JP2000112133A - 感光性版用フォトレジストカバーフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】フォトレジスト面に接する面の平面性が良く、
フォトレジストとの適度な粘着性と剥離性に優れ、異物
突起（ゲル、フィッシュアイ、無機物突起）が少なく、
取扱性の良好な感光性版用フォトレジストカバーフイル
ムを提供することを目的とする。 【解決手段】フイルムの片面（Ａ面）の平均表面粗さＲ
ａが８０ｎｍ以下、逆面（Ｂ面）の平均表面粗さＲａが
１００ｎｍ以上の無延伸ポリプロピレン系複合フイルム
から成り、該フイルムの表面濡れ張力が３４ｍＮ／ｍ以
下であることを特徴とする感光性版用フォトレジストカ
バーフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な感光性版用
フォトレジストカバーフイルムに関する。さらに詳しく
は、本発明は、柔軟で、平坦性と取扱性に優れ、フォト
レジストとの適度な粘着性と剥離性を有した感光性版用
フォトレジストカバーフイルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、感光性版用フォトレジストカバー
フイルムとして、ポリエチレンやポリプロピレンフイル
ム（特開平１−１７９１５４号公報）が用いられてい
る。

【０００３】ポリプロピレンフイルムの離型性の改良を
目的として、ポリメチルペンテン及び他のオレフィンと
の共重合樹脂を積層したフイルムが知られている（特公
昭５７−４４４６５号、特公平０３−７１９７５号公報
など）。

【０００４】カバーフイルムとしては、厚みムラが小さ
くて平面性が良く、柔軟で、フォトレジストからの剥離
性の良いことが必要である。さらにドライフイルムフォ
トレジスト（以下ＤＦＲと省略する）は、基材のポリエ
ステルフイルムにフォトレジストを塗布し、カバーフイ
ルムを貼ってロール状に長巻するが、最近特にプリント
配線板の回路の細線化（ファインパターン化）の要望が
強く、このような用途にはフイルム中の異物（ゲルやフ
ィッシュアイ）や無機微粒子の突起の少ないことは勿論
のこと、フイルム表面の平坦性が特に必要な要求項目で
ある。また最近ＤＦＲの長尺化の要求があることから、
カバーフイルムとしては、平坦でかつ薄膜化の要求があ
る。

【０００５】しかしながら、前記従来のポリエチレンフ
イルムは、厚みムラが大きくて平坦性が悪く、またゲル
状の異物突起が多いという欠点を有しており、さらにＤ
ＦＲカバーフイルムとして必要な、平坦で薄いフイルム
を作ることは非常に困難である。

【０００６】他方、ポリプロピレンフイルムは、平坦で
薄いフイルムを作ることは容易であるが、腰が強すぎて
フォトレジストからの剥離性が悪く、剥離する際にフォ
トレジストにさざ波状の傷がつきやすいという欠点があ
る。また薄くて平坦性の良いフイルムはフイルム面同志
の滑り性が悪く、取扱性に劣ると言う問題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明はフォトレジス
ト面に接する面の平面性が良く、フォトレジストとの適
度な粘着性と剥離性に優れ、異物突起（ゲル、フィッシ
ュアイ、無機物突起）が少なく、取扱性の良好な感光性
版用フォトレジストカバーフイルムを提供することを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らが鋭意検討し
た結果、本発明の課題は下記の構成を有する本発明によ
って工業的に有利に達成された。

【０００９】［１］フイルムの片面（Ａ面）の平均表面
粗さＲａが８０ｎｍ以下、逆面（Ｂ面）の平均表面粗さ
Ｒａが１００ｎｍ以上の無延伸ポリプロピレン系複合フ
イルムから成り、該フイルムの表面濡れ張力が３４ｍＮ
／ｍ以下であることを特徴とする感光性版用フォトレジ
ストカバーフイルム。

【００１０】［２］フイルムＡ面の１０点平均粗さ（Ｒ
ｚ）が５００ｎｍ未満、フイルムＢ面の１０点平均粗さ
（Ｒｚ）が３５０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあり、か
つＢ面の２００ｎｍ以上の粗さ密度ＰＣ１が５個／ｍｍ
以上からなることを特徴とする上記［１］に記載の感光
性版用フォトレジストカバーフイルム。

【００１１】［３］無延伸ポリプロピレン系複合フイル
ムのＡ面を有する層が、エチレン−プロピレン共重合
体、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体、プロピレ
ン−ブテン共重合体樹脂から選ばれた少なくとも１種以
上の樹脂からなることを特徴とする上記［１］または
［２］に記載の感光性版用フォトレジストカバーフイル
ム。

【００１２】［４］無延伸ポリプロピレン系複合フイル
ムのＢ面を有する層が、ポリプロピレン系樹脂とポリエ
チレンまたはエチレンープロピレンブロック共重合体樹
脂の混合物からなることを特徴とする上記［１］〜
［３］のいずれかに記載の感光性版用フォトレジストカ
バーフイルム。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の無延伸ポリプロピレン系
複合フイルムのＡ面に使用される樹脂は、ポリプロピレ
ン系を主体とした樹脂である。特に好ましくはエチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン
共重合体、プロピレン−ブテン共重合体から選ばれた少
なくとも１種以上の樹脂である。これらの共重合体にフ
イルム特性を悪化させない程度にポリエチレン、ポリブ
テンなどのポリオレフィン樹脂をさらに混合させてもよ
い。なお、該ポリプロピレン系フイルムには、酸化防止
剤、熱安定剤、結晶核剤を剥離性及び光学特性を悪化さ
せない範囲で含有させてもよいが、有機滑剤、帯電防止
剤、紫外線吸収剤や無機微粒子は表面突起及びレジスト
の感光性を疎外するので好ましくない。

【００１４】また本発明の無延伸ポリプロピレン系複合
フイルムのＡ面の平均表面粗さＲａは８０ｎｍ以下、好
ましくは６０ｎｍ以下であることが必要である。平均表
面粗さＲａが８０ｎｍを越えるとレジスト面の平面性
（平坦性）が悪化し、レジストとカバーフイルム間のエ
アー噛み込みが多くなり、最終製品でファインパターン
の画像が得られない。またＡ面の１０点平均粗さ（Ｒ
ｚ）が５００ｎｍ未満であると、ファインパターンが得
られるので特に好ましい。なお平均表面粗さＲａと１０
点平均粗さ（Ｒｚ）の下限は特に限定されないが、おお
よそＲａで３０ｎｍ程度、Ｒｚで１００ｎｍ程度であ
る。

【００１５】本発明における無延伸ポリプロピレン系複
合フイルムの表面濡れ張力はＡ面、Ｂ面共に３４ｍＮ／
ｍ以下好ましくは３３ｍＮ／ｍ以下であることが必要で
ある。３４ｍＮ／ｍを越えると、フォトレジストとの密
着力が強くなって剥離性が悪化し、フォトレジストにさ
ざ波状の傷をつける。なお表面濡れ張力の下限は特に限
定されないが、樹脂の性質上３０ｍＮ／ｍ程度が限界で
ある。

【００１６】本発明の感光性版用フォトレジストカバー
フイルムは、ポリプロピレン系フイルム（Ａ層）の少な
くとも片面に粗面層（Ｂ層）を積層してなる無延伸の複
合フイルムである。本発明の複合フイルムはＡ面、Ｂ面
の表面特性と濡れ張力が特許請求項１の範囲内にあれ
ば、２層積層フイルムに限定されず、Ａ、Ｂ層の間に他
の層を有する３層以上の複合フイルムであっても良い。

【００１７】本発明の無延伸ポリプロピレン系複合フイ
ルムのＢ面の平均表面粗さＲａは１００ｎｍ以上好まし
くは１２０ｎｍ以上である必要がある。また１０点平均
粗さ（Ｒｚ）が３５０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあ
り、かつ２００ｎｍ以上の粗さＰＣ１が５個／ｍｍ以上
であることが最も好ましい。平均表面粗さＲａが１００
ｎｍ未満ではフイルムＡ面との摩擦係数が高くなり、フ
イルムをロール状に巻取った製品にシワが入ったり、ブ
ロッキングして表面が変形したり巻出しでフイルムが破
れたりして、取扱性に劣ったものとなってしまう。また
１０点平均粗さ（Ｒｚ）が２０００ｎｍを越えると、巻
取った製品でＡ面の平面性が阻害される恐れがある。

【００１８】本発明の無延伸ポリプロピレン系複合フイ
ルムのＢ面に使用される樹脂組成は、ポリプロピレン系
樹脂を主体とし、これに非相溶の樹脂を混合することに
より得られるが、特に好ましいのはポリプロピレン系樹
脂とポリエチレンまたはエチレン−プロピレンブロック
共重合体の混合物である。混合するポリエチレンは低密
度、高密度いずれでも可能であるが、ポリプロピレン系
樹脂と粘度差の大きい樹脂が、適切なＲｚ、ＰＣ１を得
る点で好ましい。例えばＭＦＲ比（ポリプロピレン系樹
脂のＭＦＲ／ポリエチレン系樹脂ＭＦＲ）で５〜１５が
好ましい。混合量はポリエチレンで２〜１５％、エチレ
ン−プロピレンブロック共重合体で５〜２５％であるこ
とが、Ｒａ１００ｎｍ以上、Ｒｚで３５０〜２０００ｎ
ｍ、ＰＣ１が５個／ｍｍ以上となるために好ましい。

【００１９】本発明の感光性版用フォトレジストカバー
フイルムは実質無延伸の複合フイルムであり、複屈折は
０．００８以下であることが好ましい。０．００８を越
えると腰が強くなり過ぎて、フォトレジストからの剥離
性が悪く、フォトレジストから剥離する際にフォトレジ
ストにさざ波状の傷がつきやすくなるので好ましくな
い。

【００２０】本発明の感光性版用フォトレジストカバー
フイルムは、長手方向と幅方向のヤング率の和が１６０
０Ｍｐａ以下であることが好ましい。１６００Ｍｐａを
越えると、腰が強くなり過ぎて、フォトレジストからの
剥離が悪化し、フォトレジストにさざ波状の傷をつける
ので好ましくない。無延伸フイルムのヤング率を低減す
る方法は押出フイルムを冷却固化する時の冷却ドラムの
温度をできる限り低温化し、結晶化を抑制することによ
り達成できる。ヤング率の下限は特に限定されないが、
カバーフイルムとして加工できる腰の強さが必要で、長
手方向と幅方向のヤング率の和が５００〜１３００Ｍｐ
ａの範囲が好ましい。 また本発明の感光性版用フォト
レジストカバーフイルムは、フイルム１枚のトータルヘ
イズが３〜１５％の範囲、好ましくは５〜１０％の範囲
が好ましい。トータルヘイズが３％未満ではロール状に
巻き取った製品にシワが入ったり、ブロッキングして表
面が変形したり、巻出しでフイルムが破れたりして、取
扱性に劣ったものとなってしまう。逆に１５％を越える
とＤＦＲとしてロール状に巻き取り、スリットする時に
製品が幅変動を起こしたり、製品が竹の子状（テレスコ
ープ）に滑り好ましくない。

【００２１】また本発明の感光性版用フォトレジストカ
バーフイルムにおいては、２００μｍ以上のゲル及びフ
ィッシュアイが３個／１ｍ² 以下であることが好まし
い。ゲル及びフィッシュアイが３個／１ｍ² を越える
と、フォトレジストと貼り合わす際に大きな空気の噛み
込みができ、ＤＦＲとしたときに外観上の欠点となり、
露光した時に回路欠点を誘発し、ファインパターン化が
得られにくい。

【００２２】なおゲル及びフィッシュアイの低減方法と
しては、原料そのものをクリーン化することはもちろん
必要であるが、濾過精度をアップして改善することも重
要である。本発明ではフイルターを２０〜２５μｍの濾
過精度とし、これを１０〜数１０枚重ねてフイルム化す
ることが特に好ましい。

【００２３】本発明の感光性版用フォトレジストカバー
フイルムの厚みは、特に限定されるものではないが、５
〜５０μｍが好ましく、１０〜２５μｍがＤＦＲの長尺
化の要望に対してより好ましい。Ａ面（平坦面）を有す
る層（Ａ層）及びＢ面（粗面）を有する層（Ｂ層）の積
層厚み構成は、特に限定されるものではないが、Ａ層／
Ｂ層比率＝３／１〜１０／１が好ましく、剥離性、光学
特性、取扱性を考慮すれば５／１〜８／１がより好まし
い。

【００２４】次に本発明の感光性版用フォトレジストカ
バーフイルムの製造方法について述べるが、必ずしもこ
れに限定されるものでいない。

【００２５】Ａ面を有する層（Ａ層）の原料組成とし
て、ＭＦＲ４〜９のエチレン−プロピレン−ブテン共重
合体を第１押出機に供給する。一方、Ｂ層の原料組成と
して、Ａ層の樹脂（エチレン−プロピレン−ブテン共重
合体）にＭＦＲ０．５〜１の低密度ポリエチレンを２〜
１５％混合した樹脂を第２押出機に供給する。次いで押
出温度２２０〜２５０℃で溶融混合させ、それぞれを濾
過したのち、１つの口金内で積層してフイルム状に成形
し、該フイルムを２０〜４０℃に保った金属ドラムに巻
き付けて冷却固化せしめ、ロール状に巻き取ることによ
って本発明のフイルムを得る。

【００２６】次に、本発明のフイルムを、ＤＦＲの感光
性版用フォトレジストカバーフイルムとして用いる場合
には、まずロール状に巻かれた基材を引き出しながら、
その表面に塗布装置を用いてフォトレジストを塗布す
る。そして塗布し乾燥したフォトレジストを覆うように
本発明のフイルムをロール圧着して、ロール状に長巻す
る。その後、感光性版が使用される場合には、カバーフ
イルムをフォトレジストから剥離しながら基盤にフォト
レジストを接着させる。このとき、本発明の感光性版用
フォトレジストカバーフイルムは取扱性が良好かつ、フ
ォトレジストからの剥離性が良好で、フォトレジスト表
面にさざ波状の傷やフォトレジストと貼り合わす際に大
きな空気の噛み込みもなく、最終製品で欠点のないファ
ィンパターンの回路がえられる。

【００２７】本発明において用いた物性の測定方法並び
に効果の評価方法は次のとおりである。 （１）表面粗さＲａ、１０点平均粗さＲｚ、粗さ密度Ｐ
Ｃ１ ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９７６に記載されているよう
に、触針式表面粗さ計を用いて測定した。なお、カット
オフは０．２５ｍｍ、測定長は４ｍｍとした。 （２）フイルム表面の濡れ張力 ＪＩＳ Ｋ−６７６８の方法で測定した。 （３）メルトフローレート（ＭＦＲ） ＪＩＳ Ｋ−６７５８のポリエチレン、ポリプロピレン
試験方法で測定した。（４）トータルヘイズ ＪＩＳ Ｋ−６７１４に準じて測定した。 （５）ヤング率 ＡＳＴＭ Ｄ８８２に準じて測定した値である。 （６）ゲル及びフィッシュアイ フイルム１ｍ² あたりの個数で表す。 （７）フイルムの取扱性 フイルム幅１６００ｍｍで、ロール状に３０００ｍ巻き
取った時の外観と巻出しでの状態をみて評価した。

【００２８】○：Ａ／Ｂ面の摩擦係数が１．０未満の範
囲にあり、ロールにシワの発生が全くなくて、滑り性、
外観共に良い。

【００２９】△：Ａ／Ｂ面の摩擦係数が１．０以上の範
囲にあり、ロールにシワの発生はほとんどないが、若干
滑り性に劣る。取り扱い性は問題ないレベル。

【００３０】×：Ａ／Ｂ面の摩擦係数が１．０以上であ
り、ロールにしわの発生がみられ、ブロッキングにより
表面変形を起こしたり、巻出でフイルムの破れがみられ
る。 （８）剥離性 試料を２５℃のイエローランプ下でフォトレジストにラ
ミネートし、２５ｍｍ幅に切断する。その後、テンシロ
ンにて９０度剥離し、接着力、剥離音および試料剥離後
のフォトレジスト表面状態から判断する。

【００３１】○：剥離がスムーズで剥離音がなく、試料
剥離後のフォトレジスト表面にさざ波状の傷がないも
の。

【００３２】×：接着力が強くて剥離音があり、試料剥
離後のフォトレジスト表面にさざ波の傷がつくもの。 （９）ＤＦＲの外観 基材のポリエステルフイルムにフォトレジストを塗布
し、カバーフイルムを貼リ合わせてＤＦＲとし、ロール
状に５００ｍ巻いたときの外観をみて評価した。

【００３３】○：大きな空気のかみ込みがなくて、外観
がよい。

【００３４】×：大きな空気のかみ込みが点在して、外
観上の欠点がみられる。 （10)ＤＦＲのエアーバブル ＤＦＲ１５ｃｍ角を拡大鏡（１００倍）で観察しレジス
トとカバーフイルム間のエアー噛み込み（φ５０μｍ以
上）の数で評価した。エアーバブルが少ないほど、レジ
スト面の平坦性は良好である。２０個以下であれば最終
製品で欠点のないファィンパターンの回路が得られる。

【００３５】

【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明する
が、本発明はこれらに限定されない。

【００３６】［実施例１］無延伸ポリプロピレン系複合
フイルムのＡ面を構成する原料組成（Ａ層）として、エ
チレン含有量が２．５重量％、ブテン含有量４．５重量
％のエチレンープロピレンーブテン共重合体１００重量
部に、酸化防止剤（チバガイギー製“イルガノックス”
１０１０）を０．１２５重量部添加したＭＦＲ７．０の
ペレットを第１押出機に供給し２３０℃で押出した。一
方、Ｂ面を構成する原料組成（Ｂ層）として、Ａ層のエ
チレンープロピレンーブテン共重合体樹脂に、密度０．
９０、ＭＦＲ０．５の低密度ポリエチレンを３％添加混
合した樹脂を第２押出機に供給し２３０℃で押出した。
押出機から口金までの間に高精度フイルター（２０μｍ
カット）を数段組み合わせて、両押出機からの溶融樹脂
を１つの口金内（２３０℃）で２層に積層して共押出し
した。次いで２５℃の冷却ドラム上で冷却固化させ複合
フイルムを得た。得られたフイルムの厚み構成はＡ層２
２μｍ／Ｂ層３μｍであった。

【００３７】かくして得られた本発明のフイルムを、Ｄ
ＦＲの感光性版用フォトレジストカバーフイルムとして
評価するため、基材のポリエステルフイルムに塗布して
乾燥したフォトレジスト層（エポキシ基を有するモノマ
ー、オリゴマーまたはポリマーとジアゾニウム塩との組
み合わせからなるもの）に、２０℃のイエローランプ下
で常温にてＡ面がフォトレジスト側になるようロール圧
着してロール状に長巻した。

【００３８】フイルム品質特性と感光性版用フォトレジ
ストカバーフイルムとしての評価を行なった結果を、第
１表に示した。

【００３９】表から明らかなように本発明のフイルム
は、表面の粗さと表面の濡れ張力を特定化したことによ
り、取扱性に優れ、ゲルやフィッシュアイなどの異物突
起が少なく、フォトレジストからの剥離性及びＤＦＲの
外観に優れたものであった。また、ＤＦＲのエアーバブ
ルの個数も少なく、優れたものであった。

【００４０】［実施例２］Ｂ面を有する層（Ｂ層）の原
料組成として、Ａ層のエチレンープロピレンーブテン共
重合体樹脂に、密度０．９０、ＭＦＲ１．０の低密度ポ
リエチレンを６％添加混合した樹脂とし、フイルムの厚
み構成をＡ層／Ｂ層＝２０μｍ／５μｍとする以外は実
施例１と全く同様にして、フイルム品質特性と感光性版
用フォトレジストカバーフイルムとしての評価を行なっ
た。結果を第１表に示した。

【００４１】表から明らかなように本発明のフイルム
は、表面の粗さと濡れ張力を特定化したことにより、取
扱性に優れ、ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少
なく、フォトレジストからの剥離性及びＤＦＲの外観に
優れたものであった。また、ＤＦＲのエアーバブルの個
数も少なく優れたものであった。

【００４２】［実施例３］Ａ面を構成する原料組成とし
て、エチレン含有量４．５％のエチレンープロピレン共
重合体１００重量部に、酸化防止剤（チバガイギー製
“イルガノックス”１０１０）を０．１２５重量部添加
したＭＦＲ６．５のペレットとし、フイルムの厚み構成
をＡ層／Ｂ層＝１７μｍ／３μｍとする以外は実施例１
と全く同様にしてフイルム品質特性と感光性版用フォト
レジストカバーフイルムとしての評価を行なった。結果
を第１表に示した。

【００４３】表から明らかなように本発明のフイルム
は、表面の粗さと濡れ張力を特定化したことにより、取
扱性に優れ、ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少
なく、フォトレジストからの剥離性及びＤＦＲの外観に
優れたものであった。また、ＤＦＲのエアーバブルの個
数も少なく優れたものであった。

【００４４】［実施例４］Ａ面を構成する原料組成とし
て、ブテン含有量６．５％のプロピレンーブテン共重合
体１００重量部に、酸化防止剤（チバガイギー製“イル
ガノックス”１０１０）を０．１２５重量部添加したＭ
ＦＲ７．０の原料を第１押出機に供給し２３０℃で押出
した。一方、Ｂ面を構成する原料組成として、エチレン
含有量が２．０重量％、ブテン含有量４．０重量％のエ
チレンープロピレンーブテン共重合体樹脂に、酸化防止
剤（チバガイギー製“イルガノックス”１０１０を０．
１２５重量部添加したＭＦＲ７．０の樹脂８５重量％
と、エチレン含有量が１２重量％のエチレンープロピレ
ンブロック共重合体（ＭＦＲ＝１．０）１５重量％の混
合樹脂を第２押出機に供給し２３０℃で押出した。押出
機から口金までの間に高精度フイルター（２０μｍカッ
ト）を数段組み合わせて、両押出機からの溶融樹脂を１
つの口金内（２３０℃）で２層に積層して共押出しし
た。次いで３０℃の冷却ドラム上で冷却固化させ複合フ
イルムを得た。得られたフイルムの厚み構成はＡ層／Ｂ
層＝２１μｍ／４μｍであった。

【００４５】かくして得られた本発明のフイルムを、Ｄ
ＦＲの感光性版用フォトレジストカバーフイルムとして
評価するため、基材のポリエステルフイルムに塗布して
乾燥したフォトレジスト層（エポキシ基を有するモノマ
ー、オリゴマーまたはポリマーとジアゾニウム塩との組
み合わせからなるもの）に、２０℃のイエローランプ下
で常温にてＡ面がフォトレジスト側になるようロール圧
着してロール状に長巻した。

【００４６】フイルム品質特性と感光性版用フォトレジ
ストカバーフイルムとしての評価を行なった結果を、第
１表に示した。

【００４７】表から明らかなように本発明のフイルム
は、表面の粗さと濡れ張力を特定化したことにより、取
扱性に優れ、ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少
なく、フォトレジストからの剥離性及びＤＦＲの外観に
優れたものであった。また、ＤＦＲのエアーバブルの個
数も少なく優れたものであった。

【００４８】［比較例１］Ｂ面を構成する原料組成とし
て、Ａ面（Ａ層）を構成する原料組成、すなわちエチレ
ン含有量が２．５重量％、ブテン含有量４．５重量％の
エチレンープロピレンーブテン共重合体１００重量部
に、酸化防止剤（チバガイギー製“イルガノックス”１
０１０）を０．１２５重量部添加したＭＦＲ７．０のペ
レットとした以外は実施例１と全く同様にして、感光性
版用フォトレジストカバーフイルムとしての評価を行な
った結果を第１表に示した。表から明らかなように、Ｂ
面の表面粗さ特性が本発明の範囲をはずれたフイルム
は、摩擦係数が高く、取扱性に劣り、フォトレジストに
圧着する際にシワが発生したり、大きな空気の噛み込み
ができてＤＦＲの外観上の欠点があった。

【００４９】［比較例２］Ａ面を構成する原料組成とし
て、エチレン含有量が２．５重量％、ブテン含有量４．
５重量％のエチレンープロピレンーブテン共重合体１０
０重量部に、酸化防止剤（チバガイギー製“イルガノッ
クス”１０１０）を０．１２５重量部添加したＭＦＲ
７．０のペレットに密度０．９０、ＭＦＲ０．５の低密
度ポリエチレンを１．５％添加混合した樹脂を用いた以
外は実施例１と全く同様にして、感光性版用フォトレジ
ストカバーフイルムとしての評価を行なった結果を第１
表に示した。表から明らかなように、Ａ面の表面粗さ特
性が本発明の範囲をはずれたフイルムは、フォトレジス
トに圧着する際に空気の噛み込みができ、ＤＦＲの外観
に劣ったものであった。またＤＦＲのエアーバブルの個
数も１１０個と劣ったものであった。

【００５０】［比較例３］実施例１と同じ原料組成、押
出し、冷却条件で複合フイルムを製膜し、フイルムのＡ
面に１５Ｗ／ｍ²／分の処理強度でコロナ放電処理を実
施し、Ａ面の濡れ張力を３６ｍＮ／ｍとした以外は実施
例１と全く同様にして、感光性版用フォトレジストカバ
ーフイルムとしての評価を行なった結果を第１表に示し
た。フイルム表面の濡れ張力が本発明の範囲をはずれた
フイルムは、フォトレジストからの剥離性に劣り、レジ
ストの表面にさざ波の小さな傷が発生し、ＤＦＲの外観
の劣ったものであった。

【００５１】［比較例４］Ａ面（Ａ層）を構成する原料
組成として、低密度ポリエチレンを使用し、Ｂ面（Ｂ
層）を構成する原料として、低密度ポリエチレンに実施
例４で用いたエチレンープロピレンブロック共重合体を
１５重量％添加した以外は実施例１と同様にして複合フ
イルムを得、実施例１と全く同様にして、感光性版用フ
ォトレジストカバーフイルムとしての評価を行なった結
果を第１表に示した。フイルムの素材がポリエチレン主
体からなるフイルムでは、フイルムの厚みムラが悪く、
取扱性に劣ったものであった。またゲルの多いフイルム
であり、ＤＦＲの外観に劣ったものであった。

【００５２】［比較例５］Ａ面（Ａ層）を構成する原料
組成として、エチレン含有量が３．７重量％のエチレン
ープロピレン共重合体樹脂を第１押出機に供給した。一
方、Ｂ面（Ｂ層）の原料として、Ａ層のエチレンープロ
ピレン共重合体樹脂に、エチレンープロピレンブロック
共重合体を１０重量％混合した樹脂を第２押出機に供給
した。両押出機からの溶融樹脂を１つの口金内でＡ層／
Ｂ層の２層に積層して共押出した。次で４０℃の冷却ド
ラム上で冷却固化させ積層フイルムを得た。得られた積
層フイルムを、１００℃で予熱して１２０℃の延伸温度
で長手方向に５倍延伸し、引き続き幅方向に１３５℃で
９倍延伸し、次いで幅方向に５％の弛緩を与えつつ、１
４０℃で熱固定をし、縁部を切除した後巻き取った。得
られた２軸延伸フイルムの厚みは１８／４μｍであっ
た。

【００５３】かくして得られた２軸延伸フイルムのＡ面
を、フォトレジスト側になるようにロール圧着した以外
は、実施例１と全く同様にしてカバーフイルムの特性と
感光性版用フォトレジストカバーフイルムとしての評価
を行なった結果を第１表に示した。表から明らかなよう
に２軸延伸フイルムでは、剥離性及びＤＦＲの外観に劣
ったものであった。

【００５４】

【表１】

【００５５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の感光性版用
フォトレジストカバーフイルムは、ポリプロピレン系無
延伸フイルムでフイルム表面の表面粗さと濡れ張力を特
定の範囲としたことにより、フイルムの取扱性がよく、
フォトレジストとの適度な粘着性と剥離性に優れ、フォ
トレジストとロール圧着時の空気の噛み込み（エアーバ
ブル）が少なく、工程安定性に優れＤＦＲとしたときの
外観の良好な感光性版用フォトレジストカバーフイルム
を提供することができる。

フロントページの続き (72)発明者 片岡 功司 大阪府高槻市桜町１番５号 東レ合成フイ ルム株式会社高槻工場内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB11 DA02

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フイルムの片面（Ａ面）の平均表面粗さＲ
   ａが８０ｎｍ以下、逆面（Ｂ面）の平均表面粗さＲａが
   １００ｎｍ以上の無延伸ポリプロピレン系複合フイルム
   から成り、該フイルムの表面濡れ張力が３４ｍＮ／ｍ以
   下であることを特徴とする感光性版用フォトレジストカ
   バーフイルム。
2. 【請求項２】フイルムＡ面の１０点平均粗さ（Ｒｚ）が
   ５００ｎｍ未満、フイルムＢ面の１０点平均粗さ（Ｒ
   ｚ）が３５０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあり、かつＢ
   面の２００ｎｍ以上の粗さ密度ＰＣ１が５個／ｍｍ以上
   からなることを特徴とする請求項１に記載の感光性版用
   フォトレジストカバーフイルム。
3. 【請求項３】無延伸ポリプロピレン系複合フイルムのＡ
   面を有する層が、エチレン−プロピレン共重合体、エチ
   レン−プロピレン−ブテン共重合体、プロピレン−ブテ
   ン共重合体樹脂から選ばれた少なくとも１種以上の樹脂
   からなることを特徴とする請求項１または２に記載の感
   光性版用フォトレジストカバーフイルム。
4. 【請求項４】無延伸ポリプロピレン系複合フイルムのＢ
   面を有する層が、ポリプロピレン系樹脂とポリエチレン
   またはエチレンープロピレンブロック共重合体樹脂の混
   合物からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか
   に記載の感光性版用フォトレジストカバーフイルム。