JP2000073029A - 粘着部材及びその製造方法 - Google Patents

粘着部材及びその製造方法

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JP2000073029A
JP2000073029A JP10257545A JP25754598A JP2000073029A JP 2000073029 A JP2000073029 A JP 2000073029A JP 10257545 A JP10257545 A JP 10257545A JP 25754598 A JP25754598 A JP 25754598A JP 2000073029 A JP2000073029 A JP 2000073029A
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Masayoshi Kawabe
雅義 河辺
Kunihiro Inagaki
訓宏 稲垣
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粘着層に初期設定したバルク特性を良好に維
持し、かつ内部とは粘着特性が相違する表面改質層を有
して、粘着層の全体では優れた柔軟性を示すと共に表面
では満足できる接着力の低下を示すものや、粘着層の全
体では優れた凝集力による保持性を示すと共に表面は強
力な接着力を示すものなどの如く粘着特性が高度に制御
された粘着部材の開発。 【解決手段】 基材(2)の片面又は両面に粘着層
(1)を有し、その粘着層が内部とは異なる粘着特性を
示す厚さ50nm以下の表面層(11)を有する粘着部
材、及び基材の片面又は両面に粘着層を有する粘着部材
をリモートプラズマ領域に配置して、その粘着層の表面
層を内部とは異なる粘着特性に改質処理する粘着部材の
製造方法。 【効果】 粘着層表層の極薄部分のみを効率よく改質で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、内部ないし全体のバルク
特性を良好に維持しつつ表面の極薄層を改質した粘着部
材及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プラズマ等にて改質処理した粘着
層としては、低温プラズマによる処理で架橋密度を向上
させて接着力を低下させたもの(特公昭57−1562
7号公報)、コロナ放電処理又はプラズマ処理にて接着
力を向上させたもの(特開平7−173441号公報)
が知られていた。
【0003】しかしながら、従来の粘着層にては表面に
形成される改質層の厚さが大きいと共に、改質処理の影
響が粘着層内部の奥深い部分にまで及んでいて粘着層の
全体が表面の改質層や改質処理の影響を受け、粘着層に
初期設定したバルク特性も大きく変質したものとなる問
題点があった。
【0004】ちなみに、前記した低温プラズマ処理では
粘着層内部での架橋密度も増大して粘着層全体の柔軟性
に欠乏したり、反対にコロナ放電処理やプラズマ処理で
接着力を向上させた場合には粘着層全体の軟質化で保持
力が著しく低下するなどの問題点があり、総じて粘着特
性の制御が困難な難点があった。
【0005】
【発明の技術的課題】本発明は、粘着層に初期設定した
バルク特性を良好に維持し、かつ内部とは粘着特性が相
違する表面改質層を有して、粘着層の全体では優れた柔
軟性を示すと共に表面では満足できる接着力の低下を示
すものや、粘着層の全体では優れた凝集力による保持性
を示すと共に表面は強力な接着力を示すものなどの如く
粘着特性が高度に制御された粘着部材の開発を課題とす
る。
【0006】
【課題の解決手段】本発明は、基材の片面又は両面に粘
着層を有し、その粘着層が内部とは異なる粘着特性を示
す厚さ50nm以下の表面層を有することを特徴とする粘
着部材、及び基材の片面又は両面に粘着層を有する粘着
部材をリモートプラズマ領域に配置して、その粘着層の
表面層を内部とは異なる粘着特性に改質処理することを
特徴とする粘着部材の製造方法を提供するものである。
【0007】
【発明の効果】本発明によれば、粘着層表層の極薄部分
のみを効率よく改質でき、粘着層の全体に初期設定した
バルク特性を良好に維持し、かつ内部とは粘着特性が相
違して内部層への影響が少ない表面改質層を有する粘着
部材を得ることができ、例えば粘着層全体の柔軟性と表
面での接着力低下性に優れて表面保護機能と再剥離性に
優れる粘着部材や、粘着層全体の保持力と表面での接着
力に優れて保持力と接着力に優れた粘着部材などの如く
粘着特性が高度に制御された粘着部材、従って従来の粘
着層にては背反的な性能として両立させることが困難な
性能を有する粘着部材を得ることができる。
【0008】
【発明の実施形態】本発明による粘着部材は、基材の片
面又は両面に粘着層を有し、その粘着層が内部とは異な
る粘着特性を示す厚さ50nm以下の表面層を有するもの
からなる。その例を図1、図2に示した。1、3が粘着
層で、11,31がその表面層、2が基材である。
【0009】粘着部材は、基材の片面又は両面に粘着層
を有するものとすることができ、基材と粘着層を容易に
剥離できるタイプや、基材と粘着層が強接着した固着タ
イプなどの適宜なタイプのものとすることができる。な
お基材の両面に粘着層を有するものの場合、例えば片面
に表面改質の粘着層を有し、他面に普通の接着層を有す
る粘着部材などの如く、基材の両面における粘着層ない
し接着層は異なるものであってもよいし、同じものであ
ってもよい。
【0010】粘着層の支持を目的とする基材としては、
各種のプラスチックからなるフィルムやシート、紙や
布、不織布や金属箔、ネットや発泡体、それらのラミネ
ート体などの適宜な薄葉体を用いることができ、従来の
粘着部材おける基材のいずれも用いうる。また基材は、
導電体層や磁性体層を有して、又は/及び導電粉や磁性
粉を含有して高周波を介し誘導加熱できるものなどであ
ってもよい。基材の厚さは、適宜に決定しうるが、一般
には500μm以下、就中1〜300μm、特に5〜25
0μmとされる。
【0011】なお上記した剥離タイプの粘着部材は、例
えば低接着性の基材を用いて形成することができる。低
接着性の基材は例えば、シリコーン系やフッ素系や長鎖
アルキル系等で代表される剥離剤をコーティングする方
式、ポリエチレンやポリプロピレンの如き無極性ポリマ
ーからなる接着力の弱い基材を用いる方式などの公知の
方式により得ることができる。
【0012】一方、固着タイプの粘着部材は、例えば強
接着性の基材を用いて形成することができる。強接着性
の基材は例えば、クロム酸処理やオゾン暴露、火炎暴露
や高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等により表面を酸
化させる化学的又は物理的処理による方式、ポリエステ
ルの如き極性の高いポリマー等からなる接着力の強い基
材を用いる方式などの公知の方式により得ることができ
る。
【0013】粘着層の形成には、例えばゴム系やアクリ
ル系、ビニルアルキルエーテル系やシリコーン系、ポリ
エステル系やポリアミド系、ウレタン系などの公知の粘
着剤の1種又は2種以上を用いることができる。従って
紫外線硬化型やホットメルト型、熱時感圧型等の粘着剤
なども用いることができ、粘着層を形成する粘着剤につ
いては特に限定はない。
【0014】汎用性などの点よりは、例えば天然ゴムや
再生ゴム、ポリイソブチレンやポリイソプレン、SBR
やNBRの如きゴム系ポリマー、あるいはスチレン・イ
ソプレン系やスチレン・ブタジエン系等のスチレン・ジ
エンA・B型又はA・B・A型ブロック共重合体の如き
ゴム系ポリマーなどを成分とするゴム系粘着剤、アクリ
ル系ポリマーを成分とするアクリル系粘着剤などが好ま
しく用いうる。
【0015】前記のアクリル系粘着剤を形成するアクリ
ル系ポリマーは、適宜なものであってよいが一般には、
メチル基やエチル基、プロピル基やブチル基、アミル基
やヘキシル基、ヘプチル基やシクロヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基やイソオクチル基、イソデシル基やドデ
シル基、ラウリル基やトリデシル基、ペンタデシル基や
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基やオクタデシル基、ノ
ナデシル基やエイコシル基の如き炭素数が20以下のア
ルキル基を有するアクリル酸やメタクリル酸等のエステ
ルからなる(メタ)アクリル酸系アルキルエステルの1
種又は2種以上を用いたアクリル系ポリマーなどが用い
られる。
【0016】また前記のアクリル系ポリマーは、必要に
応じ凝集力や耐熱性や架橋性等のバルク特性の調節など
を目的に適宜なモノマーの1種又は2種以上を共重合さ
せたものであってもよい。ちなみにその共重合用モノマ
ーの例としては、アクリル酸やメタクリル酸、カルボキ
シエチルアクリレートやカルボキシペンチルアクリレー
ト、イタコン酸やマレイン酸、フマール酸やクロトン酸
の如きカルボキシル基含有モノマーがあげられる。
【0017】また、無水マレイン酸や無水イタコン酸の
如き酸無水物モノマー、(メタ)アクリル酸ヒドロキシ
エチルや(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メ
タ)アクリル酸ヒドロキシブチルや(メタ)アクリル酸
ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオ
クチルや(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メ
タ)アクリル酸ヒドロキシラウリルや(4−ヒドロキシ
メチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートの如きヒ
ドロキシル基含有モノマーも共重合用モノマーの例とし
てあげられる。
【0018】さらに、スチレンスルホン酸やアリルスル
ホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸や(メタ)アクリルアミドプロパンスル
ホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレートや(メ
タ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸の如きス
ルホン酸基含有モノマー、2−ヒドロキシエチルアクリ
ロイルホスフェートの如き燐酸基含有モノマー、(メ
タ)アクリルアミドやN,N−ジメチル(メタ)アクリ
ルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミドやN−メ
チロール(メタ)アクリルアミド、N−メチロールプロ
パン(メタ)アクリルアミドの如き(N−置換)アミド
系モノマーも上記した共重合用モノマーの例としてあげ
られる。
【0019】加えて、(メタ)アクリル酸アミノエチル
や(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、
(メタ)アクリル酸t−ブチルアミノエチルの如き(メ
タ)アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー、
(メタ)アクリル酸メトキシエチルや(メタ)アクリル
酸エトキシエチルの如き(メタ)アクリル酸アルコキシ
アルキル系モノマー、N−シクロヘキシルマレイミドや
N−イソプロピルマレイミド、N−ラウリルマレイミド
やN−フェニルマレイミドの如きマレイミド系モノマー
も上記した共重合用モノマーの例としてあげられる。
【0020】またさらに、N−メチルイタコンイミドや
N−エチルイタコンイミド、N−ブチルイタコンイミド
やN−オクチルイタコンイミド、N−2−エチルヘキシ
ルイタコンイミドやN−シクロヘキシルイタコンイミ
ド、N−ラウリルイタコンイミドの如きイタコンイミド
系モノマー、N−(メタ)アクリロイルオキシメチレン
スクシンイミドやN−(メタ)アクリロイル−6−オキ
シヘキサメチレンスクシンイミド、N−(メタ)アクリ
ロイル−8−オキシオクタメチレンスクシンイミドの如
きスクシンイミド系モノマーも上記した共重合用モノマ
ーの例としてあげられる。
【0021】さらに加えて、酢酸ビニルやプロピオン酸
ビニル、N−ビニルピロリドンやメチルビニルピロリド
ン、ビニルピリジンやビニルピペリドン、ビニルピリミ
ジンやビニルピペラジン、ビニルピラジンやビニルピロ
ール、ビニルイミダゾールやビニルオキサゾール、ビニ
ルモルホリンやN−ビニルカルボン酸アミド類、スチレ
ンやα−メチルスチレン、N−ビニルカプロラクタムの
如きビニル系モノマー、アクリロニトリルやメタクリロ
ニトリルの如きシアノアクリレート系モノマーも上記し
た共重合用モノマーの例としてあげられる。
【0022】またさらに、(メタ)アクリル酸グリシジ
ルの如きエポキシ基含有アクリル系モノマー、(メタ)
アクリル酸ポリエチレングリコールや(メタ)アクリル
酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メト
キシエチレングリコールや(メタ)アクリル酸メトキシ
ポリプロピレングリコールの如きグリコール系アクリル
エステルモノマー、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフ
ルフリルやフッ素(メタ)アクリレート、シリコーン
(メタ)アクリレートや2−メトキシエチルアクリレー
トの如きアクリル酸エステル系モノマーも上記した共重
合用モノマーの例としてあげられる。
【0023】上記に加えて、ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレートや(ポリ)エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ
(メタ)アクリレートやネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)ア
クリレートやトリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ートやジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、エポキシアクリレートやポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレートの如き多官能モノマー、イソ
プレンやブタジエン、イソブチレンやビニルエーテルな
ども上記した共重合用モノマーの例としてあげられる。
【0024】用いる粘着剤は、1種又は2種以上のベー
スポリマーに、必要に応じ架橋剤や粘着性付与剤、可塑
剤や充填剤、老化防止剤などの適宜な添加剤を配合した
ものなどであってもよい。
【0025】粘着層の形成は、例えばドクターブレード
法やグラビア印刷法などの適宜な方式にて基材上に粘着
剤を塗布する方式や、それに準じてセパレータ上に形成
した粘着層を基材上に移着する方式などの適宜な方式に
て行うことができる。粘着層の厚さは、使用目的などに
応じて適宜に決定しうるが、一般には500μm以下、
就中1〜300μm、特に5〜100μmとされる。なお
粘着層は、バルク特性の調節などを目的に電子線照射に
よる架橋処理などの適宜な処理が施されたものであって
もよい。
【0026】本発明による粘着部材は、図例の如く内部
とは異なる粘着特性を示す厚さが50nm以下の表面層1
1,31を設けた粘着層1,3を有するものであるが、
その表面層の形成は、例えばコロナ放電処理、紫外線や
電子線やガンマ線等による放射線処理、オゾン処理、プ
ラズマ処理などの適宜な方法にて行うことができる。ま
たそれらの処理に後続してグラフト処理やプラズマ重合
処理を施した表面層などとして形成することもできる。
【0027】表面層の厚さは、粘着層に初期設定したバ
ルク特性の維持や表面層のみの優先的改質などの点より
50nm以下、好ましくは45nm以下、特に好ましくは4
0nm以下とされる。その厚さが50nmを超える処理で
は、表面層の物性が粘着層全体の物性に及ぼす影響が大
きくなり、また粘着層内部にまで改質処理の影響が大き
く及ぶこととなって粘着層全体のバルク特性が変質しや
すく、上記した表面保護機能と再剥離性、あるいは保持
力と接着力を両立させることなどの粘着特性の高度な制
御が困難となる。
【0028】前記した極薄の表面層厚の容易な達成性や
粘着特性の高度な制御性などの点より好ましい粘着部材
の製造方法は、粘着層をリモートプラズマ領域に配置し
て改質処理する方法である。かかるリモートプラズマ処
理方法によれば、表面層のみにおける官能基導入等の改
質処理を制御性よく行うことができる。
【0029】すなわち図3に例示のプラズマ発生装置4
等において、ガスタンク47より流量制御系46を介し
て減圧管41内に供給されたキャリアガスは、電極42
の近傍でラジカルや電子、イオンや紫外線等の活性種か
らなるプラズマ状態となり、減圧系44を介して減圧管
内を順次移動しつつ排気される。
【0030】前記の移動過程において、活性種は再結合
等で失活するがその場合、電子やイオンはラジカルより
も速く失活し、その失活速度は電子やイオンで1/10
7cm3/秒程度、ラジカルで1/1033cm6/秒程度とさ
れている。従ってラジカルがより長時間活性を維持し
て、電極42近くのプラズマ発生領域5から離れた領域
6,7,8にラジカルがリッチに存在する領域が形成さ
れやすく、この領域がリモートプラズマ領域である。
【0031】前記の如くリモートプラズマ領域では、電
極近傍よりもラジカルをリッチに含み、電子やイオン等
の存在量が少ないためにラジカルによる官能基が導入さ
れやすい。また電子やイオン等による分子鎖の切断(エ
ッチング現象)や架橋が生じにくく、移動等による活性
種のエネルギー減衰なども生じてプラズマを介した改質
処理が電極近傍のプラズマ発生領域よりも緩やかに進行
する。その結果、リモートプラズマ領域にて処理するこ
とにより、粘着層表層の極く薄い部分を制御性よく改質
処理できるものと思われる。なお図3において、43は
処理対象の支持板、45は減圧計、48は電源、49は
整合系である。
【0032】前記のリモートプラズマ処理において、プ
ラズマの発生源等となるキャリアガスについては、適宜
なガスを用いうる。ちなみにその例としては、ヘリウム
やアルゴン等の不活性ガス、酸素や窒素等の2原子分子
ガス、二酸化炭素やアンモニア、水や各種モノマー等の
多原子分子ガスなどがあげられる。
【0033】キャリアガスは、1種又は2種以上を用い
ることができ、改質目的などに応じて適宜に選択使用す
ることができる。ちなみに前記に例示のキャリアガスを
用いて、例えば水酸基やカルボニル基、カルボキシル基
やアミド基、アミノ基やパーオキシドなどの官能基を導
入でき、窒素ガス等を用いてアミド基やカルボニル基を
導入することで表面を親水性に改質することができる。
従って表面層への官能基の導入で、内部よりも官能基を
多く含有する表面層の形成も可能である。
【0034】リモートプラズマ処理による表面層の改質
は、例えば官能基の導入による親水性付与等の性質の付
加や接着力の向上、あるいは接着力の低減などの適宜な
特性の付与を目的として行うことができる。すなわちリ
モートプラズマ処理にても表面層における、官能基の導
入のほか、例えば分子鎖の切断や架橋反応を生じさせる
ことができ、それによる改質を加えることができる。ま
たそれらが複合した改質処理も加えることができる。
【0035】従って、官能基の導入や分子鎖の切断、架
橋反応等を調節することにより表面層における改質によ
る粘着特性を制御することができる。その場合、一般に
分子鎖の切断は内部よりも低分子量の表面層が形成され
て接着力の向上に寄与し、架橋密度の向上は内部よりも
高い架橋密度の表面層が形成されて接着力の低下に寄与
する。また官能基の導入は、親水性等の性質の付加に加
えて、場合により接着力の向上等にも寄与する。
【0036】前記した分子鎖の切断や架橋等は、分子鎖
の結合エネルギーなどが関係することより、リモートプ
ラズマ処理による改質特性は、同じ条件による処理にて
も粘着層を形成するポリマー成分などにより相違する場
合がある。ちなみに上記した窒素ガスをキャリアガスに
用いた処理において、ポリイソブチンからなる粘着層で
は分子鎖の切断が発生し、接着力が向上する。一方、ポ
リブチルアクリレートからなる粘着層では、電極からの
距離により接着力が低下する場合と向上する場合があ
る。ただしいずれの場合にもアミド基等の導入による親
水性は発現する。
【0037】前記においてリモートプラズマ処理の条件
は、改質の目的や程度などに応じて適宜に決定しうる
が、一般には形成される改質表面層の厚さ制御などの点
より、キャリアガスの流量1〜100ml/分、就中3〜
70ml/分、特に5〜30ml/分、処理出力(電極電
圧)10〜300W、就中20〜200W、特に30〜
100W、処理時間1秒間〜30分間、就中10秒間〜
15分間、特に30秒間〜5分間、電極からの距離20
cm以上、就中30〜200cm、特に50〜150cmとさ
れる。
【0038】なお上記したキャリアガスとしてのモノマ
ーの使用は、モノマーをラジカル化するなどして粘着層
の表面層にグラフト化することなどを目的とするが、か
かるモノマーによるグラフト化処理は、粘着層に官能基
等を導入した後、それに後続の後グラフト処理として行
うこともできる。その後グラフト処理は、通例のプラズ
マ処理にても行いうるが、粘着層のバルク特性を維持し
た表面層のみの改質などの点よりは、上記に準じたリモ
ートプラズマ処理による方式が好ましい。
【0039】前記の後グラフト処理にても上記したキャ
リアガスとして用いるときと同様に、例えば上記のアク
リル系ポリマーなどで例示したものなどの各種の適宜な
モノマーを用いうるが、アクリル酸やフタル酸などの導
入を目的とする場合には、炭素数1〜18のアルコール
とアクリル酸若しくはメタクリル酸とのエステルなどが
好ましく用いうる。なお官能基等を導入した後の処理と
しては、例えばフッ素系化合物やSiOx層等の導入に
よる接着力の低下等を目的としたプラズマ重合法なども
適用することができる。
【0040】本発明にては基材の両面に粘着層を有する
粘着部材の表裏に異なる処理を施して、粘着部材の表裏
で粘着特性等が異なるものとすることもできる。また前
記した架橋処理やプラズマ重合法などの接着力低下処理
を、巻回体等とした粘着部材の側面に適用して粘着部材
間の接着防止をはかることもできる。
【0041】なお本発明において、表面層における内部
とは異なる粘着特性には、上記した如く官能基の導入に
よる親水性の付与なども含み、従って凝集力や架橋度や
分子量等に基づく接着力や保持力や耐熱性などの物理的
特性に加えて、官能基等に基づく親水性や被着体に対す
る化学的密着性などの化学的特性、導電性や屈折率など
の電気的特性や光学的特性なども含まれる。従って前記
の粘着特性には、粘着層の内部と表面層をある基準にて
区別しうる全ての場合が含まれる。
【0042】よって本発明による粘着部材は、その特性
に応じて例えばラベルやステッカー、シールやワッペ
ン、伝票や掲示板、包装テープや表面保護材、接着シー
トなどの各種の目的で、商業用途や工業用途、農業用途
や医療用途、光学用途や事務用途、家庭用途などの種々
の分野で用いることができ、従来に準じたいずれの目的
にも用いうる。なお粘着部材は、巻回体等として実用に
供しうるほか、その粘着層を実用に供するまでの間、セ
パレータにて仮着保護する形態などの適宜な形態で実用
に供することができる。
【0043】
【実施例】実施例1 厚さ30μmのPETフィルム(東レ社製、ルミラーS
−10)の片面に、溶液重合による重量平均分子量51
万(重量平均分子量/数平均分子量=7.2)のポリブ
チルアクリレート(PBA)の溶液を塗布し、乾燥させ
て厚さ30μmの粘着層を形成し、それをセパレータに
て仮着カバーしてゲル分率50%を目的に電子線を12
Mrad照射して架橋処理を施した。
【0044】次に、前記架橋処理物よりセパレータを剥
離してそれを図3のプラズマ発生装置4における減圧管
41内のガラス製支持板43上の電極42より30cm離
れた位置6(リモートプラズマ領域)に配置し、キャリ
アガスに窒素ガスを用いて100Wの処理出力にて電極
近傍にプラズマを発生させて120秒間処理し、粘着部
材を得た。
【0045】実施例2 配置位置を電極より60cm離れた位置7としたほかは実
施例1に準じて粘着部材を得た。
【0046】実施例3 配置位置を電極より80cm離れた位置8としたほかは実
施例1に準じて粘着部材を得た。
【0047】比較例1 プラズマによる処理を施さないほかは実施例1に準じて
粘着部材を得た。
【0048】比較例2 配置位置を電極位置5としたほかは実施例1に準じて粘
着部材を得た。
【0049】実施例4 厚さ50μmのポリプロピレンフィルム(東レ社製、ト
レファンBO#40−T2745)の片面に、重量平均
分子量65万のポリイソブチレン(PIB:エクソンケ
ミカル社製、ビスタネックスMML−80)のへプタン
溶液を塗布し、80℃で3分間乾燥させて厚さ30μm
の粘着層を形成し、それをセパレータにて仮着カバーし
て放置後、それを実施例1に準じリモートプラズマ処理
して、粘着部材を得た。
【0050】実施例5 配置位置を電極より60cm離れた位置7としたほかは実
施例4に準じて粘着部材を得た。
【0051】実施例6 配置位置を電極より80cm離れた位置8としたほかは実
施例4に準じて粘着部材を得た。
【0052】比較例3 プラズマによる処理を施さないほかは実施例4に準じて
粘着部材を得た。
【0053】比較例4 配置位置を電極位置5としたほかは実施例4に準じて粘
着部材を得た。
【0054】評価試験1 実施例1〜3、比較例1、2で得たPBA系の粘着部材
又はその粘着層について下記の特性を調べた。
【0055】重量平均分子量(Mw) 粘着部材に準じてセパレータ上に粘着層を形成し、その
粘着層をテトラヒドロフラン(THF)に溶解させて
0.3重量%の溶液濃度に調製したのち0.45μmメ
ンブランフィルタにて濾過し、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフイー(GPC:東ソー社製、HLC812
0型)によりポリスチレン換算による重量平均分子量を
調べた。なおカラムには、TSKgel super HM-H/H400
0/H3000/H2000カラムを用い、カラム温度40℃にて
測定した。なお重量平均分子量は、バルク特性を代表す
る特性である。
【0056】相対ピーク面積比 前記のGPCクロマトグラムよりピーク面積を求め、比
較例1の未処理物の場合を基準(100)としてピーク
面積の割合(THF可溶分の相対ピーク面積比)を求め
た。その割合の減少は、架橋密度の向上を意味する。
【0057】吸光度比 IR(パーキンエルマー社製、2000FT−IR)と
角度可変型MIR(パーキンエルマー社製)に内部反射
エレメントとして角度45度の台形Geプリズムを用
い、TGS検出器にて分解能4cmマイナス1乗、積算
16回にてFTIR−ATRスペクトルを得、そのスペ
クトルとATR法にて得たスペクトルを対比して、導入
官能基に相当する吸収バンドの強度から1710cmマ
イナス1乗/1733cmマイナス1乗の吸光度比を求
めた。なおこの特性は、PBAにて導入される官能基が
カルボニル領域のショルダー部の変化として現れること
により、吸光度比が大きいほど官能基の導入割合が多い
ことを意味する。
【0058】表面層厚 粘着層をRuO4等の重金属系酸化剤にて染色後、ミク
ロトームにて超薄切片を作製し、透過電子顕微鏡(日立
製作所社製、H−800型)にて加速電圧100kVで
観察し、そのTEMによる断面写真より表面改質層の厚
さを調べた。
【0059】接着力 粘着部材をその粘着層を介してステンレス板(430B
A)に対し2kgローラを一往復させて圧着し、48時
間放置後、引張圧縮試験機(ミネベア社製、TCM−1
kNB型)にて300mm/分の剥離速度による180度
ピールを測定した。
【0060】親水性 粘着部材の粘着層に対して水滴を落とし、その浸透性や
水滴の接触角より親水性の有無を調べた。
【0061】評価試験2 実施例4〜6、比較例3、4で得たPIB系の粘着部材
又はその粘着層について下記の特性を調べた。
【0062】重量平均分子量(Mw) 上記のPBA系の場合と同様にして、主成分と副成分の
重量平均分子量を調べた。
【0063】副成分 前記のGPCクロマトグラムによるピーク面積比より副
成分の含有割合を求めた。これは、分子鎖の切断による
低分子量成分の生成特性を現すものである。
【0064】吸光度面積比 上記のPBA系の場合と同様にスペクトルを対比して、
導入官能基に相当する吸収バンドの強度から吸光度面積
比を求めた。なおこの場合には、幅広い吸収バンド特性
を示したので、その領域の面積比として下記の範囲でピ
ーク面積比を求めた。またこの場合にも、吸光度面積比
が大きいほど官能基の導入割合が多いことを意味する。 OH/CH面積比:(3852〜3080cmマイナス
1乗)/(3080〜2746cmマイナス1乗) CO/CH面積比:(1789〜1515cmマイナス
1乗)/(1513〜1409cmマイナス1乗)
【0065】表面層厚 上記のPBA系の場合と同様に、TEMによる断面写真
より表面改質層の厚さを調べた。なお観察には透過電子
顕微鏡(日立製作所社製、H−7100FA型)を用い
た。
【0066】接着力、親水性 上記のPBA系の場合と同様に、180度ピールと親水
性を調べた。
【0067】上記の結果を、PBA系の場合を表1に、
PIB系の場合を表2に示した。なお表中、接着力の単
位はg/20mmである。
【表1】
【0068】
【表2】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の断面図
【図2】他の実施例の断面図
【図3】リモートプラズマ処理の説明図
【符号説明】
1、3:粘着層(11,31:表面層) 2:基材
4:プラズマ発生装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J004 AA04 AA05 AA07 AA08 AA10 AA11 AA14 AA15 AA16 AB01 AB03 AB07 CA02 CA08 CB01 CB02 CB04 CC02 CC03 CC08 CD01 CD05 CD06 CE02 DB02 EA01 EA05 FA01 FA04 FA06 GA01 4J040 CA011 CA071 CA081 CA101 DA141 DD051 DF041 DF051 DM011 ED001 EF001 EG001 EK031 LA06 NA01 NA02 NA05 NA06 NA17 PA23 QA00 QB04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の片面又は両面に粘着層を有し、そ
    の粘着層が内部とは異なる粘着特性を示す厚さ50nm以
    下の表面層を有することを特徴とする粘着部材。
  2. 【請求項2】 請求項1において、表面層が内部よりも
    多くの官能基を含有する、又は高い架橋密度を有するも
    のである粘着部材。
  3. 【請求項3】 基材の片面又は両面に粘着層を有する粘
    着部材をリモートプラズマ領域に配置して、その粘着層
    の表面層を内部とは異なる粘着特性に改質処理すること
    を特徴とする粘着部材の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3において、キャリアガスとして
    ヘリウム、アルゴン、酸素、窒素、二酸化炭素、アンモ
    ニア、水、又は炭素数1〜18のアルコールとアクリル
    酸若しくはメタクリル酸とのエステルからなるガスの1
    種又は2種以上を用いる粘着部材の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項3又は4において、粘着層がアク
    リル系又はイソブチレン系のポリマーを成分とするもの
    である粘着部材の製造方法。
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