JP2000078473A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JP2000078473A
JP2000078473A JP10245216A JP24521698A JP2000078473A JP 2000078473 A JP2000078473 A JP 2000078473A JP 10245216 A JP10245216 A JP 10245216A JP 24521698 A JP24521698 A JP 24521698A JP 2000078473 A JP2000078473 A JP 2000078473A
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Japan
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mos transistor
inverting
amplification
photoelectric conversion
amplifying
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JP10245216A
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Hidekazu Takahashi
秀和 高橋
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures

Abstract

(57)【要約】 【課題】 センサ部、転送部とメモリ部を持つ光電変換
装置で、ノイズを最小化することを課題とする。 【解決手段】 少なくとも光電変換部と前記光電変換部
からの信号を反転増幅して出力する第1の反転アンプと
を有する画素を複数備えたセンサ部と、少なくとも前記
センサ部からの信号を蓄積するメモリ容量と前記メモリ
容量からの信号を反転増幅して出力する第2の反転アン
プとを有するメモリを複数備えたメモリ部とを有し、前
記第1の反転アンプの増幅率と前記第2の反転アンプの増
幅率を異ならせたことを特徴とする光電変換装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はセンサ部とメモリ部
を有する増幅型光電変換装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、センサ部、転送部とメモリ部を有
する増幅型光電変換装置の1つにCMOS反転アンプ型
センサが特開平9−200619等に提案されている。
図2にこの装置の例を示す。同図において、1は光電変
換を行うPnフォトダイオード、2は反転アンプを構成
する増幅用MOSトランジスタ、3は画素の出力を垂直
信号線28へ出力するためのスイッチMOSトランジス
タ、4はフォトダイオードの電位をリセットするための
リセット用MOSトランジスタで1〜4で1つの画素5
を形成する。6は反転アンプの負荷MOSトランジスタ
で垂直線毎に設けられる。7は各画素を駆動するための
パルスφSL1,φPS1を伝達するためのトランスフ
ァゲートであり、8の垂直走査回路で制御される。1〜
8でセンサ部が構成される。9はセンサ部の画素の出力
を転送部へ入力するためのスイッチMOSトランジス
タ、10はクランプ容量、11はクランプ電位VGRを入
力するスイッチMOSトランジスタ、12はソースフォ
ロワの増幅用MOSトランジスタ、13はソースフォロ
ワの定電流源、14はクランプ回路の出力をセンサ部の
画素へフィードバックするためのスイッチMOSトラン
ジスタ、15はメモリ回路の出力をクランプ回路へ入力
するスイッチMOSトランジスタ、16はクランプ回路
の出力をメモリ画素21へ出力するスイッチMOSトラ
ンジスタであり、10〜13でクランプ回路を構成し、
ノイズ除去のため利用される。又9〜16で転送部を構
成する。17はメモリ容量、18は反転アンプの増幅用
MOSトランジスタ、19はメモリ画素出力を垂直信号
線へ読み出すためのスイッチMOSトランジスタ、20
はセンサ部の画素、又は転送部の出力をメモリ容量へ入
力するための、スイッチMOSトランジスタであり、1
7〜20でメモリが構成されている。23はメモリ駆動
パルスφPS2,φSL2を伝達するためのトランスフ
ァゲートであり、垂直走査回路24で駆動される。22
は反転アンプの負荷MOSトランジスタで各列毎に1個
設けられる。17〜24でメモリ部が構成される。
【0003】25は水平選択MOSスイッチで水平走査
回路26で制御され、各メモリセルの出力が、出力アン
プ27を介して、外部へシリアルに出力される。
【0004】ここでセンサ部の画素セルとメモリ部のメ
モリは反転アンプを構成する回路は全く同一のため、従
来は同一のパラメータ(MOSのL,W,COX等)を用
いて設計されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例では回路を動作させない状態でのセンサ部の画素の反
転アンプの増幅率とメモリ部のメモリの反転アンプの増
幅率が同一であったため以下の様な欠点があった。
【0006】つまり、回路が実際に動作した場合には、
センサ部の画素から出力される信号の増幅率とメモリ部
のメモリから出力される信号の増幅率が異なってくるた
めノイズを正確に除去できなくなる。
【0007】以下で回路を動作させない状態での増幅率
をDC的増幅率、回路が実際に動作した状態での増幅率
をAC的増幅率という。
【0008】又、例えば光電変換装置を一眼レフカメラ
のオートフォーカス(AF)センサとして用いる場合、
オートゲインコントロール(AGC)精度や低輝度撮影
精度が悪化するといった欠点があった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記の課題
を解決するために、請求項1のように少なくとも光電変
換手段と前記光電変換手段からの信号を反転増幅して出
力する第1の反転増幅手段とを有する画素を複数備えた
センサ部と、少なくとも前記センサ部からの信号を蓄積
する蓄積手段と前記蓄積手段からの信号を反転増幅して
出力する第2の反転増幅手段とを有するメモリを複数備
えたメモリ部とを有し、前記第1の反転増幅手段の増幅
率と前記第2の反転増幅手段の増幅率を異ならせたこと
を特徴とする光電変換装置を提供する。
【0010】又、請求項1において、前記第1の反転増
幅手段と前記第2の反転増幅手段はMOSトランジスタによ
って構成されていることを特徴とする光電変換装置を提
供する。
【0011】さらに又、請求項2において、前記第1の
反転増幅手段と前記第2の反転増幅手段は増幅MOSトラン
ジスタと負荷MOSトランジスタとからから構成されてい
ることを特徴とする光電変換装置を提供する。
【0012】さらに又、請求項3において、前記第1の
反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのコンダクタン
スと前記第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタ
のコンダクタンスを異ならせたことを特徴とする光電変
換装置を提供する。
【0013】さらに又、請求項4において、前記第1の
反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト長と、
前記第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ
−ト長を異ならせることを特徴とする光電変換装置を提
供する。
【0014】さらに又、請求項4において、前記第1の
反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト幅と、
前記第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ
−ト幅を異ならせることを特徴とする光電変換装置を提
供する。
【0015】さらに又、請求項4において、前記第1の
反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト酸化膜
厚と、前記第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジス
タのゲ−ト酸化膜厚を異ならせることを特徴とする光電
変換装置を提供する。
【0016】さらに又、請求項3において、前記第1の
反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのコンダクタン
スと前記第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタ
のコンダクタンスを異ならせたことを特徴とする光電変
換装置を提供する。
【0017】さらに又、請求項8において、前記第1の
反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト長と、
前記第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ
−ト長を異ならせることを特徴とする光電変換装置を提
供する。
【0018】さらに又、請求項8において、前記第1の
反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト幅と、
前記第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ
−ト幅を異ならせることを特徴とする光電変換装置を提
供する。
【0019】さらに又、請求項8において、前記第1の
反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト酸化膜
厚と、前記第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジス
タのゲ−ト酸化膜厚を異ならせることを特徴とする光電
変換装置を提供する。
【0020】さらに又、請求項1乃至請求項11のいず
れか1項において、さらに前記センサ部及び/又は前記
メモリ部からの信号を増幅して前記センサ部及び/又は
前記メモリ部に転送する転送手段を有することを特徴と
する光電変換装置を提供する。
【0021】
【発明の実施の形態】(第1の実施例)図1は本発明の
特徴を最もよく表す図面である。同図は、光を電気信号
に変えて出力するセンサ部、センサ部からの信号を蓄積
するメモリ部そしてセンサ部からの信号をメモリ部に転
送する転送部からなる。同図において、1は光電変換を
行うPnフォトダイオード、2は反転アンプを構成する
増幅用MOSトランジスタ、3は画素の出力を垂直信号
線28へ出力するためのスイッチMOSトランジスタ、
4はフォトダイオードの電位をリセットするためのリセ
ット用MOSトランジスタで1〜4で1つの画素5を形
成する。6は反転アンプの負荷MOSトランジスタで垂
直線毎に設けられる。7は各画素を駆動するためのパル
スφSL1,φPS1を伝達するためのトランスファゲ
ートであり、8の垂直走査回路で制御される。そして1
〜8でセンサ部を構成する。9は画素の出力を転送部へ
入力するためのスイッチMOSトランジスタ、10はク
ランプ容量、11はクランプ電位VGRを入力するスイッ
チMOSトランジスタ、12はソースフォロワの増幅用
MOSトランジスタ、13はソースフォロワの定電流
源、14はクランプ回路の出力をセンサセルへフィード
バックするためのスイッチMOSトランジスタ、15は
メモリ回路の出力をクランプ回路へ入力するスイッチM
OSトランジスタ、16はクランプ回路の出力をメモリ
21へ出力するスイッチMOSトランジスタであり、1
0〜13でクランプ回路を構成し、ノイズ除去のため利
用される。そして、9〜16で転送部を構成する。17
はメモリ容量、18は反転アンプの増幅用MOSトラン
ジスタ、19はメモリ容量17からの信号出力を垂直信
号線へ読み出すためのスイッチMOSトランジスタ、2
0は画素、又はクランプ回路からの出力をメモリ容量へ
入力するための、スイッチMOSトランジスタであり、
17〜20でメモリ21が構成されている。23はメモ
リ駆動パルスφPS2,φSL2を伝達するためのトラ
ンスファゲートであり、垂直走査回路24で駆動され
る。22は反転アンプの負荷MOSトランジスタで各列
毎に1個設けられる。そして17〜24でメモリ部を構
成する。25は水平選択MOSスイッチで水平走査回路
26で制御され、各メモリの出力が、出力アンプ27を
介して、外部へシリアルに出力される。
【0022】本発明で特徴的なことは、画素のDC的な
反転アンプの増幅率とメモリの反転アンプの増幅率を異
ならせたことである。
【0023】以下に、本実施例における反転アンプの増
幅率の異ならせ方について具体的に説明する。図1にお
いて垂直出力線とフォトダイオード間の寄生容量を
SS、フォトダイオードの容量をCPDS、垂直出力線と
メモリ容量間の寄生容量をCSM、メモリ容量の容量をC
PDMとし、センサ部の画素のAC的な反転アンプの増幅
率をGACS、メモリ部のメモリのそれをGACM、センサ部
の画素のDC的な反転アンプの増幅率をGDCS、メモリ
部のメモリのそれをGDSMとすると GACS=(CPDS+CSS)/{CPDS+(1+GDCS)CSS}・GDCS − GACM=(CPDM+CSM)/{CPDM+(1+GDCM)CSM}・GDCM − となる。
【0024】そのため、AC的な反転アンプの増幅率G
ACSとCACMを一致させるために、 (CPDS+CSS)/{CPDS+(1+GDCS)CSS}・GDCS =(CPDM+CSM)/{CPDM+(1+GDCM)CSM}・GDCM − を満たすようにDC的な反転アンプの増幅率GDCS,G
DCMを決めてやるとよい。本実施例においてはセンサ部
の画素のアンプMOS2とメモリ部のメモリのアンプM
OS18のサイズは同一とし負荷MOS6と22のサイ
ズを変更したことを特徴とする。具体的にはアンプMO
S2と18はその製造プロセスの最小ルールにすること
が感度的には好ましい。又、1のフォトダイオード容量
と17のメモリ容量は17のメモリ容量の方が大きいた
め、寄生容量の影響による増幅率低下は小さい。従っ
て、MOS6とMOS22のサイズの関係は、MOS6
のゲート幅、ゲート長をそれぞれW6、L6、MOS22
のゲート幅、ゲート長をそれぞれW22、L22とすると、 W6/L6<W22/L22 とすればよくゲート幅W6=W22とすると、L6>L22
すればよい。
【0025】又、L6=L22として、W6<W22としても
良い。
【0026】本実施例では負荷MOSのW/Lを変化さ
れることにより、センサ部の画素とメモリ部のメモリの
DC的な反転アンプの増幅率を変えることにより、寄生
容量の影響によるAC的な増幅率を理想値にした。それ
によりセンサ部の画素からの出力とメモリ部のメモリか
らの出力のそれぞれのFPNを低減することができた。
【0027】(第2の実施例)本実施例においても、A
C的な反転アンプの増幅率GACSとGACMを一致させるた
めに、上記式を満たすようにセンサ部の画素とメモリ
部のメモリのそれぞれの負荷MOSを同サイズとしてセ
ンサ部の画素とメモリ部のメモリのそれぞれのアンプM
OSサイズを変えることによってDC的な反転アンプの
増幅率を異ならせている。つまり、MOS2のゲート
幅,ゲート長をそれぞれW2,L2、MOS18のゲート
幅,ゲート長をそれぞれW18,L18とすると W2/L2<W18/L18 (W6/L6=W22/L22の場
合) とすればよく、W2=W18とするとL2>L18とすればよ
い。
【0028】又、L2=L18としてW2<W18としても良
い。
【0029】(第3の実施例)本実施例においても、A
C的な反転アンプの増幅率GACSとGACMを一致させるた
めに、上記式を満たすようにセンサ部の画素の反転ア
ンプを構成するMOSトランジスタのゲート酸化膜厚と
メモリ部のメモリの反転アンプを構成するMOSトラン
ジスタのゲート酸化膜厚を変えたことを特徴とする。一
般にMOSトランジスタのgm
【0030】
【外1】 となるため、 TOX 6>TOX 22 (TOX6=MOS6のゲート酸化膜
厚、TOX22=MOS22のゲート酸化膜厚) 又は TOX 2>TOX 18 (TOX2=MOS2のゲート酸化膜
厚、TOX18=MOS18のゲート酸化膜厚) という関係にすれば良い。
【0031】ここで、実施例1〜3においては、センサ
部の増幅用MOSトランジスタ2と負荷MOSトランジ
スタ6からなる反転アンプは第1の反転増幅手段に、メ
モリ部の増幅用トランジスタ18と負荷MOSトランジ
スタからなる反転アンプは第2の増幅手段に相当してい
る。
【0032】又、実施例1〜3においては、MOSトラ
ンジスタを用いた回路構成であるが、例えばバイポーラ
トランジスタ等の他のトランジスタを用いてセンサ部、
転送部、メモリ部を持った回路構成としてもよい。又、
増幅用トランジスタ、負荷用トランジスタで反転アンプ
を構成しているが、その他の反転出力が得られる構成と
してもよい。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明の光電変換装
置によれば、ノイズを最小化することができる。
【0034】また、本光電変換装置をAFシステムに利用
したとすると、ノイズ低減により例えば低輝度限界、低
コンストトラスト限界が大きくなりAFシステムの性能向
上も実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る回路構成図であ
る。
【図2】従来例を説明する図である。
【符号の説明】
1 フォトダイオード 2 反転アンプ用増幅MOSトランジスタ 3 スイッチMOSトランジスタ 4 リセットMOSトランジスタ 5 センサ画素ユニット 6 反転アンプ用負荷MOSトランジスタ 7 トランスファゲート 8 垂直走査回路 9 スイッチMOSトランジスタ 10 クランプ容量 11 スイッチMOSトランジスタ 12 ソースフォロワ用増幅MOSトランジスタ 13 ソースフォロワ用定電流源 14 スイッチMOSトランジスタ 15 スイッチMOSトランジスタ 16 スイッチMOSトランジスタ 17 メモリ容量 18 反転アンプ用増幅MOSトランジスタ 19 スイッチMOSトランジスタ 20 スイッチMOSトランジスタ 21 メモリ画素ユニット 22 反転アンプ用負荷MOSトランジスタ 23 トランスファゲート 24 垂直走査回路 25 水平選択MOSトランジスタ 26 水平走査回路 27 出力アンプ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも光電変換手段と前記光電変換
    手段からの信号を反転増幅して出力する第1の反転増幅
    手段とを有する画素を複数備えたセンサ部と、 少なくとも前記センサ部からの信号を蓄積する蓄積手段
    と前記蓄積手段からの信号を反転増幅して出力する第2
    の反転増幅手段とを有するメモリを複数備えたメモリ部
    とを有し、 前記第1の反転増幅手段の増幅率と前記第2の反転増幅手
    段の増幅率を異ならせたことを特徴とする光電変換装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記第1の反転増幅
    手段と前記第2の反転増幅手段はMOSトランジスタによっ
    て構成されていることを特徴とする。
  3. 【請求項3】 請求項2において、前記第1の反転増幅
    手段と前記第2の反転増幅手段は増幅MOSトランジスタと
    負荷MOSトランジスタとからから構成されていることを
    特徴とする光電変換装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記第1の反転増幅
    手段中の負荷MOSトランジスタのコンダクタンスと前記
    第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのコンダ
    クタンスを異ならせたことを特徴とする光電変換装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記第1の反転増幅
    手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト長と、前記第2
    の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト長を
    異ならせることを特徴とする光電変換装置。
  6. 【請求項6】 請求項4において、前記第1の反転増幅
    手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト幅と、前記第2
    の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト幅を
    異ならせることを特徴とする光電変換装置。
  7. 【請求項7】 請求項4において、前記第1の反転増幅
    手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−ト酸化膜厚と、前
    記第2の反転増幅手段中の負荷MOSトランジスタのゲ−
    ト酸化膜厚を異ならせることを特徴とする光電変換装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項3において、前記第1の反転増幅
    手段中の増幅MOSトランジスタのコンダクタンスと前記
    第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのコンダ
    クタンスを異ならせたことを特徴とする光電変換装置。
  9. 【請求項9】 請求項8において、前記第1の反転増幅
    手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト長と、前記第2
    の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト長を
    異ならせることを特徴とする光電変換装置。
  10. 【請求項10】 請求項8において、前記第1の反転増
    幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト幅と、前記第
    2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト幅
    を異ならせることを特徴とする光電変換装置。
  11. 【請求項11】 請求項8において、前記第1の反転増
    幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ−ト酸化膜厚と、
    前記第2の反転増幅手段中の増幅MOSトランジスタのゲ
    −ト酸化膜厚を異ならせることを特徴とする光電変換装
    置。
  12. 【請求項12】 請求項1乃至請求項11のいずれか1
    項において、さらに前記センサ部及び/又は前記メモリ
    部からの信号を増幅して前記センサ部及び/又は前記メ
    モリ部に転送する転送手段を有することを特徴とする光
    電変換装置。
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