KR20000023264A - Paste coating machine - Google Patents

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KR20000023264A
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우치가사키 기이치로
히다치 테크노 엔지니어링 가부시키 가이샤
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Abstract

PURPOSE: A paste spreader is provided to form a paste pattern of a specific shape as easily and rapidly adjusting paste spreading amount. CONSTITUTION: A method for changing a thickness of a paste spread contains the steps of adjusting a relative position with a nozzle(13a) and a real substrate(22), out letting a paste(23) from the outlet of a nozzle(13a) and spreading a wanted paste pattern on the surface of the real substrate. If the nozzle(13a) reaches to the decided position with previous change point on the real substrate(22), the spreading height is changed from the surface of the real substrate(22) to the paste outlet of the nozzle(13a) that is from spreading height 1 to the set length 2, and then paste amount is changed from the nozzle(13a). Thereby, a thickness of the paste spread is quickly changed by changing a pressure fed to a storage container having the nozzle(13a).

Description

페이스트 도포기{PASTE COATING MACHINE}Paste Applicator {PASTE COATING MACHINE}

본 발명은 노즐의 토출구에 대향하도록 기판을 테이블 위에 얹어 놓고, 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판과의 사이에 임의(소망)의 거리를 가지게 하고, 페이스트 수납통에 충전된 페이스트를 해당 토출구로부터 해당기판상으로 토출시키면서 해당 기판과 해당 노즐의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치관계를 변화시켜 해당 기판 위에 소망형상의 페이스트패턴을 도포하는 페이스트 도포기에 관한 것이다.According to the present invention, a substrate is placed on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and a random (desired) distance is provided between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate, and the paste container is filled in the paste container. A paste applicator for applying a desired pattern of paste patterns onto a substrate by varying the relative positional relationship in a direction parallel to the substrate and the main surface of the nozzle while discharging the paste from the discharge port onto the substrate.

종래의 페이스트 도포기에서는 도포량을 조절하기 위하여 수납통에 충전한 페이스트를 노즐로부터 기판 위로 토출시키면서, 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판의 상대거리가 기판주면의 굴곡에 관계없이 소정(원하는 값)으로 유지하도록 조절하고, 노즐과 기판과의 사이의 상대이동속도, 즉 페이스트패턴을 도포할 때의 속도(이하, 도포속도라 함)의 조정이나, 노즐로부터의 페이스트토출량을 결정하는 페이스트 수납통에 인가되는 압력(이하, 도포압력이라 함)의 조정에 의하여 도포량의 조절을 행하고 있다.In the conventional paste applicator, in order to control the coating amount, the paste filled in the storage container is discharged from the nozzle onto the substrate, and the relative distance between the nozzle and the substrate in the direction perpendicular to the main surface of the substrate is independent of the curvature of the substrate main surface. Adjust to maintain at a predetermined (desired value), and adjust the relative movement speed between the nozzle and the substrate, that is, the speed (hereinafter referred to as the application speed) when applying the paste pattern or determine the amount of paste ejected from the nozzle. The application amount is adjusted by adjusting the pressure (hereinafter referred to as application pressure) applied to the paste storage container.

예를 들어 도포속도가 일정한 경우, 페이스트의 토출량을 늘릴 때에는, 도포압력을 증대시킨다. 반대로 페이스트의 토출량을 줄일 때에는, 도포압력을 감소시킴으로써 토출량의 조정이 가능하다. 또 도포압력이 일정한 경우, 페이스트의 토출량을 늘릴 때에는 도포속도를 저속으로 한다. 반대로 페이스트의 토출량을 줄일 때에는 도포속도를 고속으로 함으로써 토출량의 조정을 행하고 있다.For example, when the application speed is constant, the application pressure is increased when increasing the discharge amount of the paste. On the contrary, when reducing the discharge amount of the paste, the discharge amount can be adjusted by decreasing the coating pressure. In addition, when the application pressure is constant, the application speed is lowered when increasing the discharge amount of the paste. On the contrary, when reducing the discharge amount of the paste, the discharge amount is adjusted by increasing the coating speed.

종래의 페이스트 도포기에 있어서는, 기판의 주면에 수직인 방향에서의 노즐과 기판의 상대거리가 기판주면의 굴곡에 관계 없이 소정으로 유지하도록 조절하는 것을 전제로 하여 도포압력이나 도포속도를 조정함으로써 도포량의 조절을 행하고 있다.In a conventional paste applicator, the application amount is controlled by adjusting the application pressure or application speed on the premise that the relative distance between the nozzle and the substrate in the direction perpendicular to the main surface of the substrate is controlled to be kept constant regardless of the curvature of the substrate. I am adjusting.

도포압력에 의하여 페이스트 도포량의 조정을 행하고자 하면, 도포압력의 조정결과가 페이스트 수납통을 통하여 노즐선단으로부터의 토출량에 반영되기까지의 전파시간이 필요하고, 그동안에도 페이스트패턴 도포동작은 도포속도에 따른 양만큼 진행한다. 이 때문에 급준한 도포량 조절이 곤란하였다.When the paste coating amount is to be adjusted by the coating pressure, a propagation time is required until the result of adjusting the coating pressure is reflected in the discharge amount from the nozzle tip through the paste storage container. Proceed accordingly. For this reason, steep application amount adjustment was difficult.

도포속도에 의한 페이스트 도포량의 조정에 있어서는, 생산성을 향상하기 위한 수단으로서 이미 극력 고속으로 조정되고 있는 경우가 많고, 또한 고속화하면 페이스트 도포량은 감소할 뿐이며, 단위거리당의 도포량을 바꾸지않고 도포속도를 높게 하는 것은 불가능하였다.In the adjustment of the paste coating amount by the coating speed, it is often already adjusted to the maximum speed as a means for improving the productivity, and if it is high speed, the paste coating amount only decreases, and the coating speed is increased without changing the coating amount per unit distance. It was impossible to do.

본 발명의 목적은 이와 같은 문제를 해소하여, 신속한 도포량조정을 용이하게 하여 소망형상의 페이스트패턴을 형성할 수 있도록 한 페이스트 도포기를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a paste applicator which solves such a problem and facilitates rapid application amount adjustment to form a desired paste pattern.

도 1은 본 발명에 의한 베이스트 도포기의 일 실시형태를 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing an embodiment of a base applicator according to the present invention;

도 2는 도 1에 나타내는 페이스트 수납통과 거리계의 부분을 확대하여 나타내는 사시도,2 is an enlarged perspective view showing a portion of the paste container and the rangefinder shown in FIG. 1;

도 3은 도 1에 나타낸 제어부의 구성이나 페이스트 수납통의 공기압제어부 및 기판제어부의 구성을 나타내는 블록도,FIG. 3 is a block diagram showing the structure of the control unit shown in FIG. 1 and the structure of the air pressure control unit and the substrate control unit of the paste storage container. FIG.

도 4는 도 1에 나타낸 페이스트 도포기에서의 본 발명에 의한 페이스트 도포방법의 일 실시형태를 나타내는 플로우챠트,4 is a flowchart showing one embodiment of a paste coating method according to the present invention in the paste applicator shown in FIG. 1;

도 5는 도 4에서의 스텝 200 에서 설정되는 도포조건의 일 구체예를 나타내는 도,FIG. 5 is a view showing one specific example of coating conditions set in step 200 in FIG. 4;

도 6은 도 4에 있어서의 스텝 500의 상세를 나타내는 플로우차트,6 is a flowchart showing the details of step 500 in FIG. 4;

도 7은 도포압력을 동일하게 하였을 때의 도포높이의 변화에 대한 페이스트도포량의 변화를 나타내는 도면이다.Fig. 7 is a diagram showing a change in paste coating amount with respect to a change in coating height when the coating pressure is the same.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of symbols for main parts of drawing

13a : 노즐 22 : 기판13a: nozzle 22: substrate

23 : 페이스트 패턴23: paste pattern

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 페이스트 도포기는, 노즐의 토출구에 대향하도록 하여 기판을 테이블 위에 얹어 놓고, 해당 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판과의 사이를 임의(소망)의 거리를 가지게 하고, 페이스트 수납통에 충전한 페이스트를 해당 토출구로부터 해당 기판상으로 토출시키면서 해당 기판과 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계를 변화시킴으로써, 해당 기판 위에 소망형상의 페이스트패턴을 묘화하는 것으로, 페이스트패턴의 도포량에 대응하는 해당 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판과의 거리와, 페이스트패턴의 도포량을 변경하는 해당기판과 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치와의 관계를 나타내는 데이터를 기억하는 기억수단과, 묘화중의 페이스트패턴에 있어서의 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치를 검출하는 검출수단과, 해당 검출수단으로 검출한 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치가 페이스트패턴의 도포량을 변경하는 상대위치인 경우에 해당 기억수단에 기억된 해당 데이터로부터 그 상대위치에 대응한 페이스트패턴의 도포량에 대응하는 해당 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판과의 거리로 변경하는 변경수단을 구비한 것이다.In order to achieve the above object, the paste applicator according to the present invention places a substrate on a table so as to face a discharge port of a nozzle, and randomly (desirs) between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate. And the relative positional relationship in the direction parallel to the main surface of the substrate between the substrate and the nozzle while discharging the paste filled in the paste container from the discharge port onto the substrate. By drawing a desired pattern of paste on the substrate, the substrate and the nozzle changing the distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate corresponding to the coating amount of the paste pattern and the coating amount of the paste pattern. Showing the relationship with the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate Storage means for storing the data, detection means for detecting a relative position in a direction parallel to the main surface of the substrate with the nozzle in the paste pattern being drawn, and the nozzle detected with the detection means. The substrate corresponding to the coating amount of the paste pattern corresponding to the relative position from the data stored in the storage means when the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate is the relative position for changing the coating amount of the paste pattern. And changing means for changing the distance between the nozzle and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 페이스트 도포기는, 페이스트수납통에 충전한 페이스트에 원하는 일정한 도포압력을 인가하는 수단을 구비한 것, 또한 해당 기판과 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 변경하는 변경수단을 구비하고,In order to achieve the above object, the paste applicator according to the present invention includes a means for applying a desired constant coating pressure to a paste filled in a paste storage container, and is parallel to the main surface of the substrate with the substrate and the nozzle. Changing means for changing the amount of change per unit time of the relative positional relationship in the direction;

해당 기판과 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에 있어서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 변경시키는 경우에, 해당 기판의 주면에 수직인 방향에 있어서의 해당 노즐과 해당 기판과의 거리를 해당 변화량의 변경에 비례시켜 변경하거나 또는 해당 기판과 해당 노즐과의 해당 기판의 주면과 평행인 방향에있어서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 유지시킨 채, 해당 기판의 주면에 수직인 방향에서의 해당 노즐과 해당 기판과의 거리를 크게 하거나 또는 작게 하도록 한 것이다.When changing the change amount per unit time of the relative positional relationship in the direction parallel to the main surface of the said board | substrate of the said board | substrate and the said nozzle, the distance of the said nozzle and the said board | substrate in the direction perpendicular | vertical to the main surface of the said board | substrate In proportion to the change in the change amount or in a direction perpendicular to the main surface of the substrate while maintaining the change amount per unit time of the relative positional relationship in the direction parallel to the main surface of the substrate with the substrate and the nozzle. To increase or decrease the distance between the nozzle and the substrate.

이하, 본 발명의 일 실시형태를 도면에 의거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of this invention is described based on drawing.

도 1은 본 발명에 의한 페이스트 도포기의 일 실시형태를 나타내는 사시도로서, 1은 가대, 2a, 2b는 기판반송 컨베이어, 3은 지지대, 4는 기판흡착반, 5는 θ 축 이동테이블, 6a, 6b는 X축 이동테이블, 7은 Y축 이동테이블, 8a, 8b는 서보모터, 9는 Z축 이동테이블, 10은 서보모터, 11은 볼나사, 12는 서보모터, 13은 페이스트 수납통(실린지), 14는 거리계, 15는 지지판, 16a, 16b는 화상인식 카메라, 17은 제어부, 18은 모니터, 19는 키보드, 20은 외부기억장치를 구비한 퍼스널컴퓨터 본체, 21은 케이블이다.1 is a perspective view showing an embodiment of a paste applicator according to the present invention, where 1 is a mount, 2a, 2b is a substrate conveying conveyor, 3 is a support, 4 is a substrate adsorption plate, 5 is a θ axis moving table, 6a, 6b is the X-axis movement table, 7 is the Y-axis movement table, 8a and 8b is the servo motor, 9 is the Z-axis movement table, 10 is the servo motor, 11 is the ball screw, 12 is the servo motor, 13 is the paste container 14) a rangefinder, 15 a support plate, 16a, 16b an image recognition camera, 17 a control unit, 18 a monitor, 19 a keyboard, 20 a personal computer main body equipped with an external storage device, and 21 a cable.

상기 도면에 있어서, 가대(1) 위에는 X축방향으로 병행하고, 또한 승강가능한 2개의 기판반송 콘베이어(2a, 2b)가 설치되어 있고, 도시 생략한 기판을 도면의 안쪽으로부터 바로 앞쪽으로 즉, X축방향에 수평으로 반송한다. 또 가대(1) 위에 지지대(3)가 설치되고, 이 지지대(3) 위에 θ축 이동테이블(5)을 거쳐 기판흡착반 (4)이 얹어 놓여져 있다. 이 θ축 이동테이블(5)은, 기판흡착반(4)을 Z축 둘레의 θ방향으로 회전시키는 것이다.In the drawing, two substrate conveying conveyors 2a and 2b are provided on the mount 1 in parallel in the X-axis direction and are movable up and down. Carries horizontally in the axial direction. Moreover, the support stand 3 is provided on the mount 1, and the board | substrate adsorption board 4 is mounted on the support stand 3 via the (theta) axis moving table 5, and is mounted. The θ-axis moving table 5 rotates the substrate adsorption board 4 in the θ direction around the Z axis.

가대(1)상에는 또한 기판반송 컨베이어(2a, 2b)보다도 바깥쪽에서 X축에 평행하게 X축 이동테이블(6a, 6b)이 설치되고, 이들 X축 이동테이블(6a, 6b)사이를 건너도록 하여 Y축 이동테이블(7)이 설치되어 있다. 이 Y축 이동테이블(7)은 X축이동테이블(6a, 6b)에 설치된 서보모터(8a, 8b)의 정전이나 역전의 회전(정역전)에 의하여 X축 방향으로 수평으로 반송된다. Y축 이동테이블(7) 위에는 서보모터(10)의 구동에 의한 볼나사(11)의 정역전에 의하여 Y축 방향으로 이동하는 Z축 이동테이블(9)이 설치되어 있다. 이 Z축 이동테이블(9)에는 페이스트 수납통(13)이나 거리계(14)를 지지고정한 지지판(15)이 설치되고, 서보모터(12)가 이들 페이스트 수납통(13)이나 거리계(14)를 이 지지판(15)에 설치된 도시 생략한 리니어가이드의 가동부를 거쳐 Z축 방향으로 이동시킨다. 페이스트 수납통(13)은 이 리니어가이드의 가동부에 착탈자유롭게 설치되어 있다. 또 가대(1)의 상부판에는 도시 생략한 기판의 위치맞춤 등을 위한 화상인식 카메라(16a, 16b)가 상방향을 향하여 설치되어 있다.On the mount 1, further, the X-axis moving tables 6a and 6b are provided in parallel with the X-axis from outside the substrate conveying conveyors 2a and 2b, so as to cross between these X-axis moving tables 6a and 6b. The Y axis moving table 7 is provided. The Y-axis moving table 7 is horizontally conveyed in the X-axis direction by the power failure and the rotation (reverse rotation) of the servomotors 8a and 8b provided in the X axis movement tables 6a and 6b. On the Y-axis movement table 7, a Z-axis movement table 9 which moves in the Y-axis direction by a positive reversal of the ball screw 11 driven by the servomotor 10 is provided. The Z-axis movement table 9 is provided with a support plate 15 for holding and pasting the paste container 13 and the rangefinder 14, and the servomotor 12 replaces these paste containers 13 and the rangefinder 14 with each other. It moves in the Z-axis direction via the movable part of the linear guide which is not shown in figure which was provided in this support plate 15. As shown in FIG. The paste container 13 is detachably attached to the movable portion of the linear guide. Moreover, the image recognition cameras 16a and 16b for aligning the board | substrate which are not shown in figure in the upper board of the mount 1 are installed upwards.

가대(1)의 내부에는, 서보모터(8a, 8b, 10, 12, 24)(도시 생략) 등을 제어 하는 제어부(17)가 설치되어 있고, 이 제어부(17)는 케이블(21)을 거쳐 모니터(18)나 키보드(19), 퍼스널컴퓨터 본체(20)와 접속되어 있으며, 이와 같은 제어부(17)에서의 각종 처리를 위한 데이터나 키보드(19)로부터 입력되고, 화상인식 카메라 (16a, 16b)로 포착한 화상이나 제어부(17)에서의 처리상황이 모니터(18)로 표시된다.Inside the mount 1, a control unit 17 for controlling the servomotors 8a, 8b, 10, 12, 24 (not shown) and the like is provided, and the control unit 17 passes through the cable 21. It is connected to the monitor 18, the keyboard 19, and the personal computer main body 20, and is input from the data for the various processes in the control part 17, such as the keyboard 19, and image recognition cameras 16a and 16b. ) And the processing status of the control unit 17 are displayed on the monitor 18.

또 키보드(19)로부터 입력된 데이터 등은 퍼스널컴퓨터 본체(20)의 외부 기억장치에 의해 플로피디스크 등의 기억매체에 기억보관된다.Data input from the keyboard 19 is stored in a storage medium such as a floppy disk by an external storage device of the personal computer main body 20.

도 2는 도 1에 나타내는 페이스트 수납통(13)과 거리계(14)와의 부분을 확대하여 나타낸 사시도로서, 13a는 노즐, 22는 기판, 23은 페이스트패턴이며, 도 1에 대응하는 부분에는 동일부호를 붙이고 있다.FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a portion of the paste container 13 and the distance meter 14 shown in FIG. 1, wherein 13a is a nozzle, 22 is a substrate, 23 is a paste pattern, and the same reference numerals are used for the parts corresponding to FIG. Attaching.

상기 도면에 있어서, 거리계(14)는 그 하단부에 삼각형의 노치부가 있어 그 노치부에 발광소자와 복수의 수광소자가 설치되어 있다. 노즐(13a)은 거리계(14)의 노치부의 하부에 위치하고 있다. 거리계(14)는 노즐(13a)의 선단부에서 기판 (22)의 표면까지의 거리를 비접촉의 삼각측량법으로 계측한다. 즉 상기 삼각형의 노치부에서의 한쪽의 경사면에 발광소자가 설치되고, 이 발광소자로부터 방사된 레이저광(L)은 기판(22) 위의 계측점(S)에서 반사되고, 상기 노치부의 다른쪽의 경사면에 설치된 복수의 수광소자중 어느 하나로 수광된다. 따라서 레이저광(L)은 페이스트 수납통(13)이나 노즐(13a)로 차단되는 일은 없다.In the figure, the distance meter 14 has a triangular notch at its lower end, and a light emitting element and a plurality of light receiving elements are provided at the notch. The nozzle 13a is located below the notch part of the rangefinder 14. The rangefinder 14 measures the distance from the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 22 by noncontact triangulation. That is, a light emitting element is provided on one inclined surface of the notch of the triangle, and the laser light L emitted from the light emitting element is reflected at the measurement point S on the substrate 22, and on the other side of the notch portion. The light is received by any one of the plurality of light receiving elements provided on the inclined surface. Therefore, the laser beam L is not blocked by the paste container 13 or the nozzle 13a.

또 기판(22) 위에서의 레이저광(L)의 계측점(S)과 노즐(13a)의 바로 아래위치와는 기판(22) 위에서 약간의 거리(△X, △Y)만큼 어긋나나, 이 약간의 거리 (△X, △Y) 정도 어긋난 위치사이에서는 기판(22) 표면의 굴곡(요철)에 차가 없기 때문에 거리계(14)의 계측결과와 노즐(13a)의 선단부에서 기판(22)의 표면까지의 거리와의 사이에 차는 거의 존재하지 않는다. 따라서 이 거리계(14)의 측정결과에 의거하여 서보모터(12)를 제어함으로써 기판(22) 표면의 굴곡에 맞추어 노즐(13a)의 선단부에서 기판(22)의 표면까지의 거리를 소정치로 유지한다.Moreover, the measurement point S of the laser beam L on the board | substrate 22 and the position just under the nozzle 13a are shift | deviated by some distance ((DELTA) X, (DELTA) Y) on the board | substrate 22, and this slight Since there is no difference in the bending (unevenness) of the surface of the substrate 22 between the positions deviated by the distances ΔX and ΔY, the measurement results of the distance meter 14 and the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 22 There are few cars in between. Therefore, the servomotor 12 is controlled based on the measurement result of the distance meter 14 to maintain the distance from the tip of the nozzle 13a to the surface of the substrate 22 at a predetermined value in accordance with the curvature of the surface of the substrate 22. do.

도 3은 도 1에 나타낸 제어부(17)의 구성이나 페이스트 수납통(13)의 공기압의 제어, 기판(22)의 제어를 나타내는 블럭도이고, 17a는 마이크로컴퓨터, 17b는 모터컨트롤러, 17c1, 17c2는 X1, X2축 드라이버, 17d는 Y축 드라이버, 17e는 θ축드라이버, 17f는 Z축 드라이버, 17g는 데이터 통신버스, 17h는 외부 인터페이스, 24는 θ축 이동테이블(5)(도 1)을 구동하는 서보모터, 25∼29는 엔코더, 30은 정압원, 30a는 정압 레귤레이터, 31은 부압원, 31a는 부압 레귤레이터, 32는 밸브유닛이고, 도 1 및 도 2에 대응하는 부분에는 동일부호를 달고 있다.FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the controller 17 shown in FIG. 1, the control of the air pressure in the paste storage container 13, and the control of the substrate 22, where 17a is a microcomputer, 17b is a motor controller, 17c1, 17c2. Is X1, X2-axis driver, 17d is Y-axis driver, 17e is θ-axis driver, 17f is Z-axis driver, 17g is data communication bus, 17h is external interface, 24 is θ-axis moving table 5 (Fig. 1) Servo motor to drive, 25 to 29 is an encoder, 30 is a constant pressure source, 30a is a constant pressure regulator, 31 is a negative pressure source, 31a is a negative pressure regulator, 32 is a valve unit, and the same reference numerals are applied to the parts corresponding to FIGS. 1 and 2. It is sweet.

상기 도면에 있어서, 제어부(17)는 마이크로컴퓨터(17a)나 모터컨트롤러 (17b), X, Y, Z, θ의 각 축 드라이버(17c1∼17f), 화상인식 카메라(16a, 16b)로 얻어지는 영상신호를 처리하는 화상처리장치(17i), 키보드(19) 등과의 사이의 신호전송을 행하는 외부인터페이스(17h)를 내장하고 있다. 제어부(17)는 또한 기판반송컨베이어(2a, 2b)의 구동제어시스템을 포함하나, 여기서는 도시를 생략하고 있다.In the figure, the control unit 17 is an image obtained by the microcomputer 17a, the motor controller 17b, the axis drivers 17c1 to 17f of X, Y, Z, and θ, and the image recognition cameras 16a and 16b. The external interface 17h for transmitting signals between the image processing apparatus 17i for processing signals and the keyboard 19 and the like is incorporated. The control unit 17 also includes a drive control system for the substrate conveying conveyors 2a and 2b, but is not shown here.

또 마이크로컴퓨터(17a)는 도시 생략하였으나, 주연산부나 후술하는 페이스트의 도포묘화을 행하기 위한 처리프로그램을 저장한 ROM, 주연산부에서의 처리결과나 외부인터페이스(17h) 및 모터컨트롤러(17b)로부터의 입력데이터를 저장하는 RAM, 외부인터페이스(17h)나 모터컨트롤러(17b)와 데이터를 주고받는 입출력부 등을 구비하고 있다. 각 서보모터(8a, 8b, 10, 12, 24)에는 회전량을 검출하는 엔코더(25∼29)가 설치되어 있고, 그 검출결과를 X, Y, Z, 0의 각 축 드라이버 (17c1∼17f)로 되돌려 위치제어를 행하고 있다.Although not shown, the microcomputer 17a stores a ROM storing processing programs for performing application drawing of the main computing unit and the paste described later, the results of processing at the main computing unit, the external interface 17h, and the motor controller 17b. RAM for storing input data, and an input / output unit for exchanging data with an external interface 17h or motor controller 17b. Each servomotor 8a, 8b, 10, 12, 24 is provided with encoders 25 to 29 for detecting the rotation amount, and the detection results are shown for the respective axis drivers 17c1 to 17f of X, Y, Z and 0. Return to) to perform position control.

서보모터(8a, 8b, 10)가 키보드(19)로부터 입력되어 마이크로컴퓨터(17a)의 RAM에 저장되어 있는 데이터에 의거하여 정역회전함으로써 부압원(131)으로부터 분배한 부압에 의하여 기판흡착반(4)(도 1)에 진공흡착된 기판(22)에 대하여 노즐 (13a)(도 2)이 Z축 이동테이블(9)(도 1)을 거쳐, X, Y축 방향으로 임의의 거리를 이동하고, 그 이동중, 마이크로컴퓨터(17a)가 밸브유닛(32)을 제어함으로써 정압원 (30)으로부터 정압 레귤레이터(30a)와 밸브유닛(32)을 거쳐 페이스트 수납통(13)에 약간의 공기압이 인가되어, 노즐(13a)의 선단부의 토출구로부터 페이스트가 토출되어 기판(22)에 페이스트가 원하는 패턴이 도포된다. 이 Z축 이동테이블(9)의 X, Y축 방향으로의 수평이동중에 거리계(14)가 노즐(13a)과 기판(22)과의 사이의 거리를 계측하여 이 거리를 항상 일정하게 유지하도록 서보모터(12)가 Z축 드라이버 (17f)로 제어된다.The servo motors 8a, 8b, and 10 are inputted from the keyboard 19 and rotated forward and backward based on the data stored in the RAM of the microcomputer 17a. 4) The nozzle 13a (FIG. 2) moves the arbitrary distance to the X- and Y-axis directions through the Z-axis movement table 9 (FIG. 1) with respect to the board | substrate 22 vacuum-adsorbed to (FIG. 1). During the movement, a slight air pressure is applied to the paste container 13 from the constant pressure source 30 via the constant pressure regulator 30a and the valve unit 32 by controlling the valve unit 32. Then, the paste is discharged from the discharge port of the tip of the nozzle 13a, and the desired pattern of the paste is applied onto the substrate 22. During horizontal movement of the Z-axis movement table 9 in the X and Y-axis directions, the distance meter 14 measures the distance between the nozzle 13a and the substrate 22 to maintain this distance at all times. The motor 12 is controlled by the Z-axis driver 17f.

또 페이스트 도포를 행하지 않은 대기상태에서는 마이크로컴퓨터(17a)가 밸브유닛(32)을 제어함으로써 부압 레귤레이터(31a) 및 밸브유닛(32)을 거쳐 부압원 (31)이 페이스트 수납통(13)에 연통하여 노즐(13a)의 토출구으로부터 떨어져 나온 페이스트를 페이스트 수납통(13)내에 되돌린다. 이에 따라 이 토출구으로부터의 페이스트의 액 떨어짐을 방지할 수 있다. 또한 도시 생략한 화상인식 카메라로 이 노즐(13a)의 토출구을 감시하여 액 떨어짐이 생겼을 때에만 부압원(31)을 페이스트수납통(13)에 연통하도록 하여도 좋다.In the standby state where no paste is applied, the microcomputer 17a controls the valve unit 32 so that the negative pressure source 31 is connected to the paste container 13 through the negative pressure regulator 31a and the valve unit 32. The paste, which has been separated from the discharge port of the nozzle 13a, is returned to the paste container 13 through the nozzle. Thereby, the fall of the liquid of the paste from this discharge port can be prevented. Moreover, the negative pressure source 31 may communicate with the paste storage container 13 only when the liquid discharge drips by monitoring the discharge port of this nozzle 13a with the image recognition camera which is not shown in figure.

도 4는 도 1에 나타낸 페이스트 도포기에서의 본 발명에 의한 페이스트 도포방법의 일 실시형태를 나타내는 플로우차트이다.4 is a flowchart showing an embodiment of a paste coating method according to the present invention in the paste applicator shown in FIG. 1.

상기 도면에 있어서 먼저 페이스트 도포기에 전원이 투입되면(스텝 100), 그 초기설정이 실행된다(스텝 200).In the figure, when power is first supplied to the paste applicator (step 100), the initial setting is executed (step 200).

이 초기설정에서는 도 1에 있어서, 서보모터(8a, 8b, 10)에 의하여 Z축 이동테이블(9)을 X, Y 방향으로 이동시켜 소정의 기준위치에 위치 결정하여 노즐(13a) (도 2)을 그 페이스트 토출구가 페이스트를 토출개시시키는 위치(즉, 페이스트 도포 개시점)에 위치를 잡도록 소정의 원점위치로 설정하나, 또한 페이스트패턴 묘화의 대상으로 하는 기판(이하, 실기판이라 함)에 도포묘화하는 1 이상의 페이스트패턴마다의 데이터(이하, 페이스트패턴 데이터라 하고, 이것은 실기판에 도포형성하는 페이스트패턴을 구성하는 일련의 위치데이터로 이루어짐)와 이 페이스트패턴마다의 도포조건의 데이터가 입력된다. 이들 데이터의 입력은 키보드(19)(도 1)로 행하여지고, 입력된 이들 데이터는 마이크로컴퓨터(17a)(도 3)에 내장된 RAM에 저장된다.In this initial setting, in Fig. 1, the Z-axis moving table 9 is moved in the X and Y directions by the servomotors 8a, 8b and 10 to position the nozzle 13a at a predetermined reference position (Fig. 2). ) Is set to a predetermined origin position so that the paste discharge port is positioned at the position at which the paste is discharged (i.e., the paste coating start point), but is also placed on a substrate (hereinafter referred to as a real substrate) to which the paste pattern is to be drawn. Data for one or more paste patterns to be applied for drawing (hereinafter, referred to as paste pattern data) is composed of a series of positional data constituting a paste pattern to be coated and formed on a real substrate, and data of application conditions for each paste pattern are inputted. do. Input of these data is performed by the keyboard 19 (FIG. 1), and these input data are stored in RAM built in the microcomputer 17a (FIG. 3).

이 도포조건은 현재 하나의 실기판에 도포묘화하는 페이스트패턴이 m 개(단, m은 1 이상의 정수)있다고 하면, 도 5에 나타내는 바와 같이 이들 페이스트패턴을 패턴 No. 1, 2, …, …, m의 페이스트패턴으로 하고, 각각의 페이스트패턴마다 실기판에 실제로 페이스트를 도포할 때의 이 실기판과 노즐과의 사이의 상대속도(이것을 도포속도라 하나, 특히 이 경우의 도포속도를 초기설정 도포속도라 함)와, 노즐로부터의 페이스트토출량을 결정하는 페이스트 수납통(13)에 인가되는 압력(이것을 도포압력이라 하나, 특히 이 경우의 도포압력을 초기설정 도포압력이라 함)과, 기판표면으로부터의 노즐의 높이(이것을 도포높이라 하나, 특히 이 경우의 도포높이를 초기설정 도포높이라 함)와, 페이스트 토출량을 변경해야 할 위치(포인트)를 나타내는 변경포인트 등의 각 데이터로 이루어져 있다. 또한 변경포인트로서는 예를 들어 다른 부분보다도 페이스트 도포량을 많게 하여(또는 적게 하여) 도포패턴의 높이를 높게(또는 낮게)하거나 또는 패턴의 굴곡부와 같이, 직선부와 같은 높이로 페이스트를 도포하기 위하여 페이스트의 단위시간당 토출량을 변화시키도록 한 포인트 등이다.This application condition is that if there are m paste patterns (where m is an integer of 1 or more) applied to one actual substrate at present, these paste patterns are represented by the pattern No. 1, 2,... ,… m paste pattern, and the relative speed between the actual substrate and the nozzle when the paste is actually applied to the actual substrate for each paste pattern (this is referred to as the application rate, in particular, the application speed in this case) is initially set. The application speed to the paste container 13 which determines the amount of paste ejected from the nozzle (this is called the application pressure, in particular the application pressure in this case is referred to as the initial application application pressure), and the substrate surface. Each of data such as the height of the nozzle from the nozzle (this is referred to as application height, in particular, the application height in this case is referred to as the initial application application height), and a change point indicating a position (point) at which the paste discharge amount should be changed. As a change point, for example, the paste is applied in order to increase (or decrease) the coating pattern higher (or lower) than other portions, or to apply the paste at the same height as the straight line, such as the bent portion of the pattern. Is a point at which the discharge amount per unit time is changed.

여기서 각 페이스트패턴에서 변경포인트가 n 개(단, n은 O 또는 1 이상의 정수)있는 것으로 하고 있고, 각각의 변경포인트를 변경포인트1, 2, …, …, n으로 하고 있다. 이 경우, 이와 같은 변경포인트의 실기판 위에서의 위치는, 패턴 번호 i(단, i = 1, 2, …, …, m)의 페이스트 패턴에 관해서는 변경포인트 1 = (Xi1, Yil), 변경포인트 2 = (Xi2, Yi2), …, …, 변경포인트 n = (Xin, Yin)이다. 예를 들어 패턴넘버 1의 페이스트패턴의 경우, 각각의 변경포인트는 변경포인트 1 = (X11, Yl1), 변경포인트 2 = (X12, Y12), …, …, 변경포인트 n = (Xln, Yln)이다.Here, it is assumed that there are n change points in each paste pattern (where n is O or an integer of 1 or more), and each change point is changed to change points 1, 2,... ,… and n. In this case, the position of the change point on the actual substrate is changed to change point 1 = (Xi1, Yil) for the paste pattern of pattern number i (where i = 1, 2, ..., m). Point 2 = (Xi2, Yi2),... ,… , Change point n = (Xin, Yin). For example, in the case of a paste pattern of pattern number 1, each change point is changed point 1 = (X11, Y1), change point 2 = (X12, Y12),... ,… , Change point n = (Xln, Yln).

또 도포높이의 데이터는 변경포인트와 그 이외의 위치에 각각 설정되는 것으로, 도 5도에 있어서는 도포높이 1, 2가 설정되어 있고, 도포높이 2가 변경포인트 (1∼n)에서의 도포높이를 규정하는 것, 도포높이 1이 그 이외의 위치에서의 도포높이를 규정하는 것으로 하고 있다. 물론 변경포인트 사이에서 도포높이가 다른, 즉 어느 변경포인트로부터 다음 변경포인트까지는 같은 도포높이가 유지되는 경우에는 각각의 변경포인트사이 마다의 도포높이가 설정된다. 이 변경포인트(1∼n)의 위치데이터는 상기 페이스트패턴 데이터중 어느 하나이며, 페이스트패턴상의 어느 길이를 가지는 소정의 영역에서 도포높이를 변경하는 경우에는 그 영역의 위치데이터 모두가 변경포인트로서 도포조건으로 설정된다.In addition, the data of the application height are set at the change point and other positions, respectively, in FIG. 5, application heights 1 and 2 are set, and application height 2 is the application height at the change points 1 to n. The prescribed height and the application height 1 define the application height at other positions. Of course, when the application height is different between the change points, that is, when the same application height is maintained from one change point to the next, the application height is set between each change point. The position data of the change points 1 to n is any of the paste pattern data. When the application height is changed in a predetermined area having a certain length on the paste pattern, all of the position data of the area is applied as the change point. It is set as a condition.

또한 도 5에 나타내지 않았으나, 도포조건에는 도포패턴 이동데이터나 개시점좌표, 종점좌표, 도포한 페이스트 패턴의 계측위치데이터, 색백압력 등도 설정된다.Although not shown in FIG. 5, the coating pattern movement data, starting point coordinates, end point coordinates, measurement position data of the applied paste pattern, color back pressure, and the like are also set in the coating conditions.

이상의 초기설정(스텝 200)이 종료하면, 다음에 실기판을 기판흡착반(4)(도 1)에 탑재하여 흡착유지시킨다(스텝 300). 이 기판탑재에서는 기판반송 컨베이어 (2a, 2b)(도 1)에 의하여 실기판이 X축방향으로 기판흡착반(4)의 윗쪽까지 반송되어 도시 생략한 승강수단에 의하여 이들 기판반송 컨베이어(2a, 2b)를 하강시킴으로써 실기판을 기판흡착반(4)에 얹어 놓는다.When the above initial setting (step 200) is completed, the actual substrate is next mounted on the substrate adsorption board 4 (FIG. 1) and held by adsorption (step 300). In this board mounting, the board | substrate conveying conveyors 2a and 2b (FIG. 1) are conveyed to the upper side of the board | substrate adsorption board 4 in the X-axis direction, and these board | substrate conveying conveyors 2a and 2b are carried out by the lifting means which are not shown in figure. The lower substrate is placed on the substrate adsorption board 4 by lowering the?

다음에 기판예비위치결정(스텝 400)을 행한다. 이 처리에서는 도 1에 있어서 도시 생략한 위치결정척에 의하여 이 실기판의 X, Y 방향의 위치맞춤이 행하여진다. 또 기판흡착반(4)에 적재된 실기판의 위치결정용 마크를 화상인식카메라 (16a, 16b)로 촬영하여 위치결정용 마크의 중심위치를 화상처리로 구하고 실기판의 θ방향에서의 경사를 검출하여 이것에 따라 서보모터(24)(도 3)를 구동하여 그 θ 방향의 경사도 보정한다.Subsequently, the substrate preliminary positioning (step 400) is performed. In this process, alignment of the real substrate in the X and Y directions is performed by a positioning chuck not shown in FIG. In addition, the positioning marks of the actual substrates mounted on the substrate adsorption board 4 are photographed by the image recognition cameras 16a and 16b to obtain the center positions of the positioning marks by image processing, and the inclination of the actual substrates in the θ direction is determined. The servomotor 24 (FIG. 3) is driven accordingly, and the inclination of the θ direction is corrected accordingly.

또한 페이스트 수납통(13)내의 페이스트잔량이 적어져 페이스트패턴의 도포동작중에 페이스트가 도중에 끊길 가능성이 있는 경우에는 미리 페이스트 수납통 (13)을 노즐(13a)과 함께 교환하나, 노즐(13a)을 교환하였을 때에는 그 교환전과 비교하여 설치위치의 위치어긋남이 생겨 재현성이 손상되는 일도 있다. 그래서 재현성을 확보하기 위하여 실기판상의 페이스트를 도포하지 않은 개소에 교환한 새로운 노즐(13a)을 사용하여 십자형상으로 페이스트를 도포하고, 이 십자도포패턴의 교차점의 중심위치를 화상처리로 구하여 이 중심위치와 실기판 위의 위치결정용 마크의 중심위치와의 사이의 거리를 산출하여 이것을 노즐(13a)의 페이스트 토출구의 위치어긋남 량(dx, dy)(도 2)으로 하여 마이크로컴퓨터(17a)에 내장한 RAM에 저장한다.In addition, when the remaining amount of paste in the paste container 13 is small and there is a possibility that the paste may be cut off in the middle of the paste pattern coating operation, the paste container 13 is replaced with the nozzle 13a in advance, but the nozzle 13a is replaced with the nozzle 13a. In the case of replacement, the positional shift of the installation position may occur as compared with before replacement, which may impair reproducibility. Therefore, in order to ensure reproducibility, the paste is applied in the shape of a cross using a new nozzle 13a which is replaced in a place where the paste on the actual substrate is not applied, and the center position of the intersection point of the cross coating pattern is obtained by image processing. The distance between the position and the center position of the positioning mark on the actual substrate is calculated and the microcomputer 17a is used as the displacement amount (dx, dy) (Fig. 2) of the paste discharge port of the nozzle 13a. Store in the built-in RAM.

이상이 실기판에 대한 기판예비위치결정(스텝 400)이며, 이와 같은 노즐 (13a)의 위치어긋남 량(dx, dy)을 사용하여, 나중에 행하는 페이스트패턴의 도포묘화시에서의 노즐(13a)의 위치어긋남을 보정하도록 한다.The above is the preliminary positioning of the substrate with respect to the actual substrate (step 400), and the nozzle 13a at the time of application of the paste pattern to be performed later is made by using the displacement amounts (dx, dy) of the nozzle 13a. Correct the position shift.

다음에 패턴 No. 1의 페이스트패턴 데이터로부터 순서대로 페이스트의 패턴도포(스텝 500)을 행한다. 이것을 도 6에 의하여 상세하게 설명한다.Next, the pattern No. The paste pattern coating (step 500) is performed in sequence from the paste pattern data of 1. This will be described in detail with reference to FIG. 6.

상기 도면에 있어서 먼저, 도포조건의 설정을 행한다(스텝 501). 여기서 마이크로컴퓨터(17a)(도 3)의 RAM에는, 각 페이스트패턴의 페이스트패턴 데이터와 도 5에 나타내는 것 같은 도포조건이 저장된 기억테이블이 설치되어 있으나, 이 스텝(501)은 도포묘화하고자 하는 페이스트패턴의 페이스트패턴 데이터와 도포조건을 이 기억테이블로부터 판독하여 상기 RAM의 소정의 영역에 마이크로컴퓨터(17a)에 의해 사용가능하게 보존되는 것이다. 여기서는 먼저, 패턴 No. 1의 페이스트패턴을 도포묘화하는 것이므로 이 경우의 도포조건은 도 5에 의하여 도포속도 = V1, 도포압력 = P1, 도포높이 1 = H11, 도포높이 2 = H12, 변경포인트좌표 1 = (X11, Yl1),변경포인트좌표 2 =(X12, Y12),…, …, 변경포인트좌표 n = (Xln, Yln)이 기억테이블로부터 판독되어 상기 RAM의 소정의 영역에 마이크로컴퓨터(17a)에 의해 사용가능하게 보존된다.In the drawing, first, application conditions are set (step 501). Here, in the RAM of the microcomputer 17a (FIG. 3), there is provided a storage table in which paste pattern data of each paste pattern and application conditions as shown in FIG. 5 are stored. The paste pattern data and application conditions of the pattern are read out from this storage table and stored in the predetermined area of the RAM so as to be usable by the microcomputer 17a. Here, first, the pattern No. Since the paste pattern of 1 is applied and drawn, the application conditions in this case are shown in FIG. 5 as follows: coating speed = V1, coating pressure = P1, coating height 1 = H11, coating height 2 = H12, change point coordinate 1 = (X11, Yl1 ), Change point coordinate 2 = (X12, Y12),... ,… The change point coordinate n = (Xln, Yln) is read out from the storage table and stored in the predetermined area of the RAM for use by the microcomputer 17a.

이와 같은 도포조건의 설정이 끝나면, 다음에 서보모터(8a, 8b, 10)(도 1)를 구동하여, 묘화(도포)개시점상으로 노즐(13a)을 이동시킨다(스텝 502). 이 도포개시위치에 노즐(13a)의 토출구을 위치잡기 위하여 Z축 이동테이블(9)(도 1)을 이동시켜, 노즐위치의 비교, 조정이동을 행하나, 이 때문에 앞의 기판예비위치결정(도 4의 스텝 400)으로 얻어져 마이크로컴퓨터(17a)의 RAM에 저장된 노즐(13a)의 위치 어긋남 량(dx, dy)이 도 2에 나타낸 노즐(13a)의 위치어긋남 량의 허용 범위(△X, △Y)내에 있는 지의 여부의 판단을 행한다. 이 위치어긋남 량(dx, dy)이 허용범위내(즉, △X ≥dx 및 △Y ≥dy)이면 그대로 하고, 허용범위밖(즉, △X < dx 또는 △Y < dy)이면 이 위치어긋남 량(dx, dy)을 기초로 Z축 이동테이블(9)를 이동시켜 페이스트 수납통(13)을 조정함으로써 노즐(13a)의 페이스트 토출구와 실기판의 소망위치와의 사이의 위치어긋남을 해소시켜 노즐(13a)을 소망위치에 초기위치결정한다.After the setting of the application conditions is completed, the servo motors 8a, 8b and 10 (FIG. 1) are driven next to move the nozzle 13a on the starting point of drawing (application) (step 502). In order to position the ejection opening of the nozzle 13a at this application start position, the Z-axis movement table 9 (FIG. 1) is moved to perform the comparison and adjustment movement of the nozzle position. The positional displacement amount (dx, dy) of the nozzle 13a obtained in step 400 of 4 and stored in the RAM of the microcomputer 17a is a permissible range (ΔX,) of the positional displacement amount of the nozzle 13a shown in FIG. It is judged whether or not in ΔY). If the amount of displacement (dx, dy) is within the allowable range (i.e., ΔX ≥ dx and ΔY ≥ dy), it remains as it is, and if it is out of the allowable range (i.e., ΔX <dx or ΔY <dy), the positional deviation By moving the Z-axis moving table 9 based on the amounts dx and dy to adjust the paste container 13, the position shift between the paste discharge port of the nozzle 13a and the desired position of the actual substrate is eliminated. The nozzle 13a is initially positioned at a desired position.

다음에 서보모터(12)(도 1)를 구동하여 노즐(13a)의 높이설정을 행한다(스텝 503). 이 설정되는 높이는 이미 상기 RAM의 기억테이블로부터 판독된 패턴 No.1의 도포조건로 설정되어 있는 도포높이 1(구체적으로는 도 5의 높이 Hl1)이며, 노즐 (13a)의 토출구로부터 실기판의 표면까지의 거리가 이 도포높이(Hl1)로 설정된다.Next, the servomotor 12 (FIG. 1) is driven to set the height of the nozzle 13a (step 503). The set height is the coating height 1 (specifically, the height H1 in Fig. 5) which is already set on the coating condition of pattern No. 1 read from the storage table of the RAM, and the surface of the actual substrate from the discharge port of the nozzle 13a. The distance to is set at this coating height H1.

이상의 처리가 종료하면, 다음에 마이크로컴퓨터(17a)의 RAM에 저장되어 있는 페이스트패턴 데이터에 의거하여 서보모터(8a, 8b, 10)(도 1)가 구동되고, 이에 따라 노즐(13a)의 페이스트 토출구가 실기판에 대향한 상태에서 이 페이스트패턴 데이터에 따라 X, Y 방향으로 이동한다(스텝 504). 또 밸브유닛(32)(도 3)을 거쳐 정압원(30)(도 3)으로부터 페이스트 수납통(13)에 정압 레귤레이터(30a)(도 3)에 의하여 상기 패턴 No.1의 도포조건에서의 도포압력(P1)으로 조정된 공기압이 인가되어 노즐(13a)의 페이스트 토출구로부터 페이스트가 토출되기 시작한다(스텝 505). 이 때 페이스트가 토출직전에 밸브유닛(32)(도 3)을 거쳐 부압원(31)(도 3)으로부터 페이스트 수납통(13)에 부압 레귤레이터(31a)(도 3)에 의하여 색백압력으로 조정된 부압을 약간 시간인가하여, 노즐(13a)의 페이스트 토출구에 고여 있는 페이스트를 빨아 들이면, 시단부에서는 페이스트가 고이는 일 없이 도포할 수 있다.After the above processing is finished, the servomotors 8a, 8b, 10 (FIG. 1) are driven based on the paste pattern data stored in the RAM of the microcomputer 17a, and thus the paste of the nozzle 13a is pasted. The discharge port is moved in the X and Y directions in accordance with the paste pattern data in a state where the discharge port is opposed to the real substrate (step 504). In addition, through the valve unit 32 (FIG. 3) from the positive pressure source 30 (FIG. 3) to the paste container 13, the static pressure regulator 30a (FIG. 3) is applied under the conditions of the application of the pattern No. 1. The air pressure adjusted to the coating pressure P1 is applied to start discharging the paste from the paste discharge port of the nozzle 13a (step 505). At this time, the paste is adjusted to the color back pressure by the negative pressure regulator 31a (Fig. 3) from the negative pressure source 31 (Fig. 3) to the paste storage container 13 via the valve unit 32 (Fig. 3) immediately before discharging. The applied negative pressure is applied for some time to suck the paste accumulated at the paste discharge port of the nozzle 13a, so that the paste can be applied at the start end without accumulation of the paste.

이와 같은 도포묘화동작의 시작과 동시에 마이크로컴퓨터(17a)는 거리계(14)로부터 노즐(13a)의 페이스트 토출구와 실기판의 표면과의 사이의 거리의 실측데이터를 도입하여 실기판의 표면의 굴곡을 측정하고, 이 측정치에 따라 서보모터(12)를 구동함으로써 도 7(a)와 같이, 실기판의 표면으로부터의 노즐(13a)의 설정높이가 일정, 즉, 상기한 패턴 No.1의 도포조건에서의 도포높이 1이 되도록 유지되어, 페이스트패턴의 도포묘화가 행하여진다(스텝 506).At the same time as the application of the drawing operation, the microcomputer 17a introduces the measurement data of the distance between the distance between the paste ejection port of the nozzle 13a and the surface of the real substrate from the rangefinder 14 to correct the curvature of the surface of the real substrate. By measuring and driving the servomotor 12 according to the measured value, as shown in Fig. 7 (a), the set height of the nozzle 13a from the surface of the actual substrate is constant, that is, the application condition of the pattern No. 1 described above. The application height is maintained so as to be 1, and the application of the paste pattern is performed (step 506).

또 마이크로컴퓨터(17a)는 실기판 위에서의 페이스트패턴의 도포위치, 즉 좌표를 모터컨트롤러(17b)로부터 판독하여(스텝 507), 상기 패턴 No.1의 도포조건에서의 변경포인트 1(X11, Yl1)에 도달하였는 지의 여부를 판정한다(스텝 508).In addition, the microcomputer 17a reads the application position of the paste pattern on the actual substrate, that is, the coordinates from the motor controller 17b (step 507), and changes point 1 (X11, Yl1 in the application conditions of the pattern No. 1). ) Is determined (step 508).

이 변경포인트 1에 도달하면, 실기판의 페이스트 도포면과 노즐과의 사이의 간격을 상기 패턴 No.1의 도포조건의 도포높이 1 = Hl1로부터 도포높이 2 = H12로 변경한다(스텝 509). 이것은 서보모터(12)를 구동함으로써 행하여진다. 도 7(b)는 이 변경포인트 1에서의 상태를 나타내는 것으로 여기서는 Hl1 > H12로 되어 있다. 변경포인트 1, 2, …, …로 계속되는 경우에는 그동안 도포높이 2 = H12가 설정되면서 페이스트패턴의 도포묘화가 계속실행된다.When this change point 1 is reached, the space | interval between the paste application surface of a real board | substrate and a nozzle is changed into the application height 2 = H12 from application height 1 = Hl1 of the application condition of the said pattern No.1 (step 509). This is done by driving the servomotor 12. Fig. 7 (b) shows the state at the change point 1, where H1 > H12. Change points 1, 2,... ,… In the case where it is continued, the application height of the paste pattern is continued while the application height 2 = H12 is set.

여기서 도 7(b)에 도시한 바와 같이 도포높이가 낮아지는 변경포인트에서는 도포속도 및 도포압력에 변경이 없으면, 노즐(13a)로부터 토출된 페이스트는 실기판으로부터의 반작용의 힘을 받아 토출저항이 커지기 때문에 노즐(13a)로부터 토출되기 어렵게 되어 도포높이를 내린 것 만큼 페이스트의 도포량이 감소하게 된다. 반대로 도포높이 2 = H12가 도포높이 1 = Hl1보다도 높아지는 경우에는 노즐(13a)이 실기판으로부터 이간되기 때문에 이 실기판으로부터의 반작용력이 작아져 토출저항이 작아지고, 이 때문에 페이스트가 노즐(13a)로부터 나오기 쉽게 되어 페이스트의 도포량은 증대하게 된다. 따라서 도포속도나 도포압력, 도포높이 1, 도포높이 2 등의 값과 변경포인트의 위치좌표와의 관계를 도 5에 나타낸 도포조건으로서 설정하여, 마이크로컴퓨터(17a)의 RAM 에서의 기억테이블에 저장하여 둠으로써 페이스트패턴의 임의의 위치에서의 페이스트의 도포높이의 조절을 하여, 실기판 위에서의 페이스트의 도포량을 조절할 수 있게 된다.Here, as shown in Fig. 7 (b), at the change point at which the coating height is lowered, if there is no change in the application speed and the application pressure, the paste discharged from the nozzle 13a is subjected to the reaction force from the actual substrate and the discharge resistance is increased. Since it becomes large, it becomes difficult to discharge from the nozzle 13a, and the coating amount of paste reduces as much as the application height was lowered. On the contrary, when the coating height 2 = H12 becomes higher than the coating height 1 = Hl1, since the nozzle 13a is separated from the actual substrate, the reaction force from the actual substrate becomes small and the discharge resistance becomes small, which causes the paste to form the nozzle 13a. It is easy to come out from the), and the application amount of the paste increases. Therefore, the relationship between the application speed, application pressure, application height 1, application height 2, and the like and the position coordinates of the change point are set as application conditions shown in Fig. 5 and stored in a storage table in the RAM of the microcomputer 17a. By adjusting the application height of the paste at any position of the paste pattern, the application amount of the paste on the actual substrate can be adjusted.

이와 같이 하여 페이스트패턴의 도포묘화가 진행되나, 페이스트패턴의 도포묘화동작을 계속할 지, 종료할 지의 판정이 도포점이 페이스트패턴 데이터에 의하여 결정되는 도포해야 할 페이스트패턴의 종단인 지의 여부의 판단에 의하여 결정되고(스텝 510), 종단이 아니면 다시 실기판의 표면 굴곡의 측정처리, 즉 도포높이 제어(스텝 506)로 되돌아가고, 이어서 좌표확인(스텝 507)을 실행한다. 그리고 변경포인트에 도달할 때마다 도포높이의 변경을 행하여 변경포인트(n)까지 도포높이의 변경을 행한다.In this way, the application of the paste pattern is performed. However, the determination of whether to continue or terminate the application of the paste pattern is performed by determining whether the coating point is the end of the paste pattern to be applied, which is determined by the paste pattern data. If it is determined (step 510), if it is not the end, it returns to the measurement process of the surface curvature of a real board, ie, application | coating height control (step 506), and then performs coordinate confirmation (step 507). Each time the change point is reached, the application height is changed to change the application height up to the change point n.

이하, 상기 각 공정을 반복하여 페이스트패턴의 도포종단에 도달하면, 밸브유닛(32)(도 3)을 거쳐 정압원(30)(도 3)으로부터 페이스트 수납통(13)에 정압 레귤레이터(30a)(도 3)에 의하여 도포압력(P1)으로 조정된 공기압의 인가를 정지하고, 노즐(13a)의 페이스트 토출구로부터의 페이스트 토출을 정지한다(스텝 511).Hereinafter, when the above steps are repeated to reach the end of the application of the paste pattern, the constant pressure regulator 30a is transferred from the constant pressure source 30 (FIG. 3) to the paste container 13 through the valve unit 32 (FIG. 3). Application of the air pressure adjusted to the coating pressure P1 by FIG. 3 is stopped, and paste discharge from the paste discharge port of the nozzle 13a is stopped (step 511).

이와 같은 페이스트패턴의 도포동작은 설정된 m 개의 페이스트패턴 데이터의 모두가 종료할 때까지 행하여지고(스텝 512), 마지막 패턴 No. m 의 페이스트패턴의 종단에 도달하면, 서보모터(12)를 구동하여 노즐(13a)를 상승시켜 패턴묘화동작, 즉 패턴도포(스텝 500)를 종료시킨다.This paste pattern application operation is performed until all of the set m paste pattern data are finished (step 512). When the end of the paste pattern of m is reached, the servomotor 12 is driven to raise the nozzle 13a to finish the pattern drawing operation, that is, the pattern application (step 500).

그 후, 도 4에 있어서 기판배출(스텝 600)로 진행하고, 도 1에 있어서 실기판의 기판흡착반(4)에 대한 흡착이 해제되어, 기판반송 컨베이어(2a, 2b)를 상승시키고 실기판(22)을 적재시키며, 그 상태에서 이 기판반송 컨베이어(2a, 2b)에 의하여 장치밖으로 배출한다. 그리고 전공정이 종료하였는 지의 여부를 판정한다(스텝 700). 복수매의 실기판에 동일 페이스트패턴 데이터를 사용하여 페이스트패턴을 도포묘화하는 경우에는 각각의 실기판에 대하여 기판탑재(스텝 300)로부터 반복된다. 그리고 모든 실기판에 관하여 이와 같은 일련의 처리가 종료하면, 작업이 모두 종료(스텝 800)된다.Subsequently, the process proceeds to the substrate discharge (step 600) in FIG. 4, and the adsorption to the substrate adsorption board 4 of the actual substrate is released in FIG. 1, thereby raising the substrate transport conveyors 2a and 2b and raising the actual substrate. (22) is loaded and discharged out of the apparatus by the substrate transfer conveyors 2a and 2b in this state. Then, it is determined whether or not the previous step is completed (step 700). When the paste pattern is applied and drawn on the plurality of real substrates using the same paste pattern data, the process is repeated from the substrate mounting (step 300) for each real substrate. And when such a series of processes are complete | finished with respect to all the real board | substrates, all work is complete | finished (step 800).

이상, 본 발명의 일 실시형태에 관하여 설명하였으나, 본 발명은 이와 같은 실시형태에 한정되는 것이 아니다.As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to such embodiment.

즉, 상기 실시형태에서는 노즐을 가동, 기판을 고정으로 하였으나, 노즐을 고정, 기판을 가동으로 하여도 된다.That is, in the said embodiment, although a nozzle was movable and a board | substrate was fixed, you may fix a nozzle and make a board | substrate move.

또 페이스트패턴의 곡선부에서 도포속도를 느리게 한 경우에도 느린 범위에서 도포높이를 낮게 하여 페이스트 도포량을 감소시켜 페이스트패턴 전체에 걸쳐 단위시간당 페이스트 도포량을 일정하게 할 수 있고, 소망형상의 페이스트패턴을 높은 정밀도로 도포형성하는 것도 가능하다.In addition, even when the coating speed is slowed at the curved portion of the paste pattern, the coating height is decreased in a slow range to reduce the paste coating amount, so that the paste coating amount per unit time is constant throughout the paste pattern, and the desired paste pattern is high. It is also possible to apply | coat and form with precision.

또한 도포압력을 일정하게 하여 도포높이를 높게 하고, 이것에 맞추어 도포속도를 높게 하면, 단위거리당 페이스트 도포량은 변화되지 않고, 형성되는 페이스트패턴의 선폭은 일정하기 때문에, 응답성이 나쁜 도포압력의 조정을 묘화의 도중에 행하는 일 없이, 도포높이와 도포속도와의 조합으로부터 높은 신뢰성을 유지하면서 소망의 페이스트패턴의 도포묘화시간을 단축하여 생산성을 높일 수 있다.If the coating pressure is made constant and the coating height is made high and the coating speed is made high, the paste coating amount per unit distance does not change, and the line width of the formed paste pattern is constant. The productivity can be increased by shortening the application drawing time of the desired paste pattern while maintaining high reliability from the combination of application height and application speed without adjusting the adjustment in the middle of the drawing.

또 도포압력을 일정하게 하여 도포속도를 일정하게 유지한 채로 도포높이를 높게 하거나 또는 낮게 하면, 단위거리당 페이스트 도포량은 증가 또는 감소하게 되기 때문에 응답성이 나쁜 도포압력의 조정을 묘화중에 하지 않고, 선폭을 원하는 위치에서 변경한 페이스트패턴을 얻을 수 있다.In addition, if the coating height is increased or decreased while the coating pressure is kept constant, the application amount of paste per unit distance is increased or decreased. A paste pattern can be obtained by changing the line width at a desired position.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면 급준한 도포량 조정이 용이해져 소망형상의 페이스트패턴을 정밀도 좋게 형성할 수 있다.As described above, according to the present invention, steep application amount adjustment can be easily performed, and the desired paste pattern can be formed with high accuracy.

Claims (4)

노즐(13a)의 토출구에 대향하도록 하여 기판(22)을 테이블(4) 위에 얹어 놓고, 상기 기판(22)의 주면에 수직인 방향에서의 상기 노즐(13a)과 상기 기판(22)과의 사이를 소망의 거리를 가지게 하여, 페이스트 수납통(13)에 충전한 페이스트를 상기 토출구로부터 상기 기판(22) 위로 토출시키면서, 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계를 변화시킴으로써, 상기 기판(22) 위에 소망형상의 페이스트패턴(23)을 묘화하는 페이스트도포기에 있어서,The substrate 22 is placed on the table 4 so as to face the discharge port of the nozzle 13a, and between the nozzle 13a and the substrate 22 in a direction perpendicular to the main surface of the substrate 22. At a desired distance, while discharging the paste filled in the paste container 13 from the discharge port onto the substrate 22, the substrate 22 of the substrate 22 and the nozzle 13a In the paste applicator which draws the desired paste pattern 23 on the said board | substrate 22 by changing the relative positional relationship in the direction parallel to a main surface, 페이스트패턴(23)의 도포량에 대응하는 상기 기판(22)의 주면에 수직인 방향에서의 상기 노즐(13a)과 상기 기판(22)과의 거리와 페이스트패턴(23)의 도포량을 변경하는 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)와의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치와의 관계를 나타내는 데이터를 기억하는 기억수단(17a의 RAM)과,The substrate for changing a distance between the nozzle 13a and the substrate 22 and a coating amount of the paste pattern 23 in a direction perpendicular to the main surface of the substrate 22 corresponding to the coating amount of the paste pattern 23. Storage means (RAM of 17a) for storing data indicating a relationship between the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the nozzle 22 and the nozzle 13a; 묘화중의 페이스트패턴(23)에 있어서의 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치를 검출하는 검출수단(17a에서 행하는 스텝 507)과,Step 507 performed by detection means 17a for detecting the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the substrate 22 and the nozzle 13a in the paste pattern 23 during drawing )and, 상기 검출수단(17a)에서 검출한 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치가 페이스트패턴(23)의 도포량을 변경하는 상대위치인 경우, 상기 기억수단(17a)에 기억된 상기 데이터로부터 그 상대위치에 대응한 페이스트패턴(23)의 도포량에 대응하는 상기 기판(22)의 주면에 수직인 방향에서의 상기 노즐(13a)과 상기 기판(22)과의 거리로 변경하는 거리변경수단(17a에서 행하는 스텝 509)을 구비한 것을 특징으로 하는 페이스트 도포기.The storage means when the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate 22 with the nozzle 13a detected by the detection means 17a is a relative position that changes the application amount of the paste pattern 23. The nozzle 13a and the substrate 22 in a direction perpendicular to the main surface of the substrate 22 corresponding to the application amount of the paste pattern 23 corresponding to the relative position from the data stored in 17a; A paste applicator, comprising: distance changing means (step 509 performed in 17a) for changing to a distance of? 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 페이스트 수납통(13)에 충전한 페이스트에 소망의 일정한 도포압력을 인가하는 수단(30a)을 구비한 것을 특징으로 하는 페이스트 도포기.A paste applicator, comprising means (30a) for applying a desired constant coating pressure to a paste filled in a paste container (13). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 변경하는 변화량 변경수단을 구비하고,Change amount changing means for changing a change amount per unit time of a relative positional relationship in a direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the substrate 22 and the nozzle 13a, 상기 변화량 변경수단이 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 변경시키는 경우에 상기 거리변경수단(17a에서 행하는 스텝 509)은 상기 변화량의 변경에 비례시켜 상기 기판(22)의 주면에 수직인 방향에서의 상기 노즐(13a)과 상기 기판(22)과의 거리를 변경하는 것을 특징으로 하는 페이스트 도포기.In the distance changing means 17a when the change amount changing means changes the change amount per unit time of the relative positional relationship in a direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the substrate 22 and the nozzle 13a. And the step (509) to be carried out changes the distance between the nozzle (13a) and the substrate (22) in a direction perpendicular to the main surface of the substrate (22) in proportion to the change of the change amount. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 변경하는 변화량 변경수단을 구비하고,Change amount changing means for changing a change amount per unit time of a relative positional relationship in a direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the substrate 22 and the nozzle 13a, 상기 검출수단(17a)에서 검출한 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치가 페이스트패턴(23)의 도포량을 변경하는 상대위치인 경우, 상기 거리변경수단(17a에서 행하는 스텝 509)은 상기 변화량 변경수단에 상기 기판(22)과 상기 노즐(13a)과의 상기 기판(22)의 주면과 평행인 방향에서의 상대위치관계의 단위시간당 변화량을 유지시킨 채로 상기 기판(22)의 주면에 수직인 방향에서의 상기 노즐(13a)과 상기 기판(22)과의 거리를 크게 하거나 또는 작게 하는 것을 특징으로 하는 페이스트 도포기.The distance change when the relative position in the direction parallel to the main surface of the substrate 22 with the nozzle 13a detected by the detection means 17a is a relative position that changes the application amount of the paste pattern 23. Step 509 performed in the means 17a causes the change amount changing means to maintain the change amount per unit time of the relative positional relationship in the direction parallel to the main surface of the substrate 22 between the substrate 22 and the nozzle 13a. And a distance between the nozzle (13a) and the substrate (22) in a direction perpendicular to the main surface of the substrate (22) is increased or decreased.
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