位置を表示するように構成されていることを特徴とす
る表面分析機器におるけスペクトル表示装置。 - 【請求項２】 波長分散型Ｘ線分光器とエネルギー分散
型Ｘ線分光器とを共に装着した表面分析機器において、
表示手段と指定手段を備え、該表示手段はエネルギー分
散型Ｘ線分光器で得られたスペクトルを表示すると共
に、前記スペクトル上に前記指定手段により任意に指定
されたエネルギー範囲を表示し、更に波長分散型Ｘ線分
光器で用いる分光結晶の前記指定された範囲内に位置す
る高次線のリストを同一表示面上に表示するように構成
されていることを特徴とする表面分析機器におけるスペ
クトル表示装置。 - 【請求項３】 波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶
のうちの１種類を指定し、前記表示手段はその１種類の
分光結晶の高次線位置又は高次線リストのみを表示する
ように構成されていることを特徴とする請求項１又は２
に係る表面分析機器におけるスペクトル表示装置。 - 【請求項４】 波長分散型Ｘ線分光器で用いる分光結晶
のうちの複数種類を指定し、前記表示手段はその複数種
類の分光結晶の高次線位置又は高次線リストを表示する
ように構成されていることを特徴とする請求項１又は２
に係る表面分析機器におけるスペクトル表示装置。 - 【請求項５】 表示する高次線位置又は高次線リスト
は、エネルギー分散型Ｘ線分光器で得られたスペクトル
に基づく定性分析で存在が確認された元素又はそれに任
意に追加・削除した元素の特性Ｘ線の高次線位置又は高
次線リストであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか１項に係る表面分析機器におけるスペクトル表示装
置。 - 【請求項６】 表示する高次線位置又は高次線リスト
は、当該表面分析機器において分析可能な全ての元素又
はそれから任意に削除した元素の特性Ｘ線の高次線位置
又は高次線リストであることを特徴とする請求項１〜４
のいずれか１項に係る表面分析機器におけるスペクトル
表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36910999A JP3869988B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 表面分析機器におけるスペクトル表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36910999A JP3869988B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 表面分析機器におけるスペクトル表示装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001183316A true JP2001183316A (ja) | 2001-07-06 |
| JP3869988B2 JP3869988B2 (ja) | 2007-01-17 |
Family
ID=18493588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36910999A Expired - Fee Related JP3869988B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 表面分析機器におけるスペクトル表示装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3869988B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006118940A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Jeol Ltd | 斜出射ｘ線の検出方法及び装置 |
| JP2007285786A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Jeol Ltd | 電子線を用いるｘ線分析装置 |
| JP2011530083A (ja) * | 2008-08-04 | 2011-12-15 | サーモ エレクトロン サイエンティフィック インストルメンツ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 相乗的エネルギー分散および波長分散型ｘ線分光 |
| WO2023175907A1 (ja) * | 2022-03-18 | 2023-09-21 | 株式会社日立ハイテク | 分析システム、分析方法、分析プログラム |
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-
1999
- 1999-12-27 JP JP36910999A patent/JP3869988B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| WO2023175907A1 (ja) * | 2022-03-18 | 2023-09-21 | 株式会社日立ハイテク | 分析システム、分析方法、分析プログラム |
| WO2023175908A1 (ja) * | 2022-03-18 | 2023-09-21 | 株式会社日立ハイテク | 分析システム、分析方法、分析プログラム |
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| JP3869988B2 (ja) | 2007-01-17 |
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