CN109696802B - 一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 - Google Patents
一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109696802B CN109696802B CN201910041575.0A CN201910041575A CN109696802B CN 109696802 B CN109696802 B CN 109696802B CN 201910041575 A CN201910041575 A CN 201910041575A CN 109696802 B CN109696802 B CN 109696802B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- solvent
- taking
- pipeline
- liquid
- storage tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 132
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 68
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 44
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 15
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
本发明适用于光刻胶制备技术领域，提供了一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法。该溶剂生产设备包括含循环过滤组件的制备系统以及利用氮气压料方式取料的取用系统。本发明中的溶剂生产设备，通过循环过滤方式来有效过滤掉溶剂中的颗粒度，并通过氮气压料方式来进行取料，整个过程在密封或氮气环境下运行，颗粒度控制较好，可长时间保持溶剂的纯度以及可避免溶剂在使用前被环境污染。
Description
技术领域
本发明属于光刻胶制备技术领域，尤其涉及一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法。
背景技术
在半导体工业中，光刻胶是芯片及器件制造的关键材料。一般来说，光刻胶包含主体树脂、光敏剂、添加剂和溶剂等。其中主体树脂、光敏剂和添加剂在光刻胶中含量较小，光刻胶的主要成分还是溶剂。
现有技术当中，随着国家电子材料产业的发展，国产高纯电子级试剂产品不断面世。从指标上看，国内电子级试剂的金属杂质和水分含量基本能达到先进光刻胶的使用要求。但在颗粒度控制方面，还存在薄弱环节，且如何长时间保持高纯溶剂的纯度以及如何避免溶剂在使用前被环境污染，成为一个在光刻胶生产中迫切需要解决的问题。
发明内容
本发明实施例提供一种溶剂生产设备，旨在解决现有技术当中溶剂颗粒度控制较差的技术问题。
本发明实施例是这样实现的，一种溶剂生产设备，包括：
制备系统，包括原料储存罐、溶剂储存罐、循环过滤器及输送泵，所述溶剂储存罐上设有进液口、出气口及吸液管，所述吸液管的下端深入至所述溶剂储存罐底部，所述循环过滤器和所述输送泵通过管路串连成一循环过滤组件，所述循环过滤组件的进入口通过带第一开关阀门的通气管与氮气气源连接，其排出口连接所述进液口，所述原料储存罐通过带进料阀门的进气管路与所述循环过滤组件的进入口连接，所述出气口通过出气管路与所述氮气气源连接，所述吸液管上端通过循环管路与所述循环过滤组件的进入口连接；以及
取用系统，包括取用过滤器及取用瓶，所述取用过滤器的进液口通过带取液阀门的取液管路与所述吸液管连接，所述取用过滤器的出液口通过出液管路与所述取用瓶连接，所述出液管路通过带第二开关阀门的进气管路与所述氮气气源连接。
本发明实施例还提供一种溶剂制备方法，应用于上述的溶剂生产设备当中，所述溶剂制备方法包括：
在氮气环境下连接所述进气管路和原料储存罐；
启用输送泵将溶剂从所述原料储存罐中转移到溶剂储存罐当中；
利用所述输送泵输送所述溶剂储存罐当中的溶剂循环经过循环过滤器，以对所述溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤；
当所述溶剂储存罐当中的溶剂的颗粒度测试合格后，停止循环过滤并关闭所有阀门。
本发明实施例还提供一种溶剂取用方法，应用于上述的溶剂生产设备当中，所述溶剂取用方法包括：
在氮气环境下连接所述出液管路和取用瓶；
向溶剂储存罐中通入氮气，以利用氮气压力压迫所述溶剂储存罐中的溶剂依次流入取用过滤器、所述出液管路及取用瓶；
当所述取用瓶当中接受到规定量的溶剂后，停止取液，并向所述出液管路中通入氮气，以吹扫管路。
本发明所达到的有益效果：通过将溶剂原料输送至溶剂储存罐当中，随后启用循环过滤组件对溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤，能够有效过滤掉溶剂中的颗粒度，待溶剂储存罐当中的溶剂的颗粒度测试合格后，停止循环过滤并关闭所有阀门，避免溶剂被环境沾污，取料时，采用氮气压料的方式进行取料，且取料过程当中再一次经过取用过滤器过滤，同时若溶剂储存罐当中的溶剂长时间未内使用或未使用完，可再次利用循环过滤组件进行过滤，从而长时间保持溶剂的纯度，因此本溶剂生产设备对溶剂颗粒度的控制较好，能够不间断的提供高纯光刻胶用溶剂，满足生产需求。
附图说明
图1是本发明实施例一当中的溶剂生产设备的结构图；
图2是本发明实施例一当中的溶剂制备方法的流程图；
图3是本发明实施例一当中的溶剂取用方法的流程图；
图4是本发明实施例二当中的溶剂生产设备的结构图。
附图标记说明：
F、第一开关阀门；A、进料阀门；B、第一密封阀门；C、第二密封阀门；D、第三密封阀门；H、取液阀门；J、第二开关阀门，K、阀门；E、第三开关阀门；I、出液阀门；G、阀门G。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
现有对光刻胶用溶剂的颗粒度控制较差，且无法长时间保持溶剂的纯度以及无法避免溶剂在使用前被环境污染。因此，本发明的目的在于，提供一种溶剂生产设备及其生产方法，以通过循环过滤方式来有效过滤掉溶剂中的颗粒度，并通过氮气压料方式来进行取料，整个过程在密封或氮气环境下运行，颗粒度控制较好，可长时间保持溶剂的纯度以及可避免溶剂在使用前被环境污染。
实施例一
请参阅图1，所示为本发明第一实施例当中的溶剂生产设备，包括制备系统10及取用系统20。
所述制备系统10包括原料储存罐11、溶剂储存罐12、循环过滤器13及输送泵14，所述溶剂储存罐12上设有进液口121、出气口122及吸液管123，所述吸液管123的下端深入至所述溶剂储存罐12底部。所述循环过滤器13和所述输送泵14通过管路串连成一循环过滤组件I，所述循环过滤组件I的进入口通过带第一开关阀门A的通气管31与氮气气源(图未示)连接，其排出口连接所述进液口121。所述原料储存罐11通过带进料阀门A的第一进气管路32与所述循环过滤组件I的进入口连接，所述出气口122通过出气管路33与所述氮气气源连接，所述吸液管123上端通过循环管路34与所述循环过滤组件I的进入口连接。
其中，所述进液口121上设有第一密封阀门B，所述出气口122上设有第二密封阀门C，所述吸液管123上设有第三密封阀门D，所述氮气气源为高纯洁净氮气，其主要为高纯去颗粒度的洁净氮气，其氮气纯度为99.99999％，其颗粒度为大于0.1微米的颗粒物小于5个/立方英尺。
所述取用系统20包括取用过滤器21及取用瓶22，所述取用过滤器21的进液口通过带取液阀门H的取液管路35与所述循环管路34连接，以通过所述循环管路34与所述吸液管连接，阀门G设置在循环管路34上。所述吸液管123连接，所述取用过滤器21的出液口通过出液管路36与所述取用瓶22连接，所述出液管路36通过带第二开关阀门J的第二进气管路37与所述氮气气源连接。
其中，所述出液管路36为一带阀门K的软性伸缩管，便于后续连接取用瓶22。同时，所述取用瓶22可为一带螺旋盖的罐体结构，其螺旋盖上设有供管路插入的穿入孔，且该穿入孔与管路之间可设置密封圈等密封结构来进行密封。出液管路36上还设置有阀门L和阀门M。
进一步地，所述通气管31上还设有第三开关阀门E，所述第三开关阀门E靠近所述循环过滤组件I的进入口。
优选地，所述循环管路34与所述通气管31连接，并通过所述第三开关阀门E与所述循环过滤组件I的进入口连接。所述出气管路33与所述通气管31连接，并通过所述第一开关阀门A连接所述氮气气源。所述取用过滤器21的出液口通过一出液阀门I与所述出液管路36连接，所述第二进气管路37与所述通气管31连接，并通过所述第一开关阀门A连接所述氮气气源。
需要指出的是，在本溶剂生产设备的管路系统当中，每个三叉管口上均可以通过三通管(或三通阀)I I来进行连接。
针对上述结构，本实施例还提出一种溶剂制备方法，如图2所示，所述溶剂制备方法包括步骤S11至S14。
步骤S11，在氮气环境下连接所述进气管路和原料储存罐。
可以理解的，本步骤是在初次连接原料储存罐或更换原料储存罐进行的，若原料储存罐已经处于与进气管路连接的状态，且原料储存罐中还有原料溶剂，则可不执行本步骤。
步骤S12，关闭阀门E、D、G、H及J，打开阀门A、B、C及F，启用输送泵将溶剂从所述原料储存罐中转移到溶剂储存罐当中。
步骤S13，关闭阀门A、C、H及F，打开阀门E、B、D及G，利用所述输送泵输送所述溶剂储存罐当中的溶剂循环经过循环过滤器，以对所述溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤。
其中，溶剂的循环回路为：先从吸液管进入循环管路，再由循环管路进入通气管，再依次进入过滤器和循环过滤器，最后回到溶剂储存罐当中。
步骤S14，当所述溶剂储存罐当中的溶剂的颗粒度测试合格后，停止循环过滤并关闭所有阀门。
针对上述结构，本实施例还提出一种溶剂取用方法，如图3所示，所述溶剂取用方法包括步骤S21至S24。
步骤S21，在氮气环境下连接所述出液管路和取用瓶。
步骤S22，向溶剂储存罐中通入氮气，以利用氮气压力压迫所述溶剂储存罐中的溶剂依次流入取用过滤器、所述出液管路及取用瓶。
步骤S23，当所述取用瓶当中接受到规定量的溶剂后，停止取液，并向所述出液管路中通入氮气，以吹扫管路。
请参阅下表，所示为经过本实施例当中的溶剂生产设备生产的光刻胶用溶剂的参数及对比：
显然，本溶剂生产设备可有效控制溶剂的颗粒度，能够提供高纯度的溶液。
综上，本实施例当中的溶剂生产设备，通过将溶剂原料输送至溶剂储存罐12当中，随后启用循环过滤组件I对溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤，能够有效过滤掉溶剂中的颗粒度，待溶剂储存罐12当中的溶剂的颗粒度测试合格后，停止循环过滤并关闭所有阀门，避免溶剂被环境沾污，取料时，采用氮气压料的方式进行取料，且取料过程当中再一次经过取用过滤器21过滤，同时若溶剂储存罐12当中的溶剂长时间未内使用或未使用完，可再次利用循环过滤组件I进行过滤，从而长时间保持溶剂的纯度，因此本溶剂生产设备对溶剂颗粒度的控制较好，能够不间断的提供高纯光刻胶用溶剂，满足生产需求。
实施例二
请参阅图4，所示为本发明第二实施例当中的溶剂生产设备，本实施例当中的溶剂生产设备与第一实施例当中的溶剂生产设备的不同之处在于：
所述溶剂生产设备还包括一尾气排放系统40，所述尾气排放系统40包括排气管41及设置在排气管41上的排气阀门42，所述排气管41一端深入取用瓶内。
可以理解的，第一实施例当中的溶剂生产设备需要在负压下进行操作，使用时相对较不方便，因此本实施例增设一尾气排放系统40，使溶剂生产设备无需要在负压下进行操作，使用方便且安全。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种溶剂生产设备，其特征在于，包括：
制备系统，包括原料储存罐、溶剂储存罐、循环过滤器及输送泵，所述溶剂储存罐上设有进液口、出气口及吸液管，所述吸液管的下端深入至所述溶剂储存罐底部，所述循环过滤器和所述输送泵通过管路串连成一循环过滤组件，所述循环过滤组件的进入口通过带第一开关阀门的通气管与氮气气源连接，其排出口连接所述进液口，所述原料储存罐通过带进料阀门的第一进气管路与所述循环过滤组件的进入口连接，所述出气口通过出气管路与所述氮气气源连接，所述吸液管上端通过循环管路与所述循环过滤组件的进入口连接；以及
取用系统，包括取用过滤器及取用瓶，所述取用过滤器的进液口通过带取液阀门的取液管路与所述吸液管连接，所述取用过滤器的出液口通过出液管路与所述取用瓶连接，所述出液管路通过带第二开关阀门的第二进气管路与所述氮气气源连接；
所述进液口和所述出气口及所述吸液管上均设有密封阀门；
所述通气管上还设有第三开关阀门，所述第三开关阀门靠近所述循环过滤组件的进入口；
所述循环管路与所述通气管连接，并通过所述第三开关阀门与所述循环过滤组件的进入口连接；
所述出气管路与所述通气管连接，并通过所述第一开关阀门连接所述氮气气源；
所述取用过滤器的出液口通过一出液阀门与所述出液管路连接，所述取液管路通过所述循环管路与所述吸液管连接；
所述第二进气管路与所述通气管连接，并通过所述第一开关阀门连接所述氮气气源；
其中，每个三叉管口上通过三通管或三通阀进行连接。
2.如权利要求1所述的溶剂生产设备，其特征在于，所述出液管路为一带阀门的软性伸缩管。
3.一种溶剂制备方法，其特征在于，应用于权利要求1或2所述的溶剂生产设备当中，所述溶剂制备方法包括：
在氮气环境下连接所述进气管路和原料储存罐；
启用输送泵将溶剂从所述原料储存罐中转移到溶剂储存罐当中；
利用所述输送泵输送所述溶剂储存罐当中的溶剂循环经过循环过滤器，以对所述溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤；
当所述溶剂储存罐当中的溶剂的颗粒度测试合格后，停止循环过滤并关闭所有阀门。
4.一种溶剂取用方法，其特征在于，应用于权利要求1或2所述的溶剂生产设备当中，所述溶剂取用方法包括：
在氮气环境下连接所述出液管路和取用瓶；
向溶剂储存罐中通入氮气，以利用氮气压力压迫所述溶剂储存罐中的溶剂依次流入取用过滤器、所述出液管路及取用瓶；
当所述取用瓶当中接受到规定量的溶剂后，停止取液，并向所述出液管路中通入氮气，以吹扫管路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910041575.0A CN109696802B (zh) | 2019-01-16 | 2019-01-16 | 一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910041575.0A CN109696802B (zh) | 2019-01-16 | 2019-01-16 | 一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109696802A CN109696802A (zh) | 2019-04-30 |
| CN109696802B true CN109696802B (zh) | 2024-05-07 |
Family
ID=66234107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910041575.0A Active CN109696802B (zh) | 2019-01-16 | 2019-01-16 | 一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109696802B (zh) |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1162838A (ja) * | 1997-08-12 | 1999-03-05 | Tokyo Electron Ltd | 薬液の供給方法及びその装置 |
| CN1211467A (zh) * | 1997-04-11 | 1999-03-24 | 拉贝勒公司 | 对意图在微电子工业中使用的超纯化学品进行稀释的系统 |
| JPH11176793A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sharp Corp | 洗浄装置 |
| CN1247381A (zh) * | 1998-08-18 | 2000-03-15 | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 | 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法 |
| JP2001000969A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Toray Kiki Kk | 逆浸透膜式精製水製造装置 |
| TW201347840A (zh) * | 2012-05-18 | 2013-12-01 | Taiwan Semiconductor Mfg | 溶劑混合系統及溶劑混合方法 |
| CN105771395A (zh) * | 2015-01-09 | 2016-07-20 | 东京毅力科创株式会社 | 处理液过滤装置、药液供给装置和处理液过滤方法 |
| CN106334470A (zh) * | 2016-09-23 | 2017-01-18 | 江苏中德电子材料科技有限公司 | 一种加料系统 |
| CN106463357A (zh) * | 2014-05-15 | 2017-02-22 | 东京毅力科创株式会社 | 增加光致抗蚀剂分配系统中再循环和过滤的方法和设备 |
| CN106945954A (zh) * | 2017-05-08 | 2017-07-14 | 连云港大开瀛州工艺品有限公司 | 液体收集存储罐 |
| CN107644822A (zh) * | 2016-07-21 | 2018-01-30 | 弘塑科技股份有限公司 | 半导体干燥设备和半导体干燥用处理液体循环与过滤方法 |
| CN108506733A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-07 | 江苏南大光电材料股份有限公司 | 物料灌装装置 |
| CN209388109U (zh) * | 2019-01-16 | 2019-09-13 | 宁波南大光电材料有限公司 | 一种溶剂生产设备 |
-
2019
- 2019-01-16 CN CN201910041575.0A patent/CN109696802B/zh active Active
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1211467A (zh) * | 1997-04-11 | 1999-03-24 | 拉贝勒公司 | 对意图在微电子工业中使用的超纯化学品进行稀释的系统 |
| JPH1162838A (ja) * | 1997-08-12 | 1999-03-05 | Tokyo Electron Ltd | 薬液の供給方法及びその装置 |
| JPH11176793A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sharp Corp | 洗浄装置 |
| CN1247381A (zh) * | 1998-08-18 | 2000-03-15 | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 | 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法 |
| JP2001000969A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Toray Kiki Kk | 逆浸透膜式精製水製造装置 |
| TW201347840A (zh) * | 2012-05-18 | 2013-12-01 | Taiwan Semiconductor Mfg | 溶劑混合系統及溶劑混合方法 |
| CN106463357A (zh) * | 2014-05-15 | 2017-02-22 | 东京毅力科创株式会社 | 增加光致抗蚀剂分配系统中再循环和过滤的方法和设备 |
| CN105771395A (zh) * | 2015-01-09 | 2016-07-20 | 东京毅力科创株式会社 | 处理液过滤装置、药液供给装置和处理液过滤方法 |
| CN107644822A (zh) * | 2016-07-21 | 2018-01-30 | 弘塑科技股份有限公司 | 半导体干燥设备和半导体干燥用处理液体循环与过滤方法 |
| CN106334470A (zh) * | 2016-09-23 | 2017-01-18 | 江苏中德电子材料科技有限公司 | 一种加料系统 |
| CN106945954A (zh) * | 2017-05-08 | 2017-07-14 | 连云港大开瀛州工艺品有限公司 | 液体收集存储罐 |
| CN108506733A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-07 | 江苏南大光电材料股份有限公司 | 物料灌装装置 |
| CN209388109U (zh) * | 2019-01-16 | 2019-09-13 | 宁波南大光电材料有限公司 | 一种溶剂生产设备 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 半导体生产厂房化学液集中供应 系统设计;孙敏;《电子工业专用设备》(第238期);5-9 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109696802A (zh) | 2019-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101713116B1 (ko) | 가스 회수 및 재사용을 위한 시스템 및 방법 | |
| CN104001409B (zh) | 一种膜法氦气提纯装置系统和工艺 | |
| US6267132B1 (en) | Liquid delivery system and its use for the delivery of an ultrapure liquid | |
| CN108326522A (zh) | 一种增减材复合制造方法及系统 | |
| CN107433111A (zh) | 一种混合绝缘气体快速回收系统及方法 | |
| CN208214714U (zh) | 一种增减材复合制造系统 | |
| CN104565808A (zh) | 基于定量抽气-充气技术的刚性容器气体置换方法和装置 | |
| CN109696802B (zh) | 一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法 | |
| CN113499662A (zh) | 全正压条件下六氟化硫气体回收处理装置及气体回收系统 | |
| CN207227013U (zh) | 一种一体化氦气纯化回收系统 | |
| CN101615485B (zh) | 一种变压器油的全密封处理方法及装置 | |
| CN207153420U (zh) | 一种混合绝缘气体快速回收系统 | |
| CN209388109U (zh) | 一种溶剂生产设备 | |
| US4755190A (en) | Solid fuel feed system | |
| CN107879126A (zh) | 气力输送放射性树脂的自动装卸系统及方法 | |
| CN204459755U (zh) | 基于定量抽气-充气技术的刚性容器气体置换装置 | |
| WO2007055207A1 (ja) | エチレンカーボネート含有材料の充填方法及びその充填装置 | |
| CN210495947U (zh) | 一种用于光刻胶生产的循环过滤装置 | |
| CN111097347B (zh) | 一种气体置换、通入的合成反应装置 | |
| CN102305346A (zh) | 基于自动控制的低温液体回收设备 | |
| CN203922724U (zh) | 一种节能型氧氮一体机 | |
| CN110420943B (zh) | 一种去除超高纯正硅酸乙酯钢瓶中固体颗粒的装置及方法 | |
| CN202252835U (zh) | 基于自动控制的低温液体回收设备 | |
| CN214809869U (zh) | 一种水样品过滤装置 | |
| CN217773737U (zh) | 一种基于氮气分离膜的高效制氮设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |