JP2000072739A - スルホン酸類またはその塩の製法 - Google Patents

スルホン酸類またはその塩の製法

Info

Publication number
JP2000072739A
JP2000072739A JP10246457A JP24645798A JP2000072739A JP 2000072739 A JP2000072739 A JP 2000072739A JP 10246457 A JP10246457 A JP 10246457A JP 24645798 A JP24645798 A JP 24645798A JP 2000072739 A JP2000072739 A JP 2000072739A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lower alkyl
substituted
alkyl group
salts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10246457A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuzo Yoshioka
龍藏 吉岡
Shinichi Yamada
真一 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanabe Seiyaku Co Ltd filed Critical Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority to JP10246457A priority Critical patent/JP2000072739A/ja
Publication of JP2000072739A publication Critical patent/JP2000072739A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、一般式(I) 【化1】 (式中、R1、R2およびR3は、同一又は異なって、水
素原子;置換されていてもよい鎖状低級アルキル基;置
換されていてもよい環状低級アルキル基;置換されてい
てもよいアリール基;またはアミノ基を表し、nは0〜
6の整数を表す。)で示されるスルホン酸類またはその
塩を、高い収率で製造するための新規製法を提供するも
のである。 【解決手段】 一般式(II) 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、その他の記号は前記
と同一の意味を有する。)で示されるハロゲン化合物
を、アミンの亜硫酸塩を用いてスルホ化し、所望により
その塩とすることを特徴とする、一般式(I)で示され
るスルホン酸類またはその塩の製法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、染料・界面活性剤
・農薬・医薬の原料として有用であり、また、その光学
活性体は塩基性ラセミ化合物の光学分割剤としても有用
である、スルホン酸類またはその塩の新規製法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】スルホン酸類およびその塩は、従来、ハ
ロゲン化合物を亜硫酸アルカリ金属塩(亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム等)の水溶液
中で反応させることによって製するのが一般的であった
(ストレッカー法)。しかしながら、このストレッカー
法には、ハロゲン化合物が一般的にやや安定性に欠ける
化合物であるため、反応中にその一部が加水分解されて
反応収率の低下を招くという欠点があり、この方法は必
ずしも工業的に有利な製造法ではなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スルホン酸
類またはその塩を高い収率で製造するための新規製法を
提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I)
【0005】
【化4】
【0006】(式中、R1、R2およびR3は、同一又は
異なって、水素原子;置換されていてもよい鎖状低級ア
ルキル基;置換されていてもよい環状低級アルキル基;
置換されていてもよいアリール基;またはアミノ基を表
し、nは0〜6の整数を表す。)で示されるスルホン酸
類またはその塩は、一般式(II)
【0007】
【化5】
【0008】(式中、Xはハロゲン原子を表し、その他
の記号は前記と同一の意味を有する。)で示されるハロ
ゲン化合物を、アミンの亜硫酸塩を用いてスルホ化し、
所望によりその塩とすることにより、製することができ
る。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明によって製するスルホン酸
類(I)および本発明に使用するハロゲン化合物(I
I)としては、R1、R2およびR3が、同一又は異なっ
て、水素原子;フェニル基で置換されていてもよい鎖状
低級アルキル基;環状低級アルキル基;または、鎖状低
級アルキル基、低級アルコキシ基およびハロゲン原子か
ら選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよいアリー
ル基であるものが好ましく、その中でも、アリール基が
フェニル基またはナフチル基であるものがより好まし
く、さらに、鎖状低級アルキル基がメチル基またはエチ
ル基であり、環状低級アルキル基がシクロヘキシル基で
あり、低級アルコキシ基がメトキシ基またはエトキシ基
であるものが、とりわけ好ましい。また、nが0である
スルホン酸類(I)およびハロゲン化合物(II)が特
に好ましい。
【0010】本発明によって製するスルホン酸類(I)
の塩としては、スルホン酸類(I)と金属、有機塩基ま
たはアミノ酸との塩が挙げられる。ここで、金属として
はアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛またはアルミ
ニウムが好ましく、有機塩基としてはアミンが好まし
い。アルカリ金属とは、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウムおよびフランシウムを意味す
るが、このうち、ナトリウムが特に好ましい。アルカリ
土類金属とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウムおよびラジウムを意味す
るが、このうち、マグネシウムおよびバリウムが特に好
ましい。アミンとしては、第一級〜第三級のいずれのア
ミンであってもよいが、メチルアミン;エチルアミン;
n−プロピルアミン;アニリン;ベンジルアミン等の脂
肪族あるいは芳香族第一級アミン、ジメチルアミン;ジ
エチルアミン;ジ−n−プロピルアミン;N−メチルア
ニリン等の脂肪族あるいは芳香族第二級アミン、トリメ
チルアミン;トリエチルアミン;トリ−n−プロピルア
ミン;N,N−ジメチルアニリン等の脂肪族あるいは芳
香族第三級アミンが好ましい。また、アミノ酸として
は、アラニン、バリン、セリン、ロイシン、フェニルア
ラニン、フェニルグリシン、p−ヒドロキシフェニルグ
リシン、アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のラセ
ミ体または光学活性体を用いることができ、このうち、
ロイシン、p−ヒドロキシフェニルグリシンが特に好ま
しい。
【0011】本発明に使用するハロゲン化合物(II)
としては、反応を阻害しない限りいずれのハロゲン原子
を含むものであってもよいが、ブロム化合物またはクロ
ル化合物が特に好ましい。
【0012】本発明に使用するアミンの亜硫酸塩として
は、第一級〜第三級のいずれのアミンの亜硫酸塩であっ
てもよい。用いられるアミンの例としては、メチルアミ
ン;エチルアミン;エタノ−ルアミン;n−プロピルア
ミン;n−ブチルアミン;ドデシルアミン;アニリン;
ベンジルアミン;ジフェニルメチルアミン等の脂肪族あ
るいは芳香族第一級アミン、ジメチルアミン;ジエタノ
−ルアミン;ジ−n−プロピルアミン;ジ−n−ブチル
アミン;モルホリン;ピペリジン;ピロリジン;ジフェ
ニルアミン;N−メチルアニリン等の脂肪族あるいは芳
香族第二級アミン、トリメチルアミン;トリエチルアミ
ン;トリエタノ−ルアミン;トリ−n−プロピルアミ
ン;トリ−n−ブチルアミン;N−メチルモルホリン;
N−メチルピペリジン;N−メチルピロリジン;N,N
−ジメチルアニリン等の脂肪族あるいは芳香族第三級ア
ミンを挙げることができる。
【0013】中でも、一般式(III)
【0014】
【化6】
【0015】(式中、R4は、水酸基、アミノ基および
アリール基から選ばれる基で置換されていてもよい鎖状
低級アルキル基を表し、R5およびR6は、同一又は異な
って、水素原子;または、水酸基、アミノ基およびアリ
ール基から選ばれる基で置換されていてもよい鎖状低級
アルキル基を表す。)で示されるアミンの亜硫酸塩を好
適に用いることができる。さらに、その中でも、R
4が、水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい鎖
状低級アルキル基であり、R5およびR6が、同一又は異
なって、水素原子または鎖状低級アルキル基であるアミ
ンの亜硫酸塩を、とりわけ好適に用いることができる。
【0016】アミンの亜硫酸塩の使用量は特に限定され
ないが、ハロゲン化合物1モルに対して1〜3モル使用
するのが好ましく、とりわけ1〜1.5モル使用するの
がより好ましい。また、反応性の低いハロゲン化合物の
場合、アミンの亜硫酸塩の飽和溶液等を用いて、過剰の
アミンの亜硫酸塩を使用することが好ましい。
【0017】本発明におけるスルホ化は、アミンの亜硫
酸塩とハロゲン化合物(II)を反応させることにより
実施することができ、必要に応じて適当な溶媒中で反応
させても何ら問題はない。その溶媒としては、水を好適
に用いることができるが、必要に応じ、水に有機溶媒を
加えた均一または不均一系溶媒を用いることができる。
用いる有機溶媒としては、本反応を阻害しないものであ
れば特に限定されないが、特に、メタノ−ル;エタノ−
ル;イソプロピルアルコ−ル;シクロヘキサノ−ル;ヘ
プタノ−ル;ベンジルアルコ−ル;1−フェニルエチル
アルコ−ル;1−ナフチルアルコ−ル等の脂肪族あるい
は芳香族アルコ−ル類、アセトン;メチルエチルケト
ン;シクロヘキサン等のケトン類、エチルエ−テル;イ
ソプロピルエ−テル;ジオキサン;THF等のエ−テル
類、n−ヘキサン;n−ペプタン;ベンゼン;トルエ
ン;キシレン等の脂肪族あるいは芳香族炭化水素類、ク
ロロホルム;ブロモホルム;四塩化炭素;1,2−ジク
ロロエタン;モノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類が好ましく、この他に、酢酸エチル等のエステル類
やアセトニトリル等のニトリル類、アセトアミド;ジメ
チルホルムアミド等のアミド類等も用いることができ
る。これらの有機溶媒は単独でもまた2種類以上を任意
の割合で混合して用いてもよい。その使用量は特に制限
されるものではないが、水に対して、0.1〜10倍
量、好ましくは0.2〜1倍量使用するのが適当であ
る。これらの有機溶媒を使用する場合は、ハロゲン化合
物をこれらの溶媒に溶解してから、アミンの亜硫酸塩と
反応させても、何ら問題はない。
【0018】また、本反応は、反応液に、ヨウ化カリウ
ム、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム
などのハロゲン化アルカリ金属塩をはじめ、無機または
有機塩類を添加することにより、促進させることができ
る。
【0019】本反応は、通常、0〜100℃に保ちなが
ら1〜24時間、さらに好ましくは25〜70℃で4〜
10時間を要して完結するのがよく、また、通常常圧下
で行われるが、加圧下で行うことも可能である。
【0020】反応終了後、常法に従って後処理すること
により、目的物であるスルホン酸類(I)またはその塩
を単離することができる。
【0021】例えば、本反応後、反応液にスルホン酸類
(I)の塩が結晶として析出している場合はこれを速や
かに濾取し、析出していない場合は反応液を濃縮し有機
溶媒で抽出することにより、目的とするスルホン酸類
(I)の塩を容易に得ることができる。
【0022】また、本反応後の反応液に硫酸または塩酸
を加えて、発生する過剰の亜硫酸ガスを除いた後に、ま
たは、上述した方法によって得られたスルホン酸類
(I)の塩を水に溶解した後に、これらの溶液を陽イオ
ン交換樹脂を用いて処理するか、または陽イオン交換膜
を組み合わせた電気透析等を用いて脱塩することによっ
て、目的とする遊離のスルホン酸類(I)を得ることが
できる。
【0023】また、本反応後の反応液に硫酸または塩酸
を加えて、発生する過剰の亜硫酸ガスを除いた後に、ま
たは、上述した方法によって得られた遊離のスルホン酸
類(I)に水を加えた後に、これらの溶液に金属塩や金
属酸化物等(例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、亜鉛もしくはアルミニウムの酢酸塩、炭酸塩、酸化
物、水酸化物等)またはアミンもしくはアミノ酸等を添
加して、析出した結晶を濾取することにより、目的とす
るスルホン酸類(I)の塩を容易に得ることができる。
この場合、添加する金属塩や金属酸化物等としては、酢
酸ナトリウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛または水酸
化バリウムを用いるのが特に好ましい。
【0024】このようにして得られたスルホン酸類
(I)またはその塩は、必要であれば再結晶等の常法に
より精製することができる。
【0025】また、光学活性なスルホン酸類(I)また
はその塩は、光学活性なハロゲン化合物(II)を用い
るか、あるいは、生成したラセミ型のスルホン酸類
(I)またはその塩を光学分割することによって、製す
ることができる。生成したスルホン酸類(I)またはそ
の塩の光学分割は、例えばジアステレオマー塩形成法に
従い、塩基性光学分割剤、例えば光学活性アミン類や光
学活性アミノ酸類を用いることによって、容易に実施す
ることができる。その場合、スルホ化反応における反応
液に塩基性光学分割剤を添加すれば、同じ反応器内で光
学分割も可能となり、より合理的である。
【0026】原料化合物であるハロゲン化合物(II)
は、市販のものを用いるか、あるいは、対応するヒドロ
キシ基置換化合物(IV)
【0027】
【化7】
【0028】(式中、記号は前記と同一の意味を有す
る。)を、常法に従い種々のハロゲン化試薬でハロゲン
化することによって、容易に得ることができる。例え
ば、臭化水素酸を用いる方法を適用することによってブ
ロム化合物を得ることができ、塩化水素と塩化亜鉛を用
いる方法を適用することによってクロル化合物を得るこ
とができる。また、他のハロゲン化試薬としてチオニル
クロリド、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、三臭化リ
ン、三塩化リン、五塩化リンなどを用いても、容易にハ
ロゲン化合物を得ることができる。
【0029】また、アミンの亜硫酸塩は、アミンの水溶
液に亜硫酸ガスを中性付近になるまで通じてそれを吸収
させることにより、アミン亜硫酸塩水溶液として調製す
ることができる。このようにして得られた水溶液をその
ままハロゲン化合物(II)との反応に供するのが、簡
単で好ましい方法である。
【0030】なお、本明細書において、アリール基と
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基等の芳香族炭化水素基を意味する。鎖状低級ア
ルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチ
ル基等の炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状のアルキ
ル基を意味し、環状低級アルキル基とは、シクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等の炭素数3〜8の環状アルキル基を意味する。
また、低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イ
ソブトキシ基、tert−ブトキシ基等の炭素数1〜6
の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を意味する。
【0031】
【実施例】実施例1−6 メチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた65%メチルアミン亜硫酸塩水
溶液10gに、1−フェニルエチルブロミド5.6gを
加えた。反応液を室温下で24時間撹拌した後に、反応
液中の1−フェニルエタンスルホン酸を高速液体クロマ
トグラフィ−(HPLC)により定量したところ、4.
5gであった(HPLC条件は、カラム:DEVELO
SILODS−7、4×250mm、移動相:5mM
K2HPO4/エタノール=80/20、流速:0.5
ml/min、検出:UV−254nm、温度:40
℃)。これは、原料の1−フェニルエチルブロミドに対
して、理論値の82%に相当する量である。
【0032】さらに、同様に、5種類のアミンの亜硫酸
塩を用いて反応を行い、生成した1−フェニルエタンス
ルホン酸をHPLCで定量した。
【0033】これらの結果(生成した1−フェニルエタ
ンスルホン酸の収率)を、表1に記載する。
【0034】なお、比較のため、従来法(ストレッカー
法)により、1−フェニルエチルブロミドと亜硫酸アル
カリ金属塩を反応させ、生成した1−フェニルエタンス
ルホン酸をHPLCで同様に定量した。この場合の収率
を、表2に記載する。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】実施例7−12 実施例1−6と同様に、1−フェニルプロピルブロミド
と6種類のアミンの亜硫酸塩を各々反応させて、生成し
た1−フェニル−1−プロパンスルホン酸をHPLCで
定量した。各場合の収率を、表3に記載する。
【0038】なお、比較のため、従来法(ストレッカー
法)により、1−フェニルプロピルブロミドと亜硫酸ア
ルカリ金属塩を反応させ、生成した1−フェニル−1−
プロパンスルホン酸をHPLCで同様に定量した。この
場合の収率を、表4に記載する。
【0039】
【表3】
【0040】
【表4】
【0041】実施例13 エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた66%エチルアミン亜硫酸塩水
溶液39gに、1−(4−メチルフェニル)−1−フェ
ニルメチルクロリド30.5gを加え、50℃で15時
間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出
した。次いで酢酸エチルを留去し、残渣にエ−テルを加
え結晶化したものを濾過して、1−(4−メチルフェニ
ル)−1−フェニルメタンスルホン酸・エチルアミン塩
4.8gを得た。
【0042】IR(nujol,cm-1):3380,
1600,1510,1240,1195,1040,
800 NMR(d6−DMSO)ppm:1.05(3H,t,
J=6.5Hz),2.20(3H,s),2.67(2
H,q,J=6.5Hz) 4.88(1H,s),6.8−7.5(10H,m) 実施例14 エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた66%エチルアミン亜硫酸塩水
溶液34.4gに、1−(3,4−ジメチルフェニル)
−1−フェニルメチルクロリド29gおよびエタノ−ル
50mlを加え、70℃で3時間撹拌した。以下、実施
例13と同様に処理して、1−(3,4−ジメチルフェ
ニル)−1−フェニルメタンスルホン酸・エチルアミン
塩6.3gを得た。
【0043】IR(nujol,cm-1):3380,
1610,1495,1035 NMR(d6−DMSO)ppm:1.05(3H,
t),2.12(6H,s),2.65(2H,q),4.
85(1H,s),6.8−7.5(8H,m) 実施例15 エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた70%エチルアミン亜硫酸塩水
溶液50gに、1−(2,4,5−トリメチルフェニ
ル)エチルクロリド30gおよびエタノ−ル50mlを
加え、50℃で10時間撹拌した。以下、実施例13と
同様に処理して、1−(2,4,5−トリメチルフェニ
ル)エタンスルホン酸・エチルアミン塩6.0gを得
た。
【0044】IR(nujol,cm-1):3450,
1615,1525,1245,1165,1025,
855 NMR(d6−DMSO)ppm:0.96(3H,t,
J=6.5Hz),1.74(3H,d,J=6.5H
z),2.1−2.7(11H,m),4.55(1H,
q,J=6.5Hz),6.72(2H,s),7.25
(3H,bs) 実施例16 エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた66%エチルアミン亜硫酸塩水
溶液31.6gに、1,2−ジフェニルエチルブロミド
19.2gおよびエタノ−ル40mlを加え、70℃で
4時間撹拌した。以下、実施例13と同様に処理して、
1,2−ジフェニルエタンスルホン酸・エチルアミン塩
3.7gを得た。
【0045】IR(nujol,cm-1):3400,
1620,1450,1040 NMR(d6−DMSO)ppm:1.08(3H,
t),2.73(2H,q),3.0−4.0(3H,
m),6.8−7.3(10H,m) 実施例17 エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた70%エチルアミン亜硫酸塩水
溶液54.6gに、1−フェニル−1−シクロヘキシル
メチルクロリド31.4gおよびエタノ−ル50mlを
加え、70℃で15時間撹拌した。以下、実施例13と
同様に処理して、1−フェニル−1−シクロヘキシルメ
タンスルホン酸・エチルアミン塩17.1gを得た。
【0046】IR(nujol,cm-1):3440,
1610,1190,1050 NMR(d6−DMSO)ppm:1.10(3H,t) 実施例18 メチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7になる
まで吹き込んで得られた64%メチルアミン亜硫酸塩水
溶液18.2gに、1−(4−クロロフェニル)−1−
フェニルメチルブロリド20gおよびエタノ−ル40m
lを加え、50℃で4時間撹拌し、次いで2時間還流し
た。反応液を濃縮し、トルエンを加え室温下で24時間
静置後、析出晶を濾過後乾燥し、1−(4−クロロフェ
ニル)−1−フェニルメタンスルホン酸・メチルアミン
塩2.6gを得た。
【0047】IR(nujol,cm-1):3500,
1650,1530,1490,1225,1190,
1045,795 NMR(d6−DMSO)ppm:2.32(3H,
d),5.08(1H,s),7.2−7.7(10H,
m) 実施例19 (1)エチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7
になるまで吹き込んで得られた66%エチルアミン亜硫
酸塩水溶液34.3gに、1−(4−メトキシフェニ
ル)−1−フェニルメチルクロリド28.6gおよびエ
タノ−ル50mlを加え、50〜70℃で4時間撹拌し
た。以下、実施例13と同様に処理して、1−(4−メ
トキシフェニル)−1−フェニルメタンスルホン酸・エ
チルアミン塩11gを得た。
【0048】IR(nujol,cm-1):3380,
1610,1510,1300,1140,1030,
800 NMR(d6−DMSO)ppm:1.05(3H,t,
J=6.5Hz),2.66(2H,q,J=6.5H
z),3.63(3H,s),4.90(1H,s),
6.6−7.5(11H,m) (2)1−(4−メトキシフェニル)−1−フェニルメ
タンスルホン酸・エチルアミン塩11gを水100ml
に溶解し、強酸性イオン交換樹脂55mlを充填したカ
ラムに通液した。流出液を濃縮することにより、1−
(4−メトキシフェニル)−1−フェニルメタンスルホ
ン酸9.4gを含む濃厚溶液を得た。
【0049】実施例20 ジメチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜7にな
るまで吹き込んで得られた60.2%ジメチルアミン亜
硫酸塩水溶液57.6gに、1−(1−ナフチル)エチ
ルブロミド36.8gを加え、50〜60℃で4日間撹
拌した。この反応液をHPLCで測定した結果(測定条
件は実施例1に同じ)、1−(1−ナフチル)エタンス
ルホン酸18gが含まれていた。この1−(1−ナフチ
ル)エタンスルホン酸溶液を水100mlに溶解し、強
酸性イオン交換樹脂を充填したカラムに通液し、流出液
を濃縮することにより、1−(1−ナフチル)エタンス
ルホン酸9.4gを含む濃厚溶液を得た。
【0050】IR(film,cm-1):3050,1
700,1600,1515,1360,1170,9
00,777 NMR(D2O)ppm:1.83(3H,d,J=7H
z),5.19(1H,q,J=7Hz) ,7.55−
8.30(7H,m) 実施例21 (1)ジメチルアミンの水溶液に亜硫酸ガスをpH6〜
7になるまで吹き込んで得られた61.1%ジメチルア
ミン亜硫酸塩水溶液2.8gに、ベンジルブロミド1.
7gを加え、50〜60℃で1日間撹拌した。反応液に
水20mlを加え、浮遊する油状物をトルエンで抽出し
て除去し、フェニルメタンスルホン酸・ジメチルアミン
塩を含む水溶液を得た。この水溶液を、強酸性イオン交
換樹脂45mlを充填したカラムに通液し、流出液を濃
縮することにより、油状のフェニルメタンスルホン酸
1.94gを得た。
【0051】(2)フェニルメタンスルホン酸1.94
gに水2.3gおよびD−p−ヒドロキシフェニルグリ
シン0.49gを加え加熱溶解後、20℃で2時間撹拌
した。析出晶を濾過後乾燥し、フェニルメタンスルホン
酸・D−p−ヒドロキシフェニルグリシン塩0.49g
を得た。
【0052】IR(KBr,cm-1):3066,17
43,1602,1250,1152,835,697 NMR(D2O)ppm:3.70(2H,s),4.9
5(1H,s),6.79−7.29(9H,m),8.5
7(3H,s) 実施例22 47%ジメチルアミン水溶液54.7gに亜硫酸ガス1
8.3gを吸収させた溶液に、1−フェニルエチルブロ
ミド35.2gを加え、30〜35℃で4時間撹拌し
た。反応液に水50mlを加え、浮遊する油状物をトル
エンで抽出して除去し、1−フェニルエタンスルホン酸
・ジメチルアミン塩34gを含む水溶液200gを得
た。この溶液に濃硫酸21.8gを滴下し、次いで70
℃に加熱下、D−p−ヒドロキシフェニルグリシン1
2.8gを加え、徐冷後20℃で2時間撹拌した。析出
晶を濾過後乾燥し、(+)−1−フェニルエタンスルホ
ン酸・D−p−ヒドロキシフェニルグリシン塩24.3
gを得た。
【0053】[α]D 25−75.0(c=1,MeOH) IR(nujol,cm-1):3050,1740,1
600,1140 NMR(d6−DMSO)ppm:1.48(3H,
d,J=7Hz),3.72(1H,q,J=7H
z),4.97(1H,s),6.8−7.5(9H,
m),8.7(2H,br)
【0054】
【発明の効果】本発明によれば、染料・界面活性剤・農
薬・医薬の原料および塩基性ラセミ化合物の光学分割剤
として有用である、スルホン酸類またはその塩を、高い
収率で製造することができる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(II) 【化1】 (式中、R1、R2およびR3は、同一又は異なって、水
    素原子;置換されていてもよい鎖状低級アルキル基;置
    換されていてもよい環状低級アルキル基;置換されてい
    てもよいアリール基;またはアミノ基を表し、nは0〜
    6の整数、Xはハロゲン原子を表す。)で示されるハロ
    ゲン化合物を、アミンの亜硫酸塩を用いてスルホ化し、
    所望によりその塩とすることを特徴とする、一般式
    (I) 【化2】 (式中、記号は前記と同一の意味を有する。)で示され
    るスルホン酸類またはその塩の製法。
  2. 【請求項2】 R1、R2およびR3が、同一又は異なっ
    て、水素原子;フェニル基で置換されていてもよい鎖状
    低級アルキル基;環状低級アルキル基;または、鎖状低
    級アルキル基、低級アルコキシ基およびハロゲン原子か
    ら選ばれる1〜3個の基で置換されていてもよいアリー
    ル基であり、nが0であり、Xが臭素原子または塩素原
    子である、請求項1記載の製法。
  3. 【請求項3】 アリール基がフェニル基またはナフチル
    基である、請求項2記載の製法。
  4. 【請求項4】 鎖状低級アルキル基がメチル基またはエ
    チル基であり、環状低級アルキル基がシクロヘキシル基
    であり、低級アルコキシ基がメトキシ基またはエトキシ
    基である、請求項3記載の製法。
  5. 【請求項5】 アミンの亜硫酸塩が、一般式(III) 【化3】 (式中、R4は、水酸基、アミノ基およびアリール基か
    ら選ばれる基で置換されていてもよい鎖状低級アルキル
    基を表し、R5およびR6は、同一又は異なって、水素原
    子;または、水酸基、アミノ基およびアリール基から選
    ばれる基で置換されていてもよい鎖状低級アルキル基を
    表す。)で示されるアミンの亜硫酸塩である、請求項
    1、2、3または4記載の製法。
  6. 【請求項6】 R4が、水酸基またはアミノ基で置換さ
    れていてもよい鎖状低級アルキル基であり、R5および
    6が、同一又は異なって、水素原子または鎖状低級ア
    ルキル基である、請求項5記載の製法。
JP10246457A 1998-09-01 1998-09-01 スルホン酸類またはその塩の製法 Pending JP2000072739A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10246457A JP2000072739A (ja) 1998-09-01 1998-09-01 スルホン酸類またはその塩の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10246457A JP2000072739A (ja) 1998-09-01 1998-09-01 スルホン酸類またはその塩の製法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000072739A true JP2000072739A (ja) 2000-03-07

Family

ID=17148722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10246457A Pending JP2000072739A (ja) 1998-09-01 1998-09-01 スルホン酸類またはその塩の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000072739A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523954A (ja) * 2004-02-25 2007-08-23 ワイス アリール−及びヘテロアリール−アルキルスルホニルハライドの調製方法
JP2010275782A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Hitachi Plant Technologies Ltd モジュール構造物及びプラントの建設工法
CN107445871A (zh) * 2017-09-07 2017-12-08 山东汉兴医药科技有限公司 具有光学活性的α‑苯甲磺酸衍生物的制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523954A (ja) * 2004-02-25 2007-08-23 ワイス アリール−及びヘテロアリール−アルキルスルホニルハライドの調製方法
JP2010275782A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Hitachi Plant Technologies Ltd モジュール構造物及びプラントの建設工法
CN107445871A (zh) * 2017-09-07 2017-12-08 山东汉兴医药科技有限公司 具有光学活性的α‑苯甲磺酸衍生物的制备方法
CN107445871B (zh) * 2017-09-07 2020-04-14 山东汉兴医药科技有限公司 具有光学活性的α-苯甲磺酸衍生物的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4777297A (en) Process for preparing bis-(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)-sulfone derivatives
JPH0532610A (ja) 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドの製造方法
JP2000072739A (ja) スルホン酸類またはその塩の製法
EP0645365A1 (en) Process for producing 2-fluoroisobutyric acid or ester thereof
US4139555A (en) Recovery of (1-S)-2-oxo-bornane-10-sulphonate
JP2004315494A (ja) ラクトン化合物、ラクトン構造を有する含フッ素アクリレート誘導体及びそれらの製造方法
JPH05140034A (ja) o−アルコキシ安息香酸の製造方法
US6046363A (en) Method of making 4-hydroxy-4'-benzyloxydiphenyl sulfone
JPS6389691A (ja) 両性界面活性剤の製造方法
JP3960048B2 (ja) 置換ベンゼン類の製造法
EP0138156B1 (en) Process for producing a halogen-containing ethylbenzene derivative
JP2988856B2 (ja) 1,2−インダンジオール類の製造方法
JPH05306261A (ja) ジ炭酸ジアルキルエステルの製造方法
JPS5931731A (ja) カルボン酸誘導体の新規製造法
JPH05320126A (ja) 2−アミノ−5−ニトロチオベンズアミドの製造法
JP2004256447A (ja) ラクトン構造を有する含フッ素アクリレート誘導体及びその製造方法
JP2708617B2 (ja) 4,4―ジアルキル置換チアゾリジンチオンの製造方法
JP2000086610A (ja) シアノ安息香酸アミドの製造方法
JP3936771B2 (ja) ジフェニルスルホン架橋型化合物の製造方法、その中間体およびその製法
JPS60252453A (ja) β−クロロアラニンの製造法
JPS6053038B2 (ja) テトラミゾ−ル又はその酸付加塩を製造する方法
JPH03130238A (ja) 1,1,1,2,2―ペンタフルオロ―3,3―ジクロロプロパンの製造方法
JPH0782239A (ja) 2−(2’,6’−ジメチルフェニル)アミノ−8−ヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸の製造法
JPH03141251A (ja) 1―メチルメルカプト―1―ベンゾイル―2―(n,n―ジメチルアミノ)エテン誘導体およびその製造法
JPH0776557A (ja) 第4アンモニウム化合物の製造方法