JP2000110551A - 排ガス浄化装置 - Google Patents

排ガス浄化装置

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JP2000110551A JP10284349A JP28434998A JP2000110551A JP 2000110551 A JP2000110551 A JP 2000110551A JP 10284349 A JP10284349 A JP 10284349A JP 28434998 A JP28434998 A JP 28434998A JP 2000110551 A JP2000110551 A JP 2000110551A
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弘光 安東
Kojiro Okada
公二郎 岡田
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尚人 山田
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  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排ガス浄化装置に関し、燃料や潤滑油中のイ
オウ成分による被毒を防止して排ガス浄化用触媒の浄化
効率の低下を確実に抑制できるようにする。 【解決手段】 希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設さ
れた排ガス浄化用触媒6が、第1多孔質担体に貴金属及
び第1吸蔵材を担持して構成され、NOX を吸蔵しうる
NOX 吸蔵層6bと、NOX 吸蔵層6b上に被覆され、
第2多孔質担体に貴金属及び第1吸蔵材よりも電気陰性
度の大きい第2吸蔵材を担持して構成され、イオウ成分
を吸蔵しうるイオウ吸蔵層6cとを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関の排気通
路内に設けられ、排ガス中の有害成分、特に、NOX
浄化する、排ガス浄化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、リーン空燃比による運転を行なえ
るようにして、燃費の向上を図れるようにした希薄燃焼
内燃機関が実用化されている。しかしながら、この種の
内燃機関ではリーン空燃比での運転が行なわれるため、
従来の三元触媒ではその浄化特性から十分に排ガス中の
NOX を浄化することができなかった。
【0003】そこで、リーン空燃比による運転時におい
ても排ガス中のNOX を浄化できるようにリーンNOX
触媒(以下、NOX 触媒という)が開発されている。こ
のNOX 触媒として、排気通路内が酸素過剰雰囲気の場
合に排ガス中のNO X を触媒上に吸蔵し、酸素濃度低下
雰囲気(還元雰囲気)において吸蔵されたNOX を脱
離,還元する吸蔵型NOX 触媒がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、吸蔵型NO
X 触媒では、排ガス中のNOX を吸蔵する際、燃料や潤
滑油中に存在するイオウ成分が吸蔵型NOX 触媒上に吸
蔵されてしまい、NOX触媒の浄化効率を低下させる
(S被毒)という課題がある。このような課題を解決す
べく、特許第2605559号公報に開示されているよ
うに、吸蔵型NOX 触媒の上流にイオウ成分を吸蔵する
イオウ吸蔵材を配設することが提案されている。
【0005】しかしながら、上述したイオウ吸蔵材も吸
蔵型NOX 触媒と同様に、吸蔵能力には限界があり、上
記公報に開示された通り、ある程度イオウ成分が吸蔵さ
れた場合には、イオウ吸蔵材を高温化し、且つ排ガス空
燃比をリッチ化し、イオウ吸蔵材の周囲を還元雰囲気と
することでイオウ吸蔵材からイオウ成分を脱離,還元さ
せる必要がある。
【0006】このとき、イオウ吸蔵材から脱離されたイ
オウ成分は完全には還元されず、SO2 又はSO3 とい
う状態で吸蔵型NOX 触媒上に流れ、折角吸蔵型NOX
触媒の浄化効率が低下しないようにイオウ吸蔵材で吸蔵
したイオウ成分が吸蔵型NO X 触媒に吸蔵されてしまう
ことになる。このため、イオウ吸蔵材を備えない場合よ
りも触媒の浄化効率の低下度合は緩慢となるものの、や
はりNOX 触媒の浄化効率を低下させることになるた
め、イオウ成分の吸蔵によるNOX 触媒の浄化効率の低
下を確実に抑制することはできないという課題がある。
【0007】本発明は、このような課題に鑑み創案され
たもので、燃料や潤滑油中のイオウ成分を吸蔵すること
による排ガス浄化用触媒の被毒を防止して、排ガス浄化
用触媒の浄化効率の低下を確実に抑制できるようにし
た、排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】このため、請求項1記載
の本発明の排ガス浄化装置は、希薄燃焼内燃機関の排気
通路内に配設された排ガス浄化用触媒を備える。排ガス
浄化用触媒が、NOXを吸蔵しうるNOX 吸蔵層とイオ
ウ成分を吸蔵しうるイオウ吸蔵層とを有する。このう
ち、NOX 吸蔵層は、第1多孔質担体に貴金属及び第1
吸蔵材を担持するものとして構成される。また、イオウ
吸蔵層は、NOX 吸蔵層上に被覆され、第2多孔質担体
に貴金属及び第1吸蔵材よりも電気陰性度の大きい第2
吸蔵材を担持するものとして構成される。
【0009】これにより、イオウ成分を吸蔵することに
よるNOX 触媒の浄化効率の低下を2層構造の触媒構造
を通じて抑制できることになる。また、イオウ吸蔵層が
NO X 吸蔵層の第1吸蔵材よりも電気陰性度の大きい第
2吸蔵材を担持するものとして構成され、イオウ吸蔵層
に形成される第2吸蔵材の硫酸塩の結合力が第1吸蔵材
の硫酸塩の結合力よりも弱いため、イオウ吸蔵層に吸蔵
されたイオウ成分を容易に脱離,還元することができ
る。
【0010】請求項2記載の本発明の排ガス浄化装置に
は、排ガス浄化用触媒の上流の排気通路内に排ガス中の
イオウ成分を吸蔵しうるイオウ吸蔵材が設けられる。ま
た、排ガス空燃比を調整して排気通路内を還元雰囲気と
することでイオウ吸蔵材又は排ガス浄化用触媒に吸蔵さ
れたイオウ成分を脱離,還元する再生手段が備えられ
る。そして、再生手段が、排ガス浄化用触媒からイオウ
成分を脱離,還元する場合には、イオウ吸蔵材からイオ
ウ成分を脱離,還元する場合に比して排ガス空燃比をリ
ーン側に設定する。
【0011】これにより、燃費の悪化を抑制でき、且つ
イオウ吸蔵材からイオウ成分を脱離させる場合に脱離さ
れたイオウ成分がイオウ吸蔵材の下流側に設けられた排
ガス浄化用触媒に再度吸蔵してしまうのを確実に防止で
き、高いNOX 浄化効率を長期にわたって維持すること
ができる。
【0012】
【発明の実施形態】以下、図面により、本発明の実施の
形態について説明する。図1及び図2は、本発明の第1
実施形態にかかる排ガス浄化装置を示すもので、これら
の図1及び図2を参照しながら第1実施形態について説
明する。本実施形態にかかる排ガス浄化装置を備える内
燃機関は、図2に示すように構成されており、吸気,圧
縮,膨張,排気の各行程を一作動サイクル中にそなえる
4サイクルエンジンの希薄燃焼内燃機関であって、火花
点火式で、且つ、燃焼室内に燃料を直接噴射する筒内噴
射型内燃機関(筒内噴射エンジン)として構成される。
【0013】燃焼室1には、吸気通路2および排気通路
3が連通しうるように接続されており、吸気通路2と燃
焼室1とは吸気弁4によって開閉制御されるとともに、
排気通路3と燃焼室1とは排気弁5によって開閉制御さ
れるようになっている。また、吸気通路2には、図示し
ないエアクリーナ及びスロットル弁が設けられており、
排気通路3には、排ガス浄化用触媒6および図示しない
マフラ (消音器)が設けられている。なお、排ガス浄化
用触媒6の詳細については後述する。
【0014】また、インジェクタ(燃料噴射弁)8は、
気筒内の燃焼室1へ向けて燃料を直接噴射すべく、その
開口を燃焼室1に臨ませるように配置されている。ま
た、当然ながら、このインジェクタ8は各気筒毎に設け
られており、例えば本実施形態のエンジンが直列4気筒
エンジンであるとすると、インジェクタ8は4個設けら
れることになる。
【0015】このような構成により、図示しないスロッ
トル弁の開度に応じ図示しないエアクリーナを通じて吸
入された空気が吸気弁4の開放により燃焼室1内に吸入
され、この燃焼室1内で、吸入された空気と制御手段と
しての電子制御ユニット(ECU)20からの信号に基
づいてインジェクタ8から直接噴射された燃料とが混合
され、燃焼室1内で点火プラグ7を適宜のタイミングで
点火させることにより燃焼せしめられて、エンジントル
クを発生させたのち、排ガスが燃焼室1内から排気通路
3へ排出され、排ガス浄化用触媒6で排ガス中のCO,
HC,NOx の3つの有害成分を浄化されてから、マフ
ラで消音されて大気側へ放出されるようになっている。
【0016】また、このエンジンには種々のセンサが設
けられており、センサからの検出信号がECU20へ送
られるようになっている。例えば、排気通路3にはO2
センサ9が設けられており、O2 センサ9からの検出信
号がECU20へ送られるようになっている。そして、
ECU20では、O2 センサ9からの検出情報等に基づ
いて、運転状態に応じて空燃比が理論空燃比となるよう
にストイキオフィードバック制御が行なわれるようにな
っている。
【0017】また、後述するリーンNOX 触媒6Aの下
流側部分にはNOX センサ10が設けられており、NO
X センサ10からの検出信号がECU20へ送られるよ
うになっている。本エンジンについてさらに説明する
と、このエンジンは、吸気通路2から燃焼室1内に流入
した吸気流が縦渦(逆タンブル流)を形成するように構
成され、燃焼室1内で、吸気流がこのような縦渦流を形
成するので、この縦渦流を利用しながら例えば燃焼室1
の頂部中央に配設された点火プラグ7の近傍のみに少量
の燃料を集めて、点火プラグ7から離隔した部分では極
めてリーンな空燃比状態とすることができ、点火プラグ
7の近傍のみを理論空燃比又はリッチな空燃比とするこ
とで、安定した層状燃焼(層状超リーン燃焼)を実現し
ながら、燃料消費を抑制することができるものである。
この場合の最適な燃料噴射のタイミングとしては、空気
流動が弱く点火時までに燃料が拡散し過ぎない圧縮行程
後期である。
【0018】また、このエンジンから高出力を得る場合
には、インジェクタ8からの燃料が燃焼室1全体に均質
化され、全燃焼室1内を理論空燃比やリーン空燃比の混
合気状態にさせて予混合燃焼を行なえばよく、もちろ
ん、理論空燃比による方がリーン空燃比によるよりも高
出力が得られるが、これらの際にも、燃料の霧化及び気
化が十分に行なわれるようなタイミングで燃料噴射を行
なうことで、効率よく高出力を得ることができる。この
ような場合の最適な燃料噴射のタイミングとしては、吸
気流を利用して燃料の霧化及び気化を促進できるよう
に、吸気行程中には燃料噴射を終えるように設定する。
【0019】このため、本エンジンでは、燃料噴射の態
様として、圧縮行程燃料噴射による層状燃焼によって燃
料の極めて希薄な状態(即ち、空燃比が理論空燃比より
も極めて大)での運転(超リーン燃焼運転)を行なう圧
縮リーン運転モードと、圧縮リーン運転モードほどでは
ないが燃料の希薄な状態(即ち、空燃比が理論空燃比よ
りも大)で運転を行なう吸気リーン運転モードと、空燃
比が理論空燃比となるようにO2 センサ情報等に基づい
てフィードバック制御を行なうストイキオ運転モード
(ストイキオフィードバック運転モード)と、燃料の過
濃な状態(即ち、空燃比が理論空燃比よりも小)での運
転を行なうエンリッチ運転モード(オープンループモー
ド)とが設けられている。
【0020】そして、このような各種の運転モードから
一つのモードを選択してエンジンの運転を制御すること
になるが、この運転モード選択は、エンジンの回転数N
e及び負荷状態を示す有効圧力Peに基づきマップに応
じて行なうようになっている。つまり、エンジンの回転
数Neが低く負荷Peも小さい場合には、圧縮リーン運
転モードが選択され、エンジンの回転数Neや負荷Pe
がこれよりも大きくなるのにしたがって、吸気リーン運
転モード,ストイキオフィードバック運転モード,エン
リッチオープンループモードが選択される。
【0021】次に、本実施形態にかかる排ガス浄化装置
について説明する。本排ガス浄化装置は、図2に示すよ
うに、排ガス浄化用触媒6と、ECU20とを備えて構
成される。ここで、排ガス浄化用触媒6は、リーンNO
x 触媒(以下、NOx 触媒という)6Aと三元触媒6B
とを備え、図1(a), (b)に示すように、例えばセラ
ミックスからなるモノリス型担体6aを用いて一体的に
形成されている。なお、図1(a), (b)ではNOx
媒6Aのみを示している。
【0022】つまり、図2に示すように、理論空燃比下
で排ガス中のCO,HC及びNOxを浄化可能な三元機
能を有する三元触媒6Bが設けられ、さらに、本エンジ
ンが空燃比をリーンにしながら節約運転を行なえるエン
ジンであるため、リーン運転時に発生する排ガス中のN
x を十分に浄化できるように、三元触媒6Bの上流側
に三元機能を持たないNOx 触媒6Aが設けられてい
る。
【0023】ここで、NOx 触媒6Aは、NOX を触媒
上に吸蔵することにより排ガス中のNOX を浄化するタ
イプのもの(吸蔵型リーンNOX 触媒,トラップ型リー
ンNOX 触媒)である。このNOx 触媒6Aは、図1
(b)に示すように、主にNOX を吸蔵しうるNOX
蔵層(NOX Trap層)6bと、NOX 吸蔵層6b上
に被覆され、主にSOX (イオウ成分)を吸蔵しうるイ
オウ吸蔵層としてのSOX 吸蔵層(SOXTrap層)
6cとを備えて構成される。
【0024】このうち、NOX 吸蔵層6bは、例えばア
ルミナAl23 等からなる担体(第1多孔質担体)
に、例えば白金Pt,パラジウムPdのうち少なくとも
1種の貴金属、及び、例えばバリウムBaやカリウムK
等のアルカリ金属,アルカリ土類金属(第1吸蔵材)を
担持したものとして構成される。次に、このように構成
されるNOX 吸蔵層6bによるNOX の吸蔵,脱離機能
について説明する。
【0025】なお、ここでは、アルミナAl23 から
なる担体に白金Pt及びバリウムBaを担持したものに
ついて説明するが、他の担体に他の貴金属や金属を担持
させた場合も同様である。酸素過剰雰囲気(リーン雰囲
気)では、まず、O2 が白金Ptの表面に吸蔵され、排
ガス中のNOが白金Ptの表面上でO2 と反応してNO
2 となる(2NO+O2 →2NO2 )。
【0026】一方、NOX 吸蔵層6bに担持されている
バリウムBaの一部はO2 と反応し、酸化バリウムBa
Oとなって存在し、この酸化バリウムBaOは、さら
に、排ガス中のCO等と反応して炭酸バリウムBaCO
3 となる。このような状況下で、生成されたNO2 の一
部が白金Pt上でさらに酸化バリウムBaO及びCOか
ら生成された炭酸バリウムBaCO3 と反応して硝酸バ
リウムBa(NO32 が生成され、NOX 触媒6Aに
吸蔵される。
【0027】このような反応を化学反応式で示すと、以
下の反応式(1)のようになる。 BaCO3 +2NO+(3/2)O2 →Ba(NO32 +CO2 ・・・(1) 一方、酸素濃度が低下した雰囲気(リッチ雰囲気)で
は、NO2 の生成量が低下し、逆方向の反応が進み、N
X 吸蔵層6bからNO2 が脱離される。
【0028】つまり、NOX 吸蔵層6bに吸蔵している
硝酸バリウムBa(NO32 と排ガス中のCOとが白
金Ptの表面上で反応し、NO2 及び炭酸バリウムBa
CO 3 が生成され、NO2 がNOX 触媒6Aから脱離さ
れる。これを化学反応式で示すと、以下の反応式(2)
のようになる。 Ba(NO32 +CO→BaCO3 +2NO+O2 ・・・(2) ただし、2NO+O2 →2NO2 (なお、NOの一部
は、そのまま排出される。)このように、NOX 吸蔵層
6bには、硝酸バリウムBa(NO32 及び炭酸バリ
ウムBaCO3 が化学平衡の状態で存在し、NOX 吸蔵
層6bの近傍の雰囲気に応じて各方向への反応が生じる
ことになる。
【0029】そして、このようにしてNOX 吸蔵層6b
から脱離されたNO2 は、三元触媒6B上で排ガス中の
未燃HC,H2 ,COにより還元され、N2 として排出
される(NO+CO→1/2N2 +CO2 ),( NO+H
2 → 1/2N2 +H2 O)。また、SOX 吸蔵層6c
は、例えばアルミナAl23 等からなる担体(第2多
孔質担体)に、例えば白金Pt,ロジウムRhのうち少
なくとも1種の貴金属、及び、例えばバリウムBaやカ
リウムK等のアルカリ金属,アルカリ土類金属(第1吸
蔵材)よりも電気陰性度の大きい例えば銀Ag,亜鉛Z
n,マンガンMn,セリウムCe,マグネシウムMg等
の金属(第2吸蔵材)を担持したものとして構成され
る。
【0030】このように、NOX 吸蔵層6b上にSOX
吸蔵層6cを被覆しているのは、以下の理由による。つ
まり、NOX 吸蔵層6bでは、炭酸バリウムBaCO3
及び硫酸バリウムBaSO4 が化学平衡の状態で存在
し、NOX 吸蔵層6bの近傍の雰囲気に応じて各方向へ
の反応が進み易くなる。即ち、排ガス空燃比が小さくな
る程(即ち、空燃比がリッチになる程)、硫酸バリウム
BaSO4 が分解し易くなり、炭酸バリウムBaCO3
が生成され易くなる。逆に、排ガス空燃比が大きくなる
程(即ち、空燃比がリーンになる程)、炭酸バリウムB
aCO3 が分解し易くなり、硫酸バリウムBaSO4
生成され易くなる。
【0031】しかしながら、実際には硫酸バリウムBa
SO4 は分解しにくく、酸素濃度が低下しても(即ち、
空燃比がリッチになっても)硫酸バリウムBaSO4
一部は分解されずに残ってしまう。これにより、使用さ
れたバリウムBa分だけ硝酸バリウムBa(NO32
が生成されなくなり、NOX 吸蔵層6bによるNOX
浄化能力が低下することになる(これを、S被毒とい
う)。
【0032】そこで、このようなNOX 吸蔵層6bのN
X 浄化能力の低下を防止すべく、本実施形態では、図
1(b)に示すように、NOX 吸蔵層6b上にSOX
蔵層6cを被覆している。また、例えばバリウムBaや
カリウムK等のアルカリ金属,アルカリ土類金属よりも
電気陰性度の大きい例えば銀Ag,亜鉛Zn,マンガン
Mn,セリウムCe,マグネシウムMg等の金属を担持
しているのは、以下の理由による。
【0033】一般に、金属の電気陰性度は、図7に示す
ように、元素周期表の周期や族によって異なり、化合物
の結合力は化合物を構成する金属の電気陰性度の差によ
り決まることになる。つまり、化合物を構成する金属の
電気陰性度の差が大きい程、互いに引き付け合う力が強
まり、化合物の結合力は強くなる。なお、図7では周期
表で同じ族に属する元素を線で結んで示している。
【0034】このため、SOX 吸蔵層6cの吸蔵材とし
て電気陰性度の大きい金属を採用すれば、排ガス中のイ
オウ成分の電気陰性度との差が小さくなり、これにより
硫酸塩の結合力は弱くなるため、SOX 吸蔵層6cから
SOX を脱離するのが容易となるからである。つまり、
一般に、SOX 吸蔵層6cの吸蔵材として電気陰性度の
小さい金属を採用した場合には排ガス中のイオウ成分の
電気陰性度との差が大きくなり、硫酸塩の結合力が強く
なるため、SOX 吸蔵層6cの周辺を高温にしなければ
SOX 吸蔵層6cからSOX を脱離することができない
が、SOX 吸蔵層6cの吸蔵材として電気陰性度の大き
い金属を採用した場合には排ガス中のイオウ成分の電気
陰性度との差が小さくなり、硫酸塩の結合力が弱くなる
ため、SOX 吸蔵層6cの周辺が低温であってもSOX
吸蔵層6cからSOX を脱離することができるため、S
X 吸蔵層6cからのSOX の脱離が容易となるからで
ある。
【0035】次に、このように構成されるSOX 吸蔵層
6cにおけるSOX の吸蔵,脱離機能について説明す
る。なお、ここでは、アルミナAl23 からなる担体
に白金Pt及びセリウムCeを担持したものについて説
明するが、他の担体に他の貴金属や金属を担持させた場
合も同様である。
【0036】燃料や潤滑油中にはイオウ成分が含まれて
いるため、SOX 吸蔵層6cは、酸素過剰雰囲気で排ガ
ス中のSOX を吸蔵し、酸素濃度が低下すると吸蔵した
SO X の一部を脱離することになる。つまり、SOX
蔵層6cは、酸素過剰雰囲気(リーン雰囲気)では、O
2 が白金Ptの表面に吸蔵し、燃料や潤滑油に含まれる
硫黄成分が、燃焼後SO2 として排出され、この排ガス
中に含まれるSO2 が白金Ptの表面上でO2 と反応し
てSO3 となる(2SO2 +O2 →2SO3 )。
【0037】次いで、生成されたSO3 の一部が白金P
tを触媒として炭酸セリウムCe(CO3)2 と反応する
ことによって硫酸セリウムCe(SO4)2 が生成され、
SO X 吸蔵層6cに吸蔵される。これを化学反応式で示
すと、以下の反応式(3)のようになる。 Ce(CO3)2 +SO3 →Ce(SO4)2 +CO2 ・・・(3) 一方、酸素濃度が低下した雰囲気(リッチ雰囲気)で
は、SOX 吸蔵層6cに吸蔵している硫酸セリウムCe
(SO4)2 の一部と排ガス中のCOとが白金Ptの触媒
作用により、炭酸セリウムCe(CO3)2 及びSO2
生成され、SO2がSOX 吸蔵層6cから脱離される。
これを化学反応式で示すと、以下の反応式(4)のよう
になる。
【0038】 Ce(SO4)2 +CO→Ce(CO3)2 +SO2 ・・・(4) ところで、NOX 吸蔵層6bでは、NOX の吸蔵,脱離
作用によりNOX を浄化するため、NOX が吸蔵した
ら、適宜脱離させる必要がある。また、SOX 吸蔵層6
cでは、SOX の吸蔵,脱離作用によりSOX を浄化す
るため、SOX が吸蔵したら、適宜脱離させる必要があ
る。
【0039】このため、本実施形態にかかる排ガス浄化
装置では、NOX 触媒6AのNOX吸蔵層6bのNOX
浄化効率がNOX の吸蔵によって低下した場合やNOX
触媒6AのSOX 吸蔵層6cにSOX が吸蔵してNOX
浄化効率が低下した場合に、吸蔵したNOX やSOX
脱離,還元させてNOX 触媒6AのNOX 吸蔵層6bや
SOX 吸蔵層6cを再生するための制御を行なうように
なっている。
【0040】そこで、ECU20には、NOX 触媒6A
からNOX やSOX を脱離,還元すべく、触媒周辺を還
元雰囲気(酸素濃度の低下した雰囲気)とするために、
排気通路3内の排ガス空燃比がリッチになるように通常
運転時における主燃料噴射とは別に例えば膨張行程の中
期以降又は排気行程に追加燃料噴射を行なわせる機能
(再生手段)が備えられている。
【0041】本実施形態では、ECU20の再生手段に
よる制御によって、NOX を脱離することができるとと
もに、SOX を脱離することもできる。これは、SOX
吸蔵層6cが、例えばバリウムBa等のアルカリ金属に
より構成されるNOX 吸蔵層6bと異なり、例えばセリ
ウムCe等の電気陰性度の大きい金属により構成される
ためである。
【0042】つまり、SOX 吸蔵層6cを例えばバリウ
ムBa等のアルカリ土類金属により構成すると、SOX
吸蔵層6cにはSOX が硫酸バリウムBaSO4 として
吸蔵され、この硫酸バリウムBaSO4 は結合力が強い
ため、SOX 吸蔵層6cを高温にしないとSOX を脱離
することができない。しかし、SOX 吸蔵層6cを例え
ばセリウムCe等のバリウムBaよりも電気陰性度の大
きい金属により構成すれば、SOX 吸蔵層6cにはSO
X は硫酸セリウムCe(SO4)2 として吸蔵され、この
硫酸セリウムCe(SO4)2 は結合力が弱いため(Ce
(SO4)2 <BaSO4 )、NOX 吸蔵層6bからNO
X を脱離させるのと同様に、触媒周辺が比較的低温(例
えば、450℃)の状態であってもSOX 吸蔵層6cか
らSOXを脱離することができることになるからであ
る。
【0043】したがって、本実施形態にかかる排ガス浄
化装置によれば、排ガス浄化用触媒6のNOX 触媒6A
がNOX 吸蔵層6bとSOX 吸蔵層6cとの2層構造と
しているため、燃料や潤滑油中に含まれるイオウ成分に
よるNOX 触媒6AのS被毒を構造的に抑制することが
でき、これにより、NOX 触媒6Aの浄化効率の低下を
確実に抑制できるという利点がある。
【0044】また、NOX 吸蔵層6bを被覆するSOX
吸蔵層6cの吸蔵材として電気陰性度の大きい吸蔵材が
使用され、SOX 吸蔵層6cにイオウ成分が吸蔵されて
形成される硫酸塩の結合力が弱くなるため、SOX 吸蔵
層6cに吸蔵されたイオウ成分を容易に脱離,還元する
ことができるという利点もある。このため、例えば、E
CU20の再生手段によってSOX 吸蔵層6cからイオ
ウ成分を脱離するために再生制御として追加燃料噴射制
御を行なう場合にも、SOX 吸蔵層6cを高温とする必
要がなくなり、約450℃程度の比較的低温の状態とす
れば足りるため、追加燃料噴射の燃料噴射量を少なくす
ることができるため、燃費を悪化させることがないとい
う利点もある。
【0045】次に、第2実施形態にかかる排ガス浄化装
置について、図3及び図4を参照しながら説明する。本
実施形態にかかる排ガス浄化装置は、図3に示すよう
に、第1実施形態のもに対し、イオウ吸蔵材(SOX
rap)11が付加されている点が異なる。また、イオ
ウ吸蔵材11から脱離したイオウ成分が排ガス浄化用触
媒6′に再度吸蔵されてしまうのを確実に防止する必要
があるため、排ガス浄化用触媒6′のNOX 触媒6A′
の構成及びECU20′の再生手段も上述の第1実施形
態のものと異なる点がある。
【0046】ここで、イオウ吸蔵材11は、図3に示す
ように、排ガス浄化用触媒6の上流側の排気通路3内に
設けられ、主に排ガス中のイオウ成分SOX を吸蔵しう
るものである。このイオウ吸蔵材11は、図4に示すよ
うに、例えばセラミックスからなるモノリス型担体11
aに担持されたSOX 吸蔵層11bを備えて構成され
る。
【0047】SOX 吸蔵層11bは、例えばアルミナA
23 からなる担体に、例えば白金Pt,ロジウムR
h等の貴金属、及び、例えばセリウムCe,マグネシウ
ムMg,バリウムBa,カリウムK等の電気陰性度の小
さい金属を担持したものとして構成される。このよう
に、イオウ吸蔵材11のSOX 吸蔵層11bを例えばセ
リウムCe,マグネシウムMg,バリウムBa,カリウ
ムK等の電気陰性度の小さい金属によって構成するの
は、SOX 吸蔵層11bにSOX が吸蔵された場合に形
成される硫酸塩の結合力を強くして、イオウ吸蔵材11
の下流側に配設されたNOX 触媒6AにSOX が流入す
るのを確実に防止できるようにするためである。
【0048】この場合、イオウ吸蔵材11のSOX 吸蔵
層11bからSOX を脱離するには、イオウ吸蔵材11
の周辺を例えばセリウムCe,マグネシウムMgの場合
で約650℃程度、バリウムBa,カリウムKの場合で
約750℃以上の高温にする必要がある。なお、イオウ
吸蔵材11のSOX 吸蔵層11bの吸蔵,脱離機能は、
上述の第1実施形態におけるNOX 触媒6AのSOX
蔵層6bの吸蔵,脱離機能と同様であるため、ここでは
その説明を省略する。
【0049】次に、上述の第1実施形態のものと異なる
点を有する排ガス浄化用触媒6′のNOX 触媒6A′の
構成及びECU20′の再生手段について説明する。つ
まり、本実施形態にかかる排ガス浄化用触媒6′のNO
X 触媒6A′は、図5に示すように、主にNOX を吸蔵
しうるNOX 吸蔵層(NOX Trap層)6b′と、N
X 吸蔵層6b′上に被覆され、主にSOX を吸蔵しう
るSOX 吸蔵層(SOX Trap層)6c′とを備えて
構成される。
【0050】ここで、NOX 吸蔵層6b′は、上述の第
1実施形態のものと同様に、例えばアルミナAl23
からなる担体(第1多孔質担体)に、例えば白金Pt,
パラジウムPdのうち少なくとも1種の貴金属、及び、
例えばバリウムBaやカリウムK等のアルカリ金属,ア
ルカリ土類金属(第1吸蔵材)を担持するものとして構
成される。
【0051】SOX 吸蔵層6c′は、例えばアルミナA
23 からなる担体(第2多孔質担体)上、例えば白
金Pt,ロジウムRhのうち少なくとも1種の貴金属、
及び、イオウ吸蔵材11に担持される例えばセリウムC
e,マグネシウムMg,バリウムBa,カリウムK等の
金属よりも電気陰性度の大きい例えば銀Ag,亜鉛Z
n,マンガンMn等の金属(第2吸蔵材)を担持するも
のとして構成される。
【0052】ここで、図6はイオウ吸蔵材として望まし
い金属種(セリウムCe,マグネシウムMg,銀Ag,
亜鉛Zn,マンガンMn)のSOX 吸蔵層の温度(ベッ
ド温度)とSOX 脱離量との関係を示す図である。図6
によれば、セリウムCe,マグネシウムMg等の金属
は、SOX 吸蔵層6c′の温度が約650℃程度で最も
SOX 脱離量が多くなることがわかる。これに対し、セ
リウムCe,マグネシウムMg等の金属よりも電気陰性
度の大きい銀Ag,亜鉛Zn,マンガンMn等の金属
は、SOX 吸蔵層6c′の温度が約450℃程度で最も
SOX 脱離量が多くなることがわかる。すなわち、SO
X 吸蔵層6c′を銀Ag,亜鉛Zn等の金属を担持する
ものとして構成する方が、セリウムCe,マグネシウム
Mg等の金属を担持するものとして構成するよりもSO
Xが脱離し易いことが分かる。
【0053】このように、SOX 吸蔵層6c′をイオウ
吸蔵材11に担持される例えばセリウムCe,マグネシ
ウムMg,バリウムBa,カリウムK等の金属よりも電
気陰性度の大きい例えば銀Ag,亜鉛Zn,マンガンM
n等の金属を担持するものとして構成することによっ
て、例えば450℃程度の比較的低温の状態で、容易に
SOX 吸蔵層6c′からSOX を脱離できることになる
のである。
【0054】このように、SOX 吸蔵層6c′を、例え
ば白金Pt,ロジウムRhのうち少なくとも1種の貴金
属、及び、イオウ吸蔵材11に担持される例えばセリウ
ムCe,マグネシウムMg,バリウムBa,カリウムK
等の金属よりも電気陰性度の大きい例えば銀Ag,亜鉛
Zn,マンガンMn等の金属を担持するものとして構成
することにより、SOX 吸蔵層6c′からのSOX の脱
離を例えば450℃程度の比較的低温の状態で行なうこ
とができ、NOX 触媒6Aの上流側に配設され、SOX
を脱離するのに例えばセリウムCe,マグネシウムMg
の場合で約650℃程度、バリウムBa,カリウムKの
場合で約750℃以上の高温とする必要があるイオウ吸
蔵材11からはSOX が脱離しないようにしながら、S
X 吸蔵層6c′からSOX を確実に脱離させることが
できるようにしているのである。
【0055】また、本実施形態では、ECU20′に
は、上述の第1実施形態と同様に、イオウ吸蔵材11又
はNOX 触媒6A′からNOX やSOX を脱離,還元す
べく、触媒周辺を還元雰囲気(酸素濃度の低下した雰囲
気)とするために、排気通路3内の排ガス空燃比がリッ
チになるように通常運転時における主燃料噴射とは別に
例えば膨張行程の中期以降や排気行程に追加燃料噴射を
行なわせる機能(再生手段)が備えられている。
【0056】さらに、再生手段では、NOX 触媒6A′
のSOX 吸蔵層6c′からSOX を脱離,還元する場合
には、イオウ吸蔵材11からSOX を脱離,還元する場
合に比して排ガス空燃比がリーン側になるように設定す
るようになっている。このように、NOX 触媒6A′の
SOX 吸蔵層6c′からSOX を脱離,還元する場合に
は排ガス空燃比をリーン側とし、排ガス温度が上がらな
いようにして、触媒温度を比較的低温(例えば450℃
程度)の状態とし、SOX を脱離するのに高温(例えば
650℃程度)の状態とする必要があるイオウ吸蔵材1
1からはSOX が脱離しないようにしながら、SOX
蔵層6c′からSOX を確実に脱離するようにしている
のである。
【0057】なお、その他の構成については、上述の第
1実施形態のものと同様であるため、ここではその説明
を省略する。したがって、本実施形態にかかる排ガス浄
化装置によれば、排ガス浄化用触媒6′をNOX 触媒6
A′とSOX 吸蔵層6c′とを備えるものとして構成
し、排ガス浄化用触媒6′の上流側の排気通路3内にイ
オウ吸蔵材11を設けているため、例えば燃料や潤滑油
中にイオウ成分が多く含まれる地域であっても、NOX
触媒6A′のSOX 吸蔵層6c′やイオウ吸蔵材11に
よるSOX 吸蔵能力を超え、NOX 吸蔵層6b′にSO
X が吸蔵されてしまうのを確実に抑制でき、これによ
り、燃料や潤滑油中に含まれるイオウ成分によるS被毒
を抑制するS被毒抑制効果を向上させることができ、N
X 触媒6A′の浄化効率の低下をより確実に抑制でき
るという利点がある。
【0058】また、排ガス浄化用触媒6′のNOX 触媒
6A′がNOX 吸蔵層6b′とSO X 吸蔵層6c′との
2層構造とされており、また、再生手段が、NOX 触媒
6A′のSOX 吸蔵層6c′からSOX を脱離,還元す
る場合には、イオウ吸蔵材11からSOX を脱離,還元
する場合に比して排ガス空燃比がリーン側になるように
設定するため、イオウ吸蔵材11から脱離させたイオウ
成分がイオウ吸蔵材11の下流側に設けられた排ガス浄
化用触媒6′に再度吸蔵されてしまうのを確実に防止で
き、これにより、排ガス浄化用触媒6′の浄化効率の低
下を確実に抑制することができるという利点がある。
【0059】また、本排ガス浄化装置によれば、上述の
第1実施形態と同様の効果も得られる。つまり、本排ガ
ス浄化装置によれば、排ガス浄化用触媒6′のNOX
媒6A′がNOX 吸蔵層6b′とSOX 吸蔵層6c′と
の2層構造としているため、燃料中のイオウ成分による
NOX 触媒6A′のS被毒を構造的に抑制することがで
き、これにより、NOX 触媒6A′の浄化効率の低下を
確実に抑制できるという利点がある。
【0060】また、NOX 吸蔵層6b′を被覆するSO
X 吸蔵層6c′の吸蔵材として電気陰性度の大きい吸蔵
材を使用し、SOX 吸蔵層6c′にイオウ成分が吸蔵さ
れて形成される硫酸塩の結合力を弱くしているため、S
X 吸蔵層6c′に吸蔵されたイオウ成分を容易に脱
離,還元することができるという利点もある。これによ
り、ECU20′の再生手段によって、SOX 吸蔵層6
c′からイオウ成分を脱離するために再生制御として追
加燃料噴射制御を行なう場合にも追加燃料噴射の燃料噴
射量を少なくすることができるため、燃費を悪化させる
ことがないという利点もある。
【0061】なお、上述の各実施形態では、再生手段に
よる再生制御として、NOX 触媒6A,6A′の近傍を
還元雰囲気(リッチ雰囲気)にするために追加燃料噴射
を行なうようにしているが、再生手段による再生制御と
してNOX 触媒6A,6A′の近傍を還元雰囲気にする
方法はこれに限られるものではなく、運転モードをリッ
チ側に切り替える(即ち、出力を得るための主燃料噴射
をリッチにする)等の方法であっても良い。この場合、
余分な出力増を回避するために点火時期をリタード制御
するのが望ましい。
【0062】また、上述の各実施形態では、三元機能を
持たないNOX 触媒6A,6A′の下流に三元触媒6
B,6B′を備えた構成としているが、NOX 触媒6
A,6A′に三元機能をもたせても良い。この場合、N
X 触媒6A,6A′の三元機能を強く設定したときに
は特に三元触媒6B,6B′を別に設けなくても良い。
また、上述の各実施形態では、筒内噴射型内燃機関とし
て説明してきたが、これに限られるものではなく、希薄
燃焼可能な内燃機関であればどのような形式の内燃機関
であっても良い。
【0063】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1記載の本
発明の排ガス浄化装置によれば、燃料や潤滑油中に含ま
れるイオウ成分によるNOX 触媒の被毒を触媒自身の構
成で抑制することができ、これにより、NOX 触媒の浄
化効率の低下を確実に抑制できるという利点がある。
【0064】また、イオウ吸蔵層に吸蔵されたイオウ成
分を容易に脱離,還元することができるという利点もあ
る。請求項2記載の本発明の排ガス浄化装置によれば、
イオウ吸蔵材から脱離したイオウ成分がイオウ吸蔵材の
下流側に設けられた排ガス浄化用触媒に再度吸蔵してし
まうのを確実に防止でき、これにより、長期にわたって
排ガス浄化用触媒の浄化効率を維持することができると
いう利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる排ガス浄化装置
の排ガス浄化用触媒を示す模式図であって、(a)はそ
の斜視図であり、(b)はその部分断面図である。
【図2】本発明の第1実施形態にかかる排ガス浄化装置
を備える内燃機関を示す模式図である。
【図3】本発明の第2実施形態にかかる排ガス浄化装置
を備える内燃機関を示す模式図である。
【図4】本発明の第2実施形態にかかる排ガス浄化装置
のイオウ吸蔵材を示す部分拡大図である。
【図5】本発明の第2実施形態にかかる排ガス浄化装置
の排ガス浄化用触媒を示す部分拡大図である。
【図6】本発明の第2実施形態にかかる排ガス浄化装置
におけるイオウ吸蔵材,イオウ吸蔵層の温度とイオウ成
分脱離量との関係を示す図である。
【図7】一般的な付加的結合エネルギに基づいたポーリ
ングの電気陰性度を示す図である。
【符号の説明】
6,6′ 排ガス浄化用触媒 6A,6A′ NOX 触媒 6b,6b′ NOX 吸蔵層 6c,6c′ イオウ吸蔵層としてのSOX 吸蔵層 11 イオウ吸蔵材 20 ECU
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F01N 3/24 F01N 3/28 301P 3/28 301 F02D 41/04 305A F02D 41/04 305 B01D 53/36 102C 102H (72)発明者 岡田 公二郎 東京都港区芝五丁目33番8号 三菱自動車 工業株式会社内 (72)発明者 山田 尚人 東京都港区芝五丁目33番8号 三菱自動車 工業株式会社内 (72)発明者 棚田 浩 東京都港区芝五丁目33番8号 三菱自動車 工業株式会社内 Fターム(参考) 3G091 AA02 AA12 AA17 AA18 AA24 AA28 AB03 AB05 AB06 AB08 AB09 BA11 BA14 BA15 BA19 BA39 CB02 CB03 DB10 DC01 EA00 EA01 EA03 EA33 EA34 3G301 PE01A PE03A 4D048 DA08 EA04

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設さ
    れた排ガス浄化用触媒を備え、 該排ガス浄化用触媒が、第1多孔質担体に貴金属及び第
    1吸蔵材を担持して構成され、NOX を吸蔵しうるNO
    X 吸蔵層と、 該NOX 吸蔵層上に被覆され、第2多孔質担体に貴金属
    及び該第1吸蔵材よりも電気陰性度の大きい第2吸蔵材
    を担持して構成され、イオウ成分を吸蔵しうるイオウ吸
    蔵層とを有することを特徴とする、排ガス浄化装置。
  2. 【請求項2】 該排ガス浄化用触媒の上流の該排気通路
    内に設けられ、排ガス中のイオウ成分を吸蔵しうるイオ
    ウ吸蔵材と、 排ガス空燃比を調整して該排気通路内を還元雰囲気とす
    ることで該イオウ吸蔵材又は該排ガス浄化用触媒に吸蔵
    された該イオウ成分を脱離,還元する再生手段とを備
    え、 該再生手段が、該排ガス浄化用触媒から該イオウ成分を
    脱離,還元する場合には該イオウ吸蔵材から該イオウ成
    分を脱離,還元する場合に比して排ガス空燃比をリーン
    側に設定することを特徴とする、請求項1記載の排ガス
    浄化装置。
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