JPH091026A - Paste coating machine - Google Patents

Paste coating machine

Info

Publication number
JPH091026A
JPH091026A JP7157819A JP15781995A JPH091026A JP H091026 A JPH091026 A JP H091026A JP 7157819 A JP7157819 A JP 7157819A JP 15781995 A JP15781995 A JP 15781995A JP H091026 A JPH091026 A JP H091026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
paste
substrate
discharge port
positioning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7157819A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Ishida
茂 石田
Haruo Sankai
春夫 三階
Yukihiro Kawasumi
幸宏 川隅
Fukuo Yoneda
福男 米田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Techno Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Priority to JP7157819A priority Critical patent/JPH091026A/en
Priority to US08/664,120 priority patent/US5932012A/en
Priority to KR1019960023350A priority patent/KR100229855B1/en
Publication of JPH091026A publication Critical patent/JPH091026A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PURPOSE: To accurately draw a paste pattern by specifically setting the position relation between a nozzle and a base sheet even if the position of the outlet of the nozzle is changed by exchanging the nozzle. CONSTITUTION: A point P0 is the center of the field of view of a camera and X is the distance from this point P0 to the position directly below the outlet of a nozzle with no positional deviation. Then, a temporary base sheet is arranged so as to be able to photograph it by means of a camera and then, this temporary base sheet is moved by a distance X and a paste is dropped down on the temporary base sheet from the outlet of the nozzle to apply a dotting paste P1 and in addition, dotting paste P3 and P5 and dotting pastes P2 and P4 are respectively applied at the positions of ±DX and ±DY from the dotting paste P1. Then, the temporary base sheet is moved in the reverse direction of the above described direction by the distance X and the positional deviations of these dottings P1-P5 are detected by using the point P0 as a reference to obtain the amt. of the positional deviation of the outlet on the nozzle. The positional relation between the base sheet on which a pattern is actually formed and the nozzle is adjusted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板上に所望のパター
ン形状にペーストを塗布描画するペースト塗布機に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste applicator for applying and drawing a paste in a desired pattern on a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】ペースト収納筒の先に設けられたノズル
からペーストを吐出させながら、ノズルと基板との上下
並びに前後左右方向の相対位置関係を変化させることに
より、基板上に所望パターン形状のペースト膜を描画す
る技術が知られており、例えば、特開平2ー52742
号公報に示される技術は、ノズルに対して基板を相対的
に移動させ、また、ノズルと基板の間隙を調節しつつ、
ノズルから基板上に抵抗ペーストを吐出させ、所望の抵
抗パターンを形成するものである。
2. Description of the Related Art A paste having a desired pattern shape is formed on a substrate by changing the relative positional relationship between the nozzle and the substrate in the vertical and front-back and left-right directions while discharging the paste from a nozzle provided at the tip of a paste storage cylinder. Techniques for drawing a film are known, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 52742/1990.
The technique disclosed in Japanese Patent Publication moves the substrate relative to the nozzle and adjusts the gap between the nozzle and the substrate,
A desired resistance pattern is formed by discharging a resistance paste from a nozzle onto a substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】所望パターンの描画を
行なってペースト収納筒からペーストがほとんど吐出さ
れてしまい、次の基板でのパターンの描画の途中でペー
ストが切れてしまう恐れがあるが、このような場合、描
画の途中でそのペースト収納筒にペーストを充填するこ
とは、精密機器としての構成上問題があるので、上記の
ような従来のペースト塗布機では、次の基板での描画に
先立って、新たにペーストが満たされたペースト収納筒
に交換できるようにするのが普通である。この場合、ペ
ースト収納筒とノズルは一体になっており、従って、ノ
ズルも同時に交換される。このような交換を、以下、ノ
ズルの交換という。
Although a desired pattern may be drawn and the paste may be almost discharged from the paste container, the paste may be cut off during the drawing of the pattern on the next substrate. In such a case, filling the paste storage cylinder with paste in the middle of drawing has a problem in the configuration as a precision device.Therefore, in the conventional paste applicator as described above, prior to drawing on the next substrate, It is usually possible to replace the paste storage cylinder with a new paste. In this case, the paste container and the nozzle are integrated, so that the nozzle is also replaced at the same time. Hereinafter, such replacement is referred to as replacement of the nozzle.

【0004】このような場合、ペースト収納筒やノズル
などの加工精度やこれらの取付け精度のばらつきによ
り、ノズル交換の前後でノズル吐出口の基板に対する相
対位置が変動し、基板の所望位置からペーストの塗布描
画を行なうことができないことが多かった。
In such a case, the relative position of the nozzle discharge port with respect to the substrate changes before and after the nozzle replacement due to variations in the processing accuracies of the paste accommodating cylinders and nozzles and the mounting accuracy of these, and the paste is moved from the desired position on the substrate. In many cases, coating drawing could not be performed.

【0005】そこで、例えば、液晶表示装置の液晶封止
基板にシール材をパターン描画塗布する場合には、シー
ル材のパターンに位置ずれがあると、基板同士を重ねた
ときに、表示画素の一部がシール材のパターンの外側に
位置するような場合も起り、画面上に正しい表示をする
ことができなくなる恐れがある。
Therefore, for example, in the case of applying a sealant to a liquid crystal sealing substrate of a liquid crystal display device by pattern drawing, if the pattern of the sealant is misaligned, when the substrates are overlapped with each other, the display pixel In some cases, the portion may be located outside the pattern of the sealing material, and it may not be possible to display correctly on the screen.

【0006】本発明の目的は、かかる問題を解消し、ノ
ズル交換によってノズル吐出口の基板に対する位置変動
があっても、この基板の所定位置に正しくペーストパタ
ーンを塗布描画することができるようにしたペースト塗
布機を提供することにある。
An object of the present invention is to solve such a problem and to enable a paste pattern to be correctly applied and drawn at a predetermined position on a substrate even if the nozzle ejection port is displaced relative to the substrate due to nozzle replacement. It is to provide a paste applicator.

【0007】本発明の他の目的は、ノズル交換に伴うノ
ズル吐出口の位置変動に対して、自動的にかつ正確にノ
ズル吐出口と基板との相対位置関係を設定することがで
きるようにしたペースト塗布機を提供することにある。
Another object of the present invention is to enable the relative positional relationship between the nozzle ejection port and the substrate to be set automatically and accurately with respect to the position variation of the nozzle ejection port due to nozzle replacement. It is to provide a paste applicator.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、テーブル上に載置された基板の所望位置
に対するノズル交換時のノズルの吐出口の位置を基板へ
の互いに離れた任意数のペースト塗布点で計測する手段
と、該計測手段による各ペースト塗布点についての計測
結果からノズルを交換した際のノズル吐出口の位置変動
を算出する手段と、該算出手段で得た結果から交換後に
おけるノズル吐出口に対して上記基板を所望位置に位置
決めする手段とを設ける。
In order to achieve the above object, according to the present invention, the positions of the discharge ports of the nozzles when the nozzles are replaced with respect to the desired position of the substrate placed on the table are separated from each other. Means for measuring at an arbitrary number of paste application points, means for calculating the position variation of the nozzle discharge port when the nozzle is replaced from the measurement results for each paste application point by the measurement means, and results obtained by the calculation means And means for positioning the substrate at a desired position with respect to the nozzle discharge port after replacement.

【0009】上記算出手段は、具体的には、上記計測手
段による各ペースト塗布点についての全ての計測結果の
統計処理及び最初に塗布したペースト塗布点を除く残り
のペースト塗布点の統計処理のいずれかでノズルを交換
した際のノズル吐出口の位置変動を算出する。
Specifically, the calculating means is either statistical processing of all measurement results of each paste application point by the measuring means or statistical processing of the remaining paste application points excluding the paste application point applied first. Then, the position variation of the nozzle discharge port when the nozzle is replaced is calculated.

【0010】また、本発明は、テーブル上に載置された
基板の所望位置に対するノズル交換時のノズルの吐出口
の位置を基板への互いに離れた任意数のペースト塗布点
のうち最後に塗布したペースト塗布点で計測する手段
と、該計測手段による最後に塗布したペースト塗布点に
ついての計測結果からノズルを交換した際のノズル吐出
口の位置変動を算出する手段と、該算出手段で得た結果
から交換後におけるノズル吐出口に対して上記基板を所
望位置に位置決めする手段を設けたことにある。
Further, according to the present invention, the position of the discharge port of the nozzle at the time of exchanging the nozzle with respect to the desired position of the substrate placed on the table is applied last among the arbitrary number of paste application points separated from each other on the substrate. A means for measuring the paste application point, a means for calculating the position variation of the nozzle discharge port when the nozzle is replaced from the measurement result of the paste application point applied last by the measuring means, and the result obtained by the calculation means The means for positioning the substrate at a desired position with respect to the nozzle discharge port after replacement.

【0011】さらに、本発明は、ノズル交換の事実を記
憶する手段、該記憶手段のデータに基いてノズルの吐出
口の位置を計測しノズル吐出口の位置変動を算出して交
換後のノズル吐出口に対して上記基板を所望位置に位置
決めする手段を設けたことにある。
Further, according to the present invention, a means for storing the fact of nozzle replacement, the position of the nozzle discharge port is measured based on the data of the storage means, the position variation of the nozzle discharge port is calculated, and the nozzle discharge after replacement is performed. There is provided means for positioning the substrate at a desired position with respect to the outlet.

【0012】[0012]

【作用】ノズル吐出口に僅かに吐出したペーストを基板
上に点打ちし、画像処理技術などによりこの点打ちペー
スト位置を読取ってノズルを交換した際のノズル吐出口
の位置変動を算出しようとする場合、ノズル交換時にノ
ズル吐出口に僅かに吐出したペーストの中心がノズル吐
出口の中心に一致していることは稀で、本発明者らの検
討によると、基板上に複数回ペーストを互いに離れた位
置に複数回点打ちすると、次第にノズル吐出口に僅かに
吐出したペーストの中心がノズル吐出口の中心に一致し
ていくことが確認された。
[Function] An attempt is made to calculate the position variation of the nozzle ejection port when the nozzle is replaced by scanning the paste slightly ejected to the nozzle ejection port on the substrate, reading the position of the spotted paste by image processing technology and the like. In this case, it is rare that the center of the paste slightly ejected to the nozzle ejection port at the time of nozzle replacement coincides with the center of the nozzle ejection port. It was confirmed that the spot of the paste slightly discharged to the nozzle discharge port gradually coincided with the center of the nozzle discharge port when the spots were punctured multiple times.

【0013】この事実に基づき、新たに交換されたペー
ストが満たされたペースト収納筒のノズルから基板上に
互いに離れた任意数の点状に塗布したペーストの位置を
ノズルの吐出口の位置を計測する手段で読み取る。そし
て、基板の所望位置に対する各ペースト塗布点について
の計測結果からノズルを交換した際のノズル吐出口の位
置変動を統計処理などで算出する。すると、ノズル吐出
口に僅かに吐出したペーストの中心がノズル吐出口の中
心に一致していないことによる誤差は消されて、ペース
ト収納筒の加工精度や取り付け精度によるノズル吐出口
の位置変動を求めることができるようになる。その後、
この位置変動を補正することで、基板に対しノズル吐出
口を所望の位置に位置決めすることができ、ノズル交換
の前後でのノズルの位置ずれがなくなる。
Based on this fact, the position of the discharge port of the nozzle is measured by measuring the position of the paste applied in an arbitrary number of dots separated from each other on the substrate from the nozzle of the paste storage cylinder filled with the newly replaced paste. Read by the means. Then, the position variation of the nozzle discharge port when the nozzle is replaced is calculated by statistical processing or the like from the measurement result of each paste application point with respect to the desired position of the substrate. Then, the error caused by the fact that the center of the paste slightly ejected to the nozzle ejection port does not coincide with the center of the nozzle ejection port is eliminated, and the position variation of the nozzle ejection port due to the processing accuracy of the paste container and the mounting accuracy is obtained. Will be able to. afterwards,
By correcting this positional variation, the nozzle discharge port can be positioned at a desired position with respect to the substrate, and the positional displacement of the nozzle before and after nozzle replacement is eliminated.

【0014】ペースト点打ちの最初のデータを用いない
ことによって、ペーストの中心がノズル吐出口の中心に
一致していないことによる誤差は極端に小さなものとな
る。また、ペースト点打ちの最後のデータを用いること
によって、統計処理をしなくても、可及的にペーストの
中心がノズル吐出口の中心に一致した計測結果でノズル
を交換した際のノズル吐出口の位置変動を算出すること
ができる。
By not using the first data for the spotting of the paste, the error caused by the fact that the center of the paste does not coincide with the center of the nozzle ejection port becomes extremely small. In addition, by using the last data of paste spotting, the nozzle ejection port when replacing the nozzle with the measurement result that the center of the paste matches the center of the nozzle ejection port as much as possible without statistical processing The position variation of can be calculated.

【0015】ノズル交換時にその旨を装置の記憶部に入
力しておく。それによって、装置は新たな基板が搭載さ
れたときなどに、自動的に、記憶部におけるノズル交換
に関するデータの有無を確認し、データが在れば、交換
前後のノズルの位置ずれを求めてノズルと基板の位置を
調整し、各基板で同じ位置からの塗布描画が可能とな
る。
When the nozzle is replaced, a message to that effect is input to the storage unit of the apparatus. This allows the device to automatically check the presence or absence of data related to nozzle replacement in the storage unit when a new board is installed, and if there is data, calculate the nozzle misalignment before and after replacement, and By adjusting the positions of the substrates, coating drawing can be performed from the same position on each substrate.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。図1は本発明によるペースト塗布機の一実施例を示
す概略斜視図であって、1はノズル、2はペースト収納
筒(以下、シリンジという)、3は光学式変位計、4a
はZ軸テーブル、4bはカメラ支持部、5はX軸テーブ
ル、6はY軸テーブル、7は基板、8はθ軸テーブル
部、9は架台部、10はZ軸テーブル支持部、11aは
画像認識カメラ(基板位置決め用カメラ)、11bは鏡
筒、12はノズル支持具、13は基板吸着部、14は制
御装置、15aはZ軸モータ、15bはX軸モータ、1
5cはY軸モータ、16はモニタ、17はキーボード、
18は外部記憶装置である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic perspective view showing an embodiment of a paste coating machine according to the present invention, in which 1 is a nozzle, 2 is a paste container (hereinafter referred to as syringe), 3 is an optical displacement meter, and 4a.
Is a Z-axis table, 4b is a camera support part, 5 is an X-axis table, 6 is a Y-axis table, 7 is a substrate, 8 is a θ-axis table part, 9 is a mount part, 10 is a Z-axis table support part, and 11a is an image. Recognition camera (substrate positioning camera), 11b is a lens barrel, 12 is a nozzle support, 13 is a substrate suction unit, 14 is a controller, 15a is a Z-axis motor, 15b is an X-axis motor, 1
5c is a Y-axis motor, 16 is a monitor, 17 is a keyboard,
Reference numeral 18 is an external storage device.

【0017】同図において、架台部9上にX軸テーブル
5が固定され、このX軸テーブル5上にX軸方向に移動
可能にY軸テーブル6が搭載され、さらに、このY軸テ
ーブル6上にY軸方向に移動可能にθ軸テーブル8が搭
載されている。このθ軸テーブル8には基板吸着部13
が搭載されており、この基板吸着部13に基板7が例え
ばその四辺が夫々X,Y軸方向に平行になるように吸着
されて載置される。
In FIG. 1, an X-axis table 5 is fixed on a mount 9, a Y-axis table 6 is mounted on the X-axis table 5 so as to be movable in the X-axis direction, and further on the Y-axis table 6. Further, a θ-axis table 8 is mounted so as to be movable in the Y-axis direction. The θ-axis table 8 has a substrate suction unit 13
The substrate 7 is mounted on the substrate suction portion 13 so that the substrate 7 is sucked so that, for example, its four sides are parallel to the X and Y axis directions, respectively.

【0018】X軸テーブル5にX軸モータ15bが、Y
軸テーブル6にY軸モータ15cが夫々取り付けられて
おり、これらX軸モータ15bとY軸モータ15cと
は、例えば、マイクロコンピュータ(以下、マイコンと
いう)などからなる制御装置14で制御駆動される。即
ち、X軸モータ15bが駆動されると、Y軸テーブル6
とθ軸テーブル8と基板吸着部13とがX軸方向に移動
し、Y軸モータ15cが駆動されると、θ軸テーブル8
と基板吸着部13とがY軸方向に移動する。従って、制
御装置14でY軸テーブル6とθ軸テーブル8とを夫々
任意の距離だけ移動させることにより、基板7を架台部
9に平行な面内で任意の方向、任意の位置に移動させる
ことができる。また、制御装置14でθ軸テーブル8を
駆動することにより、基板7をZ軸廻りにθ軸方向に回
転させることができる。
The X-axis motor 15b is attached to the Y-axis table 5
A Y-axis motor 15c is attached to each of the axis tables 6, and the X-axis motor 15b and the Y-axis motor 15c are controlled and driven by a control device 14 including, for example, a microcomputer (hereinafter referred to as a microcomputer). That is, when the X-axis motor 15b is driven, the Y-axis table 6
When the θ-axis table 8 and the substrate suction unit 13 move in the X-axis direction and the Y-axis motor 15c is driven, the θ-axis table 8
The substrate suction unit 13 moves in the Y-axis direction. Therefore, the control device 14 moves the Y-axis table 6 and the θ-axis table 8 respectively by arbitrary distances to move the substrate 7 in an arbitrary direction and an arbitrary position within a plane parallel to the gantry 9. You can Further, by driving the θ-axis table 8 by the controller 14, the substrate 7 can be rotated around the Z-axis in the θ-axis direction.

【0019】架台部9の面上にZ軸テーブル支持部10
が設置され、これにノズル1とシリンジ2を結合し、か
つ、ノズル1を距離計として働く光学式変位計3の下側
近傍に位置決めするノズル支持具12をZ軸方向(上下
方向)に移動させるZ軸テーブル4aが取り付けられて
いる。この実施例では、ノズル1とシリンジ2及びこれ
らを結合するノズル支持具12がペーストカートリッジ
を形成している。Z軸テーブル4aの制御駆動は、これ
に取り付けられているZ軸モータ15aを制御装置14
が制御することによって行なわれる。
The Z-axis table support portion 10 is provided on the surface of the pedestal portion 9.
Is installed, the nozzle 1 is connected to the syringe 2, and the nozzle support 12 for positioning the nozzle 1 in the vicinity of the lower side of the optical displacement meter 3 acting as a distance meter is moved in the Z-axis direction (vertical direction). A Z-axis table 4a is attached. In this embodiment, the nozzle 1, the syringe 2 and the nozzle support 12 that connects them together form a paste cartridge. For the control drive of the Z-axis table 4a, the Z-axis motor 15a attached to this is used as the control device 14.
Is controlled by.

【0020】Y軸テーブル6やθ軸テーブル8を駆動し
ながら、シリンジ2の内部に圧力を加えることにより、
ノズル1のペースト吐出口から基板7上にペーストが吐
出され、これによって基板7上にペーストパターンが描
画される。
By applying pressure inside the syringe 2 while driving the Y-axis table 6 and the θ-axis table 8,
The paste is ejected from the paste ejection port of the nozzle 1 onto the substrate 7, whereby a paste pattern is drawn on the substrate 7.

【0021】キーボード17からは、基板7上に描画す
るペーストパターンの形状を指示するためのデータや、
ノズル1のペースト吐出口と基板7の表面との間の距離
を所望に指示するデータなどが入力される。また、ハー
ドディスクなどからなる外部記憶装置18は、ペースト
塗布機の電源立上げ時に制御装置14におけるマイコン
のRAMに格納するための各種設定値を記憶しておくた
めのものである。
From the keyboard 17, data for instructing the shape of the paste pattern drawn on the substrate 7,
Data for instructing the distance between the paste ejection port of the nozzle 1 and the surface of the substrate 7 is input. Further, the external storage device 18 including a hard disk is for storing various set values to be stored in the RAM of the microcomputer in the control device 14 when the power of the paste applicator is turned on.

【0022】カメラ支持部4bには、鏡筒11bを備え
た画像認識用カメラ11aが取り付けられており、基板
7の初期位置設定時などの基板7の位置を認識するため
に用いられる。かかる画像データは制御装置14に供給
され、各部の制御に用いられる。また、モニタ16で
は、かかる画像やキーボード17の入力データなどを表
示する。
An image recognition camera 11a having a lens barrel 11b is attached to the camera support 4b and is used for recognizing the position of the substrate 7 when the initial position of the substrate 7 is set. The image data is supplied to the control device 14 and used for controlling each part. Further, the monitor 16 displays such images and input data of the keyboard 17.

【0023】図2は図1におけるシリンジ2部分を拡大
して示す斜視図であって、図1に対応する部分には同一
符号をつけている。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing the syringe 2 portion in FIG. 1, and the portions corresponding to FIG. 1 are designated by the same reference numerals.

【0024】同図において、光学式変位計3の下端部に
三角形状の切込部が形成され、この切込部に発光素子と
受光素子とが設けられている。シリンジ2の下端部に
は、光学式変位計3のこの切込部の下部にまで伸延した
ノズル支持具12が設けられており、このノズル支持具
12の先端部下面に、光学式変位計3の切込部の下方に
位置するように、ノズル1が取り付けられている。
In the figure, a triangular notch is formed at the lower end of the optical displacement meter 3, and a light emitting element and a light receiving element are provided at this notch. At the lower end of the syringe 2, there is provided a nozzle support tool 12 that extends to the lower part of the cut portion of the optical displacement meter 3, and the optical displacement meter 3 is provided on the lower surface of the tip of the nozzle support tool 12. The nozzle 1 is attached so as to be located below the notch.

【0025】光学式変位計3は、ノズル1の先端から基
板7の表面までの距離を非接触の三角測法で計測するも
のである。即ち、光学式変位計3の発光素子から放射さ
れたレーザ光Lは基板7上の計測点Sで反射して光学式
変位計3の受光素子で受光されるが、この場合、ノズル
支持具12によってこのレーザ光Lが遮られないよう
に、これに発光素子,受光素子が上記切込部の異なる側
面に設けられて、レーザ光Lが斜めの方向に放射されて
斜めの方向に反射されるようにしている。
The optical displacement meter 3 measures the distance from the tip of the nozzle 1 to the surface of the substrate 7 by non-contact triangulation. That is, the laser light L emitted from the light emitting element of the optical displacement meter 3 is reflected at the measurement point S on the substrate 7 and is received by the light receiving element of the optical displacement meter 3. In this case, the nozzle support 12 A light emitting element and a light receiving element are provided on different side surfaces of the cut portion so that the laser light L is not blocked by the laser light L, and the laser light L is emitted in an oblique direction and reflected in an oblique direction. I am trying.

【0026】ここで、レーザ光Lによる計測点Sとノズ
ル1の直下の位置とは基板7上でΔX,ΔYだけ僅かに
ずれているが、この程度のずれでは、基板7の表面での
計測点Sとノズル先端直下の位置とでは殆ど基板7の表
面の凹凸に差がないから、光学変位計3でノズル1の先
端からその直下の基板7の表面までの距離をほぼ正確に
計測することができる。
Here, the measurement point S by the laser beam L and the position immediately below the nozzle 1 are slightly deviated by ΔX and ΔY on the substrate 7, but with such a deviation, measurement on the surface of the substrate 7 is performed. Since there is almost no difference in the unevenness of the surface of the substrate 7 between the point S and the position immediately below the tip of the nozzle, the distance from the tip of the nozzle 1 to the surface of the substrate 7 immediately below it should be measured almost accurately by the optical displacement meter 3. You can

【0027】制御装置14(図1)は、ペーストの塗布
描画時では、基板7の表面にうねりがあるとしても、光
学式変位計3の計測結果に基いてZ軸テーブル4aを上
下に操作することにより、ノズル1のペースト吐出口が
基板7の表面から所望の距離を保ち、塗布されるペース
トの幅や厚さが全ペーストパターンで一様になるように
している。
The controller 14 (FIG. 1) operates the Z-axis table 4a up and down based on the measurement result of the optical displacement meter 3 even when the surface of the substrate 7 has undulations at the time of applying and drawing the paste. As a result, the paste discharge port of the nozzle 1 maintains a desired distance from the surface of the substrate 7, and the width and thickness of the applied paste are uniform in all paste patterns.

【0028】なお、上記の計測点Sが基板7上の既に塗
布されたペーストをできるだけ横切らないようにするた
めには、この計測点Sがノズル1の吐出口からのペース
トの落下点から、X,Y両軸に関して、斜め方向になる
ようにすればよい。
In order to prevent the above-mentioned measurement point S from traversing the already-applied paste on the substrate 7 as much as possible, this measurement point S is set at X from the drop point of the paste from the discharge port of the nozzle 1. , Y Y axis may be oblique.

【0029】図3は図1における制御装置14の一具体
例を示すブロック図であって、14aはマイコン、14
eは外部インターフェース、14bはモータコントロー
ラ、14cbはX軸ドライバ、14ccはY軸ドライ
バ、14cdはθ軸ドライバ、14caはZ軸ドライ
バ、14dは画像処理装置、15dはθ軸モータ、Eは
エンコーダ、PPはペーストパターンであり、図1に対
応する部分には同一符号をつけている。
FIG. 3 is a block diagram showing a specific example of the control device 14 in FIG.
e is an external interface, 14b is a motor controller, 14cb is an X-axis driver, 14cc is a Y-axis driver, 14cd is a θ-axis driver, 14ca is a Z-axis driver, 14d is an image processing device, 15d is a θ-axis motor, E is an encoder, PP is a paste pattern, and the portions corresponding to those in FIG.

【0030】同図において、マイコン14aは、主演算
部や、後述するペーストパターンPPの描画などのため
のソフト処理プログラムを格納したROM、主演算部で
の処理結果や外部インターフェース14e及びモータコ
ントローラ14bからの入力データを格納するRAM、
外部インターフェース14e及びモータコントローラ1
4bとデータをやりとりする入出力部などを備えてい
る。
In the figure, the microcomputer 14a includes a main arithmetic unit, a ROM storing a software processing program for drawing a paste pattern PP described later, processing results in the main arithmetic unit, an external interface 14e and a motor controller 14b. RAM that stores the input data from
External interface 14e and motor controller 1
An input / output unit for exchanging data with the 4b is provided.

【0031】キーボード17からは描画しようとするペ
ーストパターンの形状を所望に指定するデータや、ノズ
ル1,基板7間の距離を所望に指定するデータなどが入
力され、外部インターフェース14eを介してマイコン
14aに供給される。マイコン14aでは、これらデー
タがROMに格納されているソフトプログラムに従って
主演算部やRAMを用いて処理される。
Data for designating the shape of the paste pattern to be drawn and data for designating the distance between the nozzle 1 and the substrate 7 are input from the keyboard 17, and the microcomputer 14a is supplied via the external interface 14e. Is supplied to. In the microcomputer 14a, these data are processed using the main arithmetic unit and the RAM according to the software program stored in the ROM.

【0032】このように処理されたペーストパターンの
形状を指定するデータに従ってモータコントローラ14
bが制御され、X軸ドライバ14cb,Y軸ドライバ1
4ccまたはθ軸ドライバ14cdによってX軸モータ
15b,Y軸モータ15cまたはθ軸モータ15dを回
転駆動する。また、これらモータの回転軸にエンコーダ
Eが設けられ、これによって夫々のモータの回転量(駆
動操作量)が検出されてX軸ドライバ14cb,Y軸ド
ライバ14ccまたはθ軸ドライバ14cdやモータコ
ントローラ14bを介してマイコン14aにフィードバ
ックされ、X軸モータ15b,Y軸モータ15cまたは
θ軸モータ15dがマイコン14aによって指定される
回転量だけ正確に回転するように制御される。これによ
り、基板7上に上記所定のペーストパターンが描画され
る。
The motor controller 14 is operated in accordance with the data designating the shape of the paste pattern thus processed.
b is controlled, X-axis driver 14cb, Y-axis driver 1
The X-axis motor 15b, the Y-axis motor 15c, or the θ-axis motor 15d is rotationally driven by the 4 cc or θ-axis driver 14cd. Further, encoders E are provided on the rotary shafts of these motors, and the rotation amounts (driving operation amounts) of the respective motors are detected by the encoders E to drive the X-axis driver 14cb, the Y-axis driver 14cc, the θ-axis driver 14cd, or the motor controller 14b. It is fed back to the microcomputer 14a via the X-axis motor 15b, the Y-axis motor 15c, or the θ-axis motor 15d so that the X-axis motor 15b, the Y-axis motor 15c, or the θ-axis motor 15d accurately rotates by the rotation amount designated by the microcomputer 14a. As a result, the predetermined paste pattern is drawn on the substrate 7.

【0033】また、ペーストパターンの描画中、光学変
位計3の計測データは図示しないAーD変換器でディジ
タルデータに変換され、外部インターフェース14eを
介してマイコン14aに供給され、ここで上記のノズル
1,基板7間の距離を指定するデータとの比較処理など
がなされる。基板7の表面にうねりがあると、これが入
力データに基づいてマイコン14aによって検出され、
モータコントローラ14bが制御されてZ軸ドライバ1
4caによってZ軸モータ15aを回転駆動する。これ
により、Z軸テーブル4a(図1)が上下に変位してノ
ズル1(図2)のペースト吐出口と基板7の表面との間
の距離を一定に保つ。このZ軸モータ15aの回転軸に
もエンコーダEが設けられており、これによってZ軸モ
ータ15aの回転量をZ軸ドライバ14caやモータコ
ントローラ14bを介してマイコン14aにフィードバ
ックすることにより、Z軸モータ15aがマイコン14
aによって指定される回転量だけ正確に回転するように
制御される。
During drawing of the paste pattern, the measurement data of the optical displacement meter 3 is converted into digital data by an AD converter (not shown) and supplied to the microcomputer 14a through the external interface 14e, where the above nozzle is used. 1, comparison processing with data designating the distance between the substrates 7 and the like are performed. If there is undulation on the surface of the substrate 7, this is detected by the microcomputer 14a based on the input data,
The Z axis driver 1 is controlled by controlling the motor controller 14b.
The Z-axis motor 15a is rotationally driven by 4ca. As a result, the Z-axis table 4a (FIG. 1) is vertically displaced to keep the distance between the paste ejection port of the nozzle 1 (FIG. 2) and the surface of the substrate 7 constant. An encoder E is also provided on the rotary shaft of the Z-axis motor 15a, and the rotation amount of the Z-axis motor 15a is fed back to the microcomputer 14a via the Z-axis driver 14ca and the motor controller 14b. 15a is the microcomputer 14
It is controlled to rotate exactly by the rotation amount designated by a.

【0034】ペースト描画パターンのデータやペースト
収納筒交換時のデータなど、キーボード17から入力さ
れる各種データやマイクロコンピュータ14aで処理さ
れて生産された各種データなどは、マイクロコンピュー
タ14aに内蔵のRAMに格納される。
Various data input from the keyboard 17 and various data produced by being processed by the microcomputer 14a such as the data of the paste drawing pattern and the data at the time of exchanging the paste storage cylinder are stored in the RAM built in the microcomputer 14a. Is stored.

【0035】次に、この実施例におけるペースト塗布描
画とペースト収納筒交換の動作について説明する。
Next, the operation of the paste application drawing and the paste accommodating cylinder exchange in this embodiment will be described.

【0036】図4において、電源が投入され(ステップ
100)、まず、塗布機の初期設定が実行される(ステ
ップ200)。
In FIG. 4, the power is turned on (step 100), and first the initial setting of the coating machine is executed (step 200).

【0037】この初期設定は図5に示すように行なわれ
る。即ち、まず、Z軸テーブル4a,X軸テーブル5及
びY軸テーブル6が所定の原点位置に位置決めされ(ス
テップ201)、次いで、ペーストパターンデータと基
板位置データとペースト吐出終了位置データとの設定を
行なう(ステップ202,203)。この設定のための
データ入力は図1のキーボード17から行なわれる。入
力されたデータは、前述のように、制御装置14におけ
るマイクロコンピュータ14a(図3)に内蔵のRAM
に格納される。
This initial setting is performed as shown in FIG. That is, first, the Z-axis table 4a, the X-axis table 5, and the Y-axis table 6 are positioned at predetermined origin positions (step 201), and then the paste pattern data, the substrate position data, and the paste ejection end position data are set. Perform (steps 202 and 203). Data input for this setting is performed from the keyboard 17 of FIG. The input data is stored in the RAM built in the microcomputer 14a (FIG. 3) in the control device 14 as described above.
Is stored in

【0038】図4に戻って、シリンジ2の交換があった
かどうか(シリンジ交換については図10のペースト膜
形成処理工程(ステップ700)で詳細に説明する)の
確認判断が行なわれる(ステップ300)。この交換が
あれば、ノズル位置ずれ量の計測が行なわれて(ステッ
プ400)基板が搭載され(ステップ500)、シリン
ジ2の交換がなければ、基板が搭載される(ステップ5
00)。
Returning to FIG. 4, it is determined whether or not the syringe 2 has been replaced (the replacement of the syringe will be described in detail in the paste film forming processing step (step 700) in FIG. 10) (step 300). If this replacement is made, the nozzle position displacement amount is measured (step 400) and the substrate is mounted (step 500). If the syringe 2 is not replaced, the substrate is mounted (step 5).
00).

【0039】ここで、シリンジ2の交換があった場合の
ノズル位置ずれ量計測処理工程(ステップ400)につ
いて、図1と図6により詳細に説明する。
Now, the nozzle position deviation amount measuring process (step 400) when the syringe 2 is replaced will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 6.

【0040】まず、図1の吸着台13に仮基板を搭載し
て(ステップ401)、吸着台13に吸着保持させ(ス
テップ402)、画像認識カメラ11aの視野中心に当
る仮基板をノズル1の直下に移動させる(ステップ40
3)。そして、Z軸テーブル4aでノズル1を降下し
(ステップ404)、シリンジ2に充填されているペー
ストを仮基板上に塗布して点状の膜を形成し、点打ちを
実行する(ステップ405)。その後、ノズル1を上昇
させる(ステップ406)。そして、かかるステップ4
04〜ステップ406の一連の動作が任意に設定された
回数だけ繰り返し行なわれる。
First, a temporary substrate is mounted on the suction table 13 of FIG. 1 (step 401), held by suction on the suction table 13 (step 402), and the temporary substrate, which is in the center of the visual field of the image recognition camera 11a, is attached to the nozzle 1. Move it directly below (step 40)
3). Then, the nozzle 1 is lowered on the Z-axis table 4a (step 404), the paste filled in the syringe 2 is applied on the temporary substrate to form a dot-like film, and spotting is performed (step 405). . Then, the nozzle 1 is raised (step 406). And this step 4
A series of operations from 04 to step 406 is repeatedly performed a set number of times.

【0041】設定された回数だけ点打ちが繰り返された
ことが確認されると(ステップ407)、画像認識カメ
ラ11aの視野中心下に仮基板を移動させる(ステップ
408)。そして、画像認識カメラ11aで各点打ちペ
ーストの位置を計測する(ステップ409)。この位置
計測は各点打ちペースト毎に全点打ちペーストについて
実行され(ステップ410)、計測データはマイクロコ
ンピュータ14aのRAMに格納される。
When it is confirmed that the spotting has been repeated the set number of times (step 407), the temporary substrate is moved below the center of the visual field of the image recognition camera 11a (step 408). Then, the position of each dot paste is measured by the image recognition camera 11a (step 409). This position measurement is performed for all the point-paste pastes for each point-paste paste (step 410), and the measurement data is stored in the RAM of the microcomputer 14a.

【0042】図7は上記の点打ちを説明するための図で
あって、画像認識カメラ11aで仮基板上を見た状況を
示し、ここでは、点打ち回数を5回とし、これら5個の
点打ちペーストをP1〜P5で示している。
FIG. 7 is a diagram for explaining the above-mentioned stippling, and shows a situation in which the image recognition camera 11a looks at the temporary substrate. Here, the number of stippling is set to 5 times, and these 5 pieces are set. Dotted pastes are indicated by P1 to P5.

【0043】図1,図6及び図7において、各点打ちペ
ーストP1〜P5は、点打ちペーストP1を中心にX,
Y軸方向にDX,DYの等間隔で互いに重ならないよう
にYテーブル6とθ軸テーブル8とを移動させて、塗布
される(ステップ405)。点線で示す枠Gは画像認識
カメラ11aの視野であって、距離DX,DYは視野G
内に全点打ちペーストP1〜P5が収まるような値に選
択される。
In FIGS. 1, 6 and 7, each of the spotting pastes P1 to P5 is X, centered around the spotting paste P1.
The Y table 6 and the θ-axis table 8 are moved so as not to overlap each other at equal intervals of DX and DY in the Y-axis direction, and coating is performed (step 405). A frame G indicated by a dotted line is the visual field of the image recognition camera 11a, and the distances DX and DY are the visual field G.
The value is selected so that all the point-filling pastes P1 to P5 are contained therein.

【0044】また、図7における距離Xは、ステップ4
08で移動開始前における画像認識カメラ11aの視野
中心P0からのYテーブル6のX軸方向の移動距離であ
る。この移動距離Xはこの視野中心P0からずれのない
ノズルの先端直下の位置までの予め決められた距離であ
り、従って、この距離XだけYテーブル6を移動させる
と、最初の点打ちペーストP1の中心と画像認識カメラ
11aの視野Gの中心は一致している筈である。また、
他の点打ちペーストP2〜P5の中心間隔は、最初の点
打ちペーストP1の中心からDX,DYの距離をなして
いる筈である。しかしながら、実際には、位置ずれを起
している。
Further, the distance X in FIG.
08 is the moving distance of the Y table 6 in the X-axis direction from the visual field center P0 of the image recognition camera 11a before the movement is started. This moving distance X is a predetermined distance from the center P0 of the visual field to a position just below the tip of the nozzle without any deviation. Therefore, when the Y table 6 is moved by this distance X, the first spotting paste P1 is moved. The center and the center of the visual field G of the image recognition camera 11a should coincide with each other. Also,
The distance between the centers of the other spotting pastes P2 to P5 should be DX and DY from the center of the first spotting paste P1. However, in reality, there is a displacement.

【0045】この位置ずれには、ペースト収納筒2やノ
ズル1などの加工精度や、これらの取付け精度のばらつ
きによるものと、ノズル交換時にノズル吐出口に僅かに
吐出したペーストの中心がノズル吐出口の中心に一致し
ていないことによるものが含まれている。この不一致を
起す根拠の1つに、ノズル交換時におけるノズル吐出口
の清掃がある。丁寧に清掃をすれば、ノズル交換時に必
要以上の時間がかかるし、作業性が低下する。この実施
例は、後者の原因による位置ずれを、以下に説明するよ
うにして、短時間のうちに解消するものである。
This misalignment is due to the processing accuracy of the paste storage cylinder 2 and the nozzle 1 and the variation of their mounting accuracy, and that the center of the paste slightly ejected to the nozzle ejection port during nozzle replacement is the nozzle ejection port. It is due to the disagreement with the center of. One of the grounds for causing this discrepancy is the cleaning of the nozzle discharge port when the nozzle is replaced. If you clean it carefully, it will take longer than necessary to replace the nozzle and workability will be reduced. In this embodiment, the displacement due to the latter cause is eliminated in a short time as described below.

【0046】画像認識カメラ11aで点状の各ペースト
(点打ちペースト)P1〜P5を撮影し、もとの画像デ
ータを画像処理装置14d(図3)で公知の画像処理を
し、点状ペーストの重心、つまり、P1〜P5点の中心
位置を求める。
Each of the dot-shaped pastes (dotted pastes) P1 to P5 is photographed by the image recognition camera 11a, the original image data is subjected to known image processing by the image processing device 14d (FIG. 3), and the dot-shaped paste is applied. Of the center of gravity, that is, the center positions of points P1 to P5 are obtained.

【0047】図8(a)〜(e)は点打ちペーストP1
〜P5を画像処理した点の中心位置を示している。ここ
で、実線は各点打ちペーストP1〜P5を画像処理した
輪郭を示す。
8 (a) to 8 (e) are dotted paste P1.
The center positions of the points obtained by performing image processing on P5 to P5 are shown. Here, the solid line indicates the contour obtained by performing image processing on each of the spotting pastes P1 to P5.

【0048】各点打ちペーストP1〜P5とノズル1と
を画像認識カメラ11aで同時に撮像することができな
いので、ノズル1の輪郭は各点打ちペーストP1〜P5
に対比して仮想的に2点鎖線で示している。ΔX1〜Δ
X5,ΔY1〜ΔY5は、ペースト収納筒2やノズル1
などの加工精度やこれらの取付け精度のばらつきによる
ものを含んだ各点打ちペーストP1〜P5の中心とノズ
ル1の中心のずれ量を示し、点打ち回数が増すほど、ず
れ量ΔX1,ΔY1がΔX2,ΔY2、……、ΔX5,
ΔY5と収斂していく様子を示している。
Since each of the spotting pastes P1 to P5 and the nozzle 1 cannot be imaged by the image recognition camera 11a at the same time, the outline of the nozzle 1 has the outline of each of the spotting pastes P1 to P5.
In contrast to, is indicated by a two-dot chain line. ΔX1 to Δ
X5, ΔY1 to ΔY5 are the paste storage cylinder 2 and the nozzle 1.
The amount of deviation between the center of each of the spotting pastes P1 to P5 and the center of the nozzle 1 including those due to variations in processing accuracy and the mounting accuracy thereof is shown. As the number of times of spotting increases, the deviation amounts ΔX1 and ΔY1 become ΔX2. , ΔY2, ..., ΔX5
It is shown that it converges with ΔY5.

【0049】次に、ノズル1の視野Gの中心との位置ず
れ量(偏差)を下式で算出し、この偏差は後で使用する
ことになるので、ノズル1の位置ずれ量としてマイクロ
コンピュータ14aのRAMに格納しておく(ステップ
411)。
Next, the positional deviation amount (deviation) of the nozzle 1 from the center of the visual field G is calculated by the following formula, and this deviation will be used later, so the microcomputer 14a uses it as the positional deviation amount of the nozzle 1. It is stored in the RAM (step 411).

【0050】[0050]

【数1】 (Equation 1)

【0051】[0051]

【数2】 (Equation 2)

【0052】(なお、iは各点打ちペーストP1〜P5
の塗布順番であり、また、meanは平均値である) 最後に、仮基板の吸着解除して(ステップ412)、図
4でのノズル位置ずれ量計測処理(ステップ400)が
終了する。
(Note that i is each of the spotting pastes P1 to P5.
Lastly, the temporary substrate is released from the suction (step 412), and the nozzle position deviation amount measuring process (step 400) in FIG. 4 is completed.

【0053】点打ち数nは、この実施例では、5となっ
ており、大きい点打ち数nを持たせると誤差は小さくな
るが、ステップ404〜ステップ411の一連の動作に
要する処理時間との兼合いで、この点打ち数nは任意に
設定して差し支えない。
In this embodiment, the number n of spots is 5, and the error is reduced if a large number n of spots is given. However, the number of spots n is equal to the processing time required for a series of operations in steps 404 to 411. In consideration of this, the number of spots n may be set arbitrarily.

【0054】図4に戻って、ステップ500では、ペー
ストが所望のパターンで塗布描画されるべき基板7が吸
着台13(図1)に搭載されて吸着保持され、次いで、
基板予備位置決め処理が行なわれる(ステップ60
0)。
Returning to FIG. 4, in step 500, the substrate 7 on which the paste is applied and drawn in a desired pattern is mounted on the suction table 13 (FIG. 1) and held by suction.
Substrate preliminary positioning processing is performed (step 60).
0).

【0055】図9はこのステップ600の一具体例を示
すフローチャートである。
FIG. 9 is a flow chart showing a specific example of this step 600.

【0056】同図において、まず、吸着台13に搭載さ
れた基板7の位置決め用マークを画像認識カメラ11a
で撮影し(ステップ601)、画像認識カメラ11aの
視野内での位置決め用マークの重心位置を画像処理で求
める(ステップ602)。ここで、視野中心と重心位置
とのずれ量を算出し(ステップ603)、基板7を所望
の塗布開始位置にセットするために、このずれ量を用い
てY軸テーブル6のX軸方向移動量,θ軸テーブル8の
Y軸方向の移動量及びθ軸テーブル8のθ軸方向の移動
量を算出し(ステップ604)、さらに、モータコント
ローラ14b(図3)でこれらを各サーボモータ15b
〜15d,15aの操作量に変換し(ステップ60
5)、これらテーブル6,8をX,Y軸方向やθ軸方向
に移動させて基板7を所望の位置に設定する(ステップ
606)。
In the figure, first, the positioning mark of the substrate 7 mounted on the suction table 13 is shown by the image recognition camera 11a.
(Step 601), and the position of the center of gravity of the positioning mark within the visual field of the image recognition camera 11a is obtained by image processing (step 602). Here, the shift amount between the center of the visual field and the position of the center of gravity is calculated (step 603), and in order to set the substrate 7 at the desired coating start position, the shift amount is used to move the Y-axis table 6 in the X-axis direction. , The amount of movement of the θ-axis table 8 in the Y-axis direction and the amount of movement of the θ-axis table 8 in the θ-axis direction are calculated (step 604), and these are further controlled by the motor controller 14b (FIG. 3).
To 15d and 15a (step 60
5) Then, the tables 6 and 8 are moved in the X and Y axis directions and the θ axis directions to set the substrate 7 at a desired position (step 606).

【0057】次に、基板7がこの所望の位置に設定され
たか否かを確認するために、再び位置決め用マークを画
像認識カメラ11aで撮影してその視野内での位置決め
用マーク中心(重心)を計測し(ステップ607)、視
野内でのマーク中心のずれ量を求めて(ステップ60
8)、ずれ量が許容範囲にあるかどうかを確認する(ス
テップ609)。そして、この許容範囲内ならば、この
基板予備位置決め処理(ステップ600)を終了し、許
容範囲外ならば、ステップ604に戻って以上の処理を
繰り返す。
Next, in order to confirm whether or not the substrate 7 has been set at this desired position, the positioning mark is photographed again by the image recognition camera 11a and the center (center of gravity) of the positioning mark within its field of view is taken. Is measured (step 607), and the deviation amount of the mark center in the visual field is obtained (step 60
8) It is confirmed whether the deviation amount is within the allowable range (step 609). If it is within the allowable range, the substrate preliminary positioning process (step 600) is ended. If it is outside the allowable range, the process returns to step 604 to repeat the above process.

【0058】かかる基板予備位置決め処理(ステップ6
00)が終わると、図4において、次のペースト膜形成
処理(ステップ700)に移る。
Preliminary substrate positioning processing (step 6)
(00) is completed, the process proceeds to the next paste film forming process (step 700) in FIG.

【0059】図10はこのステップ700の一具体例を
示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a specific example of this step 700.

【0060】同図において、まず、塗布開始位置へ基板
7を移動させ(ステップ701)、基板位置の比較・調
整移動が行なわれる(ステップ702)。これは、図6
及び図7に示したように、先に説明したノズル1の位置
ずれ量計測処理(ステップ400)に基づくものであ
り、以下、図11によって説明する。
In the figure, first, the substrate 7 is moved to the coating start position (step 701), and the substrate position is compared / adjusted (step 702). This is shown in FIG.
As shown in FIG. 7 and FIG. 7, it is based on the above-described positional deviation amount measuring process of the nozzle 1 (step 400), which will be described below with reference to FIG.

【0061】まず始めに、図6でのステップ409で求
めてマイクロコンピュータ14a(図3)のRAMに格
納されたノズル1(図1)の位置ずれ量Xmean,Y
meanが、図2に示したノズル1の位置ずれ許容範囲
△X,△Y内にあるか否かの判断を行なわれる(ステッ
プ702a)。これら位置ずれ量がこの許容範囲内(△
X≧Xmean、△Y≧Ymean)であれば、そのま
ま図10での次の処理工程、即ち、ノズル高さ設定処理
(ステップ703)に移る。
First, the positional deviation amount Xmean, Y of the nozzle 1 (FIG. 1) obtained in step 409 in FIG. 6 and stored in the RAM of the microcomputer 14a (FIG. 3).
It is determined whether or not the mean is within the positional deviation permissible ranges ΔX and ΔY of the nozzle 1 shown in FIG. 2 (step 702a). These positional deviations are within this allowable range (△
If X ≧ Xmean, ΔY ≧ Ymean), the process directly proceeds to the next process step in FIG. 10, that is, the nozzle height setting process (step 703).

【0062】しかし、この許容範囲外(△X<Xmea
n、△Y<Ymean)であるときには、図11におい
て、先の位置ずれ量Xmean,Ymeanから基板7
の移動を行なうY,θ軸テーブル6,8のX,Y軸方向
の移動量を算出し(ステップ702b)、モータコント
ローラ14b(図3)の操作量の設定をする(ステップ
702c)。そして、X,Y軸ドライバ14cb,14
ccを介してサーボモータ15b,15cを夫々指定さ
れた量だけ回転させて、Y,θ軸テーブル6,8をX,
Y軸方向に移動させ、これにより、ノズル1を交換した
ことによって生じたノズル1の吐出口と基板7の所望位
置とのずれを解消させで、基板7を所望位置に位置決め
する(ステップ702d)。これにより、図10でのス
テップ702の処理が終了する。
However, outside this allowable range (ΔX <Xmea
n, ΔY <Ymean), in FIG. 11, the substrate 7 is calculated from the previous positional displacement amounts Xmean, Ymean.
The amount of movement in the X and Y axis directions of the Y and θ axis tables 6 and 8 for performing the movement is calculated (step 702b), and the operation amount of the motor controller 14b (FIG. 3) is set (step 702c). Then, the X and Y axis drivers 14cb, 14
The servo motors 15b and 15c are rotated by the designated amounts via cc, and the Y and θ axis tables 6 and 8 are moved to X and
The substrate 7 is moved to the desired position by eliminating the deviation between the ejection port of the nozzle 1 and the desired position of the substrate 7 caused by the replacement of the nozzle 1 in the Y-axis direction (step 702d). . As a result, the process of step 702 in FIG. 10 ends.

【0063】図10において、ステップ702の処理が
終わると、次に、ノズル1の高さ設定が行なわれる(ス
テップ703)。このときのノズル1の吐出口から基板
7までの間隔が、塗布されるペーストの厚みになる。基
板7は、上記のように、図9での基板予備位置決め処理
(ステップ600)と図11での基板位置比較・調整移
動処理(ステップ702)によって所望位置にセットさ
れているので、ノズル1の高さが設定されると、ペース
トの吐出が始まって描画動作が開始される(ステップ7
04)。
In FIG. 10, when the process of step 702 is completed, the height of the nozzle 1 is set next (step 703). The distance from the discharge port of the nozzle 1 to the substrate 7 at this time is the thickness of the applied paste. As described above, the substrate 7 is set at a desired position by the substrate preliminary positioning process (step 600) in FIG. 9 and the substrate position comparison / adjustment movement process (step 702) in FIG. When the height is set, the ejection of paste is started and the drawing operation is started (step 7).
04).

【0064】そして、これとともに、光学式距離計3か
ら実測データが入力されて基板7の表面のうねりが測定
され(ステップ705)、また、光学式距離計3の実測
データから光学式距離計3の計測点S(図2)がペース
ト膜上にあるか否かを判定する(ステップ706)。こ
の判定は、光学式距離計3の計測点Sがペースト膜を横
断すると、光学式距離計3からの実測データが急激に許
容値を越えて変化するから、光学式距離計3からの実測
データが急激にこの許容値を越えて変化することを検出
することによって行なわれる。
At the same time, the measured data is input from the optical rangefinder 3 to measure the undulation of the surface of the substrate 7 (step 705), and the measured data of the optical rangefinder 3 is also used. It is determined whether or not the measurement point S (see FIG. 2) is on the paste film (step 706). In this determination, when the measurement point S of the optical rangefinder 3 crosses the paste film, the measured data from the optical rangefinder 3 suddenly changes beyond the allowable value. Therefore, the measured data from the optical rangefinder 3 changes. Is performed by detecting a sudden change in value exceeding this allowable value.

【0065】光学式距離計3の計測点Sがペースト膜上
でない場合には、この実測データを基に、基板7の表面
のうねりに応じてZ軸テーブル4aを移動させるための
補正データの算出を行なう(ステップ707)。そし
て、Z軸テーブル4aを用いてノズル1の高さ補正を
し、Z軸方向でのノズル1の位置を設定値に維持する
(ステップ708)。
When the measuring point S of the optical distance meter 3 is not on the paste film, the correction data for moving the Z-axis table 4a in accordance with the waviness of the surface of the substrate 7 is calculated based on the measured data. Is performed (step 707). Then, the height of the nozzle 1 is corrected using the Z-axis table 4a, and the position of the nozzle 1 in the Z-axis direction is maintained at the set value (step 708).

【0066】光学式距離計3の計測点Sがペースト膜上
を通過中と判定した場合(ステップ706)には、ノズ
ル1の高さを変化させずにそのまま保持させてペースト
膜の吐出を継続させる。これは、僅かな幅のペースト膜
上を計測点Sが通過中では、基板7の表面に殆ど変化が
ないことが多いので、ノズル1の高さを変えないでおく
と、ペーストの吐出形状に変化はなく、従って、所望の
ペースト膜を描くことができる。計測点Sがペースト膜
上にあることを計測しなくなった時点で、元のノズル高
さ補正工程に戻る。
When it is determined that the measuring point S of the optical distance meter 3 is passing over the paste film (step 706), the height of the nozzle 1 is maintained as it is and the discharge of the paste film is continued. Let This is because the surface of the substrate 7 hardly changes during the passage of the measurement point S on the paste film having a slight width, so that if the height of the nozzle 1 is not changed, the paste ejection shape will be changed. There is no change, so the desired paste film can be drawn. When it is no longer measured that the measurement point S is on the paste film, the process returns to the original nozzle height correction step.

【0067】さらに、描画動作を進め、設定されたパタ
ーン動作が完了しているかどうかによってペースト吐出
の継続または終了の判定を行なう(ステップ709)。
このペースト膜の形成が完了したか否かは、基板7が予
め決められたパターンの終端に対する位置に達したか否
かによって行なわれ(ステップ711)、パターンの終
端に至っていないときには、再びステップ705から上
記の一連の処理動作を繰り返し、このようにして、ペー
スト膜形成をパターン終端まで継続する。パターンの終
端に達すると、Z軸テーブル4aを駆動してノズル1を
上昇させ、図4でのペースト膜形成処理(ステップ70
0)を終了する。
Further, the drawing operation is advanced, and it is judged whether or not the paste discharge is continued or finished depending on whether or not the set pattern operation is completed (step 709).
Whether or not the formation of the paste film is completed is determined depending on whether or not the substrate 7 has reached a predetermined position with respect to the end of the pattern (step 711), and when the end of the pattern has not been reached, step 705 is performed again. Then, the series of processing operations described above are repeated, and in this way, the paste film formation is continued until the end of the pattern. When the end of the pattern is reached, the Z-axis table 4a is driven to raise the nozzle 1, and the paste film forming process (step 70 in FIG. 4).
0) is ended.

【0068】ペースト膜形成処理が終わると、図4にお
いて、ペースト描画の終わった基板7を吸着台13から
排出し(ステップ800)、以上の全工程を停止するか
否かを判定する(ステップ900)。即ち、複数枚の基
板に同じパターンでペースト膜を形成する場合には、シ
リンジ交換判定処理(ステップ300)から基板排出処
理(ステップ800)までの一連の動作をその枚数分繰
り返す。
When the paste film forming process is completed, in FIG. 4, the substrate 7 on which the paste drawing has been completed is discharged from the suction table 13 (step 800), and it is determined whether or not all the above steps are stopped (step 900). ). That is, when the paste film is formed on a plurality of substrates in the same pattern, a series of operations from the syringe replacement determination process (step 300) to the substrate discharge process (step 800) are repeated for that number of substrates.

【0069】なお、停止判定処理(ステップ900)で
は、ペースト収納筒(シリンジ)2でのペースト残量が
充分であるかどうかを、例えば、作業者が確認したり、
ノズル交換後のペースト吐出量累積によってマイクロコ
ンピュータ14aで判定したりして、残量が僅かであれ
ば、ここでシリンジ2の交換を行なう。そして、ノズル
交換したことをキーボード17から入力し、その情報
(例えば、フラグ)をマイクロコンピュータ14aのR
AMに格納させる。これにより、その後にシリンジ交換
判定処理(ステップ300)を行なう場合に、RAMで
のシリンジ交換に関するデータテーブルのフラグの有無
を確認することにより、次のノズル位置ずれ量計測処理
(ステップ400)で偏差を自動的に求めることができ
る。
In the stop determination process (step 900), for example, an operator can confirm whether or not the paste remaining amount in the paste storage cylinder (syringe) 2 is sufficient,
If the microcomputer 14a makes a judgment by accumulating the amount of paste discharged after the nozzle replacement and the remaining amount is very small, the syringe 2 is replaced here. Then, the fact that the nozzle has been replaced is input from the keyboard 17, and the information (for example, flag) is read by the R of the microcomputer 14a.
Store in AM. As a result, when the syringe replacement determination process (step 300) is performed thereafter, the presence or absence of the flag in the data table relating to the syringe replacement in the RAM is checked, and the deviation in the next nozzle position deviation amount measurement process (step 400) is performed. Can be automatically calculated.

【0070】RAMでのシリンジ交換に関するデータテ
ーブルのフラグの有無を確認し、次のノズル位置ずれ量
計測処理(ステップ400)で偏差を自動的に求めと、
このフラグを消去し、その後次のノズル交換があるまで
は、ノズル位置ずれ量計測処理(ステップ400)が無
駄に再実行されないようにする。
Whether or not there is a flag in the data table relating to syringe replacement in the RAM is checked, and the deviation is automatically obtained in the next nozzle position deviation amount measuring process (step 400).
This flag is erased, and the nozzle position deviation amount measuring process (step 400) is prevented from being unnecessarily re-executed until the next nozzle replacement.

【0071】もし、図10でのペースト膜形成処理(ス
テップ700)が実行されている途中でシリンジ2のペ
ーストがなくなり、ノズル交換を行なった場合でも、そ
の交換時点で基板排出処理(ステップ800)に移った
り、取替えをしないでそのまま塗布描画を継続して差し
支えない基板の場合には、図4でのシリンジ交換判定処
理(ステップ300)とノズル位置ずれ量計測処理(ス
テップ400)とをペースト膜形成処理(ステップ70
0)の再開前に行なうようにすればよい。
Even if the paste in the syringe 2 is used up and the nozzle is replaced while the paste film forming process (step 700) in FIG. 10 is being executed, the substrate discharging process (step 800) is performed at the time of replacement. In the case of a substrate in which the coating and drawing can be continued without changing or to the replacement, the syringe replacement determination process (step 300) and the nozzle position deviation amount measurement process (step 400) in FIG. Forming process (step 70)
It should be done before restarting 0).

【0072】図11では、ノズル1の位置ずれ量Xme
an,Ymeanが図2に示したノズル1の位置ずれ許
容範囲△X,△Y外であるとき、基板7の移動を行なっ
ているが、カメラ支持部4aをZ軸テーブル支持部10
に対してX軸方向に調整移動可能とし、基板7を動かす
代わりに画像認識カメラ11aを移動させることによ
り、ノズル1の位置ずれ量Xmean,Ymeanが許
容範囲△X,△Y内に入るようにしてもよい。
In FIG. 11, the positional deviation amount Xme of the nozzle 1 is
When an and Ymean are outside the positional deviation permissible ranges ΔX and ΔY of the nozzle 1 shown in FIG. 2, the substrate 7 is moved, but the camera support 4a is moved to the Z-axis table support 10.
With respect to the X axis direction, the image recognition camera 11a is moved instead of moving the substrate 7 so that the positional deviation amounts Xmean, Ymean of the nozzle 1 fall within the allowable ranges ΔX, ΔY. May be.

【0073】また、図7,図8で説明したノズル1の位
置ずれ量Xmean,Ymeanの算出においては、最
初の点打ちのデータ△X1,△Y1は誤差を多く含んだ
ものであるので、図6でのステップ411では、最初の
点打ちのデータ△X1,△Y1を基礎データとして用い
ず、2番目の点打ちのデータ△X2,△Y2以降のもの
を基に算出するようにしてもよい。さらには、前記した
ように、各点打ちのデータ△Xi,△Yiは最後のもの
に収斂する傾向があるので、統計処理(平均化処理)に
代えて、最後の点打ちのデータ△Xn,△Ynをノズル
1の位置ずれ量としてもよい。
Further, in the calculation of the positional deviation amounts Xmean and Ymean of the nozzle 1 described with reference to FIGS. 7 and 8, since the first dot data ΔX1 and ΔY1 include many errors, In step 411 of 6, the first dot data ΔX1 and ΔY1 may not be used as the basic data, but may be calculated based on the second dot data ΔX2 and ΔY2 and thereafter. . Further, as described above, since the data of each point dot ΔXi, ΔYi tend to converge to the last one, instead of the statistical processing (averaging process), the data of the last dot data ΔXn, ΔYn may be the amount of positional deviation of the nozzle 1.

【0074】さらに、以上の実施例では、基板7をシリ
ンジ2に対してX,Y軸方向に移動させるようにした
が、基板7を固定とし、シリンジ2をX,Y軸方向に移
動させるようにしてもよい。
Further, although the substrate 7 is moved in the X and Y axis directions with respect to the syringe 2 in the above embodiments, the substrate 7 is fixed and the syringe 2 is moved in the X and Y axis directions. You may

【0075】さらにまた、図4での塗布機初期設定処理
(ステップ200)の所要時間の短縮を図るために、外
部インターフェース14e(図3)にICカードあるい
はフロッピディスクやハードディスクなどの外部記憶手
段18(図3)の記憶読出装置を接続し、一方、パーソ
ナルコンピュータなどで図5での塗布機初期設定処理
(ステップ200)のための諸データの設定を前もって
実行しておき、塗布機初期設定処理(ステップ200)
の実行時に、外部インターフェース14eに接続された
上記の記憶読出装置を介して、外部記憶手段18からオ
フラインで各データを読み出し、マイクロコンピュータ
14a(図3)のRAMに移すようにしてもよい。
Furthermore, in order to reduce the time required for the coating machine initial setting process (step 200) in FIG. 4, an external storage means 18 such as an IC card or a floppy disk or a hard disk is provided in the external interface 14e (FIG. 3). (FIG. 3) is connected, while various data settings for the applicator initial setting process (step 200) in FIG. 5 are executed in advance by a personal computer or the like, and the applicator initial setting process is performed. (Step 200)
When executing, each data may be read off-line from the external storage means 18 via the above-mentioned storage / reading device connected to the external interface 14e and transferred to the RAM of the microcomputer 14a (FIG. 3).

【0076】そして、以上の各変形例は任意に組合せて
実施するようにしてもよい。
The above modifications may be combined in any desired manner.

【0077】[0077]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ペースト収納筒の交換をして基板に対するノズル吐出口
の位置が変動しても、ノズルと基板とを所望の位置関係
に位置決めし、正確にペーストパターンを塗布描画する
ことができる。
As described above, according to the present invention,
Even if the position of the nozzle discharge port with respect to the substrate is changed by exchanging the paste storage cylinder, the nozzle and the substrate can be positioned in a desired positional relationship and the paste pattern can be accurately applied and drawn.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施例の全体
構成を示す概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of an embodiment of a paste applicator according to the present invention.

【図2】図1におけるペースト収納筒と光学式距離計と
の関係を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a relationship between a paste storage cylinder and an optical distance meter in FIG.

【図3】図1における制御装置の一具体例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a specific example of a control device in FIG.

【図4】図1に示した実施例のペースト塗布描画動作を
示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a paste application drawing operation of the embodiment shown in FIG.

【図5】図4における塗布初期設定処理の一具体例を示
すフローチャートである。
5 is a flowchart showing a specific example of a coating initial setting process in FIG.

【図6】図4におけるノズル位置ずれ量計測処理の一具
体例を示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing a specific example of nozzle position deviation amount measurement processing in FIG.

【図7】図6での仮基板へのペーストの点打ち処理を説
明するための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining spotting processing of paste on a temporary substrate in FIG. 6;

【図8】図6でのノズルの位置ずれ量を得るための方法
を示す図である。
8 is a diagram showing a method for obtaining the amount of nozzle misalignment in FIG.

【図9】図4における基板予備位置決め処理の一具体例
を示すフローチャートである。
9 is a flowchart showing a specific example of the substrate preliminary positioning process in FIG.

【図10】図4におけるペースト膜形成処理の一具体例
を示すフローチャートである。
10 is a flowchart showing a specific example of the paste film forming process in FIG.

【図11】図10における基板位置比較・調整移動処理
の一具体例を示すフローチャートである。
11 is a flowchart showing a specific example of substrate position comparison / adjustment movement processing in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ノズル 2 ペースト収納筒 3 光学式距離計 4a Z軸テーブル 4b カメラ支持部 5 X軸テーブル 6 Y軸テーブル 7 基板 8 θ軸テーブル 9 架台部 10 Z軸テーブル支持部 11a 画像認識カメラ 11b 鏡筒 12 ノズル支持具 13 吸着台 14 制御装置 15a〜15d サーボモータ 16 モニタ 17 キーボード 18 外部記憶装置 1 Nozzle 2 Paste Storage Cylinder 3 Optical Distance Meter 4a Z-axis Table 4b Camera Support 5 X-axis Table 6 Y-axis Table 7 Substrate 8 θ-axis Table 9 Mount 10 Z-axis Table Support 11a Image Recognition Camera 11b Lens Tube 12 Nozzle support 13 Suction table 14 Control device 15a to 15d Servo motor 16 Monitor 17 Keyboard 18 External storage device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川隅 幸宏 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 (72)発明者 米田 福男 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yukihiro Kawasumi 5-2, Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. Development Laboratory (72) Inventor Fukuo Yoneda 5--2, Koyodai, Ryugasaki, Ibaraki Hitachi Techno Engineering Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テーブル上に載置された基板上にノズル
からペーストを吐出させながら該ノズルと該テーブルと
の相対位置関係を変化させることにより、該基板上に所
望のパターンでペーストを塗布するペースト塗布機にお
いて、 該テーブル上に載置された該基板の所望位置に対するノ
ズル交換時の該ノズルの吐出口の位置を、該基板での互
いに離れた任意数のペースト塗布点で計測する計測手段
と、 該計測手段による該各ペースト塗布点についての計測結
果から、ノズル交換によるノズル吐出口の位置変動を算
出する算出手段と、 該算出手段で得られた結果から、ノズル交換後のノズル
吐出口に対して該基板を所望位置に位置決めする位置決
め手段とを設けたことを特徴とするペースト塗布機。
1. A paste is applied in a desired pattern on the substrate by changing the relative positional relationship between the nozzle and the table while discharging the paste from the nozzle onto the substrate placed on the table. In the paste applicator, a measuring means for measuring the position of the discharge port of the nozzle when the nozzle is replaced with respect to the desired position of the substrate placed on the table, at an arbitrary number of paste application points separated from each other on the substrate. And a calculation means for calculating the position variation of the nozzle discharge port due to the nozzle replacement from the measurement result of each paste application point by the measurement means, and the nozzle discharge port after the nozzle replacement based on the result obtained by the calculation means. And a positioning means for positioning the substrate at a desired position with respect to the paste coating machine.
【請求項2】 請求項1において、 前記算出手段は、前記計測手段による各ペースト塗布点
についての全ての計測結果の統計処理と最初に塗布した
ペースト塗布点を除く残りのペースト塗布点の統計処理
とのいずれかにより、ノズル交換に伴うノズル吐出口の
位置変動を算出することを特徴とするペースト塗布機。
2. The statistical processing according to claim 1, wherein the calculating means statistically processes all measurement results of each paste application point by the measuring means and statistically processes remaining paste application points excluding the first paste application point. A paste applicator characterized in that the position variation of the nozzle discharge port due to the nozzle replacement is calculated by either of the above.
【請求項3】 テーブル上に載置した基板上にノズルか
らペーストを吐出させながら該ノズルと該テーブルとの
相対位置関係を変化させることにより、該基板上に所望
のパターンでペーストを塗布するペースト塗布機におい
て、 該テーブル上に載置された該基板の所望位置に対するノ
ズル交換時の該ノズルの吐出口の位置を、該基板への互
いに離れた任意数のペースト塗布点のうち最後に塗布し
たペースト塗布点で計測する計測手段と、 該計測手段による最後に塗布したペースト塗布点につい
ての計測結果から、ノズル交換に伴うノズル吐出口の位
置変動を算出する算出手段と、 該算出手段で得られた結果から、ノズル交換後のノズル
吐出口に対して該基板を所望位置に位置決めする位置決
め手段とを設けたことを特徴とするペースト塗布機。
3. A paste for applying paste in a desired pattern on the substrate by changing the relative positional relationship between the nozzle and the table while discharging the paste from the nozzle onto the substrate placed on the table. In the coating machine, the position of the discharge port of the nozzle at the time of nozzle replacement with respect to the desired position of the substrate placed on the table is applied last among the arbitrary number of paste application points separated from each other on the substrate. The measuring means for measuring at the paste application point, the calculating means for calculating the position variation of the nozzle discharge port due to the nozzle replacement from the measurement result of the paste applying point applied last by the measuring means, and the calculating means Based on the results, a paste coating machine is provided with a positioning means for positioning the substrate at a desired position with respect to the nozzle discharge port after nozzle replacement. .
【請求項4】 請求項1,2または3において、 前記位置決め手段は、前記基板を前記所望位置に位置調
整する手段であることを特徴とするペースト塗布機。
4. The paste applicator according to claim 1, wherein the positioning means is means for adjusting the position of the substrate to the desired position.
【請求項5】 請求項1,2または3において、 前記位置決め手段は、前記基板での互いに離れた任意個
数のペースト塗布点を読み取る基板位置決め用カメラの
固定位置を位置調整する手段であることを特徴とするペ
ースト塗布機。
5. The positioning means according to claim 1, 2 or 3, wherein the positioning means is means for adjusting a fixed position of a board positioning camera for reading an arbitrary number of paste application points separated from each other on the board. Characteristic paste applicator.
【請求項6】 請求項1,2または3において、 ノズル交換があったことを示す情報を記憶する記憶手段
と、 該記憶手段の該情報に基いて前記ノズルの吐出口の位置
を計測し、前記ノズル吐出口の位置変動を算出してノズ
ル交換後の前記ノズル吐出口に対して前記基板を所望位
置に位置決めする手段とを設けたことを特徴とするペー
スト塗布機。
6. The storage means according to claim 1, 2 or 3, wherein the storage means stores information indicating that the nozzle has been replaced, and the position of the discharge port of the nozzle is measured based on the information stored in the storage means. A paste applicator comprising: means for calculating a positional variation of the nozzle ejection port and positioning the substrate at a desired position with respect to the nozzle ejection port after nozzle replacement.
JP7157819A 1995-06-23 1995-06-23 Paste coating machine Pending JPH091026A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7157819A JPH091026A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Paste coating machine
US08/664,120 US5932012A (en) 1995-06-23 1996-06-14 Paste applicator having positioning means
KR1019960023350A KR100229855B1 (en) 1995-06-23 1996-06-24 Paste coating machine

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7157819A JPH091026A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Paste coating machine

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH091026A true JPH091026A (en) 1997-01-07

Family

ID=15658005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7157819A Pending JPH091026A (en) 1995-06-23 1995-06-23 Paste coating machine

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH091026A (en)

Cited By (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002540936A (en) * 1999-04-08 2002-12-03 マイデータ オートメーション アクチボラグ Dispensing assembly
US7163033B2 (en) 2003-06-30 2007-01-16 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding apparatus for liquid crystal display device panel
KR100710683B1 (en) * 2004-05-12 2007-04-24 주식회사 탑 엔지니어링 Sealant dispenser
US7240438B2 (en) 2003-12-10 2007-07-10 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Aligning apparatus
US7244160B2 (en) 2002-03-23 2007-07-17 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device bonding apparatus and method of using the same
US7255147B2 (en) 2002-03-16 2007-08-14 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Bonding device for fabricating liquid crystal display and substrate for fabricating liquid crystal display
US7258894B2 (en) 2002-03-23 2007-08-21 L.G.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US7270587B2 (en) 2002-03-05 2007-09-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display devices, method for using the apparatus, and device produced by the method
US7271904B2 (en) 2002-11-13 2007-09-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Seal dispenser for fabricating liquid crystal display panel and method for detecting discontinuous portion of seal pattern using the same
US7275577B2 (en) 2002-11-16 2007-10-02 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding machine for liquid crystal display device
US7280180B2 (en) 2002-03-19 2007-10-09 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel with first and second dummy UV sealants and method for fabricating the same
US7294999B2 (en) 2003-12-30 2007-11-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for automatically displaying the grade of liquid crystal display device and operating method thereof
US7300084B2 (en) 2002-03-23 2007-11-27 L.G.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for conveying liquid crystal display panel
US7306016B2 (en) 2002-03-15 2007-12-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having confirming function for remaining amount of liquid crystal and method for measuring the same
US7310128B2 (en) 2003-12-26 2007-12-18 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Manufacturing line of liquid crystal display device and fabricating method thereof
US7314535B2 (en) 2002-11-07 2008-01-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Structure for loading substrate in substrate bonding apparatus for fabricating liquid crystal display device
US7316248B2 (en) 2003-11-17 2008-01-08 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method of dispensing liquid crystal
US7322490B2 (en) 2003-05-09 2008-01-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
US7329169B2 (en) 2002-03-25 2008-02-12 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel
US7340322B2 (en) 2003-10-31 2008-03-04 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Rubbing apparatus for liquid crystal display panel and method thereof
US7341641B2 (en) 2002-03-20 2008-03-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Bonding device for manufacturing liquid crystal display device
US7345734B2 (en) 2003-12-30 2008-03-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7361240B2 (en) 2003-12-13 2008-04-22 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for fabricating liquid crystal display
US7365822B2 (en) 2002-02-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating LCD
US7363948B2 (en) 2002-07-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal
US7369210B2 (en) 2002-02-06 2008-05-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display device using unitary vacuum processing chamber
US7370681B2 (en) 2002-11-16 2008-05-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding apparatus for liquid crystal display device
US7372511B2 (en) 2002-03-08 2008-05-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Device for controlling spreading of liquid crystal and method for fabricating an LCD
US7373958B2 (en) 2003-06-25 2008-05-20 Lg Displays Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus
US7384485B2 (en) 2003-06-24 2008-06-10 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system which can read information of liquid crystal container and method of dispensing liquid crystal material using same
US7391494B2 (en) 2002-02-27 2008-06-24 Lg Display Co., Ltd. Method of fabricating LCD
US7405799B2 (en) 2002-03-20 2008-07-29 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US7405800B2 (en) 2002-03-23 2008-07-29 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel device having compensation cell gap, method of fabricating the same and method of using the same
US7408614B2 (en) 2003-12-10 2008-08-05 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel having seal pattern for easy cut line separation minimizing liquid crystal contamination and method of manufacturing the same
US7407553B2 (en) 2003-06-02 2008-08-05 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for fabricating a liquid crystal display panel
US7410109B2 (en) 2002-02-07 2008-08-12 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus with nozzle protecting device
US7416010B2 (en) 2002-03-08 2008-08-26 Lg Display Co., Ltd. Bonding apparatus and system for fabricating liquid crystal display device
US7419548B2 (en) 2003-06-24 2008-09-02 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having separable liquid crystal discharging pump
US7426010B2 (en) 2002-02-27 2008-09-16 Lg Display Co., Ltd. Method for fabricating LCD
US7426951B2 (en) 2002-03-25 2008-09-23 Lg Display Co., Ltd. LCD bonding machine and method for fabricating LCD by using the same
US7433014B2 (en) 2001-12-22 2008-10-07 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
US7528922B2 (en) 2002-12-17 2009-05-05 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for measuring ground amounts of liquid crystal display panel
US7548798B2 (en) 2003-06-20 2009-06-16 Top Engineering, Co., Ltd. Paste dispenser and method for controlling the same
US7592034B2 (en) 2002-11-13 2009-09-22 Lg Display Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel, dispensing method using the same, and method of fabricating liquid crystal display panel using dispenser system and dispensing method
US7659963B2 (en) 2002-02-20 2010-02-09 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus with nozzle cleaning device
US7687101B2 (en) 2002-11-13 2010-03-30 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7691432B2 (en) 2002-11-13 2010-04-06 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and method for detecting residual quantity of dispensing material using the same
US7698833B2 (en) 2002-03-15 2010-04-20 Lg Display Co., Ltd. Apparatus for hardening a sealant located between a pair bonded substrates of liquid crystal display device
US7732004B2 (en) 2003-11-25 2010-06-08 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7775244B2 (en) 2003-12-17 2010-08-17 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system
US7807214B2 (en) 2003-11-22 2010-10-05 Lg Display Co., Ltd. Dispensing apparatus for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7950345B2 (en) 2002-12-20 2011-05-31 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7969547B2 (en) 2002-11-19 2011-06-28 Lg Display Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel and method of using the same
US8052013B2 (en) 2002-02-20 2011-11-08 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having integrated needle sheet
US8074551B2 (en) 2002-02-26 2011-12-13 Lg Display Co., Ltd. Cutting wheel for liquid crystal display panel
US8146641B2 (en) 2003-12-01 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Sealant hardening apparatus of liquid crystal display panel and sealant hardening method thereof
US8147645B2 (en) 2003-06-02 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Syringe for fabricating liquid crystal display panel
US8322542B2 (en) 2002-03-15 2012-12-04 Lg Display Co., Ltd. Cassette for receiving substrates
US8747941B2 (en) 2003-12-17 2014-06-10 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
DE102016008060A1 (en) 2015-07-09 2017-01-12 Fanuc Corporation Robot control unit for a robot that puts two objects in a combined state

Cited By (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002540936A (en) * 1999-04-08 2002-12-03 マイデータ オートメーション アクチボラグ Dispensing assembly
US7433014B2 (en) 2001-12-22 2008-10-07 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
US7369210B2 (en) 2002-02-06 2008-05-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display device using unitary vacuum processing chamber
US7410109B2 (en) 2002-02-07 2008-08-12 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus with nozzle protecting device
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US8052013B2 (en) 2002-02-20 2011-11-08 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having integrated needle sheet
US7365822B2 (en) 2002-02-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating LCD
US7659963B2 (en) 2002-02-20 2010-02-09 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus with nozzle cleaning device
US8074551B2 (en) 2002-02-26 2011-12-13 Lg Display Co., Ltd. Cutting wheel for liquid crystal display panel
US7426010B2 (en) 2002-02-27 2008-09-16 Lg Display Co., Ltd. Method for fabricating LCD
US7391494B2 (en) 2002-02-27 2008-06-24 Lg Display Co., Ltd. Method of fabricating LCD
US7270587B2 (en) 2002-03-05 2007-09-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display devices, method for using the apparatus, and device produced by the method
US7416010B2 (en) 2002-03-08 2008-08-26 Lg Display Co., Ltd. Bonding apparatus and system for fabricating liquid crystal display device
US7372511B2 (en) 2002-03-08 2008-05-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Device for controlling spreading of liquid crystal and method for fabricating an LCD
US7306016B2 (en) 2002-03-15 2007-12-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having confirming function for remaining amount of liquid crystal and method for measuring the same
US8322542B2 (en) 2002-03-15 2012-12-04 Lg Display Co., Ltd. Cassette for receiving substrates
US7698833B2 (en) 2002-03-15 2010-04-20 Lg Display Co., Ltd. Apparatus for hardening a sealant located between a pair bonded substrates of liquid crystal display device
US7255147B2 (en) 2002-03-16 2007-08-14 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Bonding device for fabricating liquid crystal display and substrate for fabricating liquid crystal display
US7280180B2 (en) 2002-03-19 2007-10-09 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel with first and second dummy UV sealants and method for fabricating the same
US7405799B2 (en) 2002-03-20 2008-07-29 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US7341641B2 (en) 2002-03-20 2008-03-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Bonding device for manufacturing liquid crystal display device
US7578900B2 (en) 2002-03-20 2009-08-25 Lg Display Co., Ltd. Bonding device for manufacturing liquid crystal display device
US7258894B2 (en) 2002-03-23 2007-08-21 L.G.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US7405800B2 (en) 2002-03-23 2008-07-29 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel device having compensation cell gap, method of fabricating the same and method of using the same
US7300084B2 (en) 2002-03-23 2007-11-27 L.G.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for conveying liquid crystal display panel
US7244160B2 (en) 2002-03-23 2007-07-17 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device bonding apparatus and method of using the same
US8899175B2 (en) 2002-03-23 2014-12-02 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US7329169B2 (en) 2002-03-25 2008-02-12 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel
US7426951B2 (en) 2002-03-25 2008-09-23 Lg Display Co., Ltd. LCD bonding machine and method for fabricating LCD by using the same
US7363948B2 (en) 2002-07-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal
US7836934B2 (en) 2002-11-07 2010-11-23 Lg Display Co., Ltd. Structure for loading substrate in substrate bonding apparatus for fabricating liquid crystal display device
US7314535B2 (en) 2002-11-07 2008-01-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Structure for loading substrate in substrate bonding apparatus for fabricating liquid crystal display device
US7592034B2 (en) 2002-11-13 2009-09-22 Lg Display Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel, dispensing method using the same, and method of fabricating liquid crystal display panel using dispenser system and dispensing method
US7687101B2 (en) 2002-11-13 2010-03-30 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7271904B2 (en) 2002-11-13 2007-09-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Seal dispenser for fabricating liquid crystal display panel and method for detecting discontinuous portion of seal pattern using the same
US7691432B2 (en) 2002-11-13 2010-04-06 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and method for detecting residual quantity of dispensing material using the same
US7370681B2 (en) 2002-11-16 2008-05-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding apparatus for liquid crystal display device
US7275577B2 (en) 2002-11-16 2007-10-02 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding machine for liquid crystal display device
US7969547B2 (en) 2002-11-19 2011-06-28 Lg Display Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel and method of using the same
US8184258B2 (en) 2002-11-19 2012-05-22 Lg Display Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel and method of using the same
US7528922B2 (en) 2002-12-17 2009-05-05 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for measuring ground amounts of liquid crystal display panel
US7950345B2 (en) 2002-12-20 2011-05-31 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US9285614B2 (en) 2003-04-24 2016-03-15 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
US7322490B2 (en) 2003-05-09 2008-01-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
US8714106B2 (en) 2003-05-09 2014-05-06 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
US7407553B2 (en) 2003-06-02 2008-08-05 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for fabricating a liquid crystal display panel
US8147645B2 (en) 2003-06-02 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Syringe for fabricating liquid crystal display panel
US7548798B2 (en) 2003-06-20 2009-06-16 Top Engineering, Co., Ltd. Paste dispenser and method for controlling the same
US7419548B2 (en) 2003-06-24 2008-09-02 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus having separable liquid crystal discharging pump
US7384485B2 (en) 2003-06-24 2008-06-10 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system which can read information of liquid crystal container and method of dispensing liquid crystal material using same
US7373958B2 (en) 2003-06-25 2008-05-20 Lg Displays Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus
US7163033B2 (en) 2003-06-30 2007-01-16 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Substrate bonding apparatus for liquid crystal display device panel
US7340322B2 (en) 2003-10-31 2008-03-04 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Rubbing apparatus for liquid crystal display panel and method thereof
US7316248B2 (en) 2003-11-17 2008-01-08 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method of dispensing liquid crystal
US7807214B2 (en) 2003-11-22 2010-10-05 Lg Display Co., Ltd. Dispensing apparatus for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US7732004B2 (en) 2003-11-25 2010-06-08 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US8146641B2 (en) 2003-12-01 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Sealant hardening apparatus of liquid crystal display panel and sealant hardening method thereof
US7240438B2 (en) 2003-12-10 2007-07-10 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Aligning apparatus
US7408614B2 (en) 2003-12-10 2008-08-05 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel having seal pattern for easy cut line separation minimizing liquid crystal contamination and method of manufacturing the same
US7361240B2 (en) 2003-12-13 2008-04-22 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for fabricating liquid crystal display
US7775244B2 (en) 2003-12-17 2010-08-17 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system
US8747941B2 (en) 2003-12-17 2014-06-10 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing apparatus
US7310128B2 (en) 2003-12-26 2007-12-18 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Manufacturing line of liquid crystal display device and fabricating method thereof
US7294999B2 (en) 2003-12-30 2007-11-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for automatically displaying the grade of liquid crystal display device and operating method thereof
US7345734B2 (en) 2003-12-30 2008-03-18 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Dispenser system for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
KR100710683B1 (en) * 2004-05-12 2007-04-24 주식회사 탑 엔지니어링 Sealant dispenser
US7540924B2 (en) 2004-05-12 2009-06-02 Top Engineering Company Sealant dispenser and control method thereof
DE102016008060A1 (en) 2015-07-09 2017-01-12 Fanuc Corporation Robot control unit for a robot that puts two objects in a combined state

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH091026A (en) Paste coating machine
US5932012A (en) Paste applicator having positioning means
JP2809588B2 (en) Paste coating machine
JP3122708B2 (en) Paste coating machine
US5614024A (en) Apparatus for applying paste
JP3139945B2 (en) Paste coating machine
JP2880642B2 (en) Paste coating machine
JP3492190B2 (en) Paste application method and paste application machine
JP3520205B2 (en) Paste application method and paste application machine
JPH10174924A (en) Paste applying apparatus
JP4341324B2 (en) Liquid crystal panel manufacturing method and paste coating apparatus
JP3811028B2 (en) Paste applicator and control method thereof
JP2849320B2 (en) Paste coating machine
JP2752553B2 (en) Paste coating machine
JP2713687B2 (en) Paste coating machine
JP3539891B2 (en) Nozzle height positioning method for paste coating machine
JP3510124B2 (en) Paste coating method and paste coating machine
JP2840417B2 (en) Component mounting device
JP2005193156A (en) Paste applicator
JP2003039001A (en) Paste coating machine and pattern coating method
JP3469991B2 (en) Paste coating machine
JPH10135686A (en) Data processing device and electronic components mounting apparatus
JP2005125134A (en) Coating apparatus
JP4471429B2 (en) Screen printing device
JP3470060B2 (en) Paste application method and paste application machine