JP2000109718A - 対称型フタリド系化合物の製造方法 - Google Patents
対称型フタリド系化合物の製造方法Info
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- JP2000109718A JP2000109718A JP10296019A JP29601998A JP2000109718A JP 2000109718 A JP2000109718 A JP 2000109718A JP 10296019 A JP10296019 A JP 10296019A JP 29601998 A JP29601998 A JP 29601998A JP 2000109718 A JP2000109718 A JP 2000109718A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高負荷量のＣＯＤ含有廃水を生ぜず、工業的
規模での生産に適し、高純度、高収率に対称型フタリド
系化合物を製造する方法を提供する。 【解決手段】 無水酢酸の存在下、芳香族ジカルボン酸
系化合物とアニリン系、インドール系又はエチレン系化
合物の何れかとを反応させ、反応終了後の反応物に低級
アルコールを混合して高純度の一般式ＶＩＩの対称型フ
タリド系化合物を析出させ、ＣＯＤ源の無水酢酸、アル
カリ可溶物質等は低級アルコールと共に濾過等で分離し
て廃水中のＣＯＤ源を除去する新規な製造方法。 一般式ＶＩＩの化合物の具体例には３，３−ビス（１−
オクチル−２−メチル−３−インドリル）フタリドがあ
る。
規模での生産に適し、高純度、高収率に対称型フタリド
系化合物を製造する方法を提供する。 【解決手段】 無水酢酸の存在下、芳香族ジカルボン酸
系化合物とアニリン系、インドール系又はエチレン系化
合物の何れかとを反応させ、反応終了後の反応物に低級
アルコールを混合して高純度の一般式ＶＩＩの対称型フ
タリド系化合物を析出させ、ＣＯＤ源の無水酢酸、アル
カリ可溶物質等は低級アルコールと共に濾過等で分離し
て廃水中のＣＯＤ源を除去する新規な製造方法。 一般式ＶＩＩの化合物の具体例には３，３−ビス（１−
オクチル−２−メチル−３−インドリル）フタリドがあ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は対称型フタリド系化合物
の新規な製造方法に関する。詳細には対称型フタリド系
化合物を廃水問題が少なく簡便な操作で高純度、高収率
に製造する方法に関する。
の新規な製造方法に関する。詳細には対称型フタリド系
化合物を廃水問題が少なく簡便な操作で高純度、高収率
に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、無色ないし淡色の電子供与性発色
剤と有機もしくは無機の電子受容性顕色剤との呈色反応
を利用した記録材料は、感圧記録材料、感熱記録材料な
どとして既に良く知られている。このような記録材料の
電子供与性発色剤としてフタリド系化合物はその発色画
像の色調、濃度、感度、保存安定性等の諸性能が優れて
いる事で広く使用されている。
剤と有機もしくは無機の電子受容性顕色剤との呈色反応
を利用した記録材料は、感圧記録材料、感熱記録材料な
どとして既に良く知られている。このような記録材料の
電子供与性発色剤としてフタリド系化合物はその発色画
像の色調、濃度、感度、保存安定性等の諸性能が優れて
いる事で広く使用されている。
【０００３】一般式（VII）で表される対称型フタリド
系化合物の一般的な製造方法として、一般式（I）で表
される芳香族ジカルボン酸無水物と一般式（II）、（II
I）、（IV）で表されるアニリン系、インドール系、エチ
レン系化合物の何れかとを縮合剤兼希釈剤である硫酸、
無水酢酸、燐酸等の脱水性作用のある酸性溶媒中で反応
する方法がよく知られている。この中で反応生成物の安
定性、操作の簡便性などから無水酢酸中で反応する方法
が工業的に広く実用されている。
系化合物の一般的な製造方法として、一般式（I）で表
される芳香族ジカルボン酸無水物と一般式（II）、（II
I）、（IV）で表されるアニリン系、インドール系、エチ
レン系化合物の何れかとを縮合剤兼希釈剤である硫酸、
無水酢酸、燐酸等の脱水性作用のある酸性溶媒中で反応
する方法がよく知られている。この中で反応生成物の安
定性、操作の簡便性などから無水酢酸中で反応する方法
が工業的に広く実用されている。
【０００４】
【化１１】
【０００５】
【化１２】
【０００６】しかしながら無水酢酸を使用する製造方法
では、目的生成物が縮合剤兼希釈剤である無水酢酸に溶
解して収量が低下する。このため、無水酢酸を分解し水
に可溶性の酢酸とした後に、水に不溶の生成物を分離す
る必要がある。通常、このような操作を行うには、反応
終了後、反応混合物を大量の苛性ソーダ等のアルカリ水
溶液中に排出することにより、無水酢酸を酢酸ソーダと
し、中性〜アルカリ性の水溶液から無色ないし淡色のフ
タリド系化合物を分離する。しかし、この操作は無水酢
酸をアルカリ水で分解して水に可溶性の酢酸に変えるた
め、発生する廃水には高負荷量のＣＯＤ（化学的酸素要
求量）成分を含むという欠点があり、また得られる反応
生成物の純度も必ずしも満足できるものではないという
問題点があった。
では、目的生成物が縮合剤兼希釈剤である無水酢酸に溶
解して収量が低下する。このため、無水酢酸を分解し水
に可溶性の酢酸とした後に、水に不溶の生成物を分離す
る必要がある。通常、このような操作を行うには、反応
終了後、反応混合物を大量の苛性ソーダ等のアルカリ水
溶液中に排出することにより、無水酢酸を酢酸ソーダと
し、中性〜アルカリ性の水溶液から無色ないし淡色のフ
タリド系化合物を分離する。しかし、この操作は無水酢
酸をアルカリ水で分解して水に可溶性の酢酸に変えるた
め、発生する廃水には高負荷量のＣＯＤ（化学的酸素要
求量）成分を含むという欠点があり、また得られる反応
生成物の純度も必ずしも満足できるものではないという
問題点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は高負荷
量のＣＯＤ含有廃水を生ぜず、従って工業的規模での生
産に適し高純度、高収量で対称型フタリド系化合物を製
造する方法を得ることにある。
量のＣＯＤ含有廃水を生ぜず、従って工業的規模での生
産に適し高純度、高収量で対称型フタリド系化合物を製
造する方法を得ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】我々は近年の環境問題を
鑑み廃水中のＣＯＤ負荷量を低減する製造方法を鋭意研
究した結果、反応終了後の反応物に低級アルコールを混
合すると意外にも生成物の顕著な析出が起こり、これを
分離することで高負荷量のＣＯＤ源となる溶媒分解物等
を廃水として出す必要もなく生産でき、しかも、高純度
の製品を高収量で得ることが出来るという事を見い出し
た。
鑑み廃水中のＣＯＤ負荷量を低減する製造方法を鋭意研
究した結果、反応終了後の反応物に低級アルコールを混
合すると意外にも生成物の顕著な析出が起こり、これを
分離することで高負荷量のＣＯＤ源となる溶媒分解物等
を廃水として出す必要もなく生産でき、しかも、高純度
の製品を高収量で得ることが出来るという事を見い出し
た。
【０００９】
【発明の実施の形態】即ち、本発明は無水酢酸の存在下
一般式（I）で表される芳香族ジカルボン酸無水物と一
般式（II）で表されるアニリン系化合物、一般式（II
I）で表されるインドール系化合物又は一般式（IV）で
表されるエチレン系化合物とを反応させて一般式（VI
I）で表される対称型フタリド系化合物を製造する方法
において、反応物に低級アルコールを混合したのちに析
出物を分離することを特徴とする、一般式（VII）で表
される対称型フタリド系化合物の製造方法に関する。
一般式（I）で表される芳香族ジカルボン酸無水物と一
般式（II）で表されるアニリン系化合物、一般式（II
I）で表されるインドール系化合物又は一般式（IV）で
表されるエチレン系化合物とを反応させて一般式（VI
I）で表される対称型フタリド系化合物を製造する方法
において、反応物に低級アルコールを混合したのちに析
出物を分離することを特徴とする、一般式（VII）で表
される対称型フタリド系化合物の製造方法に関する。
【００１０】
【化１３】 （式中、Ｘ、Ｙは炭素原子又は窒素原子を示し、Ｒ1は
水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン
原子を示し、ｍは１〜４の整数を示す。）
水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン
原子を示し、ｍは１〜４の整数を示す。）
【００１１】
【化１４】 （式中、Ｒ2、Ｒ3は置換基を有しても良いアルキル基、
置換基を有しても良いフェニル基又はＲ2とＲ3が結合し
て窒素原子とともに形成する複素環を示す。Ｒ4は水素
原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｐは１〜４の整数を示す。）
置換基を有しても良いフェニル基又はＲ2とＲ3が結合し
て窒素原子とともに形成する複素環を示す。Ｒ4は水素
原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｐは１〜４の整数を示す。）
【００１２】
【化１５】 （式中、Ｒ5、Ｒ6は置換基を有しても良いアルキル基、
置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ7は水素原
子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を示し、ｑは１〜４の整数を示す。）
置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ7は水素原
子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を示し、ｑは１〜４の整数を示す。）
【００１３】
【化１６】 ｛式中、Ｒ8、Ｒ9は一般式（V）：
【００１４】
【化１７】 （式中、Ｒ10は水素原子、置換基を有しても良いアルキ
ル基、置換基を有しても良いフェニル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｘは１〜５の整数を示す。）で表されるフェニル基又
は、一般式（VI）：
ル基、置換基を有しても良いフェニル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｘは１〜５の整数を示す。）で表されるフェニル基又
は、一般式（VI）：
【００１５】
【化１８】 （式中、Ｒ11、Ｒ12は置換基を有しても良いアルキル基
又は置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ13は水
素原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子を示し、ｙは１〜４の整数を示
す。）で表されるインドリル基を示す。｝
又は置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ13は水
素原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子を示し、ｙは１〜４の整数を示
す。）で表されるインドリル基を示す。｝
【００１６】
【化１９】
【００１７】｛式中、Ａは、
【化２０】 （式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｐは式（II）に同じものを示
す。）、
す。）、
【００１８】
【化２１】 （式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ｑは式（III）に同じものを示
す。）
す。）
【００１９】または、
【化２２】 （式中、Ｒ8、Ｒ9は式（IV）に同じものを示す。）を示
し、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、ｍは式（I）に同じものを示す。｝
し、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、ｍは式（I）に同じものを示す。｝
【００２０】前記一般式（I）で表される芳香族ジカル
ボン酸無水物において、Ｘ、Ｙは炭素原子又は窒素原子
を示すが、具体的には一般式（I）は無水フタル酸、無
水キノリン酸、ピラジン−２，３−ジカルボン酸無水物
又はその置換体を示している。Ｒ1は水素原子、低級ア
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表すが、低
級アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、等。アルコキシ基としてはメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、等。ハロゲン
原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等が挙
げられる。具体例として例えば、無水フタル酸、４−メ
チル無水フタル酸、４−エチル無水フタル酸、４−メト
キシ無水フタル酸、４−クロロ無水フタル酸、４−ブロ
モ無水フタル酸、２，３，４，５−テトラクロロ無水フ
タル酸、無水キノリン酸、５−メチル無水キノリン酸、
５−ブロモ無水キノリン酸、ピラジン−２，３−ジカル
ボン酸無水物、５−メチルピラジン−２，３−ジカルボ
ン酸無水物、等が挙げられる。
ボン酸無水物において、Ｘ、Ｙは炭素原子又は窒素原子
を示すが、具体的には一般式（I）は無水フタル酸、無
水キノリン酸、ピラジン−２，３−ジカルボン酸無水物
又はその置換体を示している。Ｒ1は水素原子、低級ア
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表すが、低
級アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、等。アルコキシ基としてはメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、等。ハロゲン
原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等が挙
げられる。具体例として例えば、無水フタル酸、４−メ
チル無水フタル酸、４−エチル無水フタル酸、４−メト
キシ無水フタル酸、４−クロロ無水フタル酸、４−ブロ
モ無水フタル酸、２，３，４，５−テトラクロロ無水フ
タル酸、無水キノリン酸、５−メチル無水キノリン酸、
５−ブロモ無水キノリン酸、ピラジン−２，３−ジカル
ボン酸無水物、５−メチルピラジン−２，３−ジカルボ
ン酸無水物、等が挙げられる。
【００２１】前記一般式（II）のアニリン系化合物にお
いて、Ｒ2、Ｒ3は置換基を有しても良いアルキル基、置
換基を有しても良いフェニル基又はＲ2とＲ3が結合して
窒素原子とともに形成する複素環を表すが、置換基を有
しても良いアルキル基としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジ
ル基、等。置換基を有しても良いフェニル基としてはフ
ェニル基、トルイル基、等。窒素原子と形成してなる複
素環としてはピペリジノ基、ピペラジノ基、ピロリジノ
基、等が挙げられる。Ｒ4は水素原子、置換基を有して
も良いアルキル基、アルコキシ基、置換基を有するアミ
ノ基又はハロゲン原子を表すが、置換基を有しても良い
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等。
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基、等。置換基を有するアミノ基とし
てはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピル
アミノ基、エチルメチルアミノ基、アセチルアミノ基、
等。ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素
原子、等が挙げられる。具体例として例えば、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、
いて、Ｒ2、Ｒ3は置換基を有しても良いアルキル基、置
換基を有しても良いフェニル基又はＲ2とＲ3が結合して
窒素原子とともに形成する複素環を表すが、置換基を有
しても良いアルキル基としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジ
ル基、等。置換基を有しても良いフェニル基としてはフ
ェニル基、トルイル基、等。窒素原子と形成してなる複
素環としてはピペリジノ基、ピペラジノ基、ピロリジノ
基、等が挙げられる。Ｒ4は水素原子、置換基を有して
も良いアルキル基、アルコキシ基、置換基を有するアミ
ノ基又はハロゲン原子を表すが、置換基を有しても良い
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等。
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基、等。置換基を有するアミノ基とし
てはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピル
アミノ基、エチルメチルアミノ基、アセチルアミノ基、
等。ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素
原子、等が挙げられる。具体例として例えば、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、
【００２２】Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ−
ｎ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−アニシジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
−ｍ−フェネチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アニシジン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チル−ｍ−フェネチジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トル
イジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−
フェニレンジアミン、３−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、３−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、３−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアニリ
ン、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、３−ヘ
プトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、３−エトキシ−
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアニリン、Ｎ−エチル−Ｎ−
メトキシエチル−ｍ−フェネチジン、Ｎ−エチル−Ｎ−
エトキシメチル−ｍ−トルイジン、等が挙げられる。
ｎ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−アニシジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
−ｍ−フェネチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アニシジン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チル−ｍ−フェネチジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トル
イジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−
フェニレンジアミン、３−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、３−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、３−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアニリ
ン、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、３−ヘ
プトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、３−エトキシ−
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアニリン、Ｎ−エチル−Ｎ−
メトキシエチル−ｍ−フェネチジン、Ｎ−エチル−Ｎ−
エトキシメチル−ｍ−トルイジン、等が挙げられる。
【００２３】前記一般式（III）で表されるインドール
系化合物において、Ｒ5、Ｒ6は置換基を有しても良いア
ルキル基又は置換基を有しても良いフェニル基を表す
が、置換基を有しても良いアルキル基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オ
クチル基、ベンジル基、等。置換基を有しても良いフェ
ニル基としてはフェニル基、トルイル基、キシリル基、
等を示す。Ｒ7は水素原子、置換基を有しても良いアル
キル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表すが、アル
キル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等。アル
コキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、等。ハロゲン原子としては塩素原子、
臭素原子、フッ素原子、等が挙げられる。具体例として
例えば、１，２−ジメチルインドール、１−メチル−２
−フェニル−インドール、１−エチル−２−メチルイン
ドール、１−エチル−２−フェニルインドール、１−ブ
チル−２−メチルインドール、１−アミル−２−メチル
インドール、１−オクチル−２−メチルインドール、１
−オクチル−２−フェニルインドール、６−メチル−１
−エチル−２−メチルインドール、５−クロロ−１，２
−ジメチルインドール等が挙げられる。
系化合物において、Ｒ5、Ｒ6は置換基を有しても良いア
ルキル基又は置換基を有しても良いフェニル基を表す
が、置換基を有しても良いアルキル基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オ
クチル基、ベンジル基、等。置換基を有しても良いフェ
ニル基としてはフェニル基、トルイル基、キシリル基、
等を示す。Ｒ7は水素原子、置換基を有しても良いアル
キル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表すが、アル
キル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等。アル
コキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、等。ハロゲン原子としては塩素原子、
臭素原子、フッ素原子、等が挙げられる。具体例として
例えば、１，２−ジメチルインドール、１−メチル−２
−フェニル−インドール、１−エチル−２−メチルイン
ドール、１−エチル−２−フェニルインドール、１−ブ
チル−２−メチルインドール、１−アミル−２−メチル
インドール、１−オクチル−２−メチルインドール、１
−オクチル−２−フェニルインドール、６−メチル−１
−エチル−２−メチルインドール、５−クロロ−１，２
−ジメチルインドール等が挙げられる。
【００２４】前記一般式（IV）で表されるエチレン系化
合物において、Ｒ8、Ｒ9は前記一般式（V）または（V
I）を表すが、
合物において、Ｒ8、Ｒ9は前記一般式（V）または（V
I）を表すが、
【化２３】
【００２５】一般式（V）及び（VI）におけるＲ10，Ｒ
11，Ｒ12、Ｒ13が置換基を有しても良いアルキル基であ
る場合としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等が挙げ
られる。Ｒ10，Ｒ11，Ｒ12が置換基を有しても良いフェ
ニル基である場合としてはフェニル基、トルイル基、キ
シリル基、等が挙げられる。Ｒ10、Ｒ13がアルコキシ基
である場合としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、等。ハロゲン原子である場合として
は塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等が挙げられる。
Ｒ10が置換基を有するアミノ基である場合としてはジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ
基、エチルメチルアミノ基、アセチルアミノ基、等が挙
げられる。具体例として例えば、１，１−ビス（１−エ
チル−２−メチル−３−インドリル）エチレン、１，１
−ビス（４−メトキシフェニル）エチレン、１，１−ビ
ス（４−プロポキシフェニル）エチレン、１，１−ビス
（４−ジメチルアミノフェニル）エチレン、１，１−ビ
ス（４−ジエチルアミノフェニル）エチレン、１−（４
−ジエチルアミノフェニル）−１−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）エチレン、等が挙げられる。
11，Ｒ12、Ｒ13が置換基を有しても良いアルキル基であ
る場合としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ベンジル基、等が挙げ
られる。Ｒ10，Ｒ11，Ｒ12が置換基を有しても良いフェ
ニル基である場合としてはフェニル基、トルイル基、キ
シリル基、等が挙げられる。Ｒ10、Ｒ13がアルコキシ基
である場合としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、等。ハロゲン原子である場合として
は塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等が挙げられる。
Ｒ10が置換基を有するアミノ基である場合としてはジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ
基、エチルメチルアミノ基、アセチルアミノ基、等が挙
げられる。具体例として例えば、１，１−ビス（１−エ
チル−２−メチル−３−インドリル）エチレン、１，１
−ビス（４−メトキシフェニル）エチレン、１，１−ビ
ス（４−プロポキシフェニル）エチレン、１，１−ビス
（４−ジメチルアミノフェニル）エチレン、１，１−ビ
ス（４−ジエチルアミノフェニル）エチレン、１−（４
−ジエチルアミノフェニル）−１−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）エチレン、等が挙げられる。
【００２６】目的物である一般式（VII）で表される対
称型フタリド系化合物の具体例としては、例えば、３，
３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）フタ
リド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェ
ニル）フタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）フタリド、３，３−
ビス（１−エチル−２−メチル−３−インドリル）フタ
リド、３，３−ビス（１−ブチル−２−メチル−３−イ
ンドリル）フタリド、３，３−ビス（１−オクチル−２
−メチル−３−インドリル）フタリド、３，３−ビス
（１−エチル−２−フェニル−３−インドリル）フタリ
ド、３，３−ビス｛２，２−ビス［４−（１−ピロリジ
ノ）フェニル］エテニル｝−４，６，７−トリブロモ−
５−クロロフタリド、３，３−ビス｛２，２−ビス［４
−（１−ピロリジノ）フェニル］エテニル｝−４，５，
６，７−テトラブロモフタリド、３，３−ビス｛［２−
（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−メトキシ
フェニル）］エテニル｝−６−クロロフタリド、
称型フタリド系化合物の具体例としては、例えば、３，
３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）フタ
リド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェ
ニル）フタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）フタリド、３，３−
ビス（１−エチル−２−メチル−３−インドリル）フタ
リド、３，３−ビス（１−ブチル−２−メチル−３−イ
ンドリル）フタリド、３，３−ビス（１−オクチル−２
−メチル−３−インドリル）フタリド、３，３−ビス
（１−エチル−２−フェニル−３−インドリル）フタリ
ド、３，３−ビス｛２，２−ビス［４−（１−ピロリジ
ノ）フェニル］エテニル｝−４，６，７−トリブロモ−
５−クロロフタリド、３，３−ビス｛２，２−ビス［４
−（１−ピロリジノ）フェニル］エテニル｝−４，５，
６，７−テトラブロモフタリド、３，３−ビス｛［２−
（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−メトキシ
フェニル）］エテニル｝−６−クロロフタリド、
【００２７】３，３−ビス［２，２−ビス（１−エチル
−２−メチル−３−インドリル）エテニル］−４，５，
６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス［２，２
−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メチル−３−インドリ
ル）エテニル］−４，５，６，７−テトラクロロフタリ
ド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−
ジブチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３
−ビス［４−ジ−Ｎ，Ｎ−（４−メトキシフェニル）ア
ミノフェニル］−４−アザフタリド、３，３−ビス［４
−（１−ジピロリノ）フェニル］−４−アザフタリド、
３，３−ビス（２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノフェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−
アセチルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−アセトキ
シ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４−アザ
フタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３
−ビス（２−ブトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフ
ェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−メト
キシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−６−エ
チル−４−アザフタリド、３，３−ビス［２−ブトキシ
−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニル）アミノフェニル］
−４−アザフタリド、
−２−メチル−３−インドリル）エテニル］−４，５，
６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス［２，２
−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メチル−３−インドリ
ル）エテニル］−４，５，６，７−テトラクロロフタリ
ド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−
ジブチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３
−ビス［４−ジ−Ｎ，Ｎ−（４−メトキシフェニル）ア
ミノフェニル］−４−アザフタリド、３，３−ビス［４
−（１−ジピロリノ）フェニル］−４−アザフタリド、
３，３−ビス（２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノフェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−
アセチルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−アセトキ
シ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４−アザ
フタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３
−ビス（２−ブトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフ
ェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（２−メト
キシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−６−エ
チル−４−アザフタリド、３，３−ビス［２−ブトキシ
−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニル）アミノフェニル］
−４−アザフタリド、
【００２８】３，３−ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ
−ジプロピルアミノフェニル）−４−アザフタリド、
３，３−ビス（１−エチル−２−メチル−３−インドリ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−ブチル−
２−メチル−３−インドリル）−４−アザフタリド、
３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル−３−インド
リル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−エチル
−２−フェニル−３−インドリル）−４−アザフタリ
ド、３，３−ビス［２，２−ビス（４−ジメチルアミノ
フェニル）エテニル］−４−アザフタリド、３，３−ビ
ス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４，７−
ジアザフタリド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジプロピ
ルアミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３
−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル）−４，
７−ジアザフタリド、３，３−ビス−（４−ジピロリジ
ルフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス
（２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）
−４，７−ジアザフタリド、
−ジプロピルアミノフェニル）−４−アザフタリド、
３，３−ビス（１−エチル−２−メチル−３−インドリ
ル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−ブチル−
２−メチル−３−インドリル）−４−アザフタリド、
３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル−３−インド
リル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−エチル
−２−フェニル−３−インドリル）−４−アザフタリ
ド、３，３−ビス［２，２−ビス（４−ジメチルアミノ
フェニル）エテニル］−４−アザフタリド、３，３−ビ
ス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４，７−
ジアザフタリド、３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジプロピ
ルアミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３
−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル）−４，
７−ジアザフタリド、３，３−ビス−（４−ジピロリジ
ルフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス
（２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）
−４，７−ジアザフタリド、
【００２９】３，３−ビス（２−アセチルアミノ−４−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４，７−ジアザフ
タリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、
３，３−ビス（２−ブトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビ
ス［２−ブトキシ−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニル）
アミノフェニル］−４，７−ジアザフタリド、３，３−
ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェ
ニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス（１−
ブチル−２−メチル−３−インドリル）−４，７−ジア
ザフタリド、３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル
−３−インドリル）−４，７−ジアザフタリド、３，３
−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−メチル−３−
インドリル）エテニル］−４，７−ジアザフタリド、
３，３−ビス［２，２−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メ
チル−３−インドリル）エテニル］−４，７−ジアザフ
タリド、等が挙げられるが４−アザフタリド化合物の製
造時には同時に異性体である７−アザフタリド化合物も
生成する。
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−４，７−ジアザフ
タリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、
３，３−ビス（２−ブトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノフェニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビ
ス［２−ブトキシ−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニル）
アミノフェニル］−４，７−ジアザフタリド、３，３−
ビス（２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェ
ニル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス（１−
ブチル−２−メチル−３−インドリル）−４，７−ジア
ザフタリド、３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル
−３−インドリル）−４，７−ジアザフタリド、３，３
−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−メチル−３−
インドリル）エテニル］−４，７−ジアザフタリド、
３，３−ビス［２，２−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メ
チル−３−インドリル）エテニル］−４，７−ジアザフ
タリド、等が挙げられるが４−アザフタリド化合物の製
造時には同時に異性体である７−アザフタリド化合物も
生成する。
【００３０】本発明の製造方法において、前記一般式
（I）で表される芳香族ジカルボン酸無水物と前記一般
式（II）、（III）、（IV）で表される化合物の何れか
を無水酢酸中で反応させて前記一般式（VII）の対称型
フタリド系合物を製造するが、一般式（I）で表される
化合物と一般式（II）、（III）、（IV）で表される化
合物との使用割合は、一般式（I）の化合物に対して一
般式（II）、（III）又は（IV）の化合物を１.５倍モル
量以上好ましくは２.０〜４.０倍モル量使用するのが良
い。
（I）で表される芳香族ジカルボン酸無水物と前記一般
式（II）、（III）、（IV）で表される化合物の何れか
を無水酢酸中で反応させて前記一般式（VII）の対称型
フタリド系合物を製造するが、一般式（I）で表される
化合物と一般式（II）、（III）、（IV）で表される化
合物との使用割合は、一般式（I）の化合物に対して一
般式（II）、（III）又は（IV）の化合物を１.５倍モル
量以上好ましくは２.０〜４.０倍モル量使用するのが良
い。
【００３１】無水酢酸は脱水剤兼反応溶媒として用いる
が、その使用量は一般式（I）で表される化合物の等モ
ル量以上で好ましくは１.５〜４.０倍モル量使用するの
が良い。
が、その使用量は一般式（I）で表される化合物の等モ
ル量以上で好ましくは１.５〜４.０倍モル量使用するの
が良い。
【００３２】反応温度は３０℃以上で好ましくは４０〜
９５℃である。反応温度が３０℃より低いと反応の完結
迄に長時間を要し９５℃より高いと副生成物が増加して
収量が低下する傾向にある。
９５℃である。反応温度が３０℃より低いと反応の完結
迄に長時間を要し９５℃より高いと副生成物が増加して
収量が低下する傾向にある。
【００３３】反応時間は反応温度に依存するが、一般的
には５〜６０時間で好ましくは１０〜４５時間である。
反応時間が５時間より短いと反応が完結しない場合があ
り６０時間より長いと副生成物が増加する傾向がある。
には５〜６０時間で好ましくは１０〜４５時間である。
反応時間が５時間より短いと反応が完結しない場合があ
り６０時間より長いと副生成物が増加する傾向がある。
【００３４】反応終了後反応物に低級アルコールを混合
することにより、前記一般式（VII）で表される対称型
フタリド系化合物が析出してくるが、低級アルコールの
混合前に反応物から常圧下又は減圧下で無水酢酸及び生
成した酢酸を濃縮回収した後に低級アルコールを混合す
る方が低級アルコールの使用量を減らすことが出来るの
で好ましい。
することにより、前記一般式（VII）で表される対称型
フタリド系化合物が析出してくるが、低級アルコールの
混合前に反応物から常圧下又は減圧下で無水酢酸及び生
成した酢酸を濃縮回収した後に低級アルコールを混合す
る方が低級アルコールの使用量を減らすことが出来るの
で好ましい。
【００３５】反応物に混合出来る低級アルコールとして
は炭素数１〜４のアルコール類が使用でき、具体例とし
て例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
等が挙げられるがメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールが経済性や製品の収量が高い点で好まし
い。
は炭素数１〜４のアルコール類が使用でき、具体例とし
て例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
等が挙げられるがメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールが経済性や製品の収量が高い点で好まし
い。
【００３６】なお、炭素数５以上のアルコール類、例え
ばｎ−ペンタノール等も本発明の方法において使用可能
であるが製品の収量を低下する傾向があり好ましくな
い。
ばｎ−ペンタノール等も本発明の方法において使用可能
であるが製品の収量を低下する傾向があり好ましくな
い。
【００３７】低級アルコールの使用量は、使用した無水
酢酸の等倍容量〜１０倍容量であり、好ましくは２〜５
倍容量である。使用量が等倍容量より少ないと濾過によ
る分離等の操作が行い難く、１０倍容量より多く使用し
ても特に利点は見あたらない。
酢酸の等倍容量〜１０倍容量であり、好ましくは２〜５
倍容量である。使用量が等倍容量より少ないと濾過によ
る分離等の操作が行い難く、１０倍容量より多く使用し
ても特に利点は見あたらない。
【００３８】低級アルコールを混合したのち１時間程度
加熱撹拌することで不純物が効率よく除かれ、放冷によ
り析出している一般式（VII）の対称型フタリド系化合
物を濾過等の操作で分離し得る。
加熱撹拌することで不純物が効率よく除かれ、放冷によ
り析出している一般式（VII）の対称型フタリド系化合
物を濾過等の操作で分離し得る。
【００３９】得られた製品はこのままでも十分に使用し
得る純度を有しているがより高純度の製品にするため、
水と水に不溶性の有機溶媒で更に精製しても良い。
得る純度を有しているがより高純度の製品にするため、
水と水に不溶性の有機溶媒で更に精製しても良い。
【００４０】水に不溶性の有機溶媒として、ベンゼン、
トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、ブロムナフタレン等の芳香族
系有機溶媒が使用できるが、トルエンが好ましく使用さ
れる。
トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、ブロムナフタレン等の芳香族
系有機溶媒が使用できるが、トルエンが好ましく使用さ
れる。
【００４１】精製法として好ましい方法は以下のように
例示出来る。即ち、得られた一般式（VII）の対称型フ
タリド系化合物を有機溶媒及び水に混合し加熱下に有機
溶媒中に溶解させる。この場合、水の代わりにアルカリ
水を使用すると精製効率がより高くなり好ましく、アル
カリ水としては、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ等
の水溶液が使用できる。加熱温度は６０〜９５℃で好ま
しくは７０℃〜還流温度であり、加熱時間は０.１〜３
時間が好ましい。溶解後有機層を水層から分離し、湯洗
後、有機層を濃縮する事で精製された対称型フタリド系
化合物が析出してくるが、これに低級アルコールを混合
し分散後濾過により高純度の製品を収量良く取り出すこ
とが出来る。この有機層の濃縮液に混合する低級アルコ
ール類の具体例として例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、等が挙げられる。
例示出来る。即ち、得られた一般式（VII）の対称型フ
タリド系化合物を有機溶媒及び水に混合し加熱下に有機
溶媒中に溶解させる。この場合、水の代わりにアルカリ
水を使用すると精製効率がより高くなり好ましく、アル
カリ水としては、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ等
の水溶液が使用できる。加熱温度は６０〜９５℃で好ま
しくは７０℃〜還流温度であり、加熱時間は０.１〜３
時間が好ましい。溶解後有機層を水層から分離し、湯洗
後、有機層を濃縮する事で精製された対称型フタリド系
化合物が析出してくるが、これに低級アルコールを混合
し分散後濾過により高純度の製品を収量良く取り出すこ
とが出来る。この有機層の濃縮液に混合する低級アルコ
ール類の具体例として例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、等が挙げられる。
【００４２】本発明の方法により、一般式（I）の芳香
族ジカルボン酸無水物と一般式（II）、（III）、（IV）
のアニリン系、インドール系、エチレン系化合物の何れ
かを無水酢酸中で反応して得た反応物に低級アルコール
を混合し、析出してきた一般式（VII）の対称型フタリ
ド系化合物を分離することで無水酢酸及び副生物は低級
アルコールに溶解して除かれるため、従来の製造方法の
ような高負荷量のＣＯＤ含有廃水は生ずる事がなく、ま
た、精製工程でも既に大部分の高負荷量のＣＯＤ源は低
級アルコールで除かれているために洗浄水等で出る廃水
中に含まれるＣＯＤ負荷量は非常に少なくなっている。
また、本発明の方法で発生する無水酢酸等を含んだ低級
アルコール濾液は焼却するか分溜等でアルコール等の有
効成分を回収したのち残渣を焼却等の処理を行うことで
環境への流出を防ぐことが出来る。
族ジカルボン酸無水物と一般式（II）、（III）、（IV）
のアニリン系、インドール系、エチレン系化合物の何れ
かを無水酢酸中で反応して得た反応物に低級アルコール
を混合し、析出してきた一般式（VII）の対称型フタリ
ド系化合物を分離することで無水酢酸及び副生物は低級
アルコールに溶解して除かれるため、従来の製造方法の
ような高負荷量のＣＯＤ含有廃水は生ずる事がなく、ま
た、精製工程でも既に大部分の高負荷量のＣＯＤ源は低
級アルコールで除かれているために洗浄水等で出る廃水
中に含まれるＣＯＤ負荷量は非常に少なくなっている。
また、本発明の方法で発生する無水酢酸等を含んだ低級
アルコール濾液は焼却するか分溜等でアルコール等の有
効成分を回収したのち残渣を焼却等の処理を行うことで
環境への流出を防ぐことが出来る。
【００４３】
【実施例】実施例により本発明をさらに具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるもの
ではない。
るが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるもの
ではない。
【００４４】実施例１ １−オクチル−２−メチルインド−ル１２５．０ｇと無
水フタル酸３５．０ｇを無水酢酸１００．０ｇ中で撹拌
下７０〜８０℃で４０時間反応した。反応終了後反応物
にメタノール２００ｍｌを混合し１時間加熱還流した。
２０℃に冷却し２時間撹拌したのち析出物を濾過し、メ
タノール５０mlで２回洗浄後乾燥した。収量は１２１．
２ｇ（８３．１％）で純度は９８．７％であった。この
物をトルエン５００ｍｌ、水１００ｍｌ、苛性ソーダ２
ｇとともに８０℃で１時間撹拌溶解し、トルエン層を分
取し中性まで湯洗したのち４５０ｍｌのトルエンを濃縮
溜去した。濃縮残渣にメタノールを５００ｍｌ混合し１
時間加熱還流したのち２０℃に冷却し２時間撹拌した。
析出物を濾過しメタノール５０ｍｌで２回洗浄し、乾燥
により黄白色の３，３−ビス（１−オクチル−２−メチ
ル−３−インドリル）フタリドを１１８．７ｇ（収率８
１．４％）得た。純度は、９９．２％であった。この操
作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（トルエン層を分離した
後の水層のＣＯＤ値）は３５０ｐｐｍであり、全廃水の
総ＣＯＤ負荷量は０．０４ｇであった。
水フタル酸３５．０ｇを無水酢酸１００．０ｇ中で撹拌
下７０〜８０℃で４０時間反応した。反応終了後反応物
にメタノール２００ｍｌを混合し１時間加熱還流した。
２０℃に冷却し２時間撹拌したのち析出物を濾過し、メ
タノール５０mlで２回洗浄後乾燥した。収量は１２１．
２ｇ（８３．１％）で純度は９８．７％であった。この
物をトルエン５００ｍｌ、水１００ｍｌ、苛性ソーダ２
ｇとともに８０℃で１時間撹拌溶解し、トルエン層を分
取し中性まで湯洗したのち４５０ｍｌのトルエンを濃縮
溜去した。濃縮残渣にメタノールを５００ｍｌ混合し１
時間加熱還流したのち２０℃に冷却し２時間撹拌した。
析出物を濾過しメタノール５０ｍｌで２回洗浄し、乾燥
により黄白色の３，３−ビス（１−オクチル−２−メチ
ル−３−インドリル）フタリドを１１８．７ｇ（収率８
１．４％）得た。純度は、９９．２％であった。この操
作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（トルエン層を分離した
後の水層のＣＯＤ値）は３５０ｐｐｍであり、全廃水の
総ＣＯＤ負荷量は０．０４ｇであった。
【００４５】比較例１ 実施例１の反応で、反応終了後のメタノールの混合に代
えて反応物を２０％苛性ソーダ水５００ｍｌに排出し
た。排出液にトルエン７００ｍｌを加え撹拌下に８０℃
で３時間加熱し無水酢酸を分解した。トルエン層を分取
し中性まで湯洗した後６２０ｍｌのトルエンを濃縮溜去
した。濃縮残渣にメタノールを７００ｍｌ混合し１時間
加熱還流したのち２０℃に冷却し２時間撹拌した。析出
物を濾過しメタノール５０ｍｌで２回洗浄し、乾燥によ
り黄白色の３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル−
３−インドリル）フタリドを１１９．２ｇ（収率８１．
９％）得た。高速液体クロマトグラフィーによる純度
は、９８．３％であった。
えて反応物を２０％苛性ソーダ水５００ｍｌに排出し
た。排出液にトルエン７００ｍｌを加え撹拌下に８０℃
で３時間加熱し無水酢酸を分解した。トルエン層を分取
し中性まで湯洗した後６２０ｍｌのトルエンを濃縮溜去
した。濃縮残渣にメタノールを７００ｍｌ混合し１時間
加熱還流したのち２０℃に冷却し２時間撹拌した。析出
物を濾過しメタノール５０ｍｌで２回洗浄し、乾燥によ
り黄白色の３，３−ビス（１−オクチル−２−メチル−
３−インドリル）フタリドを１１９．２ｇ（収率８１．
９％）得た。高速液体クロマトグラフィーによる純度
は、９８．３％であった。
【００４６】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は２７６００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は７．１４ｇで
あった。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は２７６００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は７．１４ｇで
あった。
【００４７】実施例２ １，１−ビス（１−エチル−２−フェニル−３−インド
リル）エチレン１０３．０ｇと３，４，５，６−テトラ
クロロ無水フタル酸３５．０ｇを無水酢酸１５０．０ｇ
中で撹拌下８０〜９０℃で２０時間反応したのち反応物
にメタノール２００ｍｌを混合し１時間加熱還流した。
２０℃に冷却し１時間撹拌したのち析出物を濾過しメタ
ノール５０mlで２回洗浄したのち乾燥した。収量は１０
５．２ｇ（８３．５％）で純度は９８．４％であった。
精製は、トルエン１０００ｍｌ、水２００ｍｌ、苛性ソ
ーダ２ｇを使用し実施例１と同様の方法で行い、黄白色
の３，３−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−フェ
ニル−３−インドリル）エテニル］−４，５，６，７−
テトラクロロフタリドを１００．８ｇ（収率８０．０
％）得た。純度は、９９．０％であった。
リル）エチレン１０３．０ｇと３，４，５，６−テトラ
クロロ無水フタル酸３５．０ｇを無水酢酸１５０．０ｇ
中で撹拌下８０〜９０℃で２０時間反応したのち反応物
にメタノール２００ｍｌを混合し１時間加熱還流した。
２０℃に冷却し１時間撹拌したのち析出物を濾過しメタ
ノール５０mlで２回洗浄したのち乾燥した。収量は１０
５．２ｇ（８３．５％）で純度は９８．４％であった。
精製は、トルエン１０００ｍｌ、水２００ｍｌ、苛性ソ
ーダ２ｇを使用し実施例１と同様の方法で行い、黄白色
の３，３−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−フェ
ニル−３−インドリル）エテニル］−４，５，６，７−
テトラクロロフタリドを１００．８ｇ（収率８０．０
％）得た。純度は、９９．０％であった。
【００４８】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は２８０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０６ｇであっ
た。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は２８０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０６ｇであっ
た。
【００４９】比較例２ 実施例２の反応で、反応終了後のメタノール添加に代え
て反応物を２０％苛性ソーダ水３００ｍｌに排出した。
排出液にトルエン１０００ｍｌを加え無水酢酸を加熱分
解したのち、比較例１と同様の方法で精製を行い、淡黄
色の３，３−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−フ
ェニル−３−インドリル）エテニル］−４，５，６，７
−テトラクロロフタリドを１０２．６ｇ（収率８１．４
％）得た。純度は、９７．５％であった。
て反応物を２０％苛性ソーダ水３００ｍｌに排出した。
排出液にトルエン１０００ｍｌを加え無水酢酸を加熱分
解したのち、比較例１と同様の方法で精製を行い、淡黄
色の３，３−ビス［２，２−ビス（１−エチル−２−フ
ェニル−３−インドリル）エテニル］−４，５，６，７
−テトラクロロフタリドを１０２．６ｇ（収率８１．４
％）得た。純度は、９７．５％であった。
【００５０】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は１８９００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は６．２１ｇで
あった。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は１８９００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は６．２１ｇで
あった。
【００５１】実施例３ Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−フェネチジン９６．０ｇと無水
キノリン酸３５．０ｇを無水酢酸１００．０ｇ中で撹拌
下、６０〜６５℃で４０時間反応した。反応終了後反応
物にメタノール１５０ｍｌを混合し２時間加熱還流し
た。２０℃に冷却し２時間撹拌したのち析出物を濾過し
メタノール３０mlで２回洗浄し乾燥し、実施例１と同様
な方法で精製を行った。白色の３，３−ビス（４−Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−４−ア
ザフタリドの結晶を６０．６ｇ（収率４９．９％）を得
た。純度は、９９．１％であった。
キノリン酸３５．０ｇを無水酢酸１００．０ｇ中で撹拌
下、６０〜６５℃で４０時間反応した。反応終了後反応
物にメタノール１５０ｍｌを混合し２時間加熱還流し
た。２０℃に冷却し２時間撹拌したのち析出物を濾過し
メタノール３０mlで２回洗浄し乾燥し、実施例１と同様
な方法で精製を行った。白色の３，３−ビス（４−Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−４−ア
ザフタリドの結晶を６０．６ｇ（収率４９．９％）を得
た。純度は、９９．１％であった。
【００５２】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は６４０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０７ｇであっ
た。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は６４０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０７ｇであっ
た。
【００５３】比較例３ 実施例３の反応で、反応終了後のメタノール添加に代え
て反応物を２０％苛性ソーダ水３００ｍｌに排出した。
排出液にトルエン５００ｍｌを加え、撹拌下に無水酢酸
を加熱分解したのち、比較例１と同様の方法で精製を行
った。黄白色の３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノ−２−エトキシフェニル）−４−アザフタリド５
９．７ｇ（収率４９．３％）得た。純度は９８．１％で
あった。
て反応物を２０％苛性ソーダ水３００ｍｌに排出した。
排出液にトルエン５００ｍｌを加え、撹拌下に無水酢酸
を加熱分解したのち、比較例１と同様の方法で精製を行
った。黄白色の３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノ−２−エトキシフェニル）−４−アザフタリド５
９．７ｇ（収率４９．３％）得た。純度は９８．１％で
あった。
【００５４】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は３７６００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は１１．５ｇで
あった。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は３７６００
ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は１１．５ｇで
あった。
【００５５】実施例４ Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルイジン８０．０ｇとピラジ
ン−２，３−ジカルボン酸無水物３５．０ｇを無水酢酸
１００．０ｇ中で撹拌下、５０〜５５℃で４０時間反応
した。反応後反応物にメタノール２００ｍｌを添加し１
時間加熱還流した。２０℃に冷却し３時間撹拌したのち
析出物を濾過しメタノール２０mlで２回洗浄し乾燥し実
施例１と同様な方法で精製を行った。淡灰白色の３，３
−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェ
ニル）−４，７−ジアザフタリドの結晶を８４．５ｇ
（収率７９．０％）を得た。高速液体クロマトグラフィ
ーによる純度は、９９．０％であった。
ン−２，３−ジカルボン酸無水物３５．０ｇを無水酢酸
１００．０ｇ中で撹拌下、５０〜５５℃で４０時間反応
した。反応後反応物にメタノール２００ｍｌを添加し１
時間加熱還流した。２０℃に冷却し３時間撹拌したのち
析出物を濾過しメタノール２０mlで２回洗浄し乾燥し実
施例１と同様な方法で精製を行った。淡灰白色の３，３
−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェ
ニル）−４，７−ジアザフタリドの結晶を８４．５ｇ
（収率７９．０％）を得た。高速液体クロマトグラフィ
ーによる純度は、９９．０％であった。
【００５６】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は７２０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０８ｇであっ
た。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は７２０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０８ｇであっ
た。
【００５７】比較例４ 実施例４の反応で、反応終了後のメタノール添加に代え
て反応物を２０％希苛性ソーダ水３００ｍｌに排出し
た。排出液にトルエン５００ｍｌを加え、撹拌下に２時
間９０℃に加熱し無水酢酸を分解したのち、比較例１と
同様の方法で精製を行った。淡灰白色の３，３−ビス
（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）
−４，７−ジアザフタリドの結晶を８３．４ｇ（収率７
８．０％）得た。純度は９７．９％であった。
て反応物を２０％希苛性ソーダ水３００ｍｌに排出し
た。排出液にトルエン５００ｍｌを加え、撹拌下に２時
間９０℃に加熱し無水酢酸を分解したのち、比較例１と
同様の方法で精製を行った。淡灰白色の３，３−ビス
（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）
−４，７−ジアザフタリドの結晶を８３．４ｇ（収率７
８．０％）得た。純度は９７．９％であった。
【００５８】この操作で生じた廃水のＣＯＤ値は最高で
３６３００ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は１
１．９ｇであった。
３６３００ｐｐｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は１
１．９ｇであった。
【００５９】実施例５ 実施例３において、反応終了後反応物を６０ｍｍＨｇの
減圧にして生成した酢酸と無水酢酸の混合物を５０ｇ回
収したのち、濃縮物にメタノール１００ｍｌを混合した
以外は実施例３と同様の方法で精製まで行った。微黄色
の３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−エ
トキシフェニル）−４−アザフタリドの結晶を６４．３
ｇ（収率５２．９％）得た。純度は９８．９％であっ
た。
減圧にして生成した酢酸と無水酢酸の混合物を５０ｇ回
収したのち、濃縮物にメタノール１００ｍｌを混合した
以外は実施例３と同様の方法で精製まで行った。微黄色
の３，３−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−エ
トキシフェニル）−４−アザフタリドの結晶を６４．３
ｇ（収率５２．９％）得た。純度は９８．９％であっ
た。
【００６０】この操作で生じた廃水の最高ＣＯＤ値（ト
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は７２０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０９ｇであっ
た。
ルエン層を分離した後の水層のＣＯＤ値）は７２０ｐｐ
ｍであり、全廃水の総ＣＯＤ負荷量は０.０９ｇであっ
た。
【００６１】
【発明の効果】本発明の製造方法により、高純度の対称
型のフタリド系化合物を高負荷量のＣＯＤ含有廃水を発
生することなく効率良く製造する事ができる。
型のフタリド系化合物を高負荷量のＣＯＤ含有廃水を発
生することなく効率良く製造する事ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｂ 11/14 Ｃ０９Ｂ 11/14 11/26 11/26 Ｆ 57/00 57/00 Ｃ (72)発明者 原田 裕昭 大阪府八尾市弓削町南１丁目43番地 山本 化成株式会社内 (72)発明者 岩崎 泰久 大阪府八尾市弓削町南１丁目43番地 山本 化成株式会社内 Ｆターム(参考） 4C037 RA03 4C063 AA03 BB01 CC76 DD06 EE05 4H056 BA02 BB01 BB14 BB16 BC08 BF26F BF28F BF38F CA02 CA05 CB02 CC02 CE02 CE03 CE06 DD03 EA14 FA03 FA04
Claims (3)
- 【請求項１】 無水酢酸の存在下一般式（I）で表され
る芳香族ジカルボン酸無水物と一般式（II）で表される
アニリン系化合物、一般式（III）で表されるインドー
ル系化合物又は一般式（IV）で表されるエチレン系化合
物とを反応させ一般式（VII）で表される対称型フタリ
ド系化合物を製造する方法において、反応物に低級アル
コールを混合したのち析出物を分離することを特徴とす
る一般式（VII）で表される対称型フタリド系化合物の
製造方法。 【化１】 （式中、Ｘ、Ｙは炭素原子又は窒素原子を示し、Ｒ1は
水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン
原子を示し、ｍは１〜４の整数を示す。） 【化２】 （式中、Ｒ2、Ｒ3は置換基を有しても良いアルキル基、
置換基を有しても良いフェニル基又はＲ2とＲ3が結合し
て窒素原子とともに形成する複素環を示す。Ｒ4は水素
原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｐは１〜４の整数を示す。） 【化３】 （式中、Ｒ5、Ｒ6は置換基を有しても良いアルキル基、
置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ7は水素原
子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を示し、ｑは１〜４の整数を示す。） 【化４】 ｛式中、Ｒ8、Ｒ9は一般式（V）： 【化５】 （式中、Ｒ10は水素原子、置換基を有しても良いアルキ
ル基、置換基を有しても良いフェニル基、アルコキシ
基、置換基を有するアミノ基又はハロゲン原子を示し、
ｘは１〜５の整数を示す。）で表されるフェニル基又
は、一般式（VI）： 【化６】 （式中、Ｒ11、Ｒ12は置換基を有しても良いアルキル基
又は置換基を有しても良いフェニル基を示し、Ｒ13は水
素原子、置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子を示し、ｙは１〜４の整数を示
す。）で表されるインドリル基を示す。｝ 【化７】 ｛式中、Ａは、 【化８】 （式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｐは式（II）に同じものを示
す。）、 【化９】 （式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ｑは式（III）に同じものを示
す。）または、 【化１０】 （式中、Ｒ8、Ｒ9は式（IV）に同じものを示す。）を示
し、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、ｍは式（I）に同じものを示す。｝ - 【請求項２】 低級アルコールがメタノール、エタノー
ル又はイソプロピルアルコールである請求項１の製造方
法。 - 【請求項３】 分離した一般式（VII）の対称型フタリ
ド系化合物を、更に水と水に不溶性の有機溶媒で精製す
る請求項１又は２の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10296019A JP2000109718A (ja) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | 対称型フタリド系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10296019A JP2000109718A (ja) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | 対称型フタリド系化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000109718A true JP2000109718A (ja) | 2000-04-18 |
Family
ID=17828076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10296019A Pending JP2000109718A (ja) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | 対称型フタリド系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000109718A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369977C (zh) * | 2005-02-06 | 2008-02-20 | 东北大学 | 含不饱和碳链系列热致变色材料及制造方法 |
-
1998
- 1998-10-01 JP JP10296019A patent/JP2000109718A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369977C (zh) * | 2005-02-06 | 2008-02-20 | 东北大学 | 含不饱和碳链系列热致变色材料及制造方法 |
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