JP2000088551A - 面形状測定方法及び装置 - Google Patents
面形状測定方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、測定開口より大きな面積を有する平
面に測定開口を走査させて分割測定する面形状測定方法
及び装置に関し、合成回数を多くしても繋ぎ合わせの誤
差が増大しない面形状測定方法及び装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】干渉計１０は、被測定面１１ａ側に開口し
た測定開口を有して直動ステージ１２に移動可能に取り
付けられ、直動ステージ１２を駆動させることによりＸ
方向に走査される。干渉計１０のＸ方向側面には、干渉
計１０のＹ軸回りの回転を測定する角度参照ミラー１３
が張り付けられている。また、干渉計１０のＹ軸回りの
回転角度を測定するためのオートコリメーター１４が角
度参照ミラー１３をＸ方向から臨む位置に配置されてい
る。干渉計１０、直動ステージ１２、及びオートコリメ
ーター１４は計算制御部１５に接続されている。
面に測定開口を走査させて分割測定する面形状測定方法
及び装置に関し、合成回数を多くしても繋ぎ合わせの誤
差が増大しない面形状測定方法及び装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】干渉計１０は、被測定面１１ａ側に開口し
た測定開口を有して直動ステージ１２に移動可能に取り
付けられ、直動ステージ１２を駆動させることによりＸ
方向に走査される。干渉計１０のＸ方向側面には、干渉
計１０のＹ軸回りの回転を測定する角度参照ミラー１３
が張り付けられている。また、干渉計１０のＹ軸回りの
回転角度を測定するためのオートコリメーター１４が角
度参照ミラー１３をＸ方向から臨む位置に配置されてい
る。干渉計１０、直動ステージ１２、及びオートコリメ
ーター１４は計算制御部１５に接続されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、軟Ｘ線反射ミラー
あるいは液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造に用いられる多
面取りガラス基板のような、大面積を有する平面あるい
は平面に近い非球面の形状を干渉計等を用いて測定する
面形状測定方法及び装置に関し、特に、面形状測定装置
の干渉計の測定開口より著しく大きな面積を有する平面
あるいは平面に近い非球面に対して測定開口を走査させ
て分割測定する面形状測定方法及び装置に関する。
あるいは液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造に用いられる多
面取りガラス基板のような、大面積を有する平面あるい
は平面に近い非球面の形状を干渉計等を用いて測定する
面形状測定方法及び装置に関し、特に、面形状測定装置
の干渉計の測定開口より著しく大きな面積を有する平面
あるいは平面に近い非球面に対して測定開口を走査させ
て分割測定する面形状測定方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、平面ミラーもしくは平面に近い非
球面ミラーの表面形状を測定する技術として、特開平０
４−２９０９０７号公報や特開平０５−９９６３７号公
報等に記載された技術が知られている。これら公報に
は、被測定面を互いに重複領域を持つ複数の部分面に分
割し、それぞれの部分面に対して干渉計を順次移動させ
て部分面データを測定する測定方法が開示されている。
そして、測定終了後に、重複領域を共有する２つの部分
面の測定データが重複領域で最も滑らかに重なり合うよ
うにフィッティングさせて２つの部分面の相対位置角度
を求めることが開示されている。さらに、求められた部
分面の相対位置角度を用いて全ての部分面を繋ぎ合わせ
ることにより被測定面全体の形状が得られることが開示
されている。
球面ミラーの表面形状を測定する技術として、特開平０
４−２９０９０７号公報や特開平０５−９９６３７号公
報等に記載された技術が知られている。これら公報に
は、被測定面を互いに重複領域を持つ複数の部分面に分
割し、それぞれの部分面に対して干渉計を順次移動させ
て部分面データを測定する測定方法が開示されている。
そして、測定終了後に、重複領域を共有する２つの部分
面の測定データが重複領域で最も滑らかに重なり合うよ
うにフィッティングさせて２つの部分面の相対位置角度
を求めることが開示されている。さらに、求められた部
分面の相対位置角度を用いて全ての部分面を繋ぎ合わせ
ることにより被測定面全体の形状が得られることが開示
されている。
【０００３】特に特開平０４−２９０９０７号公報に開
示された技術では、被測定面の法線方向をＺ軸とするＸ
ＹＺ座標系において、重複領域のフィッティングにより
隣り合う部分面のＸ軸およびＹ軸を回転中心とした角
度、およびＺ方向の位置を算出している。ところで、特
開平０４−２９０９０７号公報あるいは特開平０５−９
９６３７号公報に開示された技術を用いた場合には、多
数の部分面を測定して精度よく繋ぎ合わせるために繋ぎ
合わせの際に生じるフィッティング誤差を小さくさせる
必要が生じる。このためには、重複領域を大きく取って
繋ぎ合わせる方向の重複長さをある程度長めに取る必要
がある。従って、部分面の数および合成回数は、被測定
面の面積を測定開口の大きさで割った数値よりもかなり
多くなってしまっている。
示された技術では、被測定面の法線方向をＺ軸とするＸ
ＹＺ座標系において、重複領域のフィッティングにより
隣り合う部分面のＸ軸およびＹ軸を回転中心とした角
度、およびＺ方向の位置を算出している。ところで、特
開平０４−２９０９０７号公報あるいは特開平０５−９
９６３７号公報に開示された技術を用いた場合には、多
数の部分面を測定して精度よく繋ぎ合わせるために繋ぎ
合わせの際に生じるフィッティング誤差を小さくさせる
必要が生じる。このためには、重複領域を大きく取って
繋ぎ合わせる方向の重複長さをある程度長めに取る必要
がある。従って、部分面の数および合成回数は、被測定
面の面積を測定開口の大きさで割った数値よりもかなり
多くなってしまっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】また上述の従来の技術
では、合成回数が多くなると繋ぎ合わせの誤差が著しく
大きくなる欠点がある。この欠点を図７を用いて説明す
る。図７は、複数の部分面を繋ぎ合わせる方向（Ｘ方
向）に直交する方向（Ｙ方向）から被測定物表面を見た
部分断面図である。図７に示すように、Ｙ軸を回転中心
とした角度の誤差が多数の部分面に存在することによっ
て生じる合成誤差Ｅを考える。各部分面のＸ方向長さを
一定値ｌとしたとき、ｎ回合成したときに累積する合成
誤差Ｅは以下のようになる。
では、合成回数が多くなると繋ぎ合わせの誤差が著しく
大きくなる欠点がある。この欠点を図７を用いて説明す
る。図７は、複数の部分面を繋ぎ合わせる方向（Ｘ方
向）に直交する方向（Ｙ方向）から被測定物表面を見た
部分断面図である。図７に示すように、Ｙ軸を回転中心
とした角度の誤差が多数の部分面に存在することによっ
て生じる合成誤差Ｅを考える。各部分面のＸ方向長さを
一定値ｌとしたとき、ｎ回合成したときに累積する合成
誤差Ｅは以下のようになる。
【０００５】
【数１】
【０００６】誤差の伝播法則よりＥの標準偏差σＥは以
下のように近似できる。
下のように近似できる。
【０００７】
【数２】
【０００８】全ての部分面について順番にＹ軸回りの回
転角度をフィッティングで求める場合、繋ぎ合わせの基
準となる部分面に対するその他の部分面の角度誤差Δθ
ｉは独立ではなく、前回までのフィッティング結果が影
響するので、
転角度をフィッティングで求める場合、繋ぎ合わせの基
準となる部分面に対するその他の部分面の角度誤差Δθ
ｉは独立ではなく、前回までのフィッティング結果が影
響するので、
【０００９】
【数３】
【００１０】と表される。よって、Δθｉの標準偏差が
一定値σθｆをとるとしたとき、式（１）、式（３）を
式（２）に代入して計算すると、誤差Ｅの標準偏差すな
わちばらつきσＥｎは以下のようになる。
一定値σθｆをとるとしたとき、式（１）、式（３）を
式（２）に代入して計算すると、誤差Ｅの標準偏差すな
わちばらつきσＥｎは以下のようになる。
【００１１】
【数４】
【００１２】このように全ての部分面について順番にＹ
軸回りの回転角度をフィッティングで求める場合、合成
回数の３／２乗に比例して合成誤差Ｅのばらつきが増大
するため、合成回数が多い場合に合成誤差Ｅが著しく増
大する。さらに合成回数が多い場合には部分面の数も多
くなるため、必然的に測定時間が増加する。よって測定
系の設置環境を均一に保つことが困難になるため被測定
物の変形などを招き、結果的に測定精度の低下を招いて
しまうという問題が生じる。
軸回りの回転角度をフィッティングで求める場合、合成
回数の３／２乗に比例して合成誤差Ｅのばらつきが増大
するため、合成回数が多い場合に合成誤差Ｅが著しく増
大する。さらに合成回数が多い場合には部分面の数も多
くなるため、必然的に測定時間が増加する。よって測定
系の設置環境を均一に保つことが困難になるため被測定
物の変形などを招き、結果的に測定精度の低下を招いて
しまうという問題が生じる。
【００１３】また、以上説明した問題を解決するため
に、重複領域を小さくして繋ぎ合わせる方向の重複長さ
を短くして、部分面の数及び合成回数を少なくすること
が考えられる。この場合Ｘ軸を回転中心とした角度およ
びＺ方向の位置のフィッティング誤差はさほど増加しな
い。しかしＸ方向重複領域長さを短くすることによっ
て、Ｙ軸を回転中心とした角度のフィッティング誤差が
増加する問題が生じる。
に、重複領域を小さくして繋ぎ合わせる方向の重複長さ
を短くして、部分面の数及び合成回数を少なくすること
が考えられる。この場合Ｘ軸を回転中心とした角度およ
びＺ方向の位置のフィッティング誤差はさほど増加しな
い。しかしＸ方向重複領域長さを短くすることによっ
て、Ｙ軸を回転中心とした角度のフィッティング誤差が
増加する問題が生じる。
【００１４】本発明の目的は、合成回数を多くしても繋
ぎ合わせの誤差が増大しない面形状測定方法及び装置を
提供することにある。また、本発明の目的は、高い測定
精度を維持しつつ短時間で測定を終了することができる
面形状測定方法及び装置を提供することにある。さら
に、本発明の目的は、重複領域長さを短くしても、Ｙ軸
を回転中心とした角度のフィッティング誤差が増加しな
い面形状測定方法及び装置を提供することにある。
ぎ合わせの誤差が増大しない面形状測定方法及び装置を
提供することにある。また、本発明の目的は、高い測定
精度を維持しつつ短時間で測定を終了することができる
面形状測定方法及び装置を提供することにある。さら
に、本発明の目的は、重複領域長さを短くしても、Ｙ軸
を回転中心とした角度のフィッティング誤差が増加しな
い面形状測定方法及び装置を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、被測定面よ
り小さい測定開口を持つ部分面形状測定機と、測定開口
が被測定面に沿って移動するように部分面形状測定機を
移動させる直動ステージと、部分面形状測定機に固定さ
れ、測定開口を被測定面に沿って移動させる際の部分面
形状測定機の傾きに応じて傾く角度参照ミラーと、角度
参照ミラーの傾き角を測定する角度測定器とを有するこ
とを特徴とする面形状測定装置によって達成される。本
発明の面形状測定装置において、前記角度参照ミラー
は、その法線方向が直動ステージの走査方向にほぼ沿う
ように配置され、前記角度測定器は、その測定軸が直動
ステージの走査方向にほぼ沿うように配置されているこ
とを特徴とする。
り小さい測定開口を持つ部分面形状測定機と、測定開口
が被測定面に沿って移動するように部分面形状測定機を
移動させる直動ステージと、部分面形状測定機に固定さ
れ、測定開口を被測定面に沿って移動させる際の部分面
形状測定機の傾きに応じて傾く角度参照ミラーと、角度
参照ミラーの傾き角を測定する角度測定器とを有するこ
とを特徴とする面形状測定装置によって達成される。本
発明の面形状測定装置において、前記角度参照ミラー
は、その法線方向が直動ステージの走査方向にほぼ沿う
ように配置され、前記角度測定器は、その測定軸が直動
ステージの走査方向にほぼ沿うように配置されているこ
とを特徴とする。
【００１６】また、本発明の面形状測定装置において、
直動ステージの走査方向に直交する第２の走査方向を有
し、部分面測定機を第２の走査方向に移動可能な第２の
直動ステージと、部分面形状測定機に固定され、法線方
向が第２の直動ステージの走査方向にほぼ沿うように配
置された第２の角度参照ミラーと、測定軸が第２の直動
ステージの走査方向にほぼ沿うように配置されている第
２の角度測定器とを更に備えたことを特徴とする。また
本発明の面形状測定装置において、部分面形状測定機の
移動に伴って移動する第２の角度参照ミラーに追従して
第２の角度測定器を移動させる移動機構を更に有してい
ることを特徴とする。また、本発明の面形状測定装置に
おいて、前記２つの角度参照ミラーは、それぞれの法線
方向にほぼ直交する方向に各直動ステージのストローク
以上の幅を有していることを特徴とする。
直動ステージの走査方向に直交する第２の走査方向を有
し、部分面測定機を第２の走査方向に移動可能な第２の
直動ステージと、部分面形状測定機に固定され、法線方
向が第２の直動ステージの走査方向にほぼ沿うように配
置された第２の角度参照ミラーと、測定軸が第２の直動
ステージの走査方向にほぼ沿うように配置されている第
２の角度測定器とを更に備えたことを特徴とする。また
本発明の面形状測定装置において、部分面形状測定機の
移動に伴って移動する第２の角度参照ミラーに追従して
第２の角度測定器を移動させる移動機構を更に有してい
ることを特徴とする。また、本発明の面形状測定装置に
おいて、前記２つの角度参照ミラーは、それぞれの法線
方向にほぼ直交する方向に各直動ステージのストローク
以上の幅を有していることを特徴とする。
【００１７】また上記目的は、被測定面を互いに重複領
域を有する複数の部分面に分割し、分割した部分面を部
分面形状測定機で順次走査してその形状を測定して部分
面データを取得し、隣り合う部分面間の相対位置角度を
用いて全ての部分面データを合成し、被測定面全体の形
状を求める面形状測定方法において、相対位置角度を得
るために、部分面形状測定機の走査方向にほぼ沿う方向
から部分面形状測定機の傾きを測定することを特徴とす
る面形状測定方法によって達成される。
域を有する複数の部分面に分割し、分割した部分面を部
分面形状測定機で順次走査してその形状を測定して部分
面データを取得し、隣り合う部分面間の相対位置角度を
用いて全ての部分面データを合成し、被測定面全体の形
状を求める面形状測定方法において、相対位置角度を得
るために、部分面形状測定機の走査方向にほぼ沿う方向
から部分面形状測定機の傾きを測定することを特徴とす
る面形状測定方法によって達成される。
【００１８】本発明の面形状測定方法において、前記相
対位置角度は、２次元移動する部分面形状測定機の傾き
を直交する２方向から測定することを特徴とする。ま
た、本発明の面形状測定方法において、２次元移動する
部分面形状測定機の直交する２方向の傾きをそれぞれ角
度測定手段で測定する際、一方の角度測定手段は位置を
固定されて部分面形状測定機の一走査方向に沿って分面
形状測定機の傾きを測定し、他方の角度測定手段は、一
走査方向に沿って移動しつつ一走査方向に直交する他走
査方向に関する部分面形状測定機の傾きを測定すること
を特徴とする。また本発明の面形状測定方法において、
部分面データを合成する際の合成精度が同等となる複数
の合成経路を用いて複数の全面合成結果を求め、それら
全面合成結果を平均して被測定面全体の形状を求めるこ
とを特徴とする。
対位置角度は、２次元移動する部分面形状測定機の傾き
を直交する２方向から測定することを特徴とする。ま
た、本発明の面形状測定方法において、２次元移動する
部分面形状測定機の直交する２方向の傾きをそれぞれ角
度測定手段で測定する際、一方の角度測定手段は位置を
固定されて部分面形状測定機の一走査方向に沿って分面
形状測定機の傾きを測定し、他方の角度測定手段は、一
走査方向に沿って移動しつつ一走査方向に直交する他走
査方向に関する部分面形状測定機の傾きを測定すること
を特徴とする。また本発明の面形状測定方法において、
部分面データを合成する際の合成精度が同等となる複数
の合成経路を用いて複数の全面合成結果を求め、それら
全面合成結果を平均して被測定面全体の形状を求めるこ
とを特徴とする。
【００１９】以上の構成を有する本発明においては、繋
ぎ合わせの基準となる部分面に対するその他の部分面の
Ｙ軸回りの回転角度誤差Δθｉは角度測定器によってそ
れぞれ独立に測定することができる。よって式（３）で
示されるような誤差の累積は発生しない。角度測定値の
測定誤差Δθｉの標準偏差をσθｓとして、式（２）に
式（１）を代入すると、誤差Ｅのばらつきは以下のよう
になる。
ぎ合わせの基準となる部分面に対するその他の部分面の
Ｙ軸回りの回転角度誤差Δθｉは角度測定器によってそ
れぞれ独立に測定することができる。よって式（３）で
示されるような誤差の累積は発生しない。角度測定値の
測定誤差Δθｉの標準偏差をσθｓとして、式（２）に
式（１）を代入すると、誤差Ｅのばらつきは以下のよう
になる。
【００２０】
【数５】
【００２１】このように本発明を用いた場合、誤差Ｅの
ばらつきが合成回数の１／２乗に比例するため、特に合
成回数が多くなったときの誤差Ｅが従来の合成方法より
小さくなり、大面積の被測定面形状を高精度で測定でき
る。さらに重複領域の大きさが測定精度にほとんど影響
を与えないため、Ｘ軸まわりの回転角度およびＺ方向位
置のフィッティング誤差に大きな影響を与えない範囲で
Ｘ方向重複領域長さを最小にすることができ、結果とし
て分割回数を減らすことになるため短時間で測定でき
る。
ばらつきが合成回数の１／２乗に比例するため、特に合
成回数が多くなったときの誤差Ｅが従来の合成方法より
小さくなり、大面積の被測定面形状を高精度で測定でき
る。さらに重複領域の大きさが測定精度にほとんど影響
を与えないため、Ｘ軸まわりの回転角度およびＺ方向位
置のフィッティング誤差に大きな影響を与えない範囲で
Ｘ方向重複領域長さを最小にすることができ、結果とし
て分割回数を減らすことになるため短時間で測定でき
る。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
面形状測定方法及び装置を図１及び図２を用いて説明す
る。まず、本実施の形態による面形状測定装置の概略の
構成を図１を用いて説明する。図１（ａ）は本実施の形
態による面形状測定装置の斜視図であり、図１（ｂ）
は、被測定面の隣り合う部分面の状態を示す図である。
本実施の形態では、Ｘ方向に１０３０ｍｍ、Ｙ方向に５
０ｍｍの幅を有し、軟Ｘ線反射を目的にした長尺ミラー
（被測定物）１１の表面を被測定面１１ａとして用いて
いる。
面形状測定方法及び装置を図１及び図２を用いて説明す
る。まず、本実施の形態による面形状測定装置の概略の
構成を図１を用いて説明する。図１（ａ）は本実施の形
態による面形状測定装置の斜視図であり、図１（ｂ）
は、被測定面の隣り合う部分面の状態を示す図である。
本実施の形態では、Ｘ方向に１０３０ｍｍ、Ｙ方向に５
０ｍｍの幅を有し、軟Ｘ線反射を目的にした長尺ミラー
（被測定物）１１の表面を被測定面１１ａとして用いて
いる。
【００２３】図１において、干渉計１０は、縦横の幅が
５０ｍｍ×５０ｍｍで被測定面１１ａ側に開口した測定
開口を有している。また干渉計１０は、測定開口内を５
００×５００点のサンプリング密度で１点当たり０．０
４μｍの精度で測定できるようになっている。干渉計１
０は直動ステージ１２に移動可能に取り付けられてい
る。直動ステージ１２を駆動させることにより干渉計１
０は図中のＸ方向に走査されるようになっている。干渉
計１０のＸ方向に面する側面には、干渉計１０のＹ軸回
りの回転を測定するための角度参照ミラー１３が張り付
けられている。また、干渉計１０のＹ軸回りの回転角度
を測定するためのオートコリメーター１４が角度参照ミ
ラー１３をＸ方向から臨む位置に配置されている。干渉
計１０、直動ステージ１２、及びオートコリメーター１
４は計算制御部１５に接続されており、計算制御部１５
により制御され、あるいは計算制御部１５に測定データ
を出力するようになっている。
５０ｍｍ×５０ｍｍで被測定面１１ａ側に開口した測定
開口を有している。また干渉計１０は、測定開口内を５
００×５００点のサンプリング密度で１点当たり０．０
４μｍの精度で測定できるようになっている。干渉計１
０は直動ステージ１２に移動可能に取り付けられてい
る。直動ステージ１２を駆動させることにより干渉計１
０は図中のＸ方向に走査されるようになっている。干渉
計１０のＸ方向に面する側面には、干渉計１０のＹ軸回
りの回転を測定するための角度参照ミラー１３が張り付
けられている。また、干渉計１０のＹ軸回りの回転角度
を測定するためのオートコリメーター１４が角度参照ミ
ラー１３をＸ方向から臨む位置に配置されている。干渉
計１０、直動ステージ１２、及びオートコリメーター１
４は計算制御部１５に接続されており、計算制御部１５
により制御され、あるいは計算制御部１５に測定データ
を出力するようになっている。
【００２４】次に、図１（ａ）、（ｂ）及び図２を用い
て本実施の形態による面形状測定方法について説明す
る。図２は、本実施の形態による面形状測定装置の動作
手順を示したフローチャートである。図２において、ま
ずステップＳ１で重複領域の大きさ（割合）を決定した
後、被測定面１１aを重複部分を有する複数の部分面１
１a1〜１１a21に分割する（ステップＳ２）。このとき
の重複領域の大きさは図１（ｂ）に示すように、Ｘ方向
１ｍｍ、Ｙ方向５０ｍｍの長方形である。次に干渉計１
０を直動ステージ１２によって部分面１１a1〜１１a21
のいずれかの真上に移動させる（ステップＳ３）。
て本実施の形態による面形状測定方法について説明す
る。図２は、本実施の形態による面形状測定装置の動作
手順を示したフローチャートである。図２において、ま
ずステップＳ１で重複領域の大きさ（割合）を決定した
後、被測定面１１aを重複部分を有する複数の部分面１
１a1〜１１a21に分割する（ステップＳ２）。このとき
の重複領域の大きさは図１（ｂ）に示すように、Ｘ方向
１ｍｍ、Ｙ方向５０ｍｍの長方形である。次に干渉計１
０を直動ステージ１２によって部分面１１a1〜１１a21
のいずれかの真上に移動させる（ステップＳ３）。
【００２５】次に干渉計１０により当該部分面の面形状
を測定し、そのときの干渉計１０の姿勢を干渉計１０の
Ｘ方向側面に張り付けられた角度参照ミラー１３をオー
トコリメーター１４で測定することにより得る（ステッ
プＳ５）。ステップＳ６において、全ての部分面１１a1
〜１１a21について、干渉計１０による形状測定、およ
びオートコリメーター１４による干渉計１０の姿勢の測
定を完了させ、次いで計算制御部１５において全ての部
分面１１a1〜１１a21の干渉計１０による測定データを
繋ぎ合わせる（ステップＳ７〜Ｓ１０）。
を測定し、そのときの干渉計１０の姿勢を干渉計１０の
Ｘ方向側面に張り付けられた角度参照ミラー１３をオー
トコリメーター１４で測定することにより得る（ステッ
プＳ５）。ステップＳ６において、全ての部分面１１a1
〜１１a21について、干渉計１０による形状測定、およ
びオートコリメーター１４による干渉計１０の姿勢の測
定を完了させ、次いで計算制御部１５において全ての部
分面１１a1〜１１a21の干渉計１０による測定データを
繋ぎ合わせる（ステップＳ７〜Ｓ１０）。
【００２６】測定データを繋ぎ合わせるためには隣り合
う部分面の相対位置姿勢、すなわちＸＹＺ方向変位、お
よびＸ軸回り、Ｙ軸回り、Ｚ軸回りの回転角度を求める
必要がある。本実施の形態では、Ｘ方向変位はエンコー
ダーなどで読み取った直動ステージ１２の移動量を用い
る。Ｙ軸回りの回転角度は、オートコリメーター１４の
測定値を用いる。Ｙ方向変位およびＺ軸回りの回転角度
は０とし、Ｘ軸回りの回転角度、およびＺ方向の相対位
置のみを重複部分が最もよく重なるように最小自乗法な
どを用いたフィッティングにより求める（ステップＳ
７、Ｓ８）。ステップＳ９において、全ての部分面につ
いて以上の計算を行ない繋ぎ合わせを行なうことによっ
て（ステップＳ９）、被測定面全体の形状を算出して合
成結果を表示する（ステップＳ１１）。
う部分面の相対位置姿勢、すなわちＸＹＺ方向変位、お
よびＸ軸回り、Ｙ軸回り、Ｚ軸回りの回転角度を求める
必要がある。本実施の形態では、Ｘ方向変位はエンコー
ダーなどで読み取った直動ステージ１２の移動量を用い
る。Ｙ軸回りの回転角度は、オートコリメーター１４の
測定値を用いる。Ｙ方向変位およびＺ軸回りの回転角度
は０とし、Ｘ軸回りの回転角度、およびＺ方向の相対位
置のみを重複部分が最もよく重なるように最小自乗法な
どを用いたフィッティングにより求める（ステップＳ
７、Ｓ８）。ステップＳ９において、全ての部分面につ
いて以上の計算を行ない繋ぎ合わせを行なうことによっ
て（ステップＳ９）、被測定面全体の形状を算出して合
成結果を表示する（ステップＳ１１）。
【００２７】ここで、本実施の形態における繋ぎ合わせ
１ヵ所当たりのＹ軸回りの回転角度の誤差を評価してみ
る。まず比較例として、従来の技術の例えば特開平０４
−２９０９０７号公報に開示されるような最小自乗法を
用いたフィッティングによってＹ軸回りの回転角度を求
めた場合における、求められた値の不確かさ、すなわち
誤差を、誤差の伝播公式（２）から求めてみる。式
（２）に基づいて計算すると、従来技術におけるフィッ
ティングによって求められるＹ軸回りの回転角度の誤差
は２．３×１０−６ｒａｄとなる。これに対して、市販
のオートコリメーターでは１×１０−６ｒａｄ程度のも
のもあり、繋ぎ合わせ１ヵ所当たりで比較しても従来の
技術の方が誤差が大きいことが分かる。さらに部分面１
１a1を繋ぎ合わせの基準として用いた場合、部分面１１
a21における合成誤差Ｅは、従来技術では５．３μｍに
もなるのに対して本実施の形態では０．２２μｍと小さ
い。
１ヵ所当たりのＹ軸回りの回転角度の誤差を評価してみ
る。まず比較例として、従来の技術の例えば特開平０４
−２９０９０７号公報に開示されるような最小自乗法を
用いたフィッティングによってＹ軸回りの回転角度を求
めた場合における、求められた値の不確かさ、すなわち
誤差を、誤差の伝播公式（２）から求めてみる。式
（２）に基づいて計算すると、従来技術におけるフィッ
ティングによって求められるＹ軸回りの回転角度の誤差
は２．３×１０−６ｒａｄとなる。これに対して、市販
のオートコリメーターでは１×１０−６ｒａｄ程度のも
のもあり、繋ぎ合わせ１ヵ所当たりで比較しても従来の
技術の方が誤差が大きいことが分かる。さらに部分面１
１a1を繋ぎ合わせの基準として用いた場合、部分面１１
a21における合成誤差Ｅは、従来技術では５．３μｍに
もなるのに対して本実施の形態では０．２２μｍと小さ
い。
【００２８】次に、本実施の形態の変形例として、被測
定物である長尺ミラー１１の被測定面１１ａのＸ方向長
さを倍にして２０６０ｍｍの長さを有する被測定面１１
ａについて本実施の形態による面形状測定方法及び装置
を適用した場合について説明する。この場合には、比較
例としての先述の従来技術により生じる誤差Ｅは１４．
７μｍにもなるのに対して本実施の形態では０．３２μ
ｍとなり、Ｘ方向の長さが半分の上述の被測定面の場合
に比べてほとんど増加しない。このように本実施の形態
による面形状測定方法及び装置によれば、合成回数を多
くしても繋ぎ合わせの誤差が増大せず高精度の測定がで
きるようになる。
定物である長尺ミラー１１の被測定面１１ａのＸ方向長
さを倍にして２０６０ｍｍの長さを有する被測定面１１
ａについて本実施の形態による面形状測定方法及び装置
を適用した場合について説明する。この場合には、比較
例としての先述の従来技術により生じる誤差Ｅは１４．
７μｍにもなるのに対して本実施の形態では０．３２μ
ｍとなり、Ｘ方向の長さが半分の上述の被測定面の場合
に比べてほとんど増加しない。このように本実施の形態
による面形状測定方法及び装置によれば、合成回数を多
くしても繋ぎ合わせの誤差が増大せず高精度の測定がで
きるようになる。
【００２９】次に、本実施の形態の他の変形例として、
上述の繋ぎ合わせ１ヵ所当たりのフィッティング誤差を
減らすために、分割回数を４２回から５１回に増やし
て、Ｘ方向の重複領域長さを１０ｍｍまで伸ばした場合
について説明する。繋ぎ合わせ１ヵ所あたりのＹ軸回り
の回転角度の誤差を評価すると、フィッティングで求め
る従来の技術では８．４×１０−８ｒａｄとなって、市
販のオートコリメーターの誤差１×１０−６ｒａｄより
も小さくすることができる。しかし部分面１１a1を繋ぎ
合わせの基準として用いた場合、部分面１１a50におけ
る合成誤差Ｅは、従来技術では０．７μｍと増大するの
に対して本実施の形態では０．２８μｍと逆に減少す
る。これは部分面１ヵ所当たりの長さが短くなったため
である。
上述の繋ぎ合わせ１ヵ所当たりのフィッティング誤差を
減らすために、分割回数を４２回から５１回に増やし
て、Ｘ方向の重複領域長さを１０ｍｍまで伸ばした場合
について説明する。繋ぎ合わせ１ヵ所あたりのＹ軸回り
の回転角度の誤差を評価すると、フィッティングで求め
る従来の技術では８．４×１０−８ｒａｄとなって、市
販のオートコリメーターの誤差１×１０−６ｒａｄより
も小さくすることができる。しかし部分面１１a1を繋ぎ
合わせの基準として用いた場合、部分面１１a50におけ
る合成誤差Ｅは、従来技術では０．７μｍと増大するの
に対して本実施の形態では０．２８μｍと逆に減少す
る。これは部分面１ヵ所当たりの長さが短くなったため
である。
【００３０】なお、本例より重複領域長さを増やすこと
は可能だが、測定時間がむやみに長くなり、被測定面が
環境の変化により変形する可能性が増大するため好まし
くない。このように、本実施の形態による面形状測定方
法及び装置によれば、重複領域長さを長くすると、より
誤差を少なくすることができる。また逆に、重複領域を
短くしても、Ｙ軸を回転中心とした角度のフィッティン
グ誤差を増加させないようにすることができる。従っ
て、高い測定精度を維持しつつ短時間で測定を終了する
ことができる面形状測定方法及び装置を実現できる。
は可能だが、測定時間がむやみに長くなり、被測定面が
環境の変化により変形する可能性が増大するため好まし
くない。このように、本実施の形態による面形状測定方
法及び装置によれば、重複領域長さを長くすると、より
誤差を少なくすることができる。また逆に、重複領域を
短くしても、Ｙ軸を回転中心とした角度のフィッティン
グ誤差を増加させないようにすることができる。従っ
て、高い測定精度を維持しつつ短時間で測定を終了する
ことができる面形状測定方法及び装置を実現できる。
【００３１】次に、本発明の第２の実施の形態による面
形状測定方法及び装置を図３乃至図５を用いて説明す
る。まず、本実施の形態による面形状測定装置の概略の
構成を図３を用いて説明する。本実施の形態では、例え
ばＬＣＤデバイスに用いるガラス基板５１を被測定物と
して、１方向のみの分割だけでは測定できない２次元的
な広がりを持つ被測定面５１ａを対象とした場合につい
て説明する。
形状測定方法及び装置を図３乃至図５を用いて説明す
る。まず、本実施の形態による面形状測定装置の概略の
構成を図３を用いて説明する。本実施の形態では、例え
ばＬＣＤデバイスに用いるガラス基板５１を被測定物と
して、１方向のみの分割だけでは測定できない２次元的
な広がりを持つ被測定面５１ａを対象とした場合につい
て説明する。
【００３２】図３は本実施の形態による面形状測定装置
の斜視図であり、図３において、干渉計５０は、例えば
縦横の幅が５０ｍｍ×５０ｍｍで被測定面５１ａ側に開
口した測定開口を有している。また干渉計５０は、測定
開口内を５００×５００点のサンプリング密度で１点当
たり０．０４μｍの精度で測定できるようになってい
る。干渉計５０は直動ステージ５２ｘに移動可能に取り
付けられている。直動ステージ５２ｘを駆動させること
により干渉計５０は図中のＸ方向に走査されるようにな
っている。また、直動ステージ５２ｘの両端部は、ガラ
ス基板５１を挟んで対向してＹ軸方向に延びる２本の直
動ステージ５２ｙに移動可能に取り付けられている。直
動ステージ５２ｙを駆動させることにより直動ステージ
５２ｘは図中のＹ方向に走査されるようになっている。
従って、直動ステージ５２ｘ、５２ｙの駆動により干渉
計５０をＸＹ平面で２次元的に移動させることができる
ようになっている。
の斜視図であり、図３において、干渉計５０は、例えば
縦横の幅が５０ｍｍ×５０ｍｍで被測定面５１ａ側に開
口した測定開口を有している。また干渉計５０は、測定
開口内を５００×５００点のサンプリング密度で１点当
たり０．０４μｍの精度で測定できるようになってい
る。干渉計５０は直動ステージ５２ｘに移動可能に取り
付けられている。直動ステージ５２ｘを駆動させること
により干渉計５０は図中のＸ方向に走査されるようにな
っている。また、直動ステージ５２ｘの両端部は、ガラ
ス基板５１を挟んで対向してＹ軸方向に延びる２本の直
動ステージ５２ｙに移動可能に取り付けられている。直
動ステージ５２ｙを駆動させることにより直動ステージ
５２ｘは図中のＹ方向に走査されるようになっている。
従って、直動ステージ５２ｘ、５２ｙの駆動により干渉
計５０をＸＹ平面で２次元的に移動させることができる
ようになっている。
【００３３】干渉計５０のＸ方向に面する側面には、干
渉計５０のＹ軸回りの回転を測定するための角度参照ミ
ラー５３ｙが貼り付けられ、干渉計５０のＹ方向に面す
る側面には、Ｘ軸回りの回転を測定するための角度参照
ミラー５３ｘが張り付けられている。また、干渉計５０
のＹ軸回りの回転角度を測定するためのオートコリメー
ター５４ｙが角度参照ミラー５３ｙをＸ方向から臨む位
置に配置されている。また、干渉計５０のＸ軸回りの回
転角度を測定するためのオートコリメーター５４ｘが角
度参照ミラー５３ｘをＹ方向から臨む位置に配置されて
いる。
渉計５０のＹ軸回りの回転を測定するための角度参照ミ
ラー５３ｙが貼り付けられ、干渉計５０のＹ方向に面す
る側面には、Ｘ軸回りの回転を測定するための角度参照
ミラー５３ｘが張り付けられている。また、干渉計５０
のＹ軸回りの回転角度を測定するためのオートコリメー
ター５４ｙが角度参照ミラー５３ｙをＸ方向から臨む位
置に配置されている。また、干渉計５０のＸ軸回りの回
転角度を測定するためのオートコリメーター５４ｘが角
度参照ミラー５３ｘをＹ方向から臨む位置に配置されて
いる。
【００３４】オートコリメーター５４ｙは直動ステージ
５２ｘのＹ方向への移動に同期してＹ方向に移動できる
ようにオートコリメーター移動ステージ５６に取り付け
られている。一方、オートコリメーター５４ｘは固定さ
れている。干渉計５０、直動ステージ５２ｘ、５２ｙ、
オートコリメーター５４ｘ、５４ｙ、及びオートコリメ
ーター移動ステージ５６は計算制御部５５に接続されて
おり、計算制御部５５により制御され、あるいは計算制
御部５５に測定データを出力するようになっている。
５２ｘのＹ方向への移動に同期してＹ方向に移動できる
ようにオートコリメーター移動ステージ５６に取り付け
られている。一方、オートコリメーター５４ｘは固定さ
れている。干渉計５０、直動ステージ５２ｘ、５２ｙ、
オートコリメーター５４ｘ、５４ｙ、及びオートコリメ
ーター移動ステージ５６は計算制御部５５に接続されて
おり、計算制御部５５により制御され、あるいは計算制
御部５５に測定データを出力するようになっている。
【００３５】本実施の形態においても、部分面データを
順次繋ぎ合わせる際に、第１の実施の形態と同様の面形
状測定方法を２次元的に用いて、隣接する２つの部分面
間の角度をオートコリメーター５４ｘ、５４ｙによって
２次元で測定することにより合成誤差Ｅを最小にするこ
とができる。
順次繋ぎ合わせる際に、第１の実施の形態と同様の面形
状測定方法を２次元的に用いて、隣接する２つの部分面
間の角度をオートコリメーター５４ｘ、５４ｙによって
２次元で測定することにより合成誤差Ｅを最小にするこ
とができる。
【００３６】図４は、本面形状測定装置をＺ方向から見
た概略図である。図４に示すように被測定面のほぼ中心
位置の部分面を繋ぎ合せの基準として、基準となる部分
面から重複領域を持って連続的に繋ぎ合わされる一連の
部分面における終端の部分面までの全繋ぎ合わせ経路
（合成経路）で測定ができるように２台のオートコリメ
ーター５４ｘ、５４ｙを配置している。これら２台のオ
ートコリメーター５４ｘ、５４ｙで経路内の部分面を順
次測定することによって、隣り合う部分面をオートコリ
メーター５４ｘ、５４ｙによる測定値で繋ぎ合わせるこ
とが可能になる。オートコリメーター５４ｙの位置をＹ
軸方向に移動させて、別の繋ぎ合わせ経路上の部分面を
順次測定する。これを繰り返すことによって全ての部分
面を測定することができる。
た概略図である。図４に示すように被測定面のほぼ中心
位置の部分面を繋ぎ合せの基準として、基準となる部分
面から重複領域を持って連続的に繋ぎ合わされる一連の
部分面における終端の部分面までの全繋ぎ合わせ経路
（合成経路）で測定ができるように２台のオートコリメ
ーター５４ｘ、５４ｙを配置している。これら２台のオ
ートコリメーター５４ｘ、５４ｙで経路内の部分面を順
次測定することによって、隣り合う部分面をオートコリ
メーター５４ｘ、５４ｙによる測定値で繋ぎ合わせるこ
とが可能になる。オートコリメーター５４ｙの位置をＹ
軸方向に移動させて、別の繋ぎ合わせ経路上の部分面を
順次測定する。これを繰り返すことによって全ての部分
面を測定することができる。
【００３７】図５は図４と同様にＺ方向から被測定面を
見た概略図である。図中、移動するオートコリメータ５
４ｙは図示を省略し、代わりに被測定面上の測定経路を
矢印で示している。図５に示すように、Ｘ軸回りの回転
は、固定されたオートコリメーター５４ｘにより、被測
定面の中央の基準となる部分面を通ってＹ軸方向（図
中、上下方向）に干渉計５０が移動する際に計測してお
く。Ｙ軸回りの回転は、基準となる部分面を通って上下
方向に測定した各部分面からＸ方向（図中左右方向）に
干渉計５０を移動させることにより測定される。従っ
て、図中矢印で示されるような合成経路で全ての部分面
を合成することが可能になるので、全ての部分面を測定
するために移動する必要があるオートコリメーターは５
４ｙ１台でよく、オートコリメーター５４ｘは移動する
必要がない。
見た概略図である。図中、移動するオートコリメータ５
４ｙは図示を省略し、代わりに被測定面上の測定経路を
矢印で示している。図５に示すように、Ｘ軸回りの回転
は、固定されたオートコリメーター５４ｘにより、被測
定面の中央の基準となる部分面を通ってＹ軸方向（図
中、上下方向）に干渉計５０が移動する際に計測してお
く。Ｙ軸回りの回転は、基準となる部分面を通って上下
方向に測定した各部分面からＸ方向（図中左右方向）に
干渉計５０を移動させることにより測定される。従っ
て、図中矢印で示されるような合成経路で全ての部分面
を合成することが可能になるので、全ての部分面を測定
するために移動する必要があるオートコリメーターは５
４ｙ１台でよく、オートコリメーター５４ｘは移動する
必要がない。
【００３８】次に、本発明の第３の実施の形態による面
形状測定方法及び装置を図６を用いて説明する。図６
は、本実施の形態による面形状測定装置の概略の構成を
示している。本実施の形態による面形状測定装置は、Ｘ
軸回りの回転、及びＹ軸回りの回転を測定する２つのオ
ートコリメーター４４ｘ、４４ｙが固定されて移動しな
いようになっている点に特徴を有している。このため、
第２の実施の形態の図３に示した角度参照ミラー５３
x、５３yに代えて、干渉計４０がＸＹ面内で２次元移動
しても、固定した２つのオートコリメーター４４ｘ、４
４ｙの測定軸からミラー表面が外れないように、図６に
示すように、Ｘ軸回りの回転を測定するための角度参照
ミラー４３ｘはＸ方向に延びた反射面を有し、Ｙ軸回り
の回転を測定するための角度参照ミラー４３ｙはＹ方向
に延びた反射面を有している。
形状測定方法及び装置を図６を用いて説明する。図６
は、本実施の形態による面形状測定装置の概略の構成を
示している。本実施の形態による面形状測定装置は、Ｘ
軸回りの回転、及びＹ軸回りの回転を測定する２つのオ
ートコリメーター４４ｘ、４４ｙが固定されて移動しな
いようになっている点に特徴を有している。このため、
第２の実施の形態の図３に示した角度参照ミラー５３
x、５３yに代えて、干渉計４０がＸＹ面内で２次元移動
しても、固定した２つのオートコリメーター４４ｘ、４
４ｙの測定軸からミラー表面が外れないように、図６に
示すように、Ｘ軸回りの回転を測定するための角度参照
ミラー４３ｘはＸ方向に延びた反射面を有し、Ｙ軸回り
の回転を測定するための角度参照ミラー４３ｙはＹ方向
に延びた反射面を有している。
【００３９】干渉計４０は直動ステージ４２ｘに移動可
能に取り付けられている。直動ステージ４２ｘを駆動さ
せることにより干渉計４０は図中のＸ方向に走査される
ようになっている。また、直動ステージ４２ｘの両端部
は、ガラス基板４１を挟んで対向してＹ軸方向に延びる
２本の直動ステージ４２ｙに移動可能に取り付けられて
いる。直動ステージ４２ｙを駆動させることにより直動
ステージ４２ｘは図中のＹ方向に走査されるようになっ
ている。従って、直動ステージ４２ｘ、４２ｙの駆動に
より干渉計４０をＸＹ平面で２次元的に移動させること
ができるようになっている。
能に取り付けられている。直動ステージ４２ｘを駆動さ
せることにより干渉計４０は図中のＸ方向に走査される
ようになっている。また、直動ステージ４２ｘの両端部
は、ガラス基板４１を挟んで対向してＹ軸方向に延びる
２本の直動ステージ４２ｙに移動可能に取り付けられて
いる。直動ステージ４２ｙを駆動させることにより直動
ステージ４２ｘは図中のＹ方向に走査されるようになっ
ている。従って、直動ステージ４２ｘ、４２ｙの駆動に
より干渉計４０をＸＹ平面で２次元的に移動させること
ができるようになっている。
【００４０】例えば、直動ステージ４２ｘ、４２ｙの各
移動ストロークが１０００ｍｍであるとすると、干渉計
４０は、１０００ｍｍ×１０００ｍｍの面積を有する被
測定面４１ａに対してＸＹ面内を２次元移動して測定す
ることができる。このとき、固定されたオートコリメー
ター４４ｘは、被測定面４１ａの中央部の部分面を通っ
てＹ軸に平行な測定軸を有し、オートコリメーター４４
ｙは、被測定面４１ａの中央部の部分面を通ってＸ軸に
平行な測定軸を有している。従って、干渉計４０の側面
に固定された角度参照ミラー４３ｘ、４３ｙは横幅が少
なくとも１０００ｍｍあり、横幅方向の中央部で干渉計
４０に固定されている。
移動ストロークが１０００ｍｍであるとすると、干渉計
４０は、１０００ｍｍ×１０００ｍｍの面積を有する被
測定面４１ａに対してＸＹ面内を２次元移動して測定す
ることができる。このとき、固定されたオートコリメー
ター４４ｘは、被測定面４１ａの中央部の部分面を通っ
てＹ軸に平行な測定軸を有し、オートコリメーター４４
ｙは、被測定面４１ａの中央部の部分面を通ってＸ軸に
平行な測定軸を有している。従って、干渉計４０の側面
に固定された角度参照ミラー４３ｘ、４３ｙは横幅が少
なくとも１０００ｍｍあり、横幅方向の中央部で干渉計
４０に固定されている。
【００４１】このような構成にすることにより、１００
０ｍｍ×１０００ｍｍの面積を持つ被測定面４１ａを測
定する場合において、オートコリメーター４４ｘ、４４
ｙを固定したままでも角度参照ミラー４３ｘ、４３ｙが
オートコリメーター４４ｘ、４４ｙの測定範囲外に出て
しまうことがなくなるため、常に干渉計４０の傾きを測
定することが可能になる。この場合任意の隣り合う部分
面間の角度を測定しているため、一度被測定面全面を測
定した後に、測定結果を用いて繋ぎ合わせ経路を変えた
複数の全面形状測定結果を得ることができる。全ての合
成経路でオートコリメーター４４ｘ、４４ｙによる角度
測定結果が利用できるため、これら複数の全面形状測定
結果はそれぞれほぼ同等レベルの合成誤差を含んでい
る。これらを平均することにより、それぞれの合成誤差
が相殺されて誤差の少ない全面形状測定結果を得ること
ができる。
０ｍｍ×１０００ｍｍの面積を持つ被測定面４１ａを測
定する場合において、オートコリメーター４４ｘ、４４
ｙを固定したままでも角度参照ミラー４３ｘ、４３ｙが
オートコリメーター４４ｘ、４４ｙの測定範囲外に出て
しまうことがなくなるため、常に干渉計４０の傾きを測
定することが可能になる。この場合任意の隣り合う部分
面間の角度を測定しているため、一度被測定面全面を測
定した後に、測定結果を用いて繋ぎ合わせ経路を変えた
複数の全面形状測定結果を得ることができる。全ての合
成経路でオートコリメーター４４ｘ、４４ｙによる角度
測定結果が利用できるため、これら複数の全面形状測定
結果はそれぞれほぼ同等レベルの合成誤差を含んでい
る。これらを平均することにより、それぞれの合成誤差
が相殺されて誤差の少ない全面形状測定結果を得ること
ができる。
【００４２】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、合成誤差
Ｅのばらつきは合成回数の１／２乗に比例して増大する
ため、特に合成回数が多くなったときの誤差Ｅが従来の
合成方法より小さくなる。さらに重複領域の大きさが測
定精度にほとんど影響を与えないため、Ｘ軸まわりの回
転角度およびＺ方向位置のフィッティング誤差に大きな
影響を与えない範囲でＸ方向重複領域長さを最小にする
ことができ、結果として分割回数を減らすことになるた
め短時間で測定できる。
Ｅのばらつきは合成回数の１／２乗に比例して増大する
ため、特に合成回数が多くなったときの誤差Ｅが従来の
合成方法より小さくなる。さらに重複領域の大きさが測
定精度にほとんど影響を与えないため、Ｘ軸まわりの回
転角度およびＺ方向位置のフィッティング誤差に大きな
影響を与えない範囲でＸ方向重複領域長さを最小にする
ことができ、結果として分割回数を減らすことになるた
め短時間で測定できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による面形状測定装
置の概略の構成を示す図である。
置の概略の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による面形状測定装
置を用いた面形状測定方法の手順を示す流れ図である。
置を用いた面形状測定方法の手順を示す流れ図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態による面形状測定装
置の概略の構成を示す図である。
置の概略の構成を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態による面形状測定装
置を用いた面形状測定方法を説明する図である。
置を用いた面形状測定方法を説明する図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態による面形状測定装
置を用いた面形状測定方法を説明する図である。
置を用いた面形状測定方法を説明する図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態による面形状測定装
置の概略の構成を示す図である。
置の概略の構成を示す図である。
【図７】多数の部分面を繋ぎ合わせた際に発生する合成
誤差Ｅを示す図である。
誤差Ｅを示す図である。
４０、５０ 干渉計 １１a 被測定面 １１a1〜１１a21 部分面 １２、４２x、４２y、５２x、５２y、５６ 直動ステー
ジ １３、４３x、４３y、５３x、５３y 角度参照ミラー １４、４４x、４４y、５４x、５４y オートコリメータ
ー １５、４５、５５ 計算制御部 ４１、５１ 被測定物
ジ １３、４３x、４３y、５３x、５３y 角度参照ミラー １４、４４x、４４y、５４x、５４y オートコリメータ
ー １５、４５、５５ 計算制御部 ４１、５１ 被測定物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA37 AA39 BB01 BB05 BB13 BB22 BB25 DD04 DD06 FF15 FF41 FF51 FF67 JJ05 LL12 MM07 PP02 PP03 QQ18
Claims (9)
- 【請求項１】被測定面より小さい測定開口を持つ部分面
形状測定機と、 前記測定開口が前記被測定面に沿って移動するように前
記部分面形状測定機を移動させる直動ステージと、 前記部分面形状測定機に固定され、前記測定開口を前記
被測定面に沿って移動させる際の前記部分面形状測定機
の傾きに応じて傾く角度参照ミラーと、 前記角度参照ミラーの傾き角を測定する角度測定器とを
有することを特徴とする面形状測定装置。 - 【請求項２】請求項１記載の面形状測定装置において、 前記角度参照ミラーは、その法線方向が前記直動ステー
ジの走査方向にほぼ沿うように配置され、 前記角度測定器は、その測定軸が前記直動ステージの走
査方向にほぼ沿うように配置されていることを特徴とす
る面形状測定装置。 - 【請求項３】請求項２記載の面形状測定装置において、 前記直動ステージの走査方向に直交する第２の走査方向
を有し、前記部分面測定機を前記第２の走査方向に移動
可能な第２の直動ステージと、 前記部分面形状測定機に固定され、法線方向が前記第２
の直動ステージの走査方向にほぼ沿うように配置された
第２の角度参照ミラーと、 測定軸が前記第２の直動ステージの走査方向にほぼ沿う
ように配置されている第２の角度測定器とを更に備えた
ことを特徴とする面形状測定装置。 - 【請求項４】請求項３記載の面形状測定装置において、 前記部分面形状測定機の移動に伴って移動する第２の角
度参照ミラーに追従して前記第２の角度測定器を移動さ
せる移動機構を更に有していることを特徴とする面形状
測定装置。 - 【請求項５】請求項３記載の面形状測定装置において、 前記２つの角度参照ミラーは、それぞれの法線方向にほ
ぼ直交する方向に前記各直動ステージのストローク以上
の幅を有していることを特徴とする面形状測定装置。 - 【請求項６】被測定面を互いに重複領域を有する複数の
部分面に分割し、 分割した前記部分面を部分面形状測定機で順次走査して
その形状を測定して部分面データを取得し、 隣り合う部分面間の相対位置角度を用いて全ての前記部
分面データを合成し、前記被測定面全体の形状を求める
面形状測定方法において、 前記相対位置角度を得るために、前記部分面形状測定機
の走査方向にほぼ沿う方向から前記部分面形状測定機の
傾きを測定することを特徴とする面形状測定方法。 - 【請求項７】請求項６記載の面形状測定方法において、 前記相対位置角度は、２次元移動する前記部分面形状測
定機の傾きを直交する２方向から測定することを特徴と
する面形状測定方法。 - 【請求項８】請求項７記載の面形状測定方法において、 ２次元移動する前記部分面形状測定機の直交する２方向
の傾きをそれぞれ角度測定手段で測定する際、 一方の角度測定手段は位置を固定されて前記部分面形状
測定機の一走査方向に沿って前記部分面形状測定機の傾
きを測定し、 他方の角度測定手段は、前記一走査方向に沿って移動し
つつ前記一走査方向に直交する他走査方向に関する前記
部分面形状測定機の傾きを測定することを特徴とする面
形状測定方法。 - 【請求項９】請求項６乃至８のいずれかに記載の面形状
測定方法において、 前記部分面データを合成する際の合成精度が同等となる
複数の合成経路を用いて複数の全面合成結果を求め、そ
れら全面合成結果を平均して被測定面全体の形状を求め
ることを特徴とする面形状測定方法。
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