JP2000113512A

JP2000113512A - 光記録媒体及びその製造方法並びに駆動装置

Info

Publication number: JP2000113512A
Application number: JP10297558A
Authority: JP
Inventors: Hideo Daimon; 英夫大門; Yoshikazu Suzuki; 芳和鈴木
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1998-10-06
Publication date: 2000-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】浮上型光ヘッドで長期間繰り返しシーク動作
を行なっても摩耗粉が殆ど発生しない光記録媒体及びそ
の製造方法並びに駆動装置を提供する。【解決手段】光記録媒体１００は、基板１上に、反射
層２、記録層４、保護層６及び潤滑層７をこの順で含
む。潤滑層７を加熱または／及び紫外線照射して潤滑剤
結合率を２０％より大きく且つ６０％より小さくし、化
学吸着性潤滑剤層上に適度な量の物理吸着性潤滑剤層を
形成する。これによりソリッドイマージョンレンズを搭
載した浮上型光ヘッドを用いて１００時間を超える記録
再生を行なっても摩耗粉が発生することはなく、媒体表
面にスクラッチ傷が形成されることは殆どない。本発明
の駆動装置は浮上型光ヘッドの光射出側の面に付着また
は移着した潤滑剤をワイパーを用いて除去できる。本発
明の光記録媒体用の駆動装置として好適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浮上型光ヘッドを
用いて記録再生を行う光記録媒体及びその製造方法並び
に光記録媒体の駆動装置に関し、更に詳細には、媒体の
表面にスクラッチ傷が形成されることを防止した光記録
媒体及びその製造方法、並びに浮上型光ヘッドの光射出
側の面や浮上型光ヘッドに搭載されているソリッドイマ
ージョンレンズの光射出面に移着または付着した潤滑剤
を拭き取ることが可能な駆動装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】マルチメディア時代の到来により、音楽
や動画像、コンピュータのデータなどの大量の情報を記
録再生することが可能な媒体として光記録媒体が広く利
用されている。光記録媒体は、ＣＤやレーザーディスク
のように情報の再生だけが可能な再生専用光記録媒体、
ＣＤ−Ｒのように１度だけ記録が可能な追記型光記録媒
体、何度でもデータの書換え消去が可能な書換型光記録
媒体に分類される。

【０００３】上記書換型光記録媒体の一種としては、例
えば、光磁気記録媒体が知られている。光磁気記録媒体
は、通常、透明基板上に第１誘電体層、光磁気記録層、
第２誘電体層、反射層、保護層を順次積層した構造を有
しており、光ヘッドと磁界発生用コイルを用いて情報の
記録再生が行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近年、取り扱う情報量
の増加に伴い光記録媒体においては記憶容量を一層増大
することが要望されている。この要望に応えるために、
ソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）と、それを搭載
したスライダーとを備えた浮上型光ヘッドを用いて記録
再生を行う方法が提案されている。この方法によれば従
来よりも小さな光スポット径で記録再生することが可能
となるので、従来の光磁気記録媒体に比べて単位面積当
たりの記録密度を約１桁高めることができる。

【０００５】ソリッドイマージョンレンズを用いて記録
再生する場合には、ソリッドイマージョンレンズから滲
み出る近接場光を記録再生光として用いることができ
る。近接場光は、光の波長の１／４程度の距離で減衰し
てしまうため、ソリッドイマージョンレンズと記録層と
の間隔を記録再生光の波長の１／４以下にする必要があ
る。例えば、波長６８０ｎｍの赤色レーザーを用いた場
合は、ソリッドイマージョンレンズの光射出面と記録層
との距離を１７０ｎｍ以下にしなければならない。従来
の光磁気記録媒体では透明基板の厚さは１．２ｍｍ程度
であるので、基板を通して近接場光を記録層に到達させ
ることは困難である。このため近接場光を用いる場合に
は、基板と反対側から光を入射する方法が採用されてい
る。これに伴い近接場光を用いる光磁気記録媒体の積層
順序も従来の媒体と異なり、通常は、透明基板上に、反
射層、第１誘電体層、光磁気記録層、第２誘電体層を順
次積層した構造を有している。また、浮上型光ヘッドを
用いて記録再生を行なうため、浮上型光ヘッドがシーク
動作を行なう際に、媒体に浮上型光ヘッドが接触する。
このため、光磁気記録媒体の第２誘電体層上には耐シー
ク性を高めるための保護層及び潤滑層がこの順で形成さ
れている。

【０００６】ところで、潤滑層を有する光磁気記録媒体
上を浮上型光ヘッドがシークするとき、潤滑層を構成す
る潤滑剤の一部が、レーザー光の熱で気化してソリッド
イマージョンレンズの光射出面に移着したり、或いは潤
滑層上をソリッドイマージョンレンズが摺動することに
より直接ソリッドイマージョンレンズの光射出面に付着
したりするという問題があった。この問題を解決するた
めに、本発明者は、特願平１０−２３７９４３号で、保
護層上に存在する潤滑剤の潤滑剤結合率を６０％〜１０
０％に高めることを提案した。潤滑剤結合率は、潤滑層
の全膜厚に対して、保護層上で保護層と化学結合した化
学吸着性潤滑剤層の膜厚が占める割合で定義され、潤滑
剤結合率が高いということは、化学吸着性潤滑剤が多
く、その上層に存在するフリーな物理吸着性潤滑剤が少
ないことを意味する。前記出願では、潤滑剤結合率を６
０％以上に高めて化学吸着性潤滑剤を多くすることによ
り、浮上型光ヘッドが光磁気記録媒体上をシークしたと
きに、ソリッドイマージョンレンズの光射出面上に物理
吸着性潤滑剤が移着または付着することを防止してい
る。

【０００７】しかしながら、潤滑剤結合率を６０％以上
に高めた光記録媒体に、長期間の使用のために、例えば
１００時間を超えるシーク動作を行うと、浮上型光ヘッ
ドと化学吸着性潤滑剤層との接触により化学吸着性潤滑
剤層が削られて多量の摩耗粉が発生することが本発明者
の調査で新たに分かった。発生した摩耗粉は、スライダ
ーの表面とソリッドイマージョンレンズの光射出面に付
着し、シーク動作により光記録媒体の表面にスクラッチ
傷を形成する恐れがあった。

【０００８】本発明は、かかる点を鑑みてなされたもの
であり、その目的は、浮上型光ヘッドとの接触による摩
耗粉の発生を抑制して、媒体表面にスクラッチ傷が形成
されることを防止または抑制した光記録媒体を提供する
ことにある。

【０００９】また、本発明の別の目的は、ソリッドイマ
ージョンレンズを用いた記録再生を実現するとともに、
浮上型光ヘッドを用いて繰り返し何度もシーク動作を行
っても、表面にスクラッチ傷が殆ど形成されることのな
い光記録媒体を製造する方法を提供することにある。

【００１０】本発明の更に別の目的は、浮上型光ヘッド
を構成するスライダーの底面やソリッドイマージョンレ
ンズの光射出面に移着または付着した潤滑剤を除去する
ことが可能な駆動装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、基板上に、反射層、記録層、保護層及び潤滑剤か
ら構成される潤滑層をこの順で含む光記録媒体におい
て、上記保護層に対する上記潤滑剤の潤滑剤結合率が２
０％より大きく且つ６０％より小さいことを特徴とする
光記録媒体が提供される。

【００１２】本発明に従う光記録媒体の構造の一例を図
１に示す。光記録媒体１００は、基板１上に、反射層
２、第１誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５、保護
層６及び潤滑層７をこの順で備える。図１に示したよう
に、潤滑層７は、保護層６上に保護層と結合して存在す
る化学吸着性潤滑剤層８と、該化学吸着性潤滑剤層８上
に存在し且つ保護層と結合していない物理吸着性潤滑剤
層９とから構成されている。ところで、潤滑層に関して
云えば、従来より用いられている磁気ディスクについて
も磁気ヘッドによる磁気ディスクの摩耗を低減するため
に磁気ディスクの最上層に形成されていることが知られ
ている。かかる潤滑層と潤滑層が被覆される面（例え
ば、保護層）との結合の度合いを表すための尺度として
潤滑剤結合率が知られている。この潤滑剤結合率は、潤
滑層の中で化学吸着性潤滑剤層が占める割合で表され
る。潤滑剤結合率を数値化するために、本明細書におい
ては、潤滑層の膜厚をＡとし、この潤滑層及びその被覆
面を含む基体または情報記録媒体を溶媒中で３０秒間超
音波洗浄した後の潤滑層の膜厚をＢとしたときに、潤滑
剤結合率をＢ／Ａ×１００％として表すものとする。

【００１３】本発明の光記録媒体では、潤滑層の潤滑剤
結合率を２０％より大きく、６０％未満にしたことに特
徴がある。通常、潤滑層の潤滑性は、保護層上に存在し
保護層と結合した化学吸着性潤滑剤層と、その直上に存
在するフリーな物理吸着性潤滑剤層とによって発揮され
る。化学吸着性潤滑剤層が少ないと、すなわち、潤滑層
の潤滑剤結合率が低いと、光記録媒体上を浮上型光ヘッ
ドが摺動した際に、浮上型光ヘッドが直接保護層に接触
して光記録媒体に損傷を与える。一方、物理吸着性潤滑
剤層が少ないと、すなわち、潤滑層の潤滑剤結合率が高
いと、浮上型光ヘッドが光記録媒体と接触した際に生じ
る浮上型光ヘッドと光記録媒体との間のせん断力を吸収
することができず、潤滑効果が低下して浮上型光ヘッド
及び光記録媒体に損傷を与える。本発明では、潤滑層の
潤滑剤結合率を２０％よりも大きくして、浮上型光ヘッ
ドが光記録媒体上をシークしても保護層に浮上型光ヘッ
ドが直接接触することがない程度に化学吸着性潤滑剤層
を形成している。これにより、浮上型光ヘッドが直接保
護層と接触することが抑制される。また、潤滑層の潤滑
剤結合率を６０％未満に調整して、浮上型光ヘッドが光
記録媒体と接触した際に生じる浮上型光ヘッドと光記録
媒体とのせん断力を吸収することができる程度に物理吸
着性潤滑剤層を形成している。これにより、本発明の光
記録媒体に対して、長期にわたって繰り返しシーク動作
を行っても摩耗粉は発生することは殆どないので、光記
録媒体の表面にスクラッチ傷が形成されることを防止ま
たは抑制することができる。ところで、かかる光記録媒
体に浮上型光ヘッドを用いて記録再生を行うと浮上型ヘ
ッドの光射出側の面に潤滑剤が付着または移着するが、
後述する駆動装置を用いることにより解決することがで
きる。

【００１４】本発明において潤滑層は、分子片末端また
は両端に、アルコール基、カルボキシル基、エステル基
またはピペロニル基を有する分子量２０００〜１０００
０のパーフルオロポリエーテル潤滑剤を用いて構成され
ることが好ましい。分子量が２０００未満の場合は、潤
滑効果が不十分であるとともに温度上昇により気化し易
くなる。また分子量が１００００を超えると潤滑剤の粘
度が増加して摩擦係数が上昇し、浮上型光ヘッドが光記
録媒体上を良好に摺動することが困難になる。

【００１５】潤滑剤を保護層と結合させて耐久性を更に
高めるために、保護層上に潤滑層を形成した後、５０℃
〜１２０℃の温度範囲内で加熱したり、波長１８５ｎｍ
〜２５４ｎｍの紫外線、例えば現時点で使用可能な波長
２５４ｎｍの紫外線を照射したり、不活性雰囲気中で、
紫外線、例えば現時点で使用可能な波長１８５ｎｍ及び
２５４ｎｍの紫外線を照射したりすることが好ましい。
また、加熱と紫外線照射を併用することにより保護層へ
の潤滑剤の結合をより一層促進させることができる。

【００１６】本発明の光記録媒体において、長期間繰り
返し浮上型光ヘッドをシークさせることによって媒体表
面上にスクラッチ傷が形成されることを一層効果的に防
止するためには、潤滑層の潤滑剤結合率を３０％〜５５
％の範囲内にすることが好ましい。潤滑剤結合率を３０
％〜５５％にするには、例えば、保護層上に潤滑層を形
成した後の加熱処理の温度や処理時間、紫外線照射の照
射時間を調整すればよい。

【００１７】本発明の光記録媒体の保護層はカーボンか
ら構成し得る。カーボンは、水素、窒素、珪素及びフッ
素からなる群から選択された少なくとも１種の元素を含
有し得る。例えば、水素含有カーボン、窒素含有カーボ
ン、珪素含有カーボン、フッ素含有カーボン、水素と窒
素を含有するカーボン、水素とフッ素を含有するカーボ
ン、水素とフッ素と珪素を含有するカーボンから構成さ
れ得る。これらの材料を用いることにより浮上型光ヘッ
ドが光記録媒体上を良好に滑るので、媒体表面に摺動傷
が形成されることが防止または抑制される。また、保護
層の膜厚は、５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好まし
い。保護層の膜厚が、５ｎｍ未満であると被覆性が十分
でなく、１００ｎｍを超えると記録層と浮上型光ヘッド
との距離が増加し、近接場光を用いた記録再生が実現で
きなくなる。

【００１８】本発明の光記録媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＯＭのように、凹凸ピットや穴の有無、
結晶層とアモルファス相との反射率の違いから情報を再
生する再生専用の光記録媒体や、ＣＤ−Ｒのように有機
色素層やＴｅ化合物などの無機物層にレーザーで穴を空
けて記録する追記型光記録媒体、ＴｂＦｅＣｏやＤｙＦ
ｅＣｏなどの希土類金属と遷移金属の合金層を記録層と
する光磁気記録媒体、及びＧｅ合金やＩｎ合金等の記録
膜を光照射により結晶相と非晶質相との間で可逆的に変
化させることができる相変化型光記録媒体のような書換
え型光記録媒体など、何れの光記録媒体をも対象とす
る。

【００１９】本発明の光記録媒体で用いられる基板は、
ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリメチルアクリ
レート、ポリスチレン、ナイロンなどの樹脂基板のほか
に、ガラス、シリコン、熱酸化シリコン、Ａｌ、Ｔｉな
どの金属製ディスク基板を用いることができる。

【００２０】本発明の第２の態様に従えば、基板上に、
反射層、記録層、保護層及び潤滑層をこの順で含む光記
録媒体を製造する方法において、上記保護層上に潤滑剤
を塗布した後、保護層に対する潤滑剤の潤滑剤結合率が
２０％より大きく且つ６０％より小さくなるように加熱
及び紫外線照射の少なくとも一方を行うことにより潤滑
層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法が
提供される。

【００２１】本発明の光記録媒体の製造方法では、保護
層上に潤滑剤を塗布した後、加熱や紫外線照射によって
潤滑層を形成し、潤滑層の潤滑剤結合率を２０％より大
きく且つ６０％より小さくすることができる。加熱と紫
外線照射とは併用することもでき、これにより潤滑剤の
保護層への結合がより一層促進される。本発明におい
て、加熱のための温度は、５０℃〜１２０℃の範囲内で
行なうことが好ましい。５０℃未満では、保護層上への
潤滑剤結合反応が十分に進行しなくなるため好ましくな
く、１２０℃を超えると熱により基板が変形するため好
ましくない。

【００２２】また、紫外線照射で用いられる紫外線とし
ては、波長１８５ｎｍ〜２５４ｎｍの紫外線、例えば、
現時点で使用可能な波長１８５ｎｍまたは２５４ｎｍの
紫外線を使用することができ、この２種類の紫外線を併
用して照射することもできる。大気中で紫外線照射を行
うと、特に波長１８５ｎｍの紫外線の場合は、活性酸素
が発生して潤滑剤を分解してしまうので、紫外線照射は
不活性雰囲気中で行なわれることが好ましい。不活性雰
囲気としては、例えば窒素雰囲気やアルゴン雰囲気、ヘ
リウム雰囲気が好ましい。

【００２３】本発明の第３の態様に従えば、光記録媒体
の駆動装置において、光記録媒体上を浮上する浮上型光
ヘッドと、該浮上型光ヘッドの光射出側の面の汚れを拭
き取るためのワイパーとを備えることを特徴とする駆動
装置が提供される。

【００２４】本発明の駆動装置は、浮上型光ヘッドと、
浮上型光ヘッドがアンロードしたときに浮上型光ヘッド
の光射出側の面に付着している汚れを拭き取るワイパー
とを備える。ワイパーは、例えば、駆動装置に装着され
た拭き取り材にすることができる。拭き取り材を浮上型
光ヘッドの光射出側の面に接触させつつ、拭き取り材と
浮上型光ヘッドの少なくとも一方を相対的に移動させる
ことによって浮上型光ヘッドの光射出側の面の汚れを拭
き取ることができる。また、汚れを拭き取った後は、新
しい拭き取り材が供給されることが望ましい。このた
め、拭き取り材はロール上に巻かれた拭き取りテープの
形態が好ましい。このように構成することにより汚れが
付着したテープ部分を巻き取って新しいテープ部分を次
の拭き取りに供することができる。

【００２５】本発明の駆動装置において、浮上型光ヘッ
ドは、ソリッドイマージョンレンズと、該ソリッドイマ
ージョンレンズを搭載したスライダーとを備えることが
できる。かかる浮上型光ヘッドを用いて、例えば、潤滑
剤から構成される潤滑層を最上層に備える光記録媒体に
情報の記録または再生を行うと、スライダーの底面やソ
リッドイマージョンレンズの光射出面に潤滑剤が移着ま
たは付着する。本発明の駆動装置は、ワイパーを用い
て、これらスライダーの底面やソリッドイマージョンレ
ンズの光射出面に移着または付着した潤滑剤を除去する
ことができる。したがって、かかる駆動装置を用いれ
ば、例えば１００時間を超えるシーク動作に耐え得るよ
うに潤滑層の潤滑剤結合率を２０％より大きく且つ６０
％より小さくした光記録媒体であっても、長時間安定し
て記録及び再生の少なくとも一方を行うことができる。

【００２６】本発明において、浮上型光ヘッドの汚れを
拭き取る部分を構成する材料は、浮上型光ヘッドの光射
出側の面に傷を付けない材料であることが好ましく、汚
れを拭き取る際に浮上型光ヘッドで擦られても塵や埃、
屑などが殆ど発生しないような材料であることが好まし
い。また、上述のように潤滑剤を拭き取るためには、例
えば、東レ社製のトレシーＭＣクロスやクリーンクロ
ス、テックスワイプ社製のアルファ１０、アルファワイ
パーを用いて構成することができる。

【００２７】また、本発明において、常に良好に記録及
び再生の少なくとも一方を行うためには、浮上型光ヘッ
ドの光射出面に付着または移着した汚れを、ワイパーを
用いて定期的に拭き取ることが好ましい。拭き取りの時
間間隔は特に限定されないが、１日に１回程度が好まし
い。１日に１回より多く拭き取り操作を行うと拭き取り
材の消費が多くなり好ましくない。

【００２８】また、本発明において、駆動装置とは、情
報の再生だけが可能な再生装置、情報の記録だけが可能
な光記録装置、及びこれら情報の再生と記録の機能を兼
ね備えた光記録再生装置を含む概念である。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光記録媒体及び駆
動装置の実施の形態及び実施例について具体的に説明す
る。

【００３０】製造例１本製造例では、図２に示す断面構造を有する光磁気記録
媒体２００を製造した。光磁気記録媒体２００は、基板
１上に、反射層２、第１誘電体層３、記録層４、第２誘
電体層５及び保護層６を順次積層した構造を有する。か
かる構造の光磁気記録媒体２００の製造方法を以下に示
す。

【００３１】最初に、ランド及びグルーブに対応する凹
凸パターンが形成されたスタンパを射出成形機の金型に
装填し、ポリカーボネート樹脂材料を金型内に射出成形
することによりポリカーボネート基板１を作製した。次
いで、得られたポリカーボネート基板１をＤＣマグネト
ロンスパッタ装置に装填し、スパッタリングによりポリ
カーボネート基板１上に、反射層２としてのＡｌＴｉを
膜厚５０ｎｍにて、第１誘電体層３としてのＳｉＮ_xを
膜厚３０ｎｍにて、記録層４としてのＴｂＦｅＣｏを膜
厚２０ｎｍにて、第２誘電体層５としてのＳｉＮ_xを膜
厚８０ｎｍにて、保護層６としてのカーボンを膜厚１０
ｎｍにてそれぞれ成膜した。これらの層２〜６をスパッ
タリングした際のスパッタ条件は以下の通りである。反
射層２の成膜では、ターゲット材料としてＡｌＴｉ合金
を用い、スパッタ雰囲気としてＡｒガスを５×１０^-3Ｔ
ｏｒｒの圧力で用いた。第１誘電体層３及び第２誘電体
層５の成膜では、ターゲット材料としてＳｉを用い、ス
パッタ雰囲気としてＡｒ＋Ｎ₂ガスを７×１０^-3Ｔｏｒ
ｒの圧力で用いた。記録層４の成膜では、ターゲット材
料としてＴｂＦｅＣｏを用い、スパッタ雰囲気としてＡ
ｒガスを５×１０^-3Ｔｏｒｒの圧力で用いた。保護層６
の成膜では、ターゲット材料としてカーボンを用い、ス
パッタ雰囲気としてＡｒガスを５×１０^-3Ｔｏｒｒの圧
力で用いた。こうして得られた光磁気記録媒体を試料１
とする。

【００３２】製造例２製造例１において保護層６をスパッタリングする際のス
パッタ雰囲気ガスにＡｒ＋Ｈ₂ガスを用い、保護層６と
して水素含有カーボン保護層を成膜した以外は、製造例
１と同様にして光磁気記録媒体を製造した。こうして得
られた光磁気記録媒体を試料２とする。

【００３３】製造例３製造例１において保護層６をスパッタリングする際のス
パッタ雰囲気ガスにＡｒ＋ＣＨ₄ガスを用い、保護層６
として水素含有カーボン保護層を成膜した以外は、製造
例１と同様にして光磁気記録媒体を製造した。こうして
得られた光磁気記録媒体を試料３とする。

【００３４】製造例４製造例１において保護層６をスパッタリングする際のス
パッタ雰囲気ガスにＡｒ＋Ｎ₂ガスを用い、保護層６と
して窒素含有カーボン保護層を成膜した以外は、製造例
１と同様にして光磁気記録媒体を製造した。こうして得
られた光磁気記録媒体を試料４とする。

【００３５】製造例５製造例１において保護層６をスパッタリングする際のス
パッタ雰囲気ガスにＡｒ＋Ｎ₂＋Ｈ₂ガスを用い、保護層
６として水素及び窒素含有カーボン保護層を成膜した以
外は、製造例１と同様にして光磁気記録媒体を製造し
た。こうして得られた光磁気記録媒体を試料５とする。

【００３６】製造例６メタンをモノマーガスとし、水素をキャリアガスに用
い、１３．５６ＭＨｚの高周波を用いたプラズマＣＶＤ
法により、第２誘電体層上に保護層６として水素含有カ
ーボン（ダイヤモンドライクカーボン）保護層を成膜し
た以外は、製造例１と同様にして光磁気記録媒体を製造
した。こうして得られた光磁気記録媒体を試料６とす
る。

【００３７】製造例７製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖がＦ（Ｃ₃Ｆ₆Ｏ）_n−であ
り、末端官能基がアルコール基（水酸基）である平均分
子量７０００のパーフルオロポリエーテル潤滑剤ａを２
ｎｍの膜厚でディップコーターにより塗布して潤滑層を
形成した。

【００３８】製造例８製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖がＦ（Ｃ₃Ｆ₆Ｏ）_n−であ
り、末端官能基がカルボキシル基である平均分子量４０
００のパーフルオロポリエーテル潤滑剤ｂを２ｎｍの膜
厚でディップコーターにより塗布して潤滑層を形成し
た。

【００３９】製造例９製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖がＦ（Ｃ₃Ｆ₆Ｏ）_n−であ
り、末端官能基がそれぞれ−Ｃ₂Ｆ₄ＣＯＯＣＨ₃及び−
Ｃ₂Ｆ₄ＣＨ₂ＣＯＯＣＨ₃で表されるエステル基である平
均分子量４０００のパーフルオロポリエーテル潤滑剤ｃ
を２ｎｍの膜厚でディップコーターにより塗布して潤滑
層を形成した。

【００４０】製造例１０製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖がＦ（Ｃ₃Ｆ₆Ｏ）_n−であ
り、末端官能基がピペロニル基である平均分子量４４０
０のパーフルオロポリエーテル潤滑剤ｄを２ｎｍの膜厚
でディップコーターにより塗布して潤滑層を形成した。

【００４１】製造例１１製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖が−（Ｃ₂Ｆ₄Ｏ）_n（ＣＦ₂
Ｏ）_m−であり（ｎ＝ｍ）、末端官能基がアルコール基
である平均分子量５０００のパーフルオロポリエーテル
潤滑剤ｅを２ｎｍの膜厚でディップコーターにより塗布
して潤滑層を形成した。

【００４２】製造例１２製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖が−（Ｃ₂Ｆ₄Ｏ）_n（ＣＦ₂
Ｏ）_m−であり（ｎ＝ｍ）、末端官能基がエステルそれ
ぞれ−Ｃ₂Ｆ₄ＣＯＯＣＨ₃及び−ＣＦ₂ＣＨ₂ＣＯＯＣＨ₃
で表されるエステル基である平均分子量４０００のパー
フルオロポリエーテル潤滑剤ｆを２ｎｍの膜厚でディッ
プコーターにより塗布して潤滑層を形成した。

【００４３】製造例１３製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖が−（Ｃ₂Ｆ₄Ｏ）_n（ＣＦ₂
Ｏ）_m−であり（ｎ＝ｍ）、末端官能基がカルボキシル
基である平均分子量４０００のパーフルオロポリエーテ
ル潤滑剤ｇを２ｎｍの膜厚でディップコーターにより塗
布して潤滑層を形成した。

【００４４】製造例１４製造例１〜６と同様にして試料１〜６を製造し、それぞ
れの試料の保護層上に、主鎖が−（Ｃ₂Ｆ₄Ｏ）_n（ＣＦ₂
Ｏ）_m−であり（ｎ＝ｍ）、末端官能基がピペロニル基
である平均分子量３２００のパーフルオロポリエーテル
潤滑剤ｈを２ｎｍの膜厚でディップコーターにより塗布
して潤滑層を形成した。

【００４５】上記製造例７〜１４で用いた潤滑剤ａ〜ｈ
を下記表１にまとめて示し、製造例１〜１４で用いた媒
体と潤滑剤との対応を下記表２にまとめて示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】実施例１製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体を、大気中にて、恒温槽を用いて１００℃で２
時間熱処理した。

【００４９】実施例２製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体の表面に、大気中にて波長２５４ｎｍの紫外線
を発生する低圧水銀ランプを用いて５分間紫外線を照射
した。紫外線の照射パワーは２００Ｗであった。

【００５０】実施例３製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体の表面に、窒素雰囲気中で、波長１８５ｎｍ及
び２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプを用い
て５分間紫外線を照射した。紫外線の照射パワーは２０
０Ｗであった。

【００５１】実施例４製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体の表面を、大気中にて、赤外線ランプを用いて
１００℃に加熱しながら、波長２５４ｎｍの紫外線を発
生する低圧水銀ランプを用いて５分間紫外線を照射し
た。紫外線の照射パワーは２００Ｗであった。

【００５２】実施例５製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体の表面を、窒素雰囲気中で、赤外線ランプを用
いて１００℃に加熱しながら、波長１８５ｎｍ及び２５
４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプを用いて５分
間紫外線を照射した。紫外線の照射パワーは２００Ｗで
あった。こうして本発明に従う光磁気記録媒体を得た。

【００５３】〔潤滑層の厚みの計測及び潤滑剤結合率の
算出〕実施例１〜５で製造した光磁気記録媒体につい
て、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて次のようにし
て潤滑層の厚みを計測して潤滑剤結合率を算出した。ま
ず、それぞれの光磁気記録媒体から分析用試料として中
心から半径方向４０ｍｍの位置で５ｍｍ×５ｍｍの分析
用試料を２個ずつ切り出し、一方の分析用試料はそのま
まＸＰＳで分析して潤滑剤の膜厚を測定した。他方の分
析用試料は、Ｉｕｃｈｉ社製の超音波洗浄器（Ｍｏｄｅ
ｌＶＳ−１００）を用いて超音波洗浄を行なった。超
音波洗浄では、溶媒としてパーフルオロオクタン（Ｃ₈
Ｆ₁₈）を用い、周波数５０ｋＨｚ、出力１００Ｗで３０
秒間超音波洗浄した。次いで、超音波洗浄を終えたそれ
ぞれの分析用試料についてＸＰＳ分析を行い、潤滑層の
膜厚を測定した。その測定結果を下記表３に示す。表３
において、超音波洗浄する前の潤滑層膜厚をＡ、超音波
洗浄後の潤滑層膜厚をＢとし、潤滑剤結合率をＢ／Ａ×
１００％と定義した。実施例１〜５のいずれの光磁気記
録媒体も、超音波洗浄前の潤滑層の膜厚Ａは２．００ｎ
ｍであり、超音波洗浄後の潤滑層の膜厚Ｂは０．７２〜
１．０８の範囲内にあった。潤滑層の潤滑剤結合率はい
ずれも２０％より大きく６０％未満であった。

【００５４】

【表３】

【００５５】比較例１製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体について、何の後処理もしないで、上記実施例
で得られた光磁気記録媒体と同様にＸＰＳを用いて潤滑
層の厚みを計測した。超音波洗浄前の潤滑層の膜厚Ａは
２．００ｎｍであったのに対して、超音波洗浄後の潤滑
層の膜厚Ｂは０．４０ｎｍであった。この結果から潤滑
剤結合率を算出すると２０％と低い値であった。結果を
上記表３に示した。

【００５６】比較例２製造例７〜１４と同様にして製造したそれぞれの光磁気
記録媒体の表面に、窒素雰囲気中で、波長１８５ｎｍ及
び２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプを用い
て２０分間紫外線を照射した。紫外線の照射パワーは２
００Ｗであった。

【００５７】こうして得られた光磁気記録媒体につい
て、上記実施例で得られた光磁気記録媒体と同様にＸＰ
Ｓを用いて潤滑層の厚みを計測した。超音波洗浄前の潤
滑層の膜厚Ａは２．００ｎｍであったのに対して、超音
波洗浄後の潤滑層の膜厚Ｂは１．７０ｎｍであった。こ
の結果から潤滑剤結合率を算出すると８５％と高い値で
あった。結果を上記表３に示した。

【００５８】実施例６図３に、本発明に従う駆動装置の概略図を示す。駆動装
置３００は、浮上型光ヘッド３２、アーム３３、ボイス
コイルモーター３４、ランプ３５及びワイパー３６を備
える。浮上型光ヘッド３２は、アーム３３の先端に固定
されて設けられている。浮上型光ヘッド３２は、スライ
ダーとソリッドイマージョンレンズ（ともに不図示）と
を備え、ソリッドイマージョンレンズはスライダーに搭
載されている。ソリッドイマージョンレンズは、直径８
０μｍ、屈折率２．２のジルコニア製の半球状のレンズ
を用いた。

【００５９】アーム３３は、その一端がボイスコイルモ
ーター３４と連結して設けられている。ボイスコイルモ
ーター３４を制御することによって、アーム３３の他端
に設けられている浮上型光ヘッド３２を所定の位置まで
移動させることができる。ボイスコイルモーター３４が
作動していないときは、浮上型光ヘッド３２はランプ３
５上に待避される。

【００６０】ワイパー３６は、浮上型光ヘッド３２の光
射出側の面の汚れを拭き取るための拭き取り部３８と、
拭き取り部３８を浮上型光ヘッド３２の光射出面側に駆
動させるための駆動部（不図示）とを備える。ワイパー
３６は、浮上型光ヘッド３２をランプ３５に待避させた
際に、浮上型光ヘッド３２の直下に位置するように設け
られており、上述の不図示の駆動部により、図３におい
て紙面に垂直な方向に昇降可能になっている。拭き取り
部３８について図４を用いて説明する。図４はワイパー
３６の拭き取り部３８を概略的に示した図である。拭き
取り部３８は、テープ形状の拭き取り材４１、未使用の
拭き取り材を巻き付けたローラー４２、巻き取りローラ
ー４３、モーター４４、歯車４５及び支軸４６を備え
る。拭き取り材４１は、テックスワイプ社製のアルファ
１０で構成されている。ローラー４２に巻き付けられた
拭き取り材４１の先端は巻き取りローラー４３に接続さ
れている。モータ４４のモーター軸４７と駆動ローラー
４３との間には、駆動力伝達歯車４５が設けられてい
る。モーター軸４７を回転させることにより歯車４５を
介して巻き取りローラー４３を回転させることができ、
それによりローラー４２に巻き付けられている拭き取り
材４１は、巻き取りローラー４３に巻き取られる。

【００６１】かかる構造を有するワイパー３６の拭き取
り操作について図３及び図４を用いて説明する。浮上型
光ヘッド３２がランプ３５上に待避してワイパー３６の
直上に配置されると、ワイパー３６は浮上型光ヘッド側
に上昇して、拭き取り部３８の拭き取り材を浮上型光ヘ
ッド３２の光射出側の面に押し付ける。そして、モータ
ー４４を用いて巻き取りローラー４３を所定の速度で回
転させることにより拭き取り材４１を浮上型光ヘッド３
２に対して摺動させる。これにより、浮上型光ヘッド３
２を構成しているスライダーの底面やソリッドイマージ
ョンレンズの光射出面に付着または移着した潤滑剤が拭
き取られる。

【００６２】かかる本発明の駆動装置３００を用いて、
実施例１〜５及び比較例１で得られた光磁気記録媒体に
ついて、浮上型光ヘッドにてシークを行いながら連続１
００時間の記録再生試験を行った。浮上型光ヘッドの光
磁気記録媒体からの浮上高さは、略１００ｎｍに維持し
た。この連続１００時間の記録再生試験中、２４時間ご
とに浮上型光ヘッドをランプ上に待避させ、ワイパーの
拭き取り部を浮上型光ヘッドの光射出側に押し当てなが
ら拭き取り材を５ｍｍ／ｍｉｎの速度で一分間走行させ
た。記録再生試験終了後、光学顕微鏡を用いてソリッド
イマージョンレンズ（ＳＩＬ）の光射出面の汚れ具合と
光磁気記録媒体の表面に形成されるスクラッチ傷の状態
を調べた。結果を表４にまとめて示す。

【００６３】

【表４】

【００６４】表４からわかるように、実施例１〜５及び
比較例１の光磁気記録媒体の表面に形成されていたスク
ラッチ傷の数は２０個以下と少なかった。しかしなが
ら、比較例２の光磁気記録媒体のでは、スクラッチ傷の
数は１５０個と多い。これは、潤滑剤結合率を８５％に
高めて化学吸着性潤滑剤を多くしたことにより、１００
時間を超えるシーク動作で、浮上型光ヘッドと化学吸着
性潤滑剤とが接触して摩耗粉が発生し、これら摩耗粉が
スライダーの底面やＳＩＬの光射出面に付着して媒体表
面を傷つけたものと考えられる。

【００６５】また、表４からわかるように、実施例１〜
５の光磁気記録媒体に記録再生試験を行なった後のＳＩ
Ｌの光射出面の汚れ具合は軽微であった。これは、駆動
装置に設けられたワイパーにより、ＳＩＬの光射出面に
移着または付着した潤滑剤が拭き取られたものと考えら
れる。ワイパーの拭き取り部を駆動装置から取り出し
て、巻き取りローラに巻き取られた拭き取り材を観察す
ると、拭き取り材には潤滑剤が付着していた。一方、比
較例１の光磁気記録媒体の場合、多量の潤滑剤がＳＩＬ
の光射出面に移着していた。これは、比較例１の光磁気
記録媒体は、潤滑剤結合率が２０％と低く、多量の物理
吸着性潤滑剤が存在するため、駆動装置に設けられてい
るワイパーの拭き取り周期及び拭き取り条件では、ＳＩ
Ｌの光射出面に移着または付着した潤滑剤を除去するこ
とができなかったものと考えられる。

【００６６】上記実験では、ワイパーによる拭き取りを
２４時間ごとに行なったが、比較例１の光磁気記録媒体
に対してはより短い時間間隔で拭き取りを実行すること
によりスライダーの底面やＳＩＬの光射出面に付着する
ことを防止することができる。また、比較例２について
も、スライダーの底面やＳＩＬの光射出面に付着した摩
耗粉を拭き取ることが可能なワイパーを用いて摩耗粉を
拭き取ることにより、媒体表面にスクラッチ傷が形成さ
れることを防止することができる。

【００６７】以上、本発明の光記録媒体及びその製造方
法並びに駆動装置について実施例１〜６により具体的に
説明してきたが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。例えば、本発明の光記録媒体は光磁気記録媒体に
限定されず、相変化型の光記録媒体や有機色素を記録層
に有する追記型の光記録媒体、再生専用光記録媒体など
任意の光記録媒体に適用することができる。例えば、相
変化型の光記録媒体の場合、媒体構成として、基板上
に、反射層、誘電体層、記録層、誘電体層、保護膜及び
本発明に従う潤滑層を備えた構成にすることができ、具
体的には、基板／ＡｌＴｉ／ＺｎＳ＋ＳｉＯ₂／ＧｅＳ
ｂＴｅ／ＺｎＳ＋ＳｉＯ₂／カーボン／潤滑剤とするこ
とができる。

【００６８】また、上記実施例６では、拭き取り材を浮
上型光ヘッドの光射出側の面に押し付け、モーターを用
いて駆動ローラーを所定の速度で回転させて拭き取り材
を搬送することにより、浮上型光ヘッドの光射出側の面
やソリッドイマージョンレンズの光射出面に付着または
移着した潤滑剤を拭き取ったが、拭き取り材を浮上型光
ヘッドの光射出側の面に押し付け、浮上型光ヘッドが搭
載されているアームを拭き取り材の表面と平行な方向に
僅かに振動させることにより浮上型光ヘッドの光射出側
の面やソリッドイマージョンレンズの光射出面に付着ま
たは移着した潤滑剤を拭き取ることもできる。

【００６９】

【発明の効果】本発明の光記録媒体は、潤滑剤結合率が
２０％より大きく且つ６０％より小さい潤滑層を保護層
上に形成しているので、ソリッドイマージョンレンズを
搭載した浮上型光ヘッドを用いて長期間繰り返しシーク
動作を行っても摩耗粉が発生することは殆どない。した
がって、浮上型光ヘッドのスライダーの底面やソリッド
イマージョンレンズの光射出面に摩耗粉が付着すること
も殆どなくなるので、摩耗粉によって媒体の表面が傷つ
けられることもなくなり、良好に情報の記録及び／また
は再生を行なうことができる。

【００７０】また、本発明の光記録媒体の製造方法によ
れば、保護層上に潤滑剤を塗布した後、加熱や紫外線照
射して潤滑層の潤滑剤結合率を２０％より大きく且つ６
０％より小さくすることができるので、例えば、ソリッ
ドイマージョンレンズを搭載した浮上型光ヘッドを用い
て１００時間以上のシーク動作を行っても、表面にスク
ラッチ傷が殆ど形成されることのない光記録媒体を製造
することができる。したがって、上記本発明の光記録媒
体を製造するための方法として極めて好適である。

【００７１】また、本発明の駆動装置は、シーク動作中
に浮上型光ヘッドの光射出面に移着または付着した潤滑
剤を、ワイパーを用いて定期的に除去することができる
ので、長時間安定して記録及び再生の少なくとも一方を
行うことができる。それゆえ、上記本発明の光記録媒体
用の駆動装置として極めて好適である。更に、特願平１
０−２３７９４３号で開示した光記録媒体の駆動装置と
しても好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】浮上型光ヘッドを用いて記録再生される光磁気
記録媒体の断面構造を概略的に示す図である。

【図２】実施例１で製造した光磁気記録媒体の断面構造
を概略的に示す図である。

【図３】本発明に従う駆動装置の概略図である。

【図４】本発明の駆動装置に設けられたワイパーの拭き
取り部を概略的に示した図である。

【符号の説明】

１基板２反射層３第１誘電体層４記録層５第２誘電体層６保護層７潤滑層８化学吸着性潤滑剤層９物理吸着性潤滑剤層３２浮上型光ヘッド３３アーム３４ボイスコイルモーター３６ワイパー３８拭き取り部４１拭き取り材１００、２００光磁気記録媒体３００駆動装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２３Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２３５４１５４１Ｆ５６６５６６Ｂ５６６ＺＦターム(参考） 5D029 LA06 LA11 LA12 LB01 LC21 NA12 NA14 5D075 AA03 CD17 EE03 FG04 FH02 GG04 GG16 5D119 AA32 BA01 BB05 CA06 JA44 MA10 5D121 AA04 EE21 EE23 EE28 GG02 GG07 GG20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、反射層、記録層、保護層及び
潤滑剤から構成される潤滑層をこの順で含む光記録媒体
において、上記保護層に対する上記潤滑剤の潤滑剤結合率が２０％
より大きく且つ６０％より小さいことを特徴とする光記
録媒体。
【請求項２】上記潤滑剤が、分子片末端または両末端
にアルコール基、カルボキシル基、エステル基及びピペ
ロニル基からなる群から選ばれた１種の官能基を有する
分子量２０００〜１００００のパーフルオロポリエーテ
ルであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒
体。
【請求項３】上記保護層が、カーボンから構成されて
いることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録
媒体。
【請求項４】上記保護層が、水素、窒素、珪素及びフ
ッ素からなる群から選択された少なくとも１種の元素を
含有することを特徴とする請求項３に記載の光記録媒
体。
【請求項５】ソリッドイマージョンレンズを搭載した
浮上型光ヘッドを用いて記録及び再生の少なくとも一方
が行なわれることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
一項に記載の光記録媒体。
【請求項６】上記潤滑剤結合率が、３０％〜５５％で
あることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記
載の光記録媒体。
【請求項７】上記光記録媒体が、光磁気記録媒体であ
ることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載
の光記録媒体。
【請求項８】基板上に、反射層、記録層、保護層及び
潤滑層をこの順で含む光記録媒体を製造する方法におい
て、上記保護層上に潤滑剤を塗布した後、保護層に対する潤滑剤の潤滑剤結合率が２０％より大き
く且つ６０％より小さくなるように加熱及び紫外線照射
の少なくとも一方を行うことにより潤滑層を形成するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項９】上記加熱のための温度が５０℃〜１２０
℃の範囲内にあることを特徴とする請求項８に記載の光
記録媒体の製造方法。
【請求項１０】上記紫外線照射に用いられる紫外線
が、波長１８５ｎｍ〜２５４ｎｍの紫外線であることを
特徴とする請求項８または９に記載の光記録媒体の製造
方法
【請求項１１】上記紫外線照射を不活性雰囲気中で行
うことを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記
載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１２】上記不活性雰囲気が、窒素雰囲気、ア
ルゴン雰囲気及びヘリウム雰囲気からなる群から選ばれ
た雰囲気であることを特徴とする請求項１１に記載の光
記録媒体の製造方法。
【請求項１３】上記光記録媒体が、光磁気記録媒体で
あることを特徴とする請求項８〜１２のいずれか一項に
記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１４】請求項８に記載の製造方法により製造
された光記録媒体。
【請求項１５】光記録媒体の駆動装置において、光記録媒体上を浮上する浮上型光ヘッドと、該浮上型光ヘッドの光射出側の面の汚れを拭き取るため
のワイパーとを備えることを特徴とする駆動装置。
【請求項１６】上記浮上型光ヘッドが、ソリッドイマ
ージョンレンズとそれを搭載するスライダーとを備える
ことを特徴とする請求項１５に記載の駆動装置。
【請求項１７】上記光記録媒体が、上記浮上型光ヘッ
ドと対向する側の最上層として潤滑剤から構成される潤
滑層を備えることを特徴とする請求項１５または１６に
記載の駆動装置。
【請求項１８】上記光記録媒体が、基板上に、反射
層、記録層、保護層及び潤滑層をこの順で含み、保護層
に対する潤滑剤の潤滑剤結合率が２０％より大きく且つ
６０％より小さいことを特徴とする請求項１７に記載の
駆動装置。
【請求項１９】上記ワイパーが、光記録媒体の潤滑層
からスライダーの底面及びソリッドイマージョンレンズ
の光射出面の少なくとも一方の面に移着または付着した
潤滑剤を拭き取ることを特徴とする請求項１７または１
８に記載の駆動装置。
【請求項２０】上記ワイパーは、一定時間ごとに拭き
取りを行うことを特徴とする請求項１５〜１９のいずれ
か一項に記載の駆動装置。
【請求項２１】記録及び再生の少なくとも一方を行う
ことを特徴とする請求項１５〜２０のいずれか一項に記
載の駆動装置。