JP2000093866A - Method and device for paste coating - Google Patents

Method and device for paste coating

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JP2000093866A
JP2000093866A JP10265184A JP26518498A JP2000093866A JP 2000093866 A JP2000093866 A JP 2000093866A JP 10265184 A JP10265184 A JP 10265184A JP 26518498 A JP26518498 A JP 26518498A JP 2000093866 A JP2000093866 A JP 2000093866A
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paste
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    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate the rapid adjustment of the coating quantity of paste to form a paste pattern having a desired shape with high precision. SOLUTION: While changing the relative position relation of a nozzle 13a and an actual substrate 22, by discharging paste 23 from a discharge port of the nozzle 13a, a desired paste pattern is formed on the surface of an actual substrate 22. In this case, when the nozzle 13a reaches a position on the actual substrate 22 determined as a change point in advance, the distance for the surface of the actual substrate 22 to the paste discharge port of the nozzle 13a, that is, the coating height is changed from a coating height 1 to a coating height 2 set in advance, and accordingly, paste discharge from the nozzle 13a is changed. In this way, coating paste thickness can be changed more quickly than changing of pressure applied to a paste housing cylinder provided with the nozzle 13a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ノズルの吐出口に
対向するように基板をテ−ブル上に載置し、基板の主面
に垂直な方向での該ノズルと該基板との間に任意(所
望)の距離を持たせ、ペースト収納筒に充填されたペー
ストを該吐出口から該基板上に吐出させながら、該基板
と該ノズルの主面と平行な方向における相対位置関係を
変化させ、該基板上に所望形状のペーストパタ−ンを塗
布するペースト塗布方法とペースト塗布機に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method in which a substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate. An arbitrary (desired) distance is provided to change the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the nozzle while discharging the paste filled in the paste container from the discharge port onto the substrate. The present invention relates to a paste applying method and a paste applying machine for applying a paste pattern of a desired shape on the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のペースト塗布機では、塗布量を調
節するために、収納筒に充填したペーストをノズルから
基板上に吐出させながら、基板の主面に垂直な方向での
該ノズルと該基板の相対距離が基板主面のうねりに係わ
らず所定(所望の値)に維持するように調節し、ノズル
と基板との間の相対移動速度、即ち、ペーストパターン
を塗布するときの速度(以下、塗布速度という)の調整
や、ノズルからのペースト吐出量を決めるペースト収納
筒に印加される圧力(以下、塗布圧力という)の調整に
より、塗布量の調節を行なっている。
2. Description of the Related Art In a conventional paste coating machine, in order to adjust a coating amount, a paste filled in a storage cylinder is discharged from a nozzle onto a substrate, and the nozzle and the nozzle in a direction perpendicular to the main surface of the substrate are discharged. The relative distance between the substrates is adjusted to maintain a predetermined (desired value) irrespective of the undulation of the main surface of the substrate, and the relative moving speed between the nozzle and the substrate, that is, the speed at which the paste pattern is applied (hereinafter, referred to as the speed) The application amount is adjusted by adjusting the application speed (hereinafter referred to as “application speed”) and the pressure applied to the paste storage cylinder (hereinafter referred to as “application pressure”) that determines the amount of paste discharged from the nozzle.

【0003】例えば、塗布速度が一定の場合、ペースト
の吐出量を増やすときには、塗布圧力を増大させる。逆
に、ペーストの吐出量を減らすときには、塗布圧力を減
少させることによって吐出量の調整が可能である。ま
た、塗布圧力一定の場合、ペーストの吐出量を増やすと
きには、塗布速度を低速にする。逆に、ペーストの吐出
量を減らすときには、塗布速度を高速にすることによっ
て吐出量の調整を行なっている。
For example, when the application speed is constant, when increasing the amount of paste discharged, the application pressure is increased. Conversely, when reducing the discharge amount of the paste, the discharge amount can be adjusted by reducing the application pressure. In addition, when the application pressure is constant, when increasing the amount of paste discharged, the application speed is reduced. Conversely, when reducing the discharge amount of the paste, the discharge amount is adjusted by increasing the application speed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のペースト塗布機
においては、基板の主面に垂直な方向でのノズルと基板
の相対距離が、基板主面のうねりにかかわらず、所定に
維持するように調節することを前提にして、塗布圧力や
塗布速度を調整することによって塗布量の調節を行なっ
ている。
In a conventional paste coater, the relative distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate is maintained so as to be constant regardless of the undulation of the main surface of the substrate. On the premise of adjustment, the application amount is adjusted by adjusting the application pressure and the application speed.

【0005】塗布圧力によってペースト塗布量の調整を
行おうとすると、塗布圧力の調整結果がペースト収納筒
を通ってノズル先端からの吐出量に反映されるまでの伝
播時間を要し、その間にも、ペーストパターン塗布動作
は、塗布速度に応じた分だけ進行する。このため、急峻
な塗布量調節が困難であった。
[0005] When the paste application amount is adjusted by the application pressure, it takes a propagation time for the adjustment result of the application pressure to be reflected on the discharge amount from the nozzle tip through the paste storage cylinder. The paste pattern application operation proceeds by an amount corresponding to the application speed. For this reason, it has been difficult to steeply adjust the coating amount.

【0006】塗布速度によるペースト塗布量の調整につ
いては、生産性を上げるための手段として既に極力高速
に調整してある場合が多く、さらに高速化すると、ペー
スト塗布量は減少するだけであり、単位距離当たりの塗
布量を変えずに塗布速度を高くすることは不可能であっ
た。
[0006] Regarding the adjustment of the paste application amount by the application speed, in many cases, the paste application amount has already been adjusted as high as possible as a means for increasing the productivity. When the paste application amount is further increased, the paste application amount only decreases. It was impossible to increase the coating speed without changing the coating amount per distance.

【0007】本発明の目的は、かかる問題を解消し、迅
速な塗布量調整が容易にして、所望形状のペーストパタ
ーンを形成することができるようにしたペースト塗布方
法とペースト塗布機を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a paste coating method and a paste coating machine which can solve the above-mentioned problems, facilitate quick adjustment of a coating amount, and form a paste pattern of a desired shape. It is in.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるペースト塗布方法は、ノズルの吐出口
に対向するようにして基板をテーブル上に載置し、該基
板の主面に垂直な方向での該ノズルと該基板との間に任
意(所望)の距離を持たせ、ペースト収納筒に充填した
ペーストを該吐出口から該基板上に吐出させながら該基
板と該ノズルとの該基板の主面と平行な方向における相
対位置関係を変化させることにより、該基板上に所望形
状のペーストパターンを描画するものであって、該基板
の主面に垂直な方向での該ノズルと該基板との間の距離
を変更し、その変更された距離に比例した量のペースト
を該基板上に吐出させることにある。
In order to achieve the above object, in a paste application method according to the present invention, a substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and a main surface of the substrate is placed on the table. An arbitrary (desired) distance is provided between the nozzle and the substrate in a vertical direction, and the paste filled in the paste storage cylinder is discharged from the discharge port onto the substrate while the substrate and the nozzle are in contact with each other. By changing the relative positional relationship in a direction parallel to the main surface of the substrate, a paste pattern of a desired shape is drawn on the substrate, and the nozzle in a direction perpendicular to the main surface of the substrate. It is an object of the present invention to change the distance to the substrate and to discharge an amount of paste on the substrate in proportion to the changed distance.

【0009】上記目的を達成するために、本発明による
ペースト塗布機は、ノズルの吐出口に対向するようにし
て基板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方
向での該ノズルと該基板との間を任意(所望)の距離を
持たせ、ペースト収納筒に充填したペーストを該吐出口
から該基板上に吐出させながら該基板と該ノズルとの該
基板の主面と平行な方向における相対位置関係を変化さ
せることにより、該基板上に所望形状のペーストパター
ンを描画するものであって、ペーストパターンの塗布量
に対応する該基板の主面に垂直な方向での該ノズルと該
基板との距離とペーストパターンの塗布量を変更する該
基板と該ノズルとの該基板の主面と平行な方向における
相対位置との関係を表わすデータを記憶する記憶手段
と、描画中のペーストパターンにおける該ノズルとの該
基板の主面と平行な方向における相対位置を検出する検
出手段と、該検出手段で検出した該ノズルとの該基板の
主面と平行な方向における相対位置がペーストパターン
の塗布量を変更する相対位置である場合に該記憶手段に
記憶された該データからその相対位置に対応したペース
トパターンの塗布量に対応する該基板の主面に垂直な方
向での該ノズルと該基板との距離に変更する変更手段と
を備えたことにある。
In order to achieve the above object, a paste coating machine according to the present invention places a substrate on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and applies the substrate in a direction perpendicular to a main surface of the substrate. An arbitrary (desired) distance is provided between the nozzle and the substrate, and while the paste filled in the paste container is discharged onto the substrate from the discharge port, the main surface of the substrate between the substrate and the nozzle is By changing the relative positional relationship in the parallel direction, a paste pattern of a desired shape is drawn on the substrate, and the paste pattern in a direction perpendicular to the main surface of the substrate corresponding to the amount of the paste pattern applied. A storage unit for storing data representing a relationship between a distance between a nozzle and the substrate and a relative position of the substrate and the nozzle for changing an application amount of the paste pattern in a direction parallel to a main surface of the substrate; Pace of Detecting means for detecting a relative position of the nozzle with respect to the main surface of the substrate in a direction parallel to the main surface of the substrate, and a relative position of the nozzle in the direction parallel to the main surface of the substrate with respect to the paste pattern detected by the detecting means; When the relative position at which the application amount is changed, the nozzles in the direction perpendicular to the main surface of the substrate corresponding to the application amount of the paste pattern corresponding to the relative position from the data stored in the storage means. Changing means for changing the distance to the substrate.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】図1は本発明によるペースト塗布機の一実
施形態を示す斜視図であって、1は架台、2a,2bは
基板搬送コンベア、3は支持台、4は基板吸着盤、5は
θ軸移動テ−ブル、6a,6bはX軸移動テ−ブル、7
はY軸移動テ−ブル、8a,8bはサ−ボモ−タ、9は
Z軸移動テ−ブル、10はサ−ボモ−タ、11はボ−ル
ねじ、12はサーボモータ、13はペースト収納筒(シ
リンジ)、14は距離計、15は支持板、16a,16
bは画像認識カメラ、17は制御部、18はモニタ、1
9はキ−ボ−ド、20は外部記憶装置を備えたパソコン
本体、21はケ−ブルである。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a paste coater according to the present invention, wherein 1 is a gantry, 2a and 2b are substrate transport conveyors, 3 is a support table, 4 is a substrate suction disk, and 5 is θ. Axis moving table, 6a and 6b are X axis moving tables, 7
Is a Y-axis moving table, 8a and 8b are servo motors, 9 is a Z-axis moving table, 10 is a servo motor, 11 is a ball screw, 12 is a servomotor, and 13 is a paste. Storage cylinder (syringe), 14 is a distance meter, 15 is a support plate, 16a, 16
b is an image recognition camera, 17 is a control unit, 18 is a monitor, 1
9 is a keyboard, 20 is a personal computer having an external storage device, and 21 is a cable.

【0012】同図において、架台1上には、X軸方向に
並行で、かつ昇降可能な2つの基板搬送コンベア2a,
2bが設けられており、図示していない基板を図面の奥
の方から手前の方に、即ち、X軸方向に水平に搬送す
る。また、架台1上に支持台3が設けられ、この支持台
3上にθ軸移動テ−ブル5を介して基板吸着盤4が載置
されている。このθ軸移動テ−ブル5は、基板吸着盤4
をZ軸廻りのθ方向に回転させるものである。
In FIG. 1, two board transfer conveyors 2 a, which can move up and down in parallel in the X-axis direction, are mounted on a gantry 1.
2b is provided to convey a substrate (not shown) from the back of the drawing to the front, that is, horizontally in the X-axis direction. A support 3 is provided on the gantry 1, and a substrate suction board 4 is mounted on the support 3 via a θ-axis moving table 5. The θ-axis moving table 5 is
Is rotated in the θ direction about the Z axis.

【0013】架台1上には、さらに、基板搬送コンベア
2a,2bよりも外側でX軸に平行にX軸移動テ−ブル
6a,6bが設けられ、これらX軸移動テ−ブル6a,
6b間を渡るようにしてY軸移動テ−ブル7が設けられ
ている。このY軸移動テ−ブル7は、X軸移動テ−ブル
6a,6bに設けられたサ−ボモ−タ8a,8bの正転
や逆転の回転(正逆転)によりX軸方向に水平に搬送さ
れる。Y軸移動テ−ブル7上には、サ−ボモ−タ10の
駆動によるボ−ルねじ11の正逆転によってY軸方向に
移動するZ軸移動テ−ブル9が設けられている。このZ
軸移動テ−ブル9には、ペースト収納筒13や距離計1
4を支持固定した支持板15が設けられ、サーボモータ
12がこれらペースト収納筒13や距離計14をこの支
持板15に設けられた図示していないリニヤガイドの可
動部を介してZ軸方向に移動させる。ペースト収納筒1
3は、このリニヤガイドの可動部に着脱自在に取り付け
られている。また、架台1の天板には、図示していない
基板の位置合わせなどのための画像認識カメラ16a,
16bが上方向を向けて設けられている。
On the gantry 1, there are further provided X-axis moving tables 6a, 6b outside of the board transfer conveyors 2a, 2b and parallel to the X-axis, and these X-axis moving tables 6a, 6b are provided.
A Y-axis moving table 7 is provided so as to extend between 6b. The Y-axis moving table 7 is horizontally conveyed in the X-axis direction by forward or reverse rotation (forward / reverse rotation) of servo motors 8a, 8b provided on the X-axis moving tables 6a, 6b. Is done. On the Y-axis moving table 7, there is provided a Z-axis moving table 9 which moves in the Y-axis direction by forward / reverse rotation of the ball screw 11 driven by the servo motor 10. This Z
The axis moving table 9 includes a paste storage cylinder 13 and a distance meter 1.
4 is provided, and the servo motor 12 moves the paste storage cylinder 13 and the distance meter 14 in the Z-axis direction through a movable portion of a linear guide (not shown) provided on the support plate 15. Move. Paste storage cylinder 1
Reference numeral 3 is removably attached to the movable portion of the linear guide. An image recognition camera 16a for aligning a board (not shown) is provided on the top plate of the gantry 1.
16b is provided facing upward.

【0014】架台1の内部には、サーボモータ8a,8
b,10,12,24(図示せず)などを制御する制御
部17が設けられており、この制御部17はケーブル2
1を介してモニタ18やキーボード19,パソコン本体
20と接続されており、かかる制御部17での各種処理
のためのデータがキーボード19から入力され、画像認
識カメラ16a,16bで捉えた画像や制御部17での
処理状況がモニタ18で表示される。
Inside the gantry 1, servo motors 8a, 8
b, 10, 12, 24 (not shown), etc., and a control unit 17 is provided.
1 are connected to a monitor 18, a keyboard 19, and a personal computer 20. Data for various processes in the control unit 17 is input from the keyboard 19, and images and control captured by the image recognition cameras 16a and 16b are performed. The processing status of the unit 17 is displayed on the monitor 18.

【0015】また、キ−ボ−ド19から入力されたデー
タなどは、パソコン本体20の外部記憶装置でフロッピ
ディスクなどの記憶媒体に記憶保管される。
Data and the like input from the keyboard 19 are stored in a storage medium such as a floppy disk in an external storage device of the personal computer 20.

【0016】図2は図1に示すペースト収納筒13と距
離計14との部分を拡大して示す斜視図であって、13
aはノズル、22は基板、23はペーストパターンであ
り、図1に対応する部分には同一符号を付けている。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a portion of the paste container 13 and the distance meter 14 shown in FIG.
a is a nozzle, 22 is a substrate, 23 is a paste pattern, and portions corresponding to FIG.

【0017】同図において、距離計14は、その下端部
に三角形の切込部があって、その切込部に発光素子と複
数の受光素子とが設けられている。ノズル13aは、距
離計14の切込部の下部に位置付けられている。距離計
14は、ノズル13aの先端部から基板22の表面(上
面)までの距離を非接触の三角測法で計測する。即ち、
上記三角形の切込部での片側の斜面に発光素子が設けら
れ、この発光素子から放射されたレ−ザ光Lは基板22
上の計測点Sで反射し、上記切込部の他方の斜面に設け
られた複数の受光素子のいずれかで受光される。従っ
て、レ−ザ光Lはペースト収納筒13やノズル13aで
遮られることはない。
In FIG. 1, the rangefinder 14 has a triangular cutout at its lower end, and a light emitting element and a plurality of light receiving elements are provided in the cutout. The nozzle 13a is positioned below the cut portion of the distance meter 14. The distance meter 14 measures the distance from the tip of the nozzle 13a to the surface (upper surface) of the substrate 22 by noncontact triangulation. That is,
A light emitting element is provided on one side of the triangular cut portion, and the laser light L emitted from this light emitting element is
The light is reflected at the upper measurement point S, and is received by one of the plurality of light receiving elements provided on the other slope of the cut portion. Therefore, the laser light L is not blocked by the paste container 13 or the nozzle 13a.

【0018】また、基板22上でのレ−ザ光Lの計測点
Sとノズル13aの直下位置とは基板22上で僅かな距
離ΔX,ΔYだけずれるが、この僅かな距離ΔX,ΔY
程度ずれた位置間では、基板22の表面のうねり(凹
凸)に差がないので、距離計14の計測結果とノズル1
3aの先端部から基板22の表面までの距離との間に差
は殆ど存在しない。従って、この距離計14の測定結果
に基づいてサーボモータ12を制御することにより、基
板22の表面のうねりに合わせてノズル13aの先端部
から基板22の表面までの距離を所望値に維持する。
The measurement point S of the laser beam L on the substrate 22 is displaced from the position immediately below the nozzle 13a by a small distance .DELTA.X, .DELTA.Y on the substrate 22, but this small distance .DELTA.X, .DELTA.Y
Since there is no difference in the waviness (irregularity) of the surface of the substrate 22 between the positions shifted by about a degree, the measurement result of the distance meter 14 and the nozzle 1
There is almost no difference between the distance from the tip of 3a to the surface of the substrate 22. Therefore, by controlling the servomotor 12 based on the measurement result of the distance meter 14, the distance from the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 22 is maintained at a desired value in accordance with the undulation of the surface of the substrate 22.

【0019】図3は図1に示した制御部17の構成やペ
ースト収納筒13の空気圧の制御,基板22の制御を示
すブロック図であって、17aはマイクロコンピュ−
タ、17bはモ−タコントロ−ラ、17c1,17c2
はX1,X2軸ドライバ、17dはY軸ドライバ、17
eはθ軸ドライバ、17fはZ軸ドライバ、17gはデ
ータ通信バス、17hは外部インタ−フェ−ス、24は
θ軸移動テ−ブル5(図1)を駆動するサーボモータ、
25〜29はエンコ−ダ、30は正圧源、30aは正圧
レギュレータ、31は負圧源、31aは負圧レギュレー
タ、32はバルブユニットであり、図1及び図2に対応
する部分には同一符号をつけている。
FIG. 3 is a block diagram showing the structure of the control unit 17 shown in FIG. 1, the control of the air pressure of the paste container 13, and the control of the substrate 22, and 17a is a micro computer.
Motor 17b, motor controller 17c1, 17c2
Is the X1, X2 axis driver, 17d is the Y axis driver, 17
e is a θ-axis driver, 17f is a Z-axis driver, 17g is a data communication bus, 17h is an external interface, 24 is a servo motor for driving the θ-axis moving table 5 (FIG. 1),
25 to 29 are encoders, 30 is a positive pressure source, 30a is a positive pressure regulator, 31 is a negative pressure source, 31a is a negative pressure regulator, and 32 is a valve unit. The same reference numerals are used.

【0020】同図において、制御部17は、マイクロコ
ンピュ−タ17aやモ−タコントロ−ラ17b、X,
Y,Z,θの各軸ドライバ17c1〜17f、画像認識
カメラ16a,16bで得られる映像信号を処理する画
像処理装置17i、キ−ボ−ド19などとの間の信号伝
送を行なう外部インタ−フェ−ス17hを内蔵してい
る。制御部17は、さらに、基板搬送コンベア2a,2
bの駆動制御系を含むが、ここでは、図示を省略してい
る。
In FIG. 1, a control unit 17 includes a microcomputer 17a, a motor controller 17b, X,
Y, Z, θ axis drivers 17c1 to 17f, an image processing device 17i for processing video signals obtained by the image recognition cameras 16a, 16b, an external interface for transmitting signals to the keyboard 19, etc. It has a built-in face 17h. The control unit 17 further controls the substrate transport conveyors 2a, 2
Although the driving control system of b is included, illustration is omitted here.

【0021】また、マイクロコンピュ−タ17aは、図
示しないが、主演算部や後述するペーストの塗布描画を
行なうための処理プログラムを格納したROM,主演算
部での処理結果や外部インタ−フェ−ス17h及びモ−
タコントロ−ラ17bからの入力デ−タを格納するRA
M,外部インタ−フェ−ス17hやモ−タコントロ−ラ
17bとデ−タをやりとりする入出力部などを備えてい
る。各サ−ボモ−タ8a,8b,10,12,24に
は、回転量を検出するエンコ−ダ25〜29が設けられ
ており、その検出結果をX,Y,Z,θの各軸ドライバ
17c1〜17fに戻して位置制御を行なっている。
Although not shown, the microcomputer 17a includes a main processing unit, a ROM storing a processing program for performing application and drawing of paste, which will be described later, processing results in the main processing unit, and an external interface. 17h and mo
RA for storing input data from the tach controller 17b
M, an input / output unit for exchanging data with an external interface 17h and a motor controller 17b. Each of the servomotors 8a, 8b, 10, 12, and 24 is provided with encoders 25 to 29 for detecting the amount of rotation, and outputs the detection results to the X, Y, Z, and θ axis drivers. Position control is performed by returning to positions 17c1 to 17f.

【0022】サ−ボモ−タ8a,8b,10がキ−ボ−
ド19から入力されてマイクロコンピュ−タ17aのR
AMに格納されているデ−タに基いて正逆回転すること
により、負圧源131から分配した負圧によって基板吸
着盤4(図1)に真空吸着された基板22に対し、ノズ
ル13a(図2)が、Z軸移動テ−ブル9(図1)を介
して、X,Y軸方向に任意の距離を移動し、その移動
中、マイクロコンピュータ17aがバルブユニット32
を制御することにより、正圧源30から、正圧レギュレ
ータ30aとバルブユニット32とを介して、ペースト
収納筒13に僅かな空気圧が印加され、ノズル13aの
先端部の吐出口からペーストが吐出されて基板22にペ
ーストが所望のパタ−ンが塗布される。このZ軸移動テ
−ブル9のX,Y軸方向への水平移動中に距離計14が
ノズル13aと基板22との間の距離を計測し、この距
離を常に一定に維持するように、サ−ボモ−タ12がZ
軸ドライバ17fで制御される。
The servomotors 8a, 8b and 10 are keyboads.
Input from the computer 19 and the R of the microcomputer 17a.
By rotating forward and backward based on the data stored in the AM, the nozzle 13a (see FIG. 1) is applied to the substrate 22 vacuum-adsorbed to the substrate suction disk 4 (FIG. 1) by the negative pressure distributed from the negative pressure source 131. 2) moves an arbitrary distance in the X and Y axis directions via the Z axis moving table 9 (FIG. 1).
, A slight air pressure is applied to the paste storage cylinder 13 from the positive pressure source 30 via the positive pressure regulator 30a and the valve unit 32, and the paste is discharged from the discharge port at the tip of the nozzle 13a. Thus, a desired pattern of paste is applied to the substrate 22. The distance meter 14 measures the distance between the nozzle 13a and the substrate 22 during the horizontal movement of the Z-axis moving table 9 in the X and Y-axis directions, and the distance meter 14 keeps this distance constant. -If the motor 12 is Z
It is controlled by the axis driver 17f.

【0023】また、ペースト塗布を行なわない待機状態
では、マイクロコンピュータ17aがバルブユニット3
2を制御することにより、負圧レギュレータ31a及び
バルブユニット32を介して負圧源31がペースト収納
筒13に連通し、ノズル13aの吐出口から垂れ出たペ
ーストをペースト収納筒13内に引き戻す。これによ
り、この吐出口からのペーストの液垂れを防止すること
ができる。なお、図示しない画像認識カメラでこのノズ
ル13aの吐出口を監視し、液垂れが生じたときのみ、
負圧源31をペースト収納筒13に連通するようにして
もよい。
In a standby state in which paste application is not performed, the microcomputer 17a operates the valve unit 3.
2, the negative pressure source 31 communicates with the paste storage cylinder 13 via the negative pressure regulator 31a and the valve unit 32, and pulls the paste dripping from the discharge port of the nozzle 13a back into the paste storage cylinder 13. Thus, dripping of the paste from the discharge port can be prevented. The discharge port of the nozzle 13a is monitored by an image recognition camera (not shown), and only when liquid dripping occurs,
The negative pressure source 31 may be connected to the paste container 13.

【0024】図4は図1に示したペースト塗布機での本
発明によるペースト塗布方法の一実施形態を示すフロー
チャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing one embodiment of the paste applying method according to the present invention in the paste applying machine shown in FIG.

【0025】同図において、まず、ペースト塗布機に電
源が投入されると(ステップ100)、その初期設定が
実行される(ステップ200)。
Referring to FIG. 1, when the power is turned on to the paste dispenser (step 100), its initial settings are executed (step 200).

【0026】この初期設定では、図1において、サーボ
モータ8a、8b,10により、Z軸移動テ−ブル9を
X,Y方向に移動させて所定の基準位置に位置決めし、
ノズル13a(図2)を、そのペースト吐出口がペース
トを吐出開始させる位置(即ち、ペースト塗布開始点)
に位置付けられるように、所定の原点位置に設定する
が、さらに、ペーストパターン描画の対象とする基板
(以下、実基板という)に塗布描画する1以上のペース
トパターン毎のデータ(以下、ペーストパタ−ンデ−タ
といい、これは、実基板に塗布形成するペーストパター
ンを構成する一連の位置データからなる)と、このペー
ストパターン毎の塗布条件のデータとが入力される。こ
れらデ−タの入力はキ−ボ−ド19(図1)から行なわ
れ、入力されたこれらデ−タはマイクロコンピュ−タ1
7a(図3)に内蔵されたRAMに格納される。
In this initial setting, in FIG. 1, the Z-axis moving table 9 is moved in the X and Y directions by the servo motors 8a, 8b and 10 to be positioned at a predetermined reference position.
Position of the nozzle 13a (FIG. 2) where the paste discharge port starts discharging the paste (that is, the paste application start point).
Is set at a predetermined origin position so as to be positioned at the same time. Further, data for one or more paste patterns to be applied and drawn on a substrate (hereinafter, referred to as an actual substrate) on which a paste pattern is to be drawn (hereinafter, paste pattern) Data, which is composed of a series of position data constituting a paste pattern to be applied and formed on an actual substrate) and data of application conditions for each paste pattern. The input of these data is carried out from a keyboard 19 (FIG. 1).
7a (FIG. 3).

【0027】この塗布条件は、いま、1つの実基板に塗
布描画するペーストパターンがm個(但し、mは1以上
の整数)あるとすると、図5に示すように、これらペー
ストパターンをパターンNo.1,2,……,mのペー
ストパターンとし、夫々のペーストパターン毎に、実基
板に実際にペーストを塗布するときのこの実基板とノズ
ルとの間の相対速度(これを塗布速度というが、特に、
この場合の塗布速度を初期設定塗布速度という)と、ノ
ズルからのペースト吐出量を決めるペースト収納筒13
に印加される圧力(これを塗布圧力というが、特に、こ
の場合の塗布圧力を初期設定塗布圧力という)と、基板
表面からのノズルの高さ(これを塗布高さというが、特
に、この場合の塗布高さを初期設定塗布高さという)
と、ペースト吐出量を変更すべき位置(ポイント)を表
わす変更ポイントなどの各データからなっている。な
お、変更ポイントとしては、例えば、他の部分よりもペ
ースト塗布量を多く(または少なく)して塗布パターン
の高さを高く(または低く)したり、あるいは、パター
ンの屈曲部のように、直線部と同じ高さにペーストを塗
布するために、ペーストの単位時間当りの吐出量を変化
させるようにしたポイントなどである。
Assuming that the number of paste patterns to be applied and drawn on one actual substrate is m (where m is an integer of 1 or more), as shown in FIG. . 1, 2,..., M, and the relative speed between the actual substrate and the nozzle when actually applying the paste to the actual substrate for each of the paste patterns (this is referred to as the application speed. ,
The application speed in this case is referred to as an initial application speed) and a paste container 13 that determines the amount of paste discharged from the nozzle.
(This is referred to as the coating pressure, in particular, the coating pressure in this case is referred to as the initial setting coating pressure), and the height of the nozzle from the substrate surface (this is referred to as the coating height. Is called the initial setting application height.)
And data such as a change point indicating a position (point) at which the paste discharge amount is to be changed. In addition, as a change point, for example, the height of the applied pattern is made higher (or lower) by increasing (or less) the paste application amount than other portions, or a straight line such as a bent portion of the pattern. This is a point at which the discharge amount per unit time of the paste is changed in order to apply the paste at the same height as the portion.

【0028】ここで、各ペーストパターンで変更ポイン
トがn個(但し、nは0または1以上の整数)あるもの
としており、夫々の変更ポイントを変更ポイント1,
2,……,nとしている。この場合、かかる変更ポイン
トの実基板上での位置は、パターンナンバi(但し、i
=1,2,……,m)のペーストパターンについては、
変更ポイント1=(Xi1,Yi1),変更ポイント2
=(Xi2,Yi2),……,変更ポイントn=(Xi
n,Yin)である。例えば、パターンナンバ1のペー
ストパターンの場合、夫々の変更ポイントは、変更ポイ
ント1=(X11,Y11),変更ポイント2=(X1
2,Y12),……,変更ポイントn=(X1n,Y1
n)である。
Here, it is assumed that each of the paste patterns has n change points (where n is 0 or an integer of 1 or more).
2,..., N. In this case, the position of the change point on the actual substrate is the pattern number i (where i is
= 1, 2, ..., m)
Change point 1 = (Xi1, Yi1), change point 2
= (Xi2, Yi2), ..., change point n = (Xi
n, Yin). For example, in the case of a paste pattern of pattern number 1, each change point is change point 1 = (X11, Y11), change point 2 = (X1
2, Y12),..., Change point n = (X1n, Y1)
n).

【0029】また、塗布高さのデータは変更ポイントと
それ以外の位置とに夫々設定されるものであり、図5に
おいては、塗布高さ1,2が設定されており、塗布高さ
2が変更ポイント1〜nでの塗布高さを規定するもの、
塗布高さ1がそれ以外の位置での塗布高さを規定するも
のとしている。勿論、変更ポイント間で塗布高さが異な
る、即ち、或る変更ポイントから次の変更ポイントまで
は同じ塗布高さが維持される場合には、夫々の変更ポイ
ント間毎の塗布高さが設定される。この変更ポイント1
〜nの位置データは上記のペーストパターンデータのい
ずれかであり、ペーストパターン上の或る長さを持つ所
定の領域で塗布高さを変更する場合には、その領域の位
置データ全てが変更ポイントとして塗布条件に設定され
る。
The application height data is set at the change point and other positions, respectively. In FIG. 5, application heights 1 and 2 are set, and application height 2 is set. Defining the application height at the change points 1 to n,
The application height 1 defines the application height at other positions. Of course, when the application height is different between the change points, that is, when the same application height is maintained from one change point to the next change point, the application height for each change point is set. You. This change point 1
To n are any of the paste pattern data described above. When the application height is changed in a predetermined area having a certain length on the paste pattern, all the position data in the area are changed to the change point. Is set as the application condition.

【0030】なお、図5に図示しないが、塗布条件に
は、塗布パターン移動データや開始点座標,終点座標,
塗布したペーストパタ−ンの計測位置デ−タ,サックバ
ック圧力なども設定される。
Although not shown in FIG. 5, the application conditions include application pattern movement data, start point coordinates, end point coordinates,
The measurement position data of the applied paste pattern, suckback pressure and the like are also set.

【0031】以上の初期設定(ステップ200)が終了
すると、次に、実基板を基板吸着盤4(図1)に搭載し
て吸着保持させる(ステップ300)。この基板搭載で
は、基板搬送コンベア2a,2b(図1)によって実基
板がX軸方向に基板吸着盤4の上方まで搬送され、図示
しない昇降手段によってこれら基板搬送コンベア2a,
2bを下降させることにより、実基板を基板吸着盤4に
載置する。
When the initial setting (Step 200) is completed, the actual substrate is mounted on the substrate suction plate 4 (FIG. 1) and held by suction (Step 300). In the mounting of the substrate, the actual substrate is transported in the X-axis direction above the substrate suction plate 4 by the substrate transport conveyors 2a and 2b (FIG. 1), and these substrate transport conveyors 2a, 2b
The actual substrate is placed on the substrate suction plate 4 by lowering 2b.

【0032】次に、基板予備位置決め(ステップ40
0)を行なう。この処理では、図1において、図示しな
い位置決めチャックにより、この実基板のX,Y方向の
位置合わせが行なわれる。また、基板吸着盤4に載置さ
れた実基板の位置決め用マ−クを画像認識カメラ16
a,16bで撮影し、位置決め用マ−クの重心位置を画
像処理で求めて実基板のθ方向での傾きを検出し、これ
に応じてサ−ボモ−タ24(図3)を駆動し、そのθ方
向の傾きも補正する。
Next, preliminary substrate positioning (step 40)
Perform 0). In this process, the positioning of the actual substrate in the X and Y directions is performed by a positioning chuck (not shown) in FIG. Further, the mark for positioning the actual substrate placed on the substrate suction plate 4 is moved to the image recognition camera 16.
a, 16b, the center of gravity of the positioning mark is obtained by image processing, the inclination of the actual substrate in the θ direction is detected, and the servo motor 24 (FIG. 3) is driven accordingly. , The inclination in the θ direction is also corrected.

【0033】なお、ペースト収納筒13内のペースト残
量が少なくなり、ペーストパターンの塗布動作中にペー
ストが途切れる可能性がある場合には、前もってペース
ト収納筒13をノズル13aとともに交換するが、ノズ
ル13aを交換したときには、その交換前と比較して、
取付位置の位置ずれが生じて再現性が損なわれることも
ある。そこで、再現性を確保するために、実基板上のペ
ーストを塗布しない箇所に交換した新たなノズル13a
を用いて十字状にペーストを塗布し、この十字塗布パタ
ーンの交点の重心位置を画像処理で求め、この重心位置
と実基板上の位置決め用マ−クの重心位置との間の距離
を算出して、これをノズル13aのペースト吐出口の位
置ずれ量dx,dy(図2)とし、マイクロコンピュ−
タ17aに内蔵のRAMに格納する。
When the remaining amount of the paste in the paste container 13 becomes small and the paste may be interrupted during the paste pattern applying operation, the paste container 13 and the nozzle 13a are exchanged in advance. When replacing 13a, compared to before the replacement,
A positional shift of the mounting position may occur, and the reproducibility may be impaired. Therefore, in order to ensure reproducibility, a new nozzle 13a that has been replaced with a portion on the actual substrate where the paste is not applied is used.
The paste is applied in the shape of a cross using a cross, the center of gravity of the intersection of the cross application pattern is determined by image processing, and the distance between this center of gravity and the center of gravity of the positioning mark on the actual substrate is calculated. This is referred to as the displacement amount dx, dy (FIG. 2) of the paste discharge port of the nozzle 13a,
The data is stored in the RAM incorporated in the data 17a.

【0034】以上が実基板に対する基板予備位置決め
(ステップ400)であり、かかるノズル13aの位置
ずれ量dx,dyを用いて、後に行なうペーストパター
ンの塗布描画時でのノズル13aの位置ずれを補正する
ようにする。
The pre-positioning of the substrate with respect to the actual substrate (step 400) has been described above, and the positional deviation of the nozzle 13a at the time of application and drawing of a paste pattern to be performed later is corrected using the positional deviation amounts dx and dy of the nozzle 13a. To do.

【0035】次に、パターンNo.1のペーストパター
ンデータから順番にペーストのパターン塗布(ステップ
500)を行なう。これを図6によって詳細に説明す
る。
Next, the pattern No. The paste pattern application (step 500) is performed sequentially from the first paste pattern data. This will be described in detail with reference to FIG.

【0036】同図において、まず、塗布条件の設定を行
なう(ステップ501)。ここで、マイクロコンピュ−
タ17a(図3)のRAMには、各ペーストパターンの
ペーストパターンデータと図5に示すような塗布条件が
格納された記憶テーブルが設けられているが、このステ
ップ501は、塗布描画しようとするペーストパターン
のペーストパターンデータと塗布条件とをこの記憶テー
ブルから読出して上記RAMの所定の領域に、マイクロ
コンピュ−タ17aで使用可能に、保存されるものであ
る。ここでは、まず、パターンNo.1のペーストパタ
ーンを塗布描画するものであるから、この場合の塗布条
件は、図5により、塗布速度=V1、塗布圧力=P1、
塗布高さ1=H11、塗布高さ2=H12、変更ポイン
ト座標1=(X11,Y11)、変更ポイント座標2=
(X12,Y12)、……、変更ポイント座標n=(X
1n,Y1n)が記憶テーブルから読み出されて上記R
AMの所定の領域に、マイクロコンピュ−タ17aで使
用可能に、保存される。
In the figure, first, application conditions are set (step 501). Here, the microcomputer
The RAM of the data 17a (FIG. 3) is provided with a storage table in which paste pattern data of each paste pattern and application conditions as shown in FIG. 5 are stored. The paste pattern data of the paste pattern and the application conditions are read out from the storage table and stored in a predetermined area of the RAM so that the microcomputer 17a can use the paste pattern data and the application conditions. Here, first, the pattern No. In this case, since the paste pattern of No. 1 is applied and drawn, the application conditions in this case are as follows: application speed = V1, application pressure = P1,
Coating height 1 = H11, coating height 2 = H12, change point coordinates 1 = (X11, Y11), change point coordinates 2 =
(X12, Y12),..., Change point coordinates n = (X
1n, Y1n) are read from the storage table and the above R
It is stored in a predetermined area of the AM so that it can be used by the microcomputer 17a.

【0037】かかる塗布条件の設定が終わると、次に,
サーボモータ8a,8b,10(図1)を駆動し,描画
(塗布)開始点上にノズル13aを移動させる(ステッ
プ502)。この塗布開始位置にノズル13aの吐出口
を位置付けるために、Z軸移動テ−ブル9(図1)を移
動させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なうが、この
ために、先の基板予備位置決め(図4のステップ40
0)で得られてマイクロコンピュ−タ17aのRAMに
格納されたノズル13aの位置ずれ量dx,dyが、図
2に示したノズル13aの位置ずれ量の許容範囲△X,
△Y内にあるか否かの判断を行なう。この位置ずれ量d
x,dyが許容範囲内(即ち、△X≧dx及び△Y≧d
y)であれば、そのままとし、許容範囲外(即ち、△X
<dxまたは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量d
x,dyを基にZ軸移動テ−ブル9を移動させてペース
ト収納筒13を調整することにより、ノズル13aのペ
ースト吐出口と実基板の所望位置との間の位置ずれを解
消させ、ノズル13aを所望位置に初期位置決めする。
After setting the application conditions,
The servo motors 8a, 8b and 10 (FIG. 1) are driven to move the nozzle 13a to the drawing (coating) start point (step 502). In order to position the discharge port of the nozzle 13a at this coating start position, the Z-axis moving table 9 (FIG. 1) is moved to perform comparison and adjustment movement of the nozzle position. (Step 40 in FIG. 4)
0) and stored in the RAM of the microcomputer 17a and stored in the RAM of the microcomputer 17a, the positional deviation amounts dx and dy of the nozzle 13a shown in FIG.
It is determined whether or not it is within ΔY. This displacement d
x and dy are within an allowable range (that is, ΔX ≧ dx and ΔY ≧ d
y), it is left as it is and out of the allowable range (that is, ΔX
<Dx or ΔY <dy), the displacement d
By moving the Z-axis moving table 9 based on x and dy to adjust the paste storage cylinder 13, the displacement between the paste discharge port of the nozzle 13a and the desired position of the actual substrate is eliminated, and 13a is initially positioned at a desired position.

【0038】次に、サーボモータ12(図1)を駆動
し、ノズル13aの高さの設定を行なう(ステップ50
3)。この設定される高さは、既に上記RAMの記憶テ
ーブルから読み出されたパターンNo.1の塗布条件に
設定されている塗布高さ1(具体的には、図5の高さH
11)であり、ノズル13aの吐出口から実基板の表面
までの距離がこの塗布高さH11に設定される。
Next, the servo motor 12 (FIG. 1) is driven to set the height of the nozzle 13a (step 50).
3). The set height corresponds to the pattern No. already read from the storage table of the RAM. The application height 1 set in the application condition 1 (specifically, the height H in FIG. 5)
11), and the distance from the discharge port of the nozzle 13a to the surface of the actual substrate is set to the application height H11.

【0039】以上の処理が終了すると、次に、マイクロ
コンピュータ17aのRAMに格納されているペースト
パターンデータに基づいてサーボモータ8a,8b,1
0(図1)が駆動され、これにより、ノズル13aのペ
ースト吐出口が、実基板に対向した状態で、このペース
トパターンデータに応じてX,Y方向に移動する(ステ
ップ504)。また,バルブユニット32(図3)を介
して正圧源30(図3)からペースト収納筒13に,正
圧レギュレータ30a(図3)によって上記パターンN
o.1の塗布条件での塗布圧力P1に調整された空気圧
が印加されて、ノズル13aのペースト吐出口からペー
ストが吐出し始める(ステップ505)。このとき、ペ
ーストが吐出直前にバルブユニット32(図3)を介し
て負圧源31(図3)からペースト収納筒13に負圧レ
ギュレータ31a(図3)によってサックバック圧力に
調整された負圧をわずかな時間印加して、ノズル13a
のペースト吐出口に溜っているペーストを吸い込むと、
始端部では、ペーストが溜ることなく塗布できる。
When the above processing is completed, next, the servo motors 8a, 8b, 1 based on the paste pattern data stored in the RAM of the microcomputer 17a.
0 (FIG. 1) is driven, whereby the paste discharge port of the nozzle 13a moves in the X and Y directions according to the paste pattern data while facing the actual substrate (step 504). Further, the pattern N is transferred from the positive pressure source 30 (FIG. 3) to the paste container 13 via the valve unit 32 (FIG. 3) by the positive pressure regulator 30a (FIG. 3).
o. The air pressure adjusted to the application pressure P1 under the first application condition is applied, and the paste starts to be discharged from the paste discharge port of the nozzle 13a (step 505). At this time, the negative pressure adjusted to the suck-back pressure by the negative pressure regulator 31a (FIG. 3) from the negative pressure source 31 (FIG. 3) to the paste housing cylinder 13 via the valve unit 32 (FIG. 3) immediately before the paste is discharged. To the nozzle 13a
When you suck in the paste that has accumulated in the paste discharge port,
At the start end, the paste can be applied without accumulation.

【0040】かかる塗布描画動作の開始とともに、マイ
クロコンピュータ17aは、距離計14からノズル13
aのペースト吐出口と実基板の表面との間の距離の実測
デ−タを取り込んで実基板の表面のうねりを測定し、こ
の測定値に応じてサーボモータ12を駆動することによ
り、図7(a)のように、実基板の表面からのノズル1
3aの設定高さが一定、即ち、上記のパターンNo.1
の塗布条件での塗布高さ1になるように維持されて、ペ
ーストパターンの塗布描画が行なわれる(ステップ50
6)。
At the start of the coating / drawing operation, the microcomputer 17a sends a signal from the distance meter 14 to the nozzle 13
7A by measuring the swell of the surface of the actual substrate by taking in actual measurement data of the distance between the paste discharge port a and the surface of the actual substrate, and driving the servomotor 12 in accordance with the measured value. Nozzle 1 from the surface of the actual substrate as shown in FIG.
3a is constant, that is, the above pattern No. 1
The application height is maintained at the application height 1 under the application conditions, and the application and drawing of the paste pattern is performed (step 50).
6).

【0041】また、マイクロコンピュータ17aは、実
基板上でのペーストパターンの塗布位置、即ち、座標を
モータコントローラ17bから読み込み(ステップ50
7)、上記パターンNo.1の塗布条件での変更ポイン
ト1(X11,Y11)に到達したか否かを判定する
(ステップ508)。
The microcomputer 17a reads the application position of the paste pattern on the actual substrate, that is, the coordinates from the motor controller 17b (step 50).
7), the pattern No. It is determined whether or not change point 1 (X11, Y11) under the first application condition has been reached (step 508).

【0042】この変更ポイント1に到達すると、実基板
のペースト塗布面とノズルとの間の間隔を上記パターン
No.1の塗布条件の塗布高さ1=H11から塗布高さ
2=H12に変更する(ステップ509)。これはサー
ボモータ12を駆動することによって行なわれる。図7
(b)はこの変更ポイント1での状態を示すものであっ
て、ここでは、H11>H12としている。変更ポイン
ト1,2,……と続く場合には、この間、塗布高さ2=
H12が設定されながらペーストパターンの塗布描画が
継続実行される。
When this change point 1 is reached, the distance between the paste application surface of the actual substrate and the nozzle is changed to the above-mentioned pattern No. The application height 1 = H11 in the application condition 1 is changed to the application height 2 = H12 (step 509). This is performed by driving the servo motor 12. FIG.
(B) shows the state at the change point 1, where H11> H12. When the change points 1, 2, 2, ... continue, the application height 2 =
The application drawing of the paste pattern is continuously executed while H12 is set.

【0043】ここで、図7(b)に示すように、塗布高
さが低くなる変更ポイントでは、塗布速度及び塗布圧力
に変更がなければ、ノズル13aから吐出されたペース
トは、実基板からの反作用の力を受けて吐出抵抗が大き
くなるため、ノズル13aから吐出されにくくなり、塗
布高さを下げた分ペーストの塗布量が減少することにな
る。逆に、塗布高さ2=H12が塗布高さ1=H11よ
りも高くなる場合には、ノズル13aが実基板から離れ
るため、この実基板からの反作用力が小さくなって吐出
抵抗が小さくなり、このため、ペーストがノズル13a
から出易くなってペーストの塗布量は増大することにな
る。従って、塗布速度や塗布圧力,塗布高さ1,塗布高
さ2などの値と変更ポイントの位置座標との関係を図5
に示した塗布条件として設定し、マイクロコンピュータ
17aのRAMでの記憶テーブルに格納しておくことに
より、ペーストパターンの任意の位置でのペーストの塗
布量、従って、実基板上でのペーストの塗布高さを調節
することができるようになる。
Here, as shown in FIG. 7 (b), at the change point where the coating height becomes low, if the coating speed and the coating pressure are not changed, the paste discharged from the nozzle 13a will not be transferred from the actual substrate. Since the ejection resistance increases due to the reaction force, the ejection becomes difficult from the nozzle 13a, and the application amount of the paste is reduced by the reduced application height. Conversely, when the coating height 2 = H12 is higher than the coating height 1 = H11, the nozzle 13a moves away from the actual substrate, so that the reaction force from the actual substrate is reduced and the ejection resistance is reduced. Therefore, the paste is applied to the nozzle 13a.
And the amount of paste applied increases. Therefore, the relationship between the values such as the coating speed, the coating pressure, the coating height 1 and the coating height 2 and the position coordinates of the change point is shown in FIG.
Is set in the storage table in the RAM of the microcomputer 17a, and the application amount of the paste at an arbitrary position of the paste pattern, that is, the application amount of the paste on the actual substrate is set. Can be adjusted.

【0044】このようにしてペーストパターンの塗布描
画が進むが、ペーストパターンの塗布描画動作を継続す
るか終了するかの判定が、塗布点がペーストパターンデ
ータによって決まる塗布すべきペーストパターンの終端
であるかどうかの判断によって決定され(ステップ51
0)、終端でなければ、再び実基板の表面のうねりの測
定処理、即ち、塗布高さ制御(ステップ506)に戻
り、次いで、座標確認(ステップ507)を実行する。
そして、変更ポイントに到達する度に塗布高さの変更を
行ない、変更ポイントnまで塗布高さの変更を行なう。
As described above, the application and drawing of the paste pattern proceeds, and the determination of whether to continue or end the application and drawing operation of the paste pattern is the end of the paste pattern to be applied, where the application point is determined by the paste pattern data. (Step 51)
0) If it is not the end, the process returns to the measurement processing of the undulation of the surface of the actual substrate, that is, the application height control (step 506), and then the coordinate confirmation (step 507) is executed.
The application height is changed each time the change point is reached, and the application height is changed up to the change point n.

【0045】以下、上記の各工程を繰り返して、ペース
トパターンの塗布終端に達すると、バルブユニット32
(図3)を介して正圧源30(図3)からペースト収納
筒13に、正圧レギュレータ30a(図3)によって塗
布圧力P1に調整された空気圧の印加を停止し、ノズル
13aのペースト吐出口からのペースト吐出を停止する
(ステップ511)。
Thereafter, the above steps are repeated until the end of the application of the paste pattern is reached.
The application of the air pressure adjusted to the application pressure P1 by the positive pressure regulator 30a (FIG. 3) from the positive pressure source 30 (FIG. 3) to the paste storage cylinder 13 via the positive pressure source 30 (FIG. 3) is stopped via the nozzle 13a. The discharge of the paste from the outlet is stopped (step 511).

【0046】かかるペーストパターンの塗布動作は、設
定されたm個のペーストパターンデータの全てが終了す
るまで行なわれ(ステップ512)、最後のパターンN
o.mのペーストパターンの終端に達すると、サーボモ
ータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、パターン
描画動作、即ち、パターン塗布(ステップ500)を終
了させる。
This paste pattern application operation is performed until all of the set m pieces of paste pattern data are completed (step 512), and the last pattern N
o. When the end of the paste pattern of m is reached, the servo motor 12 is driven to raise the nozzle 13a, and the pattern drawing operation, that is, the pattern application (step 500) is completed.

【0047】その後、図4において、基板排出(ステッ
プ600)に進み、図1において、実基板の基板吸着盤
4への吸着が解除され、基板搬送コンベア2a,2bを
上昇させて実基板22を載置させ、その状態でこの基板
搬送コンベア2a,2bにより装置外に排出する。そし
て、全工程が終了したか否かで判定する(ステップ70
0)。複数枚の実基板に同じペーストパタ−ンデータを
用いてペ−ストパターンを塗布描画する場合には、夫々
の実基板に対して基板搭載(ステップ300)から繰り
返される。そして、全ての実基板についてかかる一連の
処理が終了すると、作業が全て終了(ステップ800)
となる。
Thereafter, in FIG. 4, the process proceeds to the substrate discharge (step 600), and in FIG. 1, the suction of the actual substrate to the substrate suction disk 4 is released, and the substrate transport conveyors 2a and 2b are lifted to remove the actual substrate 22. The substrate is then placed, and in this state, discharged out of the apparatus by the substrate transport conveyors 2a and 2b. Then, it is determined whether all the processes have been completed (step 70).
0). When a paste pattern is applied and drawn on a plurality of real substrates using the same paste pattern data, the process is repeated from mounting the substrate on each of the real substrates (step 300). Then, when the series of processing is completed for all the actual substrates, all the operations are completed (step 800).
Becomes

【0048】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるもので
はない。
As described above, one embodiment of the present invention has been described, but the present invention is not limited to only such an embodiment.

【0049】即ち、上記実施形態では、ノズルを可動、
基板を固定としたが、ノズルを固定、基板を可動として
もよい。
That is, in the above embodiment, the nozzle is movable,
Although the substrate is fixed, the nozzle may be fixed and the substrate may be movable.

【0050】また、ペーストパターンの曲線部で塗布速
度を遅くした場合にも、遅い範囲で塗布高さを低くして
ペースト塗布量を減少させ、ペーストパターン全体にわ
たって単位時間当たりのペースト塗布量を一定にするこ
とができ、所望形状のペーストパターンを高い精度で塗
布形成することも可能となる。
Even when the coating speed is reduced in the curved portion of the paste pattern, the coating height is reduced in a slow range to reduce the amount of the applied paste, and the amount of applied paste per unit time is constant over the entire paste pattern. It is also possible to apply and form a paste pattern having a desired shape with high accuracy.

【0051】さらに、塗布圧力を一定として塗布高さを
高くし、これに合わせて塗布速度を高くすると、単位距
離当たりのペースト塗布量は変化せず、形成されるペー
ストパターンの線幅は一定であるので、応答性の悪い塗
布圧力の調整を描画の途中に行なうことなく、塗布高さ
と塗布速度との組み合わせから、高い信頼性を維持しつ
つ、所望のペーストパターンの塗布描画時間を短縮して
生産性を高めることができる。
Further, when the coating height is increased while the coating pressure is kept constant, and the coating speed is increased accordingly, the amount of paste applied per unit distance does not change, and the line width of the formed paste pattern is constant. There is no need to adjust the application pressure with poor response in the middle of drawing, and from the combination of application height and application speed, while maintaining high reliability, shorten the application / drawing time of the desired paste pattern. Productivity can be increased.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
急峻な塗布量調整が容易となり、所望形状のペーストパ
ターンを精度良く形成することができる。
As described above, according to the present invention,
It is easy to sharply adjust the amount of application, and a paste pattern having a desired shape can be formed with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a paste applicator according to the present invention.

【図2】図1に示すペースト収納筒と距離計の部分を拡
大して示す斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a paste storage cylinder and a distance meter shown in FIG. 1;

【図3】図1に示した制御部の構成やペースト収納筒の
空気圧制御部および基板制御部の構成を示すブロック図
である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a control unit shown in FIG. 1 and a configuration of an air pressure control unit and a substrate control unit of a paste storage cylinder.

【図4】図4は図1に示したペースト塗布機での本発明
によるペースト塗布方法の一実施形態を示すフローチャ
ートである。
FIG. 4 is a flowchart showing one embodiment of a paste applying method according to the present invention in the paste applying machine shown in FIG. 1;

【図5】図4でのステップ200で設定される塗布条件
の一具体例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a specific example of application conditions set in step 200 in FIG.

【図6】図4におけるステップ500の詳細を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing details of step 500 in FIG. 4;

【図7】塗布圧力を同一としたときの塗布高さの変化に
対するペースト塗布量の変化を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a change in paste application amount with respect to a change in application height when the application pressure is the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

13a…ノズル 22…基板 23…ペーストパターン 13a: Nozzle 22: Substrate 23: Paste pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 福男 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 (72)発明者 三階 春夫 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 Fターム(参考) 4D075 AA02 AA37 AA38 BB99X CA47 DA06 DC18 EA35 4F041 AA05 AA12 BA38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Fukuo Yoneda 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-city, Ibaraki Pref. Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Haruo Mikai 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki F-term (reference) in the Development Laboratory, Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. 4D075 AA02 AA37 AA38 BB99X CA47 DA06 DC18 EA35 4F041 AA05 AA12 BA38

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方向で
の該ノズルと該基板との間に所望の距離を持たせ、ペー
スト収納筒に充填したペーストを該吐出口から該基板上
に吐出させながら、該基板と該ノズルとの該基板の主面
と平行な方向における相対位置関係を変化させることに
より、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画す
るペースト塗布方法において、 該基板の主面に垂直な方向での該ノズルと該基板との間
の距離を変更し、その変更された距離に比例した量のペ
ーストを該基板上に吐出させることを特徴とするペース
ト塗布方法。
A substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and a desired distance is provided between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to a main surface of the substrate. By discharging the paste filled in the paste storage cylinder from the discharge port onto the substrate while changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate, In a paste application method for drawing a paste pattern of a desired shape, a distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate is changed, and the amount of the paste is proportional to the changed distance. Is applied onto the substrate.
【請求項2】 請求項1に記載のペースト塗布方法にお
いて、 前記基板と前記ノズルとの該基板の主面と平行な方向に
おける相対位置関係の単位時間当りの変化量を変更して
該基板上に描画するペーストパターンを所望の形状とす
ることを特徴とするペースト塗布方法。
2. The paste application method according to claim 1, wherein a change amount per unit time of a relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate is changed on the substrate. A paste pattern to be drawn in a desired shape.
【請求項3】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方向で
の該ノズルと該基板との間に所望の距離を持たせ、ペー
スト収納筒に充填したペーストを該吐出口から該基板上
に吐出させながら、該基板と該ノズルとの該基板の主面
と平行な方向における相対位置関係を変化させることに
より、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画す
るペースト塗布方法においてペーストパターン描画中に
該基板と該ノズルとの該基板の主面と平行な方向におけ
る相対位置関係を検出し、検出したペーストパターン描
画位置が所望の塗布量変更箇所であるとき、該基板の主
面に垂直な方向での該ノズルと該基板との間の距離を変
化させることにより、塗布量を変更することを特徴とす
るペースト塗布方法。
3. A substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and a desired distance is provided between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to a main surface of the substrate. By discharging the paste filled in the paste storage cylinder from the discharge port onto the substrate while changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate, In the paste coating method for drawing a paste pattern having a desired shape, a relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate is detected during the drawing of the paste pattern, and the detected paste pattern drawing position is determined as desired. A paste application method, wherein the application amount is changed by changing a distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate when the application amount is changed. .
【請求項4】 ノズルの吐出口に対向するようにして基
板をテーブル上に載置し、該基板の主面に垂直な方向で
の該ノズルと該基板との間を所望の距離を持たせ、ペー
スト収納筒に充填したペーストを該吐出口から該基板上
に吐出させながら、該基板と該ノズルとの該基板の主面
と平行な方向における相対位置関係を変化させることに
より、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画す
るペースト塗布機において、 ペーストパターンの塗布量に対応する該基板の主面に垂
直な方向での該ノズルと該基板との距離とペーストパタ
ーンの塗布量を変更する該基板と該ノズルとの該基板の
主面と平行な方向における相対位置との関係を表わすデ
ータを記憶する記憶手段と、 描画中のペーストパターンにおける該ノズルとの該基板
の主面と平行な方向での相対位置を検出する検出手段
と、 該検出手段で検出した該ノズルとの該基板の主面と平行
な方向での相対位置がペーストパターンの塗布量を変更
する相対位置である場合、該記憶手段に記憶された該デ
ータからその相対位置に対応したペーストパターンの塗
布量に対応する該基板の主面に垂直な方向での該ノズル
と該基板との距離に変更する変更手段とを備えたことを
特徴とするペースト塗布機。
4. A substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and a desired distance is provided between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to a main surface of the substrate. By discharging the paste filled in the paste storage cylinder from the discharge port onto the substrate while changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate, A paste application machine that draws a paste pattern of a desired shape on a substrate, changing a distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate corresponding to an application amount of the paste pattern and an application amount of the paste pattern Storage means for storing data representing a relationship between the substrate and the nozzle and a relative position in a direction parallel to the main surface of the substrate; and a memory parallel to the main surface of the substrate and the nozzle in the paste pattern being drawn. Detecting means for detecting a relative position in the direction, and a relative position in a direction parallel to the main surface of the substrate with respect to the nozzle detected by the detecting means is a relative position for changing the application amount of the paste pattern; Changing means for changing the distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate corresponding to the application amount of the paste pattern corresponding to the relative position from the data stored in the storage means; A paste coating machine, comprising:
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