JP2000080078A - 4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体 - Google Patents
4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体Info
- Publication number
- JP2000080078A JP2000080078A JP17947899A JP17947899A JP2000080078A JP 2000080078 A JP2000080078 A JP 2000080078A JP 17947899 A JP17947899 A JP 17947899A JP 17947899 A JP17947899 A JP 17947899A JP 2000080078 A JP2000080078 A JP 2000080078A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- compound
- methyl
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
る消炎鎮痛薬の4−メチル−1,2−ジアリールピロー
ル誘導体(3)の重要中間体(1)、(2)及びその製
造法を提供する。 【解決手段】 【化1】 (式中、Ar1,Ar2は置換可炭素数6乃至10個を有す
るアリール基、R1、R2は炭素数1乃至6個を有するアル
キル基、又はR1とR2が一緒になって炭素数1乃至4個を
有するアルキル基で置換されていてもよいトリメチレン
基を示す。)
Description
ゲナーゼ−2選択的阻害作用を有する消炎鎮痛薬4−メ
チル−1,2−ジアリールピロール誘導体(特開平9−
323971)の重要中間体及びその製造法に関する。
ル誘導体類の合成法としては、既に3つの方法(1,
2−ジフェニルピロリジン誘導体を経由する方法、エ
ナミンを用いる方法、グリニア反応を経由する方法)
が知られている(特開平9−323971)。しかしな
がら、法では最終工程で猛毒なシアン化水素ガスが発
生すること、法では、反応で生成する4−ケトアルデ
ヒド中間体が低収率でしか得られないこと、法では、
用いるグリニア試薬が不安定なため、その調製が困難で
あり、反応収率も低いという問題点をかかえており、い
ずれの方法も工業的な製法としては不向きである。
の問題を解決し、4−メチル−1,2−ジアリールピロ
ール誘導体類の工業的な製法を確立する目的で鋭意研究
を行なった結果、まず、フリーデルクラフツ反応等の公
知の製造方法に準じて容易に合成できるα、β−不飽和
アリールケトン類に、ニトロメタンをマイケル付加して
得られる化合物に、ネフ(Nef)反応を行い、アセタ
ール誘導体とし、これに酸性条件下、アリールアミン類
と反応させることで、容易に4−メチル−1,2−ジア
リールピロール誘導体類が合成できることを見出して、
本発明を完成した。
間体の1つは、一般式
もよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示し、
α群は、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数
1乃至4個を有するハロゲン化アルキル基、水酸基、ハ
ロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、
炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ基、メルカプト
基、炭素数1乃至4個を有するアルキルスルホニル基及
びスルファモイル基を示す。]で表される化合物であ
る。
してもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基のア
リール部分は、例えば、フェニル基およびナフチル基で
あり、好適にはフェニル基である。
乃至3個であり、更に好適には1乃至2個である。
を有するアルキル基」とは、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル又
はt−ブチル基であり、好適には炭素数1乃至3個を有す
るアルキル基であり、更に好適には炭素数1乃至2個を有
するアルキル基であり、特に好適にはメチル基である。
ルキル基」とは、前記「炭素数1乃至4個を有するアル
キル基」にハロゲン原子が結合した基を示し、そのよう
な基としては、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメ
チル、トリフルオロメチル、フルオロエチル、フルオロ
プロピル、フルオロブチル、クロロメチル、ジクロロメ
チル、トリクロロメチル、クロロエチル、クロロプロピ
ル、クロロブチルのようなハロゲン化アルキル基を示
し、好適には、塩素原子とフッ素原子で置換された炭素
数1乃至2個を有するハロゲン化アルキル基であり、更に
好適にはトリフルオロメチル基である。
子、臭素原子又はヨウ素であり、好適にはフッ素原子、
塩素原子又は臭素原子であり、更に好適にはフッ素原子
又は塩素原子である。
基」とは、前記「炭素数1乃至4個を有するアルキル
基」が酸素原子に結合した基を示し、そのような基とし
ては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、t−ブト
キシのような直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適
には、炭素数1乃至3個を有するアルコキシ基であり、特
に好適にはメトキシ又はエトキシである。
基」とは、前記「炭素数1乃至4個を有するアルキル
基」が硫黄原子に結合した基を示し、そのような基とし
ては、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、s−ブチル
チオ、又はt−ブチルチオのような直鎖又は分枝鎖アル
キルチオ基を示し、好適には、メチルチオ又はエチルチ
オである。
ホニル基」とは、前記「炭素数1乃至4個を有するアル
キル基」がスルホニル基の硫黄原子に結合した基を示
し、そのような基としては、メチルスルホニル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホ
ニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、s−
ブチルスルホニル又はt−ブチルスルホニルのような直
鎖又は分枝鎖アルキルスルホニル基を示し、好適には、
炭素数1乃至2個を有するアルキルスルホニル基であり、
特に好適にはメチルスルホニルである。
するアルキル基、塩素原子とフッ素原子で置換された炭
素数1乃至2個を有するハロゲン化アルキル基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、炭素数1乃至3を有するアル
コキシ基、炭素数1乃至2を有するアルキルチオ基、炭
素数1乃至2を有するアルキルスルホニル基、又はスル
ファモイル基であり、より好適な置換基群αは、炭素数
1乃至2を有するアルキル基、トリフルオロメチル基、
フッ素原子、塩素原子、炭素数1乃至2を有するアルコ
キシ基、又はスルファモイル基であり、最も好適な置換
基群αは、モノメチル、モノエチル、モノフルオロ、モ
ノクロロ、モノメトキシ、モノエトキシ、ジメチル、又
はモノスルファモイルである。
の具体例として、次に例示する化合物をあげることがで
きる。表中の略号は以下の基を示す。 Et:エチル、Me:メチル、Ph:フェニル、Pr:プロピ
ル、iPr:イソプロピル。
ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−4) 2) 1−(4−エチルフェニル)−3−メチル−4−
ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−5) 3) 1−(4−フルオロフェニル)−3−メチル−4
−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−8) 4) 1−(4−クロロフェニル)−3−メチル−4−
ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−9) 5) 1−(4−メトキシフェニル)−3−メチル−4
−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−12) 6) 1−(4−エトキシフェニル)−3−メチル−4
−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−13) 7) 3−メチル−1−(2,5−ジメチルフェニル)
−4−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−22) 8) 3−メチル−1−(3,4−ジメチルフェニル)
−4−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−23) 9) 3−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−
4−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−17) 10) 3−メチル−1−(4−スルファモイルフェニ
ル)−4−ニトロブタン−1−オン(化合物番号1−2
0) であり、さらに好適には6)、7)、8)、9)、1
0)であり、最も好適には6)、7)、8)の化合物で
ある。 [2] 本発明の他の合成中間体は、一般式
は同一又は異なって炭素数1乃至6個を有するアルキル
基を示すか、またはR1とR2が一緒になって炭素数1乃
至4個を有するアルキル基で置換されていてもよいトリ
メチレン基を示す。]で表される化合物である。式中、
R1およびR2の炭素数1乃至6個を有するアルキル基は、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、1−ペン
チル、2−ペンチル、3−ペンチル、1−ヘキシル、2
−ヘキシル又は3−ヘキシル基であり、好適には炭素数
1乃至3個を有するアルキル基であり、更に好適にはメ
チル又はエチル基である。
を有するアルキル基で置換されていてもよいトリメチレ
ン基を示す場合、該環置換分の炭素数1乃至4個を有す
るアルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル又
はブチル基であり、好適には、メチル基である。その置
換分の数は好適には1乃至2個である。R1及びR2は、
好適には炭素数1乃至3個を有するアルキル基、又はR
1とR2が一緒になって形成するトリメチレン、2−メチ
ルトリメチレン又は2,2−ジメチルトリメチレンであ
り、より好適には、メチル、エチル、又はR1とR2が一
緒になって形成するトリメチレン又は2,2−ジメチル
トリメチレンである。
例として、表2に例示する化合物をあげることができ
る。
個を有するアルキル基で置換されていてもよいトリメチ
レン基を示す化合物の具体例を表3に例示する。
チルフェニル)ブタン−1−オン(化合物番号2−4) 2) 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(4−エ
チルフェニル)ブタン−1−オン(化合物番号2−5) 3) 1−(4−フルオロフェニル)−4,4−ジメト
キシ−3−メチルブタン−1−オン(化合物番号2−8) 4) 1−(4−クロロフェニル)−4,4−ジメトキ
シ−3−メチルブタン−1−オン(化合物番号2−9) 5) 1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメト
キシ−3−メチルブタン−1−オン(化合物番号2−1
2) 6) 1−(4−エトキシフェニル)−4,4−ジメト
キシ−3−メチルブタン−1−オン(化合物番号2−1
3) 7) 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(2,5−
ジメチルフェニル)ブタン−1−オン(化合物番号2−2
2) 8) 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(3,4−
ジメチルフェニル)ブタン−1−オン(化合物番号2−2
3) 9) 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(4−メ
チルチオフェニル)ブタン−1−オン(化合物番号2−1
7) 10) 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(4−
スルファモイルフェニル)ブタン−1−オン(化合物番
号2−20) 11) 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1−(4−メチルフェニル)ブタン−1−
オン(化合物番号3−40) 12) 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1−(4−エチルフェニル)ブタン−1−
オン(化合物番号3−41) 13) 1−(4−フルオロフェニル)−3−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)ブタン−
1−オン(化合物番号3−44) 14) 1−(4−クロロフェニル)−3−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)ブタン−1
−オン(化合物番号3−45) 15) 1−(4−メトキシフェニル)−3−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)ブタン−
1−オン(化合物番号3−48) 16) 1−(4−エトキシフェニル)−3−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)ブタン−
1−オン(化合物番号3−49) 17) 3−(5,5−ジメチル−1,−ジオキサン−2
−イル)−1−(2,5−ジメチルフェニル)ブタン−
1−オン(化合物番号3−58) 18) 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1−(3,4−ジメチルフェニル)ブタン
−1−オン(化合物番号3-59) 19) 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1−(4−メチルチオフェニル)ブタン−
1−オン(化合物番号3−53) 20) 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1−(4−スルファモイルフェニル)ブタ
ン−1−オン(化合物番号3-56) であり、更に好適には6)、7)、8)、9)、1
0)、16)、17)、18)、19)、20)の化合
物であり、最も好適には、6)、7)、8)、16)、
17)、18)の化合物である。
分子内に不斉炭素を有しており、各々がR配置、S配置で
ある立体異性体が存在するが、その各々、あるいはそれ
らが任意の割合の混合物のいずれも本発明に包含され
る。
いたピロール誘導体の製法は以下に示される。即ち一般
式
するα、β−不飽和アリールケトンに、塩基存在下、ニ
トロメタンを作用して一般式
する化合物(1)とし、次いで化合物(1)に塩基を作
用し、酸および一般式 R1OH、R2OH、又はHO−R1−R2−OH [式中、R1及びR2は同一又は異なって炭素数1乃至6
個を有するアルキル基を示すか、又はR1とR2が一緒に
なって、炭素数1乃至4個のアルキル基で置換されてい
てもよいトリメチレン基を示す。]を有するアルコール
で処理して一般式
を示す。]を有する化合物とし、得られた化合物(2)
に酸性条件下、一般式 Ar2−NH2 [式中、Ar2は下記α群から選択される置換分を有し
てもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示
し、α群は炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素
数1乃至4個を有するハロゲン化アルキル基、水酸基、
ハロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ
基、炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ基、メルカ
プト基、炭素数1乃至4個を有するアルキルスルホニル
基及びスルファモイル基を示す。]を有するアリールア
ミン類を作用させることを特徴とする一般式
す。]を有する化合物の製造法である。
れる。
活性溶媒中あるいは溶媒なしで(好適には溶媒中)、塩
基存在下、ニトロメタンを反応させることによって一般
式(1)で表される化合物を製造する工程である。
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのような無機塩基類;リチウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t
−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又
はピリジン、ピコリン、N,N−ジメチルアニリン、N
−メチルピロリジン、トリエチルアミン、1,5−ジア
ザビシクロ〔4.3.0〕ノネン−5(DBN)、1,
5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−5(D
BU)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.0〕オクタ
ン−5(DBCO)のような有機塩基類であり、好適に
はアルカリ金属アルコキシド類又は有機塩基類であり、
更に好適にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウム−t−ブトキシド又は1,5−ジアザビ
シクロ〔5.4.0〕ウンデセン−5(DBU)であ
る。
10当量であり、好適には、0.1当量から2当量であ
る。
物質を溶解するものであれば特に限定はなく、例えばヘ
キサン、ヘプタン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノールのようなアルコール類;又はアセトニトリルの
ようなニトリル類であり、好適にはエーテル類、芳香族
炭化水素類又はニトリル類であり、さらに好適にはエー
テル類又は芳香族炭化水素類である。
適には−10℃〜40℃である。
が、通常10分間〜20時間であり、好適には30分間〜4時
間である。
反応混合物から採取される。
溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水を加
え酢酸エチルのような混和しない有機溶剤で抽出し、水
等で洗浄し、抽出液を無水硫酸マグネシウム等で乾燥し
た後、溶剤を留去することによって得られる。
ば再結晶、再沈殿、又は、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離、精製することができる。
溶媒中、塩基を作用させた後、酸及びアルコール(前述
の式R1OH、R2OH、又はHO−R1−R2−OHを有
する化合物)で処理することにより一般式(2)で表さ
れる化合物を製造する工程である。
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属化合物;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リチウム
エトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウム−t−ブトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシド類;トリエチルアミン、ジアザビシクロウ
ンデセン(DBU)のような有機塩基であり、好適には
アルカリ金属アルコキシド類である。使用される塩基の
量は、0.1当量から10当量であり、好適には1当量
から5当量である。
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、プロ
パンジオール、ネオペンチルグリコールであり、1種類
でも多種類混合でもよく、好適にはメタノール、エタノ
ールやネオペンチルグリコール/メタノール混合系であ
る。
り、好適には硫酸である。使用される酸の量は、1当量
から50当量であり、好適には2当量から20当量であ
る。
物質を溶解するものであれば特に限定はなく、例えばヘ
キサン、ヘプタン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノールのようなアルコール類;アセトニトリルのよう
なニトリル類あり、好適にはアルコール類である。
あり、好適には-10℃〜30℃である。また酸及びアルコ
ール処理時の反応温度は-70℃〜100℃であり、好適には
-30℃〜60℃である。
が、塩基作用時は通常10分間〜20時間であり、好適には
30分間〜2時間である。また酸及びアルコール処理時は
通常10分間〜20時間であり、好適には30分間〜2時間で
ある。
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水を
加え、トルエンで抽出し、トルエン層を洗浄し、無水硫
酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによっ
て得られる。
ば再結晶、再沈殿、又は、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離、精製することができる。
を酸存在下、溶媒中、アリールアミン類(式Ar2−N
H2を有する化合物)を作用させることにより一般式
(3)を有する化合物を製造する工程である。
うな無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸のような有機酸
類であり、好適には有機酸類である。更に好適には酢酸
である。使用される酸の量は、1当量から50当量であ
り、好適には10当量から20当量である。
物質を溶解するものであれば特に限定はなく、例えばヘ
キサン、ヘプタン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノールのようなアルコール類;アセトニトリルのよう
なニトリル類;水であり、1種類でも多種類混合溶媒で
もよく、好適にはアルコール−水系混合溶媒である。
分は、好適には前記のAr1で述べたものと同様なもの
をあげることができる。使用されるアリールアミンの量
は、1当量から10当量であり、好適には1当量から3
当量である。
るが0℃〜200℃であり、好適には50℃〜150℃
である。反応時間は反応温度等によっても異なるが、10
分間〜48時間であり、好適には1時間〜10時間であ
る。
って、反応混合物から採取される。
溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水を加
え酢酸エチルのような混和しない有機溶剤抽出し、水等
で洗浄後、抽出液を無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶剤を留去することによって得られる。
ば再結晶、再沈殿、又は、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離、精製することができる。
−H(式中、Ar1は前述したものと同意義を示す。)
有する化合物をクロトン酸クロリドとフリーデルクラフ
ツ反応等の公知の製造方法に準じて容易に合成すること
ができる。
を更に具体的に説明する。
ニル)−4−ニトロブタン−1−オン(例示化合物番号
1−23) 1) ニトロメタン110gを氷冷下撹拌し、その溶液に
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン
(DBU)54.8gを滴下した。氷冷下、30分撹拌した後、1
−(3,4−ジメチルフェニル)−2−ブテン−1−オ
ン62.73gを滴下し、テトラヒドロフラン10mLで洗い込ん
だ。滴下終了後、氷冷下1時間撹拌した。反応液に15%塩
化アンモニア水400mLを注加し、酢酸エチル400mLで抽出
した。さらに水層を酢酸エチル200mLで抽出した。得ら
れた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧濃縮して目的物を油状物として74.7g(収率88.
2%)で得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 1.15
(d, J=6.8Hz, 3H), 2.33( s, 6H), 2.95〜3.15 (m, 3
H), 4.42 (dd, J=11.9, 6.6Hz, 1H), 4.53 (dd, J=11.
9, 5.8Hz, 1H), 7.24 (d, J=7.6Hz, 1H), 7.68 (dd, J=
7.6, 2.0Hz, 1H), 7.72 (d, J=2.0Hz, 1H). 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1−(3,4−ジメチルフェニル)ブタン−1−
オン(例示化合物番号3−59) 2) 1)で得た3−メチル−1−(3,4−ジメチル
フェニル)−4−ニトロブタン−1−オン60gのメタノ
ール溶液350mLに室温でナトリウムメトキシド(28%メタ
ノール溶液)83.5gを滴下し、30分撹拌した(A液とす
る)。ネオペンチルグリコール60.2gのメタノール溶液3
00mLを-30℃まで冷却し、濃硫酸175mLを滴下した(B液
とする)。B液を-20℃まで冷却し、A液を内温が0℃を越
えないように滴下し、-20℃で5分間撹拌した後、室温で
1時間撹拌した。反応液に水700mLを加え、トルエンで
3回(700mL, 350mL, 350mL)抽出した。得られたトル
エン層を3%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し目的化合物を
油状物として73.17g得た。この油状物にイソプロピルア
ルコール280mLを加え、室温で10分間撹拌し、氷冷下20
分静置した。析出した結晶を濾過したした後、冷イソプ
ロピルアルコール70mLで洗浄し、得られた結晶を減圧乾
燥して目的化合物を白色結晶として47.0g(収率62%)得
た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 0.71
(s, 3H), 1.02 (d, J=6.8Hz, 3H), 1.18 (s, 3H), 2.31
(s, 6H), 2.40〜2.55 (m, 1H), 2.80 (dd, J=16.6, 8.
3Hz, 1H), 3.25 (dd, J=16.6, 4.6Hz, 1H), 3.41 (dd,
J=11.2, 4.2Hz, 2H), 3.58〜3.63 (m, 2H), 4.38 (d, J
=3.4Hz, 1H), 7.19 (d, J=7.8Hz, 1H), 7.71(d, J=7.8H
z, 1H), 7.75 (s, 1H).
ニル)−4−ニトロブタン−1−オン(例示化合物番号
1−22) 1) 1−(3,4−ジメチルフェニル)−2−ブテン
−1−オンの代わりに1−(2,5−ジメチルフェニ
ル)−2−ブテン−1−オンを出発物質として用い、実
施例1−1)と同様に反応させ、標記の化合物を油状物
として得た(収率63.9%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 1.15
(d, J=6.4Hz, 3H), 2.37(s, 3H), 2.46 (s, 3H), 2.79
〜3.13 (m, 3H), 4.43 (dd, J=11.7, 6.4Hz, 1H), 4.52
(dd, J=11.7, 5.8Hz, 1H), 7.14 (d, J=7.8Hz, 1H),
7.21 (d, J=7.8Hz,1H), 7.42 (s, 1H). 4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−(2,5−ジメチ
ルフェニル)ブタン−1−オン(例示化合物番号2−2
2) 2) 1)で得た3−メチル−1−(2,5−ジメチル
フェニル)−4−ニトロブタン−1−オンを用い、実施
例1−2)と同様にA液を調整した。メタノールを-30℃
まで冷却し、濃硫酸を滴下した(B液とする)。実施例
1−2)と同様に反応を行ない標記の化合物を油状物と
して得た(収率89.7%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 0.99
(d, J=6.6Hz, 3H), 2.35(s, 3H), 2.46 (s, 3H), 2.50
〜2.60 (m, 1H), 2.68 (dd, J=16.8Hz, 8.3Hz, 1H), 3.
12 (dd, J=16.8Hz, 4.9Hz, 1H), 3.36 (s, 3H), 3.39
(s, 3H), 4.16 (d,J=5.6Hz, 1H), 7.10〜7.18 (m, 2H),
7.42 (s, 1H).
ニル)−1−(4−スルファモイルフェニル)ピロール 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1−(3,4−ジメチルフェニル)ブタン−1−
オン 215.9gとスルファニルアミド128.1gを混合溶媒(n
-プロパノール 432mL, 酢酸 713mL, 水 367mL)中、約1
00℃で3時間還流させた。室温に冷却後、トルエン2.16L
を加え、5%炭酸水素ナトリウム水溶液2.16Lで4回、1N塩
酸水溶液2.16L,水 2.16Lで順次洗浄後、減圧濃縮し、淡
黄色結晶を得た。この結晶に、トルエン864mLを加え溶
解し、室温撹拌中にメチルシクロヘキサン648mLを注加
した(白色結晶が析出)。氷冷下5分間スラリー撹拌し
た後、エタノール(43mL)を注加し、氷冷下1時間撹拌し
た。析出した結晶をろ取し、目的化合物を白色結晶とし
て180.39g(収率 71.3%)得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 2.14
(s, 3H), 2.16 (s,6H),5.10〜5.16 (br s, 2H), 6.25
(s,1H), 6.68 (br s, 1H), 6.72 (dd, J=7.8, 1.7Hz, 1
H), 6.94 (d, J=7.8Hz, 1H), 6.97 (d, J=1.7Hz, 1H),
7.23 (d, J=8.8Hz, 2H), 7.83 (d, J=8.8Hz, 2H).
ニル)−1−(4−スルファモイルフェニル)ピロール 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1−(3,4−ジメチルフェニル)ブタン−1−
オンの代わりに4,4−ジメトキシ−3−メチル−1−
(2,5−ジメチルフェニル)ブタン−1−オンを用
い、参考例1と同様に反応させ、標記の化合物を白色結
晶として得た(収率70.3%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 1.88
(s, 3H), 2.19 (s, 3H), 2.27 (s,3H), 4.85 (br s, 2
H), 6.13 (s, 1H), 6.79 (br s, 1H), 6.97〜7.03 (m,
3H), 7.12 (d, J=8.9Hz, 2H), 7.75 (d, J=8.9Hz, 2H).
ル)−4−ニトロブタン−1−オン(例示化合物番号1
−13) ニトロメタン123.1gに1、8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデ−7−セン(DBU)61.4gを氷冷下で滴下
し、同温で1時間撹拌した後、1−(4−エトキシフェ
ニル)−2−ブテン−1−オン76.04gのテトラヒドロフ
ラン(150mL)溶液を氷冷下で滴下し、同温で1.5時間撹
拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液500mLを加え
て、酢酸エチル500mLで抽出した。水層を分離後、酢酸
エチル250mLで抽出した。酢酸エチル層を合わせて、酢
酸エチルを減圧下で留去し、目的化合物を油状物として
77.1g得た(収率96.1%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)(ppm: 1.14
(d, J=6.6Hz, 3H), 1.45 (t, J=7.1Hz, 3H), 2.91-3.13
(m, 3H), 4.11 (q, J=7.1Hz, 2H), 4.41 (dd, J=12.0,
6.1Hz, 1H) 4.53 (dd, J=12.0, 5.6Hz, 1H), 6.93 (d,
J=8.8Hz, 2H), 7.92 (d, J=8.8Hz, 2H)
サン−2−イル)−1−(4−エトキシフェニル)ブタ
ン−1−オン(例示化合物番号3−49) 3−メチル−1−(4−エトキシフェニル)−4−ニト
ロブタン−1−オン9.04gのメタノール(40mL)溶液に
氷冷下で28%ナトリウムメトキシド/メタノール溶液(1
1.8g)を滴下し、室温で1時間撹拌した(A液とす
る)。ネオペンチルグリコール8.53gのメタノール(40m
L)溶液に-10〜20℃で濃硫酸25mLを滴下した(B液とす
る)。A液をB液に-15〜10℃で滴下し、反応液は室温で
1時間撹拌した。反応液にトルエン100mL、水100mLを加
えて撹拌した後、トルエン層を分離して10%重曹水で洗
浄した。トルエンを減圧下で留去して得られた残査にn
-プロパノール50mL、水50mLを加え、室温で1時間撹拌
した。析出した結晶をろ取して減圧下で乾燥し、目的化
合物を白色結晶として7.6g得た(収率60.6%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)(ppm: 0.71 (s,
3H), 1.03 (d, J=7.1Hz, 3H), 1.18 (s, 3H), 1.44
(t, J=7.1Hz, 3H), 2.42-2.52 (m, 1H), 2.77 (dd,J=1
6.6, 8.6Hz, 1H), 3.24 (dd, J=16.6, 4.6Hz, 1H), 3.4
1 (dd, J=11.0, 3.5Hz, 1H), 3.57-3.63 (m, 1H), 4.10
(q, J=7.1Hz, 2H), 4.38 (d, J=3.7Hz, 1H), 6.91 (d,
J=8.8Hz, 2H), 7.95 (d, J=8.8Hz, 2H)
ル)−1−(4−スルファモイルフェニル)ピロール 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1−(4−エトキシフェニル)ブタン−1−オン
5gとスルファニルアミド3.93gのn-プロパノール(20m
L)、酢酸(16.5mL)、水(20mL)混合溶液を90〜100℃
で4時間撹拌した後、反応液を0〜5℃まで徐冷した。析
出した結晶をろ取して減圧下で乾燥し、目的化合物を白
色結晶として5.21g得た(収率89.5%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)(ppm:1.40 (t,
J=7.1Hz, 3H), 2.17 (s, 3H), 4.01 (q, J=7.1Hz, 2
H), 4.82 (s, 2H), 6.23 (s, 1H), 6.72 (s, 1H),6.77
(d, J=8.8Hz, 2H), 7.02 (d, J=8.8Hz, 2H), 7.22 (d,
J=8.8Hz, 2H), 7.83 (d, J=8.8Hz, 2H)
ル)−1−(4−スルファモイルフェニル)ピロール 3−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1−(4−エトキシフェニル)ブタン−1−オン
5gとスルファニルアミド3.93gのエタノール(10mL)、
酢酸(16.5mL)、水(8.5mL)混合溶液を90〜100℃で4
時間撹拌した後、反応液にエタノール(10mL)、水(10
mL)を加えて0〜5℃まで徐冷した。析出した結晶をろ取
して減圧下で乾燥し、目的化合物を白色結晶として5.18
g得た(収率89.0%)。物性値は実施例7で得られたもの
と同じであった。
ブテン−1−オン 窒素気流下、塩化アルミニウム66gを塩化メチレン400mL
に懸濁撹拌し、氷冷下、クロトン酸クロリド51.7gの塩
化メチレン20mL溶液を滴下し、同温で30分撹拌した。こ
の溶液に、氷冷下、o-キシレン50gの塩化メチレン20mL
溶液を滴下し、同温で30分撹拌した。反応液を氷水2000
mLにあけ、塩化メチレン500mLにて抽出した。塩化メチ
レン層を食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥した後、減圧濃縮し、目的化合物を油状物として85.6
3g(収率100%)得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 1.99
(dd, J=6.6, 1.4Hz, 3H), 2.32 (s, 6H), 6.91 (dq, J=
15.1, 1.4Hz, 1H), 7.06 (dq, J=15.1, 6.6Hz, 1H), 7.
21 (d, J=7.8Hz, 1H), 7.67 (dd, J=7.8, 1.7Hz, 1H),
7.72 (d, J=1.7Hz, 1H).
ブテン−1−オン o-キシレンの代わりにp-キシレンを用い、参考例1と同
様に反応させ、標記の化合物を油状物として得た(収率
100%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz, CDCl3)δppm : 1.95
(dd, J=6.8, 1.7Hz, 3H), 2.33 (s, 6H), 6.49 (dq, J=
15.6, 1.7Hz, 1H), 6.73 (dq, J=15.6, 6.8Hz, 1H), 7.
06-7.21 (m, 3H).
ン−1−オン 塩化アルミニウム57.3gの塩化メチレン(350mL)懸濁液
にクロトン酸クロリド41.2mLの塩化メチレン(25mL)溶
液を氷冷下で滴下し、同温で1時間撹拌した。反応液に
フェネトール50gの塩化メチレン(25mL)溶液を氷冷下
で滴下し、同温で3時間撹拌した。反応液を氷水2000mL
に注加した後,塩化メチレン500mLを加え抽出した。塩
化メチレン層を分離して5%水酸化ナトリウム水溶液250m
Lで洗浄した後、塩化メチレンを減圧下で留去し、目的
化合物を油状物として77.1g得た(収率99.1%)。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)(ppm:1.44 (t,
J=7.1Hz, 3H), 1.99 (dd, J=6.6, 1.5Hz, 3H), 4.10
(q, J=7.1Hz, 2H), 6.89-6.95 (m, 1H), 6.93 (d,J=9.0
Hz, 2H), 7.05 (dd, J=15.2, 6.8Hz, 1H), 7.94 (d, J=
9.0Hz, 2H)
る化合物は特開平9−323971号公報記載の優れた
シクロオキシゲナーゼ−2選択的阻害作用を有する消炎
鎮痛薬4−メチル−1,2−ジアリールピロール誘導体
の重要合成中間体として有用であり、その中間体は安定
性が優れ、かつ安全な試薬を用い高収率でに得られるた
め、工業的製法として有用である。
Claims (3)
- 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、Ar1は下記α群から選択される置換分を有して
もよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示し、
α群は、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数
1乃至4個を有するハロゲン化アルキル基、水酸基、ハ
ロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、
炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ基、メルカプト
基、炭素数1乃至4個を有するアルキルスルホニル基及
びスルファモイル基を示す。]で表される化合物。 - 【請求項2】一般式 【化2】 [式中、Ar1は下記α群から選択される置換分を有して
もよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示し、
R1およびR2は同一又は異なって炭素数1乃至6個を有
するアルキル基を示すか、又はR1とR2が一緒になっ
て、炭素数1乃至4個のアルキル基で置換されていても
よいトリメチレン基を示し、α群は、炭素数1乃至4個
を有するアルキル基、炭素数1乃至4個を有するハロゲ
ン化アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1乃至
4個を有するアルコキシ基、炭素数1乃至4個を有する
アルキルチオ基、メルカプト基、炭素数1乃至4個を有
するアルキルスルホニル基及びスルファモイル基を示
す。]で表される化合物。 - 【請求項3】一般式 【化3】 [式中、Ar1は下記α群から選択される置換分を有し
てもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示
し、α群は、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭
素数1乃至4個を有するハロゲン化アルキル基、水酸
基、ハロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルコキ
シ基、炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ基、メル
カプト基、炭素数1乃至4個を有するアルキルスルホニ
ル基及びスルファモイル基を示す。]を有するα、β−
不飽和アリールケトンに、塩基存在下、ニトロメタンを
作用して、一般式 【化4】 [式中、Ar1は前述したものと同意義を示す。]を有
する化合物(1)とし、次いで化合物(1)に塩基を作
用し、酸および一般式 R1OH、R2OH、又はHO−R1−R2−OH [式中、R1及びR2は同一又は異なって炭素数1乃至6
個を有するアルキル基を示すか、又はR1とR2が一緒に
なって、炭素数1乃至4個のアルキル基で置換されてい
てもよいトリメチレン基を示す。]を有するアルコール
で処理して、一般式 【化5】 [式中、Ar1、R1およびR2は前述したものと同意義
を示す。]を有する化合物(2)とし、最後に得られた
化合物(2)に酸性条件下、一般式 Ar2−NH2 [式中、Ar2は下記α群から選択される置換分を有し
てもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基を示
し、α群は炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素
数1乃至4個を有するハロゲン化アルキル基、水酸基、
ハロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ
基、炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ基、メルカ
プト基、炭素数1乃至4個を有するアルキルスルホニル
基及びスルファモイル基を示す。]を有するアリールア
ミン類を作用させることを特徴とする一般式 【化6】 [式中、Ar1及びAr2は前述したものと同意義を示
す。]を有する化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17947899A JP2000080078A (ja) | 1998-07-08 | 1999-06-25 | 4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-192835 | 1998-07-08 | ||
JP19283598 | 1998-07-08 | ||
JP17947899A JP2000080078A (ja) | 1998-07-08 | 1999-06-25 | 4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000080078A true JP2000080078A (ja) | 2000-03-21 |
JP2000080078A5 JP2000080078A5 (ja) | 2006-07-20 |
Family
ID=26499323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17947899A Withdrawn JP2000080078A (ja) | 1998-07-08 | 1999-06-25 | 4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000080078A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004018446A1 (ja) | 2002-08-20 | 2004-03-04 | Sankyo Company, Limited | γ-ケトアセタール類の製造方法 |
JP2004359658A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-12-24 | Sankyo Co Ltd | γ−ケトアセタール類の製造方法 |
JP2010195745A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Toray Ind Inc | γ−ケトアセタール化合物及びピロール誘導体の製造方法 |
-
1999
- 1999-06-25 JP JP17947899A patent/JP2000080078A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004018446A1 (ja) | 2002-08-20 | 2004-03-04 | Sankyo Company, Limited | γ-ケトアセタール類の製造方法 |
JP2004359658A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-12-24 | Sankyo Co Ltd | γ−ケトアセタール類の製造方法 |
US7176323B2 (en) | 2002-08-20 | 2007-02-13 | Sankyo Company, Limited | Process for the production of γ-keto acetals |
JP4601274B2 (ja) * | 2002-08-20 | 2010-12-22 | 第一三共株式会社 | γ−ケトアセタール類の製造方法 |
JP2010195745A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Toray Ind Inc | γ−ケトアセタール化合物及びピロール誘導体の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104918944B (zh) | 螺环异噁唑啉衍生物的合成 | |
FR2963006A1 (fr) | Procede de preparation de derives de nitro-benzofurane | |
JP2012531453A (ja) | S−[2−[1−(2−エチルブチル)シクロヘキシルカルボニルアミノ]−フェニル]−2−メチルチオプロピオナートの製造及び結晶化 | |
Liu et al. | Asymmetric synthesis of (−)-sedacryptine through a diastereoselective Mannich reaction of N, O-acetals with ketones | |
JP2010111684A (ja) | キラル2−メチル−4−保護化ピペラジンの立体選択的アルキル化 | |
JP2000080078A (ja) | 4―メチル―1,2―ジアリ―ルピロ―ル類の製造法及びその合成中間体 | |
US20230339914A1 (en) | Intermediate of biliverdin, and preparation method and use thereof | |
AU606696B2 (en) | Process for preparing herbicidal and insecticidal ureas and carbamate derivatives | |
JP2974432B2 (ja) | 2−(2’−チエニル)アルキルアミンおよびその誘導体の製造 | |
JP4123542B2 (ja) | ピラゾリノン誘導体の製造法 | |
US20070191614A1 (en) | Process for producing nitrogenous 5-membered cyclic compound | |
JP6257115B2 (ja) | 3−アルキルチオ−2−ブロモピリジンの製造方法 | |
JPH09504019A (ja) | オキシラン、アジリジンまたはシクロプロパンの製造法 | |
CN105294517B (zh) | 一种制备手性1,3‑二胺的方法 | |
Shafiee et al. | Synthesis of trans-1, 3-diaryl-2-(5-methylisoxazol-3-yl)-2, 3-dihydro-1 H-naphtho [1, 2-e][1, 3] oxazines via bismuth (III)-catalyzed one-pot pseudo-four component reaction | |
JP4075357B2 (ja) | 4,5−ジ置換−1,2,3−トリアゾール及びその製造法 | |
ES2283781T3 (es) | Procedimiento para producir un compuesto de 1,2,3-triazol. | |
EP1544196B1 (en) | Process for the production of gamma-keto acetals | |
JP5089423B2 (ja) | 光学活性ピペリジン誘導体の製造方法 | |
EP1659124B1 (en) | Pyrrolotriazole compound | |
TW477789B (en) | Production method of oxazole compound | |
EP2011792A1 (en) | 2-alkenyl-3-aminothiophene derivative and method for producing the same | |
JP2011026201A (ja) | 光学活性ピロリル−コハク酸イミド誘導体の立体選択的な製造方法 | |
Cikotiene | A novel and simple benzannulation reaction using the potassium salt of methyl mercaptoacetate for the synthesis of 3-aryl-2-methoxycarbonylacridines | |
JP2006232757A (ja) | フェノキシエチルハライド及びその誘導体の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20040820 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050405 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050419 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050422 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050602 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060607 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060607 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20091106 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20091106 |