JP2000071173A - 基板の機械研磨のための研磨懸濁液を送り出す装置 - Google Patents
基板の機械研磨のための研磨懸濁液を送り出す装置Info
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
- B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Air Transport Of Granular Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多大なメンテナンスを要せず、必要なときに
利用することが可能な研磨懸濁液を分配する装置を提供
する。 【解決手段】 研磨懸濁液を収容するタンクと、タンク
に接続された、研磨懸濁液を送り出すためのループと、
研磨懸濁液をループ内で循環させてタンクへ戻すことを
保証する循環手段と、ループ内を循環した後の研磨懸濁
液を回収する回収手段と、懸濁液の連続した循環を維持
するために循環手段を制御する手段とを備えることを特
徴とする研磨懸濁液の送り出し装置。
利用することが可能な研磨懸濁液を分配する装置を提供
する。 【解決手段】 研磨懸濁液を収容するタンクと、タンク
に接続された、研磨懸濁液を送り出すためのループと、
研磨懸濁液をループ内で循環させてタンクへ戻すことを
保証する循環手段と、ループ内を循環した後の研磨懸濁
液を回収する回収手段と、懸濁液の連続した循環を維持
するために循環手段を制御する手段とを備えることを特
徴とする研磨懸濁液の送り出し装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を機械研磨す
るための研磨懸濁液（ａｂｒａｓｉｖｅ ｓｕｓｐｅｎ
ｓｉｏｎ）を送り出すための装置および方法に関する。
るための研磨懸濁液（ａｂｒａｓｉｖｅ ｓｕｓｐｅｎ
ｓｉｏｎ）を送り出すための装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】シリカ懸濁液またはアルミナ懸濁液を、
シリコンウェハーの裏面および表面の研磨に用いること
は、半導体業界、オプトエレクトロニクス業界、および
光学業界においては珍しいことではなくなる傾向にあ
る。この生成物（ｐｒｏｄｕｃｔ）を供給ドラムから種
々の使用場所へどのようにして送り出すか（ｄｅｌｉｖ
ｅｒ）という問題が当然起こる。このような懸濁液は、
シリコンウェハー上にすでに堆積された金属層の研磨に
用いられることもあり、この場合には、これらの懸濁液
は前出の懸濁液とは異なる物理的または化学的な特性を
有する場合がある。
シリコンウェハーの裏面および表面の研磨に用いること
は、半導体業界、オプトエレクトロニクス業界、および
光学業界においては珍しいことではなくなる傾向にあ
る。この生成物（ｐｒｏｄｕｃｔ）を供給ドラムから種
々の使用場所へどのようにして送り出すか（ｄｅｌｉｖ
ｅｒ）という問題が当然起こる。このような懸濁液は、
シリコンウェハー上にすでに堆積された金属層の研磨に
用いられることもあり、この場合には、これらの懸濁液
は前出の懸濁液とは異なる物理的または化学的な特性を
有する場合がある。
【０００３】物理化学的な（ｐｈｙｓｉｃｏ−ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ）特性、粘度、固形分、およびｐＨは、これら
の懸濁液が定期的に攪拌しないと容易に固化し易くなる
ことに貢献する。その結果、これらの懸濁液を送り出す
パイプは懸濁液の固化によってしばしば詰まり、シリコ
ンウェハーの研磨は、固化したシリカまたはアルミナの
かたまりが分離するために深いひっかき傷を特徴とする
欠陥を呈する。このため、送り出しパイプは頻繁に交換
しなければならず、その結果、運転コストが高くなり、
装置の利用レベルが非常に低くなる。
ｉｃａｌ）特性、粘度、固形分、およびｐＨは、これら
の懸濁液が定期的に攪拌しないと容易に固化し易くなる
ことに貢献する。その結果、これらの懸濁液を送り出す
パイプは懸濁液の固化によってしばしば詰まり、シリコ
ンウェハーの研磨は、固化したシリカまたはアルミナの
かたまりが分離するために深いひっかき傷を特徴とする
欠陥を呈する。このため、送り出しパイプは頻繁に交換
しなければならず、その結果、運転コストが高くなり、
装置の利用レベルが非常に低くなる。
【０００４】シリコンウェハーの化学的および／または
機械的研磨のプロセスにおいて研磨懸濁液（またはスラ
リー）を送り出す種々の方法は、以下のように要約する
ことができる。
機械的研磨のプロセスにおいて研磨懸濁液（またはスラ
リー）を送り出す種々の方法は、以下のように要約する
ことができる。
【０００５】これらの研磨懸濁液を送り出す最も普通の
方法は、生成物を使用場所へ運ぶパイプに接続されたポ
ンプを使用することからなる。しかし、研磨懸濁液の性
質によって、特に、一方で研磨粒子を含み、他方で非常
に酸性のまたは非常に塩基性のｐＨを有するために、使
用するポンプが非常に急速に劣化し、非常に深刻なメン
テナンスの問題を引き起こす。これらの送り出しシステ
ムが動作できるのは短い間だけで、ほとんどの時間は回
路の交換、回路からの障害物の除去、および回路の保守
に費やされる。ポリテトラフルオロエチレンを使用する
ポンプを用いても、これらのポンプのダイヤフラムは２
ないし３ヶ月ごとに交換しなければならない。
方法は、生成物を使用場所へ運ぶパイプに接続されたポ
ンプを使用することからなる。しかし、研磨懸濁液の性
質によって、特に、一方で研磨粒子を含み、他方で非常
に酸性のまたは非常に塩基性のｐＨを有するために、使
用するポンプが非常に急速に劣化し、非常に深刻なメン
テナンスの問題を引き起こす。これらの送り出しシステ
ムが動作できるのは短い間だけで、ほとんどの時間は回
路の交換、回路からの障害物の除去、および回路の保守
に費やされる。ポリテトラフルオロエチレンを使用する
ポンプを用いても、これらのポンプのダイヤフラムは２
ないし３ヶ月ごとに交換しなければならない。
【０００６】化学物質の真空送出システムが、ＵＳ５、
１４８、９４５および５、３３０、０７２によって知ら
れている。これらにおいては、ポンプを用いる代わりに
中間の容器を用いており、中間容器を真空状態で連続し
て配置して化学物質を吸い出し、そして加圧して強制的
に使用場所へ送る。このようなシステムはポンプを使用
してはいないが、このようなシステムでは特に表面上の
金属を除去するために用いられるような研磨懸濁液を送
り出すことは不可能である。それは、このような懸濁液
は固化するまでの寿命が極めて短く、また非常に腐食性
だからである。
１４８、９４５および５、３３０、０７２によって知ら
れている。これらにおいては、ポンプを用いる代わりに
中間の容器を用いており、中間容器を真空状態で連続し
て配置して化学物質を吸い出し、そして加圧して強制的
に使用場所へ送る。このようなシステムはポンプを使用
してはいないが、このようなシステムでは特に表面上の
金属を除去するために用いられるような研磨懸濁液を送
り出すことは不可能である。それは、このような懸濁液
は固化するまでの寿命が極めて短く、また非常に腐食性
だからである。
【０００７】また、まず第一に測定容器を備える装置
が、出願ＷＯ９６／０２３１９に記載されている。この
測定容器の中に研磨懸濁液で用いられる種々の化学物質
を交互に取り入れる。前記化学物質はこの測定容器内で
定量的に測定され、各化学物質は測定の後に混合容器へ
送られて、そこでは懸濁液のすべての化合物がその場で
混合される。この混合容器自体は、負圧または真空とな
っていて混合容器内の懸濁液を吸い出してそれを研磨懸
濁液を送り出すための種々のステーションへ送る容器に
接続されている。
が、出願ＷＯ９６／０２３１９に記載されている。この
測定容器の中に研磨懸濁液で用いられる種々の化学物質
を交互に取り入れる。前記化学物質はこの測定容器内で
定量的に測定され、各化学物質は測定の後に混合容器へ
送られて、そこでは懸濁液のすべての化合物がその場で
混合される。この混合容器自体は、負圧または真空とな
っていて混合容器内の懸濁液を吸い出してそれを研磨懸
濁液を送り出すための種々のステーションへ送る容器に
接続されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】現時点において、多大
なメンテナンスを要せず、必要なときに利用することが
可能な研磨懸濁液を分配する装置が必要とされている。
なメンテナンスを要せず、必要なときに利用することが
可能な研磨懸濁液を分配する装置が必要とされている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る装置は、送
り出すべき研磨懸濁液が収められるタンクと、その２つ
の端部において送り出しタンクと接続された懸濁液を送
り出すためのループと、懸濁液をループ内で循環させる
ための循環手段と、ループ内を循環した後の研磨懸濁液
を回収するための回収手段と、ループ内の研磨懸濁液の
連続した循環を（好ましくは少なくとも本装置が動作
中、すなわち本装置が懸濁液を使用場所へ送り出してい
る状態において）維持するために循環手段を制御する手
段とを備えることを特徴とする。
り出すべき研磨懸濁液が収められるタンクと、その２つ
の端部において送り出しタンクと接続された懸濁液を送
り出すためのループと、懸濁液をループ内で循環させる
ための循環手段と、ループ内を循環した後の研磨懸濁液
を回収するための回収手段と、ループ内の研磨懸濁液の
連続した循環を（好ましくは少なくとも本装置が動作
中、すなわち本装置が懸濁液を使用場所へ送り出してい
る状態において）維持するために循環手段を制御する手
段とを備えることを特徴とする。
【００１０】好ましくは、使用場所へ送り出すループは
並列に配列された複数のループからなるものが使用さ
れ、好ましくは、各ループはすべてのループに共通する
少なくとも１つのアーム（ａｒｍ）を備え、複数のルー
プの端部の一方は共通アームの端部の一方と接続されて
いる。好ましくは、このループは、並列に接続された複
数のサブループとそれぞれの第１の端部の付近において
接続される２つの共通アームを備え、第１の共通アーム
はその第２の端部の付近において研磨懸濁液のタンクと
接続され、第２の共通アームはその第２の端部の付近に
おいて研磨懸濁液の回収手段と接続される。また、好ま
しくは、タンクと懸濁液の送り出し点との間の各パイプ
の長さは（ループが何であれ）ほぼ同じであり、送り出
し点と懸濁液の回収手段との間の各パイプの距離も好ま
しくはほぼ同じである。
並列に配列された複数のループからなるものが使用さ
れ、好ましくは、各ループはすべてのループに共通する
少なくとも１つのアーム（ａｒｍ）を備え、複数のルー
プの端部の一方は共通アームの端部の一方と接続されて
いる。好ましくは、このループは、並列に接続された複
数のサブループとそれぞれの第１の端部の付近において
接続される２つの共通アームを備え、第１の共通アーム
はその第２の端部の付近において研磨懸濁液のタンクと
接続され、第２の共通アームはその第２の端部の付近に
おいて研磨懸濁液の回収手段と接続される。また、好ま
しくは、タンクと懸濁液の送り出し点との間の各パイプ
の長さは（ループが何であれ）ほぼ同じであり、送り出
し点と懸濁液の回収手段との間の各パイプの距離も好ま
しくはほぼ同じである。
【００１１】研磨懸濁液の連続で均一な循環を得るため
に、本発明に係る装置に制御手段を設けることが好まし
い。これらの制御手段は、好ましくは、パイプ内の研磨
懸濁液の圧力を制御する手段か、または前記パイプ内の
研磨懸濁液の流速（ｆｌｏｗｒａｔｅ）を制御する手段
（または任意だが両方の組合わせ）である。好ましく
は、研磨懸濁液が送り出しパイプの壁に堆積する（これ
によりパイプが塞がる）のを防ぐための送り出しパイプ
内での最小の流速を選ぶ。このことは、実際上、本発明
の重要な利点の１つで、すなわち、このようにして、パ
イプが塞がること（これは現在知られているプラントに
存在する重要な問題である）を防ぐことである。研磨懸
濁液を連続してパイプ内で好ましくは約０．２ｍ／ｓ以
上の速さ、および好ましくは約１０ｍ／ｓ以下の速さで
循環させることで、これらのパイプが塞がることによる
問題が防がれる。パイプの塞がりは、しばしば研磨懸濁
液が固まることおよび／または凝固することから生じ
る。好ましくは、流速は約０．５ｍ／ｓないし約２ｍ／
ｓであり、より好ましくは約１ないし１．２ｍ／ｓであ
る。
に、本発明に係る装置に制御手段を設けることが好まし
い。これらの制御手段は、好ましくは、パイプ内の研磨
懸濁液の圧力を制御する手段か、または前記パイプ内の
研磨懸濁液の流速（ｆｌｏｗｒａｔｅ）を制御する手段
（または任意だが両方の組合わせ）である。好ましく
は、研磨懸濁液が送り出しパイプの壁に堆積する（これ
によりパイプが塞がる）のを防ぐための送り出しパイプ
内での最小の流速を選ぶ。このことは、実際上、本発明
の重要な利点の１つで、すなわち、このようにして、パ
イプが塞がること（これは現在知られているプラントに
存在する重要な問題である）を防ぐことである。研磨懸
濁液を連続してパイプ内で好ましくは約０．２ｍ／ｓ以
上の速さ、および好ましくは約１０ｍ／ｓ以下の速さで
循環させることで、これらのパイプが塞がることによる
問題が防がれる。パイプの塞がりは、しばしば研磨懸濁
液が固まることおよび／または凝固することから生じ
る。好ましくは、流速は約０．５ｍ／ｓないし約２ｍ／
ｓであり、より好ましくは約１ないし１．２ｍ／ｓであ
る。
【００１２】この研磨懸濁液を循環させるために、ポン
プを用いることが好ましい。それは、研磨懸濁液の連続
した循環を維持する間循環ポンプを用いることで、従来
技術のポンプにおいて通常生じる問題、すなわちフィル
ターの塞がり、ポンプの詰まりなどが回避されることが
認められたからである。しかし、本発明に係る装置の信
頼性を最大にするためには、２つの循環ポンプを並列に
配置して、２つのポンプのそれぞれはその能力の約（そ
して最大）５０％のみで動作することが好ましい。この
ことは、２つのポンプのうちの一方が故障したときに、
本装置の通常動作を、その能力の１００％で動作する１
つのポンプを用いて続けることができることを意味す
る。もちろん、この場合、ポンプの一方が詰まりもしく
は不良であるとき、またはポンプの一方から出ていく材
料の流れが事実上ゼロであるときを示す警報器を設け
る。
プを用いることが好ましい。それは、研磨懸濁液の連続
した循環を維持する間循環ポンプを用いることで、従来
技術のポンプにおいて通常生じる問題、すなわちフィル
ターの塞がり、ポンプの詰まりなどが回避されることが
認められたからである。しかし、本発明に係る装置の信
頼性を最大にするためには、２つの循環ポンプを並列に
配置して、２つのポンプのそれぞれはその能力の約（そ
して最大）５０％のみで動作することが好ましい。この
ことは、２つのポンプのうちの一方が故障したときに、
本装置の通常動作を、その能力の１００％で動作する１
つのポンプを用いて続けることができることを意味す
る。もちろん、この場合、ポンプの一方が詰まりもしく
は不良であるとき、またはポンプの一方から出ていく材
料の流れが事実上ゼロであるときを示す警報器を設け
る。
【００１３】本発明の特に好ましい他の態様によれば、
ポンプの使用を回避するために、特に研磨懸濁液の腐食
性が高いときに、懸濁液を加圧されたガス、好ましくは
窒素および／またはアルゴンおよび／またはヘリウムの
ような加圧された不活性ガスを用いて循環させる。しか
し、この場合には、とにかくパイプが詰まる場合がある
ことが観察されている。出願人は、加圧ガスを用いて循
環させる場合には、このような詰まりは、循環に用いる
加圧ガスが最小の相対湿度にあることを保証することに
よって回避できることを見出している。この目的のため
に、脱イオン水（電子用途で要求される純度特性をすべ
て有する）を不活性ガス中で、このガスをパイプ内へ注
入する前に、気化させるかまたは霧状にして、ガス中の
十分な湿度を保つことが好ましい。こうして、研磨懸濁
液の乾きを防ぎ、フィルターの詰まりを防ぐ。通常使用
する上述の速度の限度内において、適切な水分濃度（ｗ
ａｔｅｒ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）を加圧ガス中
で用いることで、わずかなパイプの詰まりも防止され
る。
ポンプの使用を回避するために、特に研磨懸濁液の腐食
性が高いときに、懸濁液を加圧されたガス、好ましくは
窒素および／またはアルゴンおよび／またはヘリウムの
ような加圧された不活性ガスを用いて循環させる。しか
し、この場合には、とにかくパイプが詰まる場合がある
ことが観察されている。出願人は、加圧ガスを用いて循
環させる場合には、このような詰まりは、循環に用いる
加圧ガスが最小の相対湿度にあることを保証することに
よって回避できることを見出している。この目的のため
に、脱イオン水（電子用途で要求される純度特性をすべ
て有する）を不活性ガス中で、このガスをパイプ内へ注
入する前に、気化させるかまたは霧状にして、ガス中の
十分な湿度を保つことが好ましい。こうして、研磨懸濁
液の乾きを防ぎ、フィルターの詰まりを防ぐ。通常使用
する上述の速度の限度内において、適切な水分濃度（ｗ
ａｔｅｒ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）を加圧ガス中
で用いることで、わずかなパイプの詰まりも防止され
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明は、図面とともに以下の態
様によってより明瞭に理解される。以下の態様は、例と
して与えられたものであり、本発明を何ら限定するもの
ではない。
様によってより明瞭に理解される。以下の態様は、例と
して与えられたものであり、本発明を何ら限定するもの
ではない。
【００１５】図１において、タンク１はパイプ３によっ
て取り出される研磨懸濁液２を収容する。パイプ３は、
タンク１の壁を箇所４で通過し、このパイプに並列に配
置される２つのポンプ５および６まで続く。ポンプ５、
６の出口は再びパイプ７に一緒に接続され、パイプ７は
フィルター８に接続される。フィルター８はパイプ９に
接続される。パイプ２０、２１、．．．２２はそれぞれ
箇所１０、１１、．．．１２に接続され、これらのパイ
プの他端３０、３１、．．．３２は、それぞれ研磨懸濁
液をタンク１に戻すパイプ４０に一緒に接続されてい
る。このパイプ４０は前記タンクの壁を箇所４１で通過
して、このタンク１に収容される懸濁液２に至ってい
る。充填用タンク４２がタンク１と並列に配置され、パ
イプ４３によってタンク１に接続されて、あらゆる状況
下で、予め決めたある最小値を常に上回るレベルがタン
ク１内において維持される。この補助的なタンク４２
は、特に研磨懸濁液の粘度を調整するために用いられ
る。
て取り出される研磨懸濁液２を収容する。パイプ３は、
タンク１の壁を箇所４で通過し、このパイプに並列に配
置される２つのポンプ５および６まで続く。ポンプ５、
６の出口は再びパイプ７に一緒に接続され、パイプ７は
フィルター８に接続される。フィルター８はパイプ９に
接続される。パイプ２０、２１、．．．２２はそれぞれ
箇所１０、１１、．．．１２に接続され、これらのパイ
プの他端３０、３１、．．．３２は、それぞれ研磨懸濁
液をタンク１に戻すパイプ４０に一緒に接続されてい
る。このパイプ４０は前記タンクの壁を箇所４１で通過
して、このタンク１に収容される懸濁液２に至ってい
る。充填用タンク４２がタンク１と並列に配置され、パ
イプ４３によってタンク１に接続されて、あらゆる状況
下で、予め決めたある最小値を常に上回るレベルがタン
ク１内において維持される。この補助的なタンク４２
は、特に研磨懸濁液の粘度を調整するために用いられ
る。
【００１６】また、パイプ４５によってタンク１に接続
された、加圧されたガスを注入するための手段４４が設
けられている。ガスは、例えば、所望の用途に適合した
純度、特にＮ５０タイプまたはそれ以上の純度を有する
不活性ガス、好ましくは窒素である。接続１０と３０、
１１と３１、．．１２と３２との間のそれぞれに、研磨
懸濁液をそれぞれバルブ７０、７１、．．７２を通して
使用場所６０、６１、．．６２へそれぞれ送り出す箇所
Ｂ、Ｃ、．．Ｄが、それぞれ設けられている。同じ直径
のパイプを種々のループ２０、２１、．．２２内でそれ
ぞれ使用することが好ましく、同じ距離が箇所４と箇所
Ｂ、Ｃ、Ｄとの間でそれぞれ保たれる（または、直径が
異なるときには、それぞれのラインでの損失水頭（ｈｅ
ａｄ ｌｏｓｓ）が同一となるような長さ）。こうし
て、それぞれ箇所Ｂ、Ｃ、．．Ｄでの研磨懸濁液の圧力
であるＰa、Ｐb、．．Ｐcがほぼ等しくなり、生成物を
均一に送り出すことが可能になる。また本装置は、箇所
３２と箇所４１との間のライン４０上に圧力検出器８０
を備え、検出器８０はＰＩＤ（比例／積分／微分）タイ
プの制御システム８１に電気的に接続されている。制御
システム８１自体は、ライン８３および８４をそれぞれ
介して、ポンプ５および６にそれぞれ電気的に接続され
ている。圧力は、ＰＩＤ８１で設定された設定圧力に等
しい圧力に保たれなければならない。検出器８０によっ
て検出される圧力が、表示された圧力を下回るときに
は、ポンプ５および６のポンピング圧力を増加させるよ
うに電気信号がＰＩＤによって発生させられる。圧力検
出器８０によって測定される圧力が、再びＰＩＤ８１で
表示される圧力以上になるときには、ＰＩＤ８１は、ポ
ンプ５および６のポンピング圧力を圧力の設定値に対応
する値に戻すように、ライン８３および８４を通してポ
ンプ５および６に送る信号を修正する。逆に、圧力検出
器がＰＩＤ８１で表示される設定圧力を上回る圧力を検
出するときには、ＰＩＤはポンプのポンピング圧力を、
適切な電気信号をポンプ５および６へ送ることで下げ
る。
された、加圧されたガスを注入するための手段４４が設
けられている。ガスは、例えば、所望の用途に適合した
純度、特にＮ５０タイプまたはそれ以上の純度を有する
不活性ガス、好ましくは窒素である。接続１０と３０、
１１と３１、．．１２と３２との間のそれぞれに、研磨
懸濁液をそれぞれバルブ７０、７１、．．７２を通して
使用場所６０、６１、．．６２へそれぞれ送り出す箇所
Ｂ、Ｃ、．．Ｄが、それぞれ設けられている。同じ直径
のパイプを種々のループ２０、２１、．．２２内でそれ
ぞれ使用することが好ましく、同じ距離が箇所４と箇所
Ｂ、Ｃ、Ｄとの間でそれぞれ保たれる（または、直径が
異なるときには、それぞれのラインでの損失水頭（ｈｅ
ａｄ ｌｏｓｓ）が同一となるような長さ）。こうし
て、それぞれ箇所Ｂ、Ｃ、．．Ｄでの研磨懸濁液の圧力
であるＰa、Ｐb、．．Ｐcがほぼ等しくなり、生成物を
均一に送り出すことが可能になる。また本装置は、箇所
３２と箇所４１との間のライン４０上に圧力検出器８０
を備え、検出器８０はＰＩＤ（比例／積分／微分）タイ
プの制御システム８１に電気的に接続されている。制御
システム８１自体は、ライン８３および８４をそれぞれ
介して、ポンプ５および６にそれぞれ電気的に接続され
ている。圧力は、ＰＩＤ８１で設定された設定圧力に等
しい圧力に保たれなければならない。検出器８０によっ
て検出される圧力が、表示された圧力を下回るときに
は、ポンプ５および６のポンピング圧力を増加させるよ
うに電気信号がＰＩＤによって発生させられる。圧力検
出器８０によって測定される圧力が、再びＰＩＤ８１で
表示される圧力以上になるときには、ＰＩＤ８１は、ポ
ンプ５および６のポンピング圧力を圧力の設定値に対応
する値に戻すように、ライン８３および８４を通してポ
ンプ５および６に送る信号を修正する。逆に、圧力検出
器がＰＩＤ８１で表示される設定圧力を上回る圧力を検
出するときには、ＰＩＤはポンプのポンピング圧力を、
適切な電気信号をポンプ５および６へ送ることで下げ
る。
【００１７】また、本装置は流れ調整システムを、単独
で（ＰＩＤを伴う圧力検出器を有することなく）または
圧力検出器に加えて、備えていても良い。この流れ調整
システムは、特に、研磨懸濁液の溶液の流速を測定する
こと、および測定値を設定値と比較すること、そして測
定した流速と表示された流速とを比較した後に、対応す
る電気信号をポンプ５および６に送って前記ポンプの出
力を増加または減少させることからなる。
で（ＰＩＤを伴う圧力検出器を有することなく）または
圧力検出器に加えて、備えていても良い。この流れ調整
システムは、特に、研磨懸濁液の溶液の流速を測定する
こと、および測定値を設定値と比較すること、そして測
定した流速と表示された流速とを比較した後に、対応す
る電気信号をポンプ５および６に送って前記ポンプの出
力を増加または減少させることからなる。
【００１８】図２は、図１の装置の代替である態様を示
し、図２においては特に研磨懸濁液を貯蔵する少なくと
も２つのタンクが使用され、これらは並列に接続されて
交互に使用される。つまり、一方のタンクが空となり、
この状態が例えば水位検出器によって検出されるときに
は、研磨懸濁液の循環を中断することを必要とせずに第
２のタンクを自動的に動作させることができる。その結
果、凝固およびパイプの閉塞の問題が防がれ、装置の保
守が低減される（この図２において、図１の機器と同じ
ものには同じ参照番号を付する）。
し、図２においては特に研磨懸濁液を貯蔵する少なくと
も２つのタンクが使用され、これらは並列に接続されて
交互に使用される。つまり、一方のタンクが空となり、
この状態が例えば水位検出器によって検出されるときに
は、研磨懸濁液の循環を中断することを必要とせずに第
２のタンクを自動的に動作させることができる。その結
果、凝固およびパイプの閉塞の問題が防がれ、装置の保
守が低減される（この図２において、図１の機器と同じ
ものには同じ参照番号を付する）。
【００１９】２つのパイプ１０１と１１９は、開閉が制
御されたバルブ（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ−ｏｐｅｎｉｎ
ｇ ｖａｌｖｅｓ）１０３と１０２、およびパイプ１１
３と１１８とをそれぞれ介して、研磨懸濁液タンク１１
２と１１５とにそれぞれ接続され、箇所１２６で接合さ
れている。図２において、タンク１１２は例えば窒素の
ような不活性ガス（シリコンウェハーの研磨への懸濁液
の使用に対して「電子的（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ）」な
純度の、または超純粋（ｕｌｔｒａｐｕｒｅ）である）
によって加圧されて、懸濁液１２７の上方の空間１１４
における圧力は例えば約３バールとなっている。タンク
１１２が空のときには、懸濁液がバルブ１１１（充填す
るときには開いており、使用中は閉じている−下記参
照）およびパイプ１２８（戻りタンク１３１内の貯蔵液
（ｒｅｓｅｒｖｅ）の箇所１２９に至っている）を介し
て供給される。同様に、タンク１１５の底部はパイプ１
１７、バルブ１１６およびパイプ１２０を介してパイプ
１２８に接続され、タンク１１５が空のときにタンク１
１５を充填し（バルブ１１６が開でバルブ１１１が
閉）、またバルブ１１１が開でバルブ１１６が閉のとき
にタンク１１２を充填する（またはバルブ１１１および
１１６が閉のときにはどちらも充填しない）。
御されたバルブ（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ−ｏｐｅｎｉｎ
ｇ ｖａｌｖｅｓ）１０３と１０２、およびパイプ１１
３と１１８とをそれぞれ介して、研磨懸濁液タンク１１
２と１１５とにそれぞれ接続され、箇所１２６で接合さ
れている。図２において、タンク１１２は例えば窒素の
ような不活性ガス（シリコンウェハーの研磨への懸濁液
の使用に対して「電子的（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ）」な
純度の、または超純粋（ｕｌｔｒａｐｕｒｅ）である）
によって加圧されて、懸濁液１２７の上方の空間１１４
における圧力は例えば約３バールとなっている。タンク
１１２が空のときには、懸濁液がバルブ１１１（充填す
るときには開いており、使用中は閉じている−下記参
照）およびパイプ１２８（戻りタンク１３１内の貯蔵液
（ｒｅｓｅｒｖｅ）の箇所１２９に至っている）を介し
て供給される。同様に、タンク１１５の底部はパイプ１
１７、バルブ１１６およびパイプ１２０を介してパイプ
１２８に接続され、タンク１１５が空のときにタンク１
１５を充填し（バルブ１１６が開でバルブ１１１が
閉）、またバルブ１１１が開でバルブ１１６が閉のとき
にタンク１１２を充填する（またはバルブ１１１および
１１６が閉のときにはどちらも充填しない）。
【００２０】加圧窒素の供給源１２１によって、バルブ
１０８および１１０をそれぞれ介して、懸濁液の上方の
ガス圧を制御することが可能であり（これらのバルブ
は、当該技術分野に精通する者には良く知られている
「比例」（Ｐ）、「積分」（Ｉ）、「微分」（Ｄ）また
は「ＰＩＤ」タイプの制御装置８１によって制御され
る）、圧力を例えば懸濁液１２７の上方で３バール（相
対値（ｒｅｌａｔｉｖｅ））に設定して（懸濁液をパイ
プ１１３内へ押し出すため）、またタンク１１５内で０
バール（相対値）に設定してタンク１１５を懸濁液で充
填することを可能にする。また、供給源１２１がパイプ
１２３および制御されたバルブ１２２（やはりＰＩＤ８
１によって制御されていても良いし、されていなくても
良い）を介して接続されており、バルブ１２２は例えば
０．５バール（相対値）の窒素圧力を懸濁液１３０の上
方において維持する。
１０８および１１０をそれぞれ介して、懸濁液の上方の
ガス圧を制御することが可能であり（これらのバルブ
は、当該技術分野に精通する者には良く知られている
「比例」（Ｐ）、「積分」（Ｉ）、「微分」（Ｄ）また
は「ＰＩＤ」タイプの制御装置８１によって制御され
る）、圧力を例えば懸濁液１２７の上方で３バール（相
対値（ｒｅｌａｔｉｖｅ））に設定して（懸濁液をパイ
プ１１３内へ押し出すため）、またタンク１１５内で０
バール（相対値）に設定してタンク１１５を懸濁液で充
填することを可能にする。また、供給源１２１がパイプ
１２３および制御されたバルブ１２２（やはりＰＩＤ８
１によって制御されていても良いし、されていなくても
良い）を介して接続されており、バルブ１２２は例えば
０．５バール（相対値）の窒素圧力を懸濁液１３０の上
方において維持する。
【００２１】余剰の懸濁液を戻すためのパイプ１３７
が、タンク１３１内に戻っている。
が、タンク１３１内に戻っている。
【００２２】タンク１３１にさらに供給することを保証
して、上流での懸濁液の消費を補償するために、懸濁液
１３１をパイプ１２４を介して供給する大容量のタンク
１３２が設けられている。このタンク１３２を高く上げ
て、他のタンクへ重力によって供給しても良い（任意だ
が、タンク１３２の頂部を超純粋の窒素によってパイプ
１２５を介して加圧しても良い）。このモードの輸送
は、ポンプではなくむしろガス圧力を用いており、ポン
プが動かなくなる問題を回避する。
して、上流での懸濁液の消費を補償するために、懸濁液
１３１をパイプ１２４を介して供給する大容量のタンク
１３２が設けられている。このタンク１３２を高く上げ
て、他のタンクへ重力によって供給しても良い（任意だ
が、タンク１３２の頂部を超純粋の窒素によってパイプ
１２５を介して加圧しても良い）。このモードの輸送
は、ポンプではなくむしろガス圧力を用いており、ポン
プが動かなくなる問題を回避する。
【００２３】他のいくつかのタンク、例えば１１２、１
１５も互いに並列に配置されていても良い。
１５も互いに並列に配置されていても良い。
【００２４】図１において、タンク２の容積は、装置が
好ましくは約２．５／３日の間供給を必要としない（ｓ
ｅｌｆ−ｓｕｆｆｉｃｉｅｎｔ）程度に大きい。好まし
くは、タンク２は連続して機械的に攪拌され、わずかに
過圧（１ないし３ｍｂａｒ）状態に保持されて、大気中
のＣＯ2がある種の研磨懸濁液に含まれるアンモニア水
に作用するのを防ぐ。タンクはプラスチック製で、シリ
カを固化したり、アルミナが付着する危険性がない。タ
ンクからの流出は好ましくは底部のバルブを通して行
う。ループからの戻りの流れはバルブを介して起こり、
タンクの最小レベルの下へ落ちる。タンクは容積式ポン
プを使ってシャトルドラム（ｓｈｕｔｔｌｅ ｄｒｕｍ
ｓ）から充填される。水希釈が必要なときには、これ
は、連続して水とシリカ懸濁液をスタティックミキサー
（ｓｔａｔｉｃ ｍｉｘｅｒ）内に注入して行うことが
できる。各シャトルドラム４２から放出した後、貯蔵タ
ンクへのシリカ供給回路は、ポンプとパイプも含めて、
脱イオン水によってパージされる。
好ましくは約２．５／３日の間供給を必要としない（ｓ
ｅｌｆ−ｓｕｆｆｉｃｉｅｎｔ）程度に大きい。好まし
くは、タンク２は連続して機械的に攪拌され、わずかに
過圧（１ないし３ｍｂａｒ）状態に保持されて、大気中
のＣＯ2がある種の研磨懸濁液に含まれるアンモニア水
に作用するのを防ぐ。タンクはプラスチック製で、シリ
カを固化したり、アルミナが付着する危険性がない。タ
ンクからの流出は好ましくは底部のバルブを通して行
う。ループからの戻りの流れはバルブを介して起こり、
タンクの最小レベルの下へ落ちる。タンクは容積式ポン
プを使ってシャトルドラム（ｓｈｕｔｔｌｅ ｄｒｕｍ
ｓ）から充填される。水希釈が必要なときには、これ
は、連続して水とシリカ懸濁液をスタティックミキサー
（ｓｔａｔｉｃ ｍｉｘｅｒ）内に注入して行うことが
できる。各シャトルドラム４２から放出した後、貯蔵タ
ンクへのシリカ供給回路は、ポンプとパイプも含めて、
脱イオン水によってパージされる。
【００２５】循環するべき懸濁液の研磨性のために、実
際には２つのポンプを並列して定格速度の半分で動作さ
せるのが好ましく、各ポンプは、電流（例えば４ないし
２０ｍＡ）によって制御される可変周波数（０ないし１
００Ｈｚ）の電源に接続されていることが好ましい。２
つの可変周波数の電源は、ＰＩＤコントローラー８１に
よって、制御バルブの直前のループの端部における圧力
と連動（ｓｌａｖｅｄ）している。
際には２つのポンプを並列して定格速度の半分で動作さ
せるのが好ましく、各ポンプは、電流（例えば４ないし
２０ｍＡ）によって制御される可変周波数（０ないし１
００Ｈｚ）の電源に接続されていることが好ましい。２
つの可変周波数の電源は、ＰＩＤコントローラー８１に
よって、制御バルブの直前のループの端部における圧力
と連動（ｓｌａｖｅｄ）している。
【００２６】例えばセラミックギアーポンプを選ぶこと
ができる。シールの通常の寿命を保証するために、各ポ
ンプのシャフトには２つのシールを備え付けて、シール
間の空間（ベル（ｂｅｌｌ））を非イオン水を注入する
ことによってシリカに対して過圧に保つことが好まし
い。非イオン水の供給回路は、その入口において１００
ないし２００Ｌ／ｈの較正されたオリフィスを、その出
口において１０ないし２０Ｌ／ｈの較正されたオリフィ
スを備える。ベル内の圧力は、シリカと接触する内部シ
ールにリークがないときには、一定でなければならな
い。一方、リークがあるときには、２つのシール間のベ
ル内の圧力は徐々に落ち、圧力検出器によって警報信号
が送られ、修正する処置が構成される。また、好ましく
は、ポンプが停止するときに、自動的に非イオン水によ
ってポンプがパージされるような対策がなされているこ
とが好ましい。
ができる。シールの通常の寿命を保証するために、各ポ
ンプのシャフトには２つのシールを備え付けて、シール
間の空間（ベル（ｂｅｌｌ））を非イオン水を注入する
ことによってシリカに対して過圧に保つことが好まし
い。非イオン水の供給回路は、その入口において１００
ないし２００Ｌ／ｈの較正されたオリフィスを、その出
口において１０ないし２０Ｌ／ｈの較正されたオリフィ
スを備える。ベル内の圧力は、シリカと接触する内部シ
ールにリークがないときには、一定でなければならな
い。一方、リークがあるときには、２つのシール間のベ
ル内の圧力は徐々に落ち、圧力検出器によって警報信号
が送られ、修正する処置が構成される。また、好ましく
は、ポンプが停止するときに、自動的に非イオン水によ
ってポンプがパージされるような対策がなされているこ
とが好ましい。
【００２７】これらの配置は以下のような利点を有す
る。
る。
【００２８】ポンプの回転速度が小さいために、研磨媒
体（ａｂｒａｓｉｖｅ ｍｅｄｉｕｍ）中での摩耗が少
ない。
体（ａｂｒａｓｉｖｅ ｍｅｄｉｕｍ）中での摩耗が少
ない。
【００２９】２つのポンプを使用しているため、一方の
ポンプが故障するときでも、ループ内の流速と圧力を維
持することができる。第２のポンプは自動的にその速度
を増加させて補償する。
ポンプが故障するときでも、ループ内の流速と圧力を維
持することができる。第２のポンプは自動的にその速度
を増加させて補償する。
【００３０】著しい流出があるとき、タンクへの戻りに
おいて圧力が落ち、ポンプはその速度を増加させて流速
を一定に保つ。例えば、本装置が定格出力を上回ってル
ープから流出させるときでも、自動的に補償が起こって
ループ内の流れは決して止まらない。逆に、流出が止ま
るとき、圧力は増加する傾向にあり、ＰＩＤコントロー
ラーはポンプの制御周波数を減少させる。送り出しネッ
トワーク内での圧力の変動の振幅も小さく、例えば±１
００ｇであり、このことは研磨装置内の研磨溶液を計量
する上で重要なことである。
おいて圧力が落ち、ポンプはその速度を増加させて流速
を一定に保つ。例えば、本装置が定格出力を上回ってル
ープから流出させるときでも、自動的に補償が起こって
ループ内の流れは決して止まらない。逆に、流出が止ま
るとき、圧力は増加する傾向にあり、ＰＩＤコントロー
ラーはポンプの制御周波数を減少させる。送り出しネッ
トワーク内での圧力の変動の振幅も小さく、例えば±１
００ｇであり、このことは研磨装置内の研磨溶液を計量
する上で重要なことである。
【００３１】ループ（その共通アーム７、９における）
には、フィルター８が備え付けられている。フィルター
８は、好ましくはポリプロピレンの「袋」タイプであ
り、約１００μｍを上回る大きさの材料の少なくとも９
０％を止めることが好ましい。この懸濁液の性質のため
に、このフィルターを大き目にして（ｏｖｅｒｓｉｚ
ｅ）、０．１ないし０．２ｂａｒの低減された差圧で動
作させることが好ましい。
には、フィルター８が備え付けられている。フィルター
８は、好ましくはポリプロピレンの「袋」タイプであ
り、約１００μｍを上回る大きさの材料の少なくとも９
０％を止めることが好ましい。この懸濁液の性質のため
に、このフィルターを大き目にして（ｏｖｅｒｓｉｚ
ｅ）、０．１ないし０．２ｂａｒの低減された差圧で動
作させることが好ましい。
【００３２】送り出しループから分岐するすべての回路
は、ほぼ同じ損失水頭を有する。各ループ（送り出し）
は、流出Ｔ字管（Ｔｅｅ）と戻りＴ字管とによって与え
られ、各Ｔ字管には分離バルブが取り付けられている。
「戻り」の分離バルブには、２つの機能を有する較正さ
れたオリフィスが設けられている。
は、ほぼ同じ損失水頭を有する。各ループ（送り出し）
は、流出Ｔ字管（Ｔｅｅ）と戻りＴ字管とによって与え
られ、各Ｔ字管には分離バルブが取り付けられている。
「戻り」の分離バルブには、２つの機能を有する較正さ
れたオリフィスが設けられている。
【００３３】（１）ネットワークの種々の枝に流れを同
様に分配する。
様に分配する。
【００３４】（２）オリフィスの上流側のＴ字管の付近
で起こる装置（送り出し）の各部品（ｐｉｅｃｅ）によ
る流出は、このようにして、圧力の著しい降下をもたら
さない。
で起こる装置（送り出し）の各部品（ｐｉｅｃｅ）によ
る流出は、このようにして、圧力の著しい降下をもたら
さない。
【００３５】較正されたオリフィスの直径は複数のパラ
メーターに依存する。それらは例えばループ内の流速、
ループ内の圧力、供給するべき装置の部品の数および送
り出すべき懸濁液の粘度、好ましくは０．２ないし０．
５ｍ／ｓの流速を保証してパイプの摩耗を最小にするた
めに当該技術分野に精通する者が困難なく選ぶことがで
きる要素（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）である。
メーターに依存する。それらは例えばループ内の流速、
ループ内の圧力、供給するべき装置の部品の数および送
り出すべき懸濁液の粘度、好ましくは０．２ないし０．
５ｍ／ｓの流速を保証してパイプの摩耗を最小にするた
めに当該技術分野に精通する者が困難なく選ぶことがで
きる要素（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）である。
【００３６】送り出しループは、耐摩耗性の非連動性
（ｎｏｎ−ｓｌａｖｅｄ）の制御バルブ（図示せず）、
およびこのバルブの上流側に流量計（ｆｌｏｗ ｍｅｔ
ｅｒ）９０および圧力センサー８０を備えることが好ま
しい。
（ｎｏｎ−ｓｌａｖｅｄ）の制御バルブ（図示せず）、
およびこのバルブの上流側に流量計（ｆｌｏｗ ｍｅｔ
ｅｒ）９０および圧力センサー８０を備えることが好ま
しい。
【００３７】流速は、選択された値には連動しない制御
バルブを用いて制御され、設定圧力はＰＩＤコントロー
ラー８１に表示される。コントローラー８１のパラメー
ターは、特に、流出時、スイッチオン時および／または
１つのポンプで動作する時の圧力の小さな変化の間に、
ループが満足に動作するように調整される。
バルブを用いて制御され、設定圧力はＰＩＤコントロー
ラー８１に表示される。コントローラー８１のパラメー
ターは、特に、流出時、スイッチオン時および／または
１つのポンプで動作する時の圧力の小さな変化の間に、
ループが満足に動作するように調整される。
【００３８】次のことに注意されたい。すなわち、上述
のシステムは、特に、制御されたバルブまたは質量流量
（ｍａｓｓ ｆｌｏｗ ｒａｔｅ）を制御するタイプの
装置（圧力調整器によって与えられる外部の設定値と連
動する）を介して駆動ガス（ｄｒｉｖｉｎｇ ｇａｓ）
を注入するならば、ベローまたはメンブレン空気ポンプ
（半導体業界において通常用いられている）を用いて動
作しても良い。この場合、定格出力の半分で動作する２
つのポンプを並列して用いる運転を維持して、高レベル
の利用率（ｕｔｉｌｉｚａｔｉｏｎ）を得る。
のシステムは、特に、制御されたバルブまたは質量流量
（ｍａｓｓ ｆｌｏｗ ｒａｔｅ）を制御するタイプの
装置（圧力調整器によって与えられる外部の設定値と連
動する）を介して駆動ガス（ｄｒｉｖｉｎｇ ｇａｓ）
を注入するならば、ベローまたはメンブレン空気ポンプ
（半導体業界において通常用いられている）を用いて動
作しても良い。この場合、定格出力の半分で動作する２
つのポンプを並列して用いる運転を維持して、高レベル
の利用率（ｕｔｉｌｉｚａｔｉｏｎ）を得る。
【図１】 本発明に係る装置および本発明に係る方法の
実施の第１の態様を示す図。
実施の第１の態様を示す図。
【図２】 図１の代替である態様を示す図。
１、４２、１１２、１１５、１３１、１３２…タンク ２、１２７、１３０…研磨懸濁液 ３、７、９、２０、２１、２２、４０、４３、４５、１
０１、１０２、１０３、１１３、１１７、１１８、１１
９、１２０、１２３、１２４、１２５、１２７、１２
８、１３７…パイプ ５、６…ポンプ ８…フィルター ７０、７１、７２、１０８、１１０、１１１、１１６、
１２２…バルブ ６０、６１、６２…使用場所 ２０、２１、２２…ループ ４０、８３、８４…ライン ８０…圧力検出器 ８１…ＰＩＤ制御システム ９０…流量計 １２１…窒素供給源
０１、１０２、１０３、１１３、１１７、１１８、１１
９、１２０、１２３、１２４、１２５、１２７、１２
８、１３７…パイプ ５、６…ポンプ ８…フィルター ７０、７１、７２、１０８、１１０、１１１、１１６、
１２２…バルブ ６０、６１、６２…使用場所 ２０、２１、２２…ループ ４０、８３、８４…ライン ８０…圧力検出器 ８１…ＰＩＤ制御システム ９０…流量計 １２１…窒素供給源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョルジュ・ガーネリ フランス国、38400 サン・マルタン・デ ーレ、アブニュ・スィテ・ラベージュ 29 (72)発明者 エルベ・デュルフィー フランス国、38000 グルノーブル、プラ ース・デュ・サン−アイナール ４
Claims (17)
- 【請求項１】 研磨懸濁液を収容するタンクと、 タンクに接続された、研磨懸濁液を送り出すためのルー
プと、 研磨懸濁液をループ内で循環させてタンクへ戻すことを
保証する循環手段と、 ループ内を循環した後の研磨懸濁液を回収する回収手段
と、 懸濁液の連続した循環を維持するために循環手段を制御
する手段とを備えることを特徴とする研磨懸濁液の送り
出し装置。 - 【請求項２】 使用場所へ送り出すためのループは並列
に接続された複数のループからなることを特徴とする請
求項１記載の装置。 - 【請求項３】 ループはすべてのループに共通する少な
くとも１つのアームを備え、複数のループの端部の一方
は共通アームの端部の一方と接続されていることを特徴
とする請求項２記載の装置。 - 【請求項４】 ループは２つの共通アームを備え、第１
のアームは第１の端部においてタンクに接続され、第２
のアームは第１の端部において回収手段に接続されてい
ることを特徴とする請求項３記載の装置。 - 【請求項５】 タンクと研磨溶液の送り出し点との間の
それぞれのパイプの長さは、ほぼ同じであることを特徴
とする請求項１ないし４いずれか１項記載の装置。 - 【請求項６】 送り出し点と回収手段との間のそれぞれ
のパイプの長さは、ほぼ同じであることを特徴とする請
求項１ないし５いずれか１項記載の装置。 - 【請求項７】 研磨溶液を送り出すパイプ内の圧力を制
御してループ内の前記溶液の循環を制御する手段を備え
ることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項記載
の装置。 - 【請求項８】 送り出しループの種々のアーム内の研磨
溶液の流速を制御する手段を備えることを特徴とする請
求項１ないし７いずれか１項記載の装置。 - 【請求項９】 研磨懸濁液は、送り出しパイプの壁への
懸濁液の堆積を防ぐための種々の前記送り出しパイプ内
での最小流速を有することを特徴とする請求項１ないし
８いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１０】 パイプ内の溶液の送り出し速度は約
０．２ｍ／ｓ以上であることを特徴とする請求項１ない
し９いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１１】 パイプ内の研磨懸濁液の送り出し速度
は約１０ｍ／ｓ以下であることを特徴とする請求項１な
いし１０いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１２】 研磨懸濁液の送り出し速度は好ましく
は０．５ないし２ｍ／ｓであることを特徴とする請求項
１ないし１１いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１３】 研磨懸濁液の送り出し速度は約１ｍ／
ｓないし１．２ｍ／ｓであることを特徴とする請求項１
２記載の装置。 - 【請求項１４】 研磨懸濁液の循環手段は少なくとも１
つのポンプからなることを特徴とする請求項１ないし１
３いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１５】 研磨懸濁液の循環手段は並列に設けら
れた２つのポンプからなり、それぞれはその能力の５０
％を越えずに動作して、２つのポンプのうち一方が故障
したときに研磨懸濁液の通常の送り出し動作を可能にす
ることを特徴とする請求項１ないし１４いずれか１項記
載の装置。 - 【請求項１６】 循環手段は加圧されたガス、特に窒素
のような不活性ガスからなることを特徴とする請求項１
ないし１５いずれか１項記載の装置。 - 【請求項１７】 循環手段は加圧ガスからなり、研磨懸
濁液の送り出しシステム内のフィルターの詰まりを防ぐ
ために、脱イオン水を加圧ガス中で霧状にする手段をさ
らに備えることを特徴とする請求項１６記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9810508 | 1998-08-18 | ||
| FR9810508A FR2782506B1 (fr) | 1998-08-18 | 1998-08-18 | Dispositif et procede de distribution de suspension abrasive pour le polissage mecanique de substrat |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000071173A true JP2000071173A (ja) | 2000-03-07 |
| JP4970635B2 JP4970635B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=9529747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23031099A Expired - Lifetime JP4970635B2 (ja) | 1998-08-18 | 1999-08-17 | 基板の機械研磨のための研磨懸濁液を送り出す装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6125876A (ja) |
| EP (1) | EP0980741B1 (ja) |
| JP (1) | JP4970635B2 (ja) |
| KR (1) | KR100601812B1 (ja) |
| CN (1) | CN1139106C (ja) |
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