JP2000068612A - 配線基板、それを用いた液晶表示装置、および配線基板の製造方法 - Google Patents

配線基板、それを用いた液晶表示装置、および配線基板の製造方法

Info

Publication number
JP2000068612A
JP2000068612A JP23331798A JP23331798A JP2000068612A JP 2000068612 A JP2000068612 A JP 2000068612A JP 23331798 A JP23331798 A JP 23331798A JP 23331798 A JP23331798 A JP 23331798A JP 2000068612 A JP2000068612 A JP 2000068612A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
layer
wiring
resin
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23331798A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3719335B2 (ja
Inventor
Eiji Muramatsu
永至 村松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP23331798A priority Critical patent/JP3719335B2/ja
Publication of JP2000068612A publication Critical patent/JP2000068612A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3719335B2 publication Critical patent/JP3719335B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い信頼性と歩留まりをもって製造でき、製
造のために高価な製造装置を必要としない可撓性の配線
基板およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 配線基板10は、接着層18によって互
いに接着された可撓性を持つ複数の樹脂層14と、それ
ぞれの樹脂層14の片面に形成された配線層22とを備
える。その樹脂層14と接着層18は、同質の樹脂材料
から形成されている。なお、配線基板10は、曲折され
る曲折部38においては、1層の樹脂層14のみで形成
される。そして、液晶表示装置60は、配線基板10と
液晶パネル40とを含んで構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多層の配線基板、
それを用いた液晶表示装置、および配線基板の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、配線層を両面に持つ可撓性の配線
基板は、可撓性を持つ樹脂層の一方の面に対するスパッ
タリングと、フォトリソグラフィー工程(以下、フォト
リソグラフィーと言う)の後、他方の面にスパッタリン
グと、フォトリソグラフィーを行って形成するか、ある
いは、両面のスパッタリングを行うことができるスパッ
タ装置および両面のフォトリソグラフィーを行うことが
できるフォトリソグラフィー装置を用いて両面同時のス
パッタリングとフォトリソグラフィーを行って形成して
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、配線層を両面
に持つ可撓性の配線基板は、片面づつスパッタリングお
よびフォトリソグラフィーを行って製造した場合、最初
に形成した配線層が、他方の配線層を形成する際のスパ
ッタリングや、フォトリソグラフィーの工程で損傷を受
けることがあり、信頼性や歩留まりが低いという問題が
あった。
【0004】また、配線層を両面に持つ可撓性の配線基
板は、両面同時のスパッタリングとフォトリソグラフィ
ーによって製造する場合、両面のスパッタリングを行う
ことができる装置や両面のフォトリソグラフィーを行う
ことができる装置が複雑であり、高価であるためコスト
増加を招くという問題があった。
【0005】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであって、その目的は、高い信頼性と歩留ま
りをもって製造でき、製造のために高価な製造装置を必
要としない可撓性の配線基板、それを用いた液晶表示装
置、および配線基板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の配線基板は、接
着層によって互いに接着された可撓性を持つ複数の樹脂
層と、それぞれの前記樹脂層の片面に形成された配線層
と、を有することを特徴とする。
【0007】本発明の配線基板は、それぞれの樹脂層に
スパッタリングおよびフォトリソグラフィーによって配
線層を形成した後、それらの樹脂層を接着層によって貼
り合わせて形成できる。
【0008】したがって、本発明の可撓性を持つ多層の
配線基板は、1層の樹脂層の両面に片面づつスパッタリ
ングおよびフォトリソグラフィーを行って製造される配
線基板の場合のように、最初に形成した配線層が、他方
の配線層を形成する際のスパッタリングや、フォトリソ
グラフィーの工程で損傷を受けて、信頼性や歩留まりが
低下することがない。
【0009】また、本発明の可撓性を持つ多層の配線基
板は、1層の樹脂層の両面に同時にスパッタリングとフ
ォトリソグラフィーによって製造される配線基板の場合
のように、両面のスパッタリングを行うことができる装
置や両面のフォトリソグラフィーを行うことができる高
価な装置を必要としない。
【0010】そして、本発明の可撓性を持つ多層の配線
基板は、1層の樹脂層の片面に配線層を所定のパターン
で形成したものを複数形成し、それらの良品のみを貼り
合わせて形成できるため、複数の配線層を一度に形成し
て多層の配線基板を形成する場合に比し、コストおよび
不良率を削減することができる。
【0011】さらに好ましくは、本発明の配線基板は、
前記樹脂層と前記接着層は、同質の樹脂材料からなるこ
とを特徴とする。
【0012】本発明の配線基板は、複数の樹脂層が樹脂
層と同質の材料からなる接着層によって形成されている
ため、互いの密着性が良く、耐久性の高い配線基板とな
る。さらに好ましくは、本発明の配線基板は、前記樹脂
層を2層備えることを特徴とする。
【0013】本発明の配線基板は、可撓性を持つ樹脂層
を2層としても各層を薄く形成できるため、十分な可撓
性を保持することができる。
【0014】さらに好ましくは、本発明の配線基板は、
曲折されて用いられる曲折部をさらに有し、該曲折部に
おいては前記樹脂層を1層のみ備えることを特徴とす
る。
【0015】本発明の配線基板は、曲折部においては、
樹脂層が1層のみであるため、所定の位置で容易に折り
曲げることができる。
【0016】本発明の液晶表示装置は、前述のいずれか
の配線基板と、液晶パネルと、を有することを特徴とす
る。
【0017】本発明の液晶表示装置は、上記各配線基板
についての述べた作用効果を奏することができる。
【0018】本発明の配線基板の製造方法は、可撓性を
持つ樹脂層の片面に配線パターンを持つ片面配線基板を
複数形成する工程と、前記片面配線基板を貼り合わせる
工程と、を有することを特徴とする。
【0019】本発明の配線基板の製造方法によれば、配
線パターンが形成された樹脂層を貼り合わせて配線基板
が形成されるため、1層の樹脂層の両面に片面ずつスパ
ッタリングおよびフォトリソグラフィーを行って配線基
板を製造する場合のように、最初に形成した配線層が、
他方の配線層を形成する際のスパッタリングや、フォト
リソグラフィーの工程で損傷を受けて、信頼性や歩留ま
りが低下することがない。また、1層の樹脂層の両面に
同時にスパッタリングとフォトリソグラフィーによって
製造する場合のように、両面のスパッタリングを行うこ
とができる装置や両面のフォトリソグラフィーを行うこ
とができる高価な装置を必要としない。
【0020】さらに、本発明の可撓性を持つ多層の配線
基板の製造方法は、1層の樹脂層の片面に配線層を所定
のパターンで形成したものを複数形成し、それらの良品
のみを貼り合わせて配線基板を形成することができるた
め、複数の配線層を一度に形成して多層の配線基板を形
成する場合に比し、不良率およびコストを削減すること
ができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて、図面を参照しながら、さらに具体的に説明す
る。
【0022】〔第1実施形態〕 <配線基板>図1は、本実施形態の配線基板10を示す
模式的な断面図である。
【0023】この図に示すように、配線基板10は、2
層の樹脂層14が接着層18によって互いに接着されて
形成されている。また、各樹脂層14には片面に配線層
22が形成されている。
【0024】樹脂層14は、可撓性を持つ樹脂、例えば
ポリイミド、ポリエーテルテレフタレート(PET)、
液晶ポリマーなどで形成され、1層の厚さは、10〜7
5μm程度である。
【0025】2層の樹脂層14を互いに接着する接着層
18は、厚さ5〜20μm程度であり、樹脂層14と同
質の樹脂材料で形成されている。例えば、樹脂層14が
ポリイミドからなる場合には、ポリイミド系の接着剤が
用いられる。このように、配線基板10は、複数の樹脂
層14が、樹脂層14と同質の材料からなる接着層18
で接着されて形成されているため、互いの密着性が良
く、耐久性の高い配線基板10となる。
【0026】配線層22は、導電性材料、例えば銅、ア
ルミニウム、クロム、銀、金、ニッケルなどからなり、
所定のパターンに形成されている。配線層22は、一部
において2層の樹脂層14を貫通し、スルーホール26
を形成している。なお、配線層22は、スルーホール2
6において多の部分と別の導電性材料で形成されていて
もよい。
【0027】さらに、本実施形態の配線基板10は、そ
の一片に補強部36を備え、一片付近の強度をコネクタ
への差し込みのために強化している。
【0028】また、本実施形態の配線基板10は、配線
基板10が折り曲げられる位置に対応して、1層の樹脂
層14のみからなる曲折部38を備えている。曲折部3
8においては、樹脂層14が1層のみであるため、その
位置で容易に折り曲げることができる。
【0029】上述したように、配線基板10は、複数の
樹脂層14のそれぞれが片面に配線層22を備え、樹脂
層14が接着層18によって接着された構造であるた
め、それぞれの樹脂層14にスパッタリングおよびフォ
トリソグラフィーによって配線層22を形成した後、そ
れらの樹脂層14を接着層18によって貼り合わせるこ
とによって形成できる。したがって、本実施形態の可撓
性を持つ2層配線層の配線基板10は、1層の樹脂層の
両面に片面づつスパッタリングおよびフォトリソグラフ
ィーを行って製造される2層配線層の配線基板の場合の
ように、最初に形成した配線層が、他方の配線層を形成
する際のスパッタリングや、フォトリソグラフィーの工
程で損傷を受けて、信頼性や歩留まりが低下することが
ない。
【0030】また、本実施形態の可撓性を持つ2層配線
層の配線基板10は、1層の樹脂層の両面に同時にスパ
ッタリングとフォトリソグラフィーによって製造される
2層配線層の配線基板の場合のように、両面のスパッタ
リングを行うことができる装置や両面のフォトリソグラ
フィーを行うことができる高価な装置を必要とすること
なく製造できる。
【0031】さらに、本実施形態の可撓性を持つ多層の
配線基板10は、樹脂層14に配線層22を所定のパタ
ーンで形成したものを複数形成し、それらの良品のみを
貼り合わせて形成できるため、複数の配線層22を一度
に形成して多層の配線基板を形成する場合に比し、コス
トおよび不良率を削減することができる。
【0032】なお、本実施形態の配線基板10は、片面
に配線層22が形成された可撓性を持つ樹脂層14が2
層重ね合わせられた構造となっているが、各層が十分薄
いため、適切な可撓性を有する。
【0033】<配線基板の製造方法>本実施形態の配線
基板10の製造においては、まず、可撓性を持つ樹脂層
14の片面に所定の配線パターン持つ配線層22を備え
た片面配線基板を2枚形成する。この形成においては、
樹脂層14の片面にスパッタリングによって配線層22
となる導電膜を形成した後、フォトリソグラフィーによ
ってその導電膜を所定のパターンとする。
【0034】そして、これら2枚の片面配線基板を互い
に位置合わせし、樹脂層14と同質の材料よりなる接着
層18で樹脂層14,14同士を貼り合わせる。
【0035】次に、必要に応じて、2層の樹脂層14お
よび配線層22を貫通する貫通孔を設け、その内壁にメ
ッキ等によって導電膜を形成することによって、スルー
ホール26を形成する。
【0036】本実施形態の配線基板10の製造方法によ
れば、配線パターンが形成された樹脂層14を貼り合わ
せて配線基板10が形成されるため、1層の樹脂層の両
面にに片面づつスパッタリングおよびフォトリソグラフ
ィーを行って配線基板を製造する場合のように、最初に
形成した配線層が、他方の配線層を形成する際のスパッ
タリングや、フォトリソグラフィーの工程で損傷を受け
て、信頼性や歩留まりが低下することがない。また、1
層の樹脂層の両面に同時にスパッタリングとフォトリソ
グラフィーによって製造する場合のように、両面のスパ
ッタリングを行うことができる装置や両面のフォトリソ
グラフィーを行うことができる高価な装置を必要としな
い。さらに、本実施形態の可撓性を持つ多層の配線基板
10の製造方法は、1層の樹脂層14の片面に配線層2
2を所定のパターンで形成したものを複数形成し、それ
らの良品のみを貼り合わせて配線基板10を形成するこ
とができるため、複数の配線層を一度に形成して多層の
配線基板を形成する場合に比し、不良率およびコストを
削減することができる。
【0037】<配線基板を用いた液晶表示装置>図2
は、本実施形態の配線基板10にIC30、チップコン
デンサ34、チップ抵抗(図示せず)などの部品を搭載
して駆動回路を形成し、液晶パネルに40接続した状態
を示す模式的な断面図である。
【0038】この図に示すように、IC30はバンプ3
1を備えるベアチップであり、異方性導電膜32により
配線基板10の配線層22に接続されている。
【0039】また、配線基板10の配線層22と液晶パ
ネル40の配線層48も異方性導電膜(図示せず)によ
って接続されている。
【0040】液晶パネル40は、ITO膜などで形成さ
れた配線層48を備える一対の基板42の間に液晶44
を挾持し、シール材46で封止して形成されている。
【0041】また、配線基板10は、前述したように、
1層の樹脂層14のみからなる曲折部38を備えて形成
されているため、この部分で配線基板10を折り曲げる
ことができる。したがって、例えば図2に矢印で示した
ように、配線基板10を折り曲げ、液晶パネル40の背
面に位置させることができる。
【0042】〔第2実施形態〕第2実施形態は、片面に
配線層を持つ3層の樹脂層を備えて配線基板が形成され
ている点が第1実施形態とは異なる。それ以外の点につ
いては、第1実施形態と同様であるので、その説明を省
略する。また、図面において、対応する部分には第1実
施形態と同一の符号を付す。
【0043】図3は、本実施形態の配線基板70を示す
模式的な断面図である。この図に示すように、配線基板
70は、3層の樹脂層14が接着層18によって互いに
接着されて形成されている。また、各樹脂層14には片
面に配線層22が形成されている。
【0044】各樹脂層14、各接着層18、および各配
線層22の材料や厚さなどは、第1実施形態と同様であ
る。なお、配線層22は、一部において3層の樹脂層1
4を貫通し、スルーホール72を形成している。
【0045】なお、図3には示さなかったが、本実施形
態の配線基板70においても、1層の樹脂層14のみか
らなる曲折部を備えて形成してもよい。これによって、
この部分で配線基板を容易に折り曲げることができる。
【0046】本実施形態の可撓性を持つ多層の配線基板
70の場合も、複数の各樹脂層14にスパッタリングお
よびフォトリソグラフィーによって配線層22を形成し
た後、それらの樹脂層14を接着層18によって貼り合
わせて形成できる。したがって、この配線基板70は、
1層の樹脂層の両面に片面づつスパッタリングおよびフ
ォトリソグラフィーを行って製造される配線基板の場合
のように、最初に形成した配線層が、他方の配線層を形
成する際のスパッタリングや、フォトリソグラフィーの
工程で損傷を受けて、信頼性や歩留まりが低下すること
がない。また、本実施形態の可撓性を持つ多層の配線基
板70は、1層の樹脂層の両面に同時にスパッタリング
とフォトリソグラフィーによって製造される配線基板の
場合のように、両面のスパッタリングを行うことができ
る装置や両面のフォトリソグラフィーを行うことができ
る高価な装置を必要としない。さらに、本実施形態の可
撓性を持つ多層の配線基板70は、樹脂層14に配線層
22を所定のパターンで形成したものを複数形成し、そ
れらの良品のみを貼り合わせて形成できるため、複数の
配線層22を一度に形成して多層の配線基板を形成する
場合に比し、コストおよび不良率を削減することができ
る。
【0047】以上、本発明の実施形態を説明したが、本
発明は前述した各実施形態に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内または特許請求の範囲の均等範囲
内で各種の変形実施が可能である。
【0048】例えば、上記各実施形態では、樹脂層が2
層または3層で、各樹脂層の片面に配線層が形成された
配線基板の例を示したが、本発明の配線基板は樹脂層を
4層以上有し、各樹脂層の片面に配線層を備えて形成さ
れていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の配線基板を示す模式的な断面図
である。
【図2】第1実施形態の配線基板を用いて液晶表示装置
を形成した状態を示す模式的な断面図である。
【図3】第2実施形態の配線基板を示す模式的な断面図
である。
【符号の説明】
10,70 配線基板 14 樹脂層 18 接着層 22 配線層 40 液晶パネル 60 液晶表示装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E338 AA02 AA03 AA11 AA12 AA16 BB54 BB63 BB75 BB80 CC01 EE32 EE33 5E346 AA12 AA15 AA16 AA22 AA42 BB01 CC08 CC41 DD17 DD32 EE02 EE05 EE12 FF01 GG15 GG28 HH32 HH33

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 接着層によって互いに接着された可撓性
    を持つ複数の樹脂層と、 それぞれの前記樹脂層の片面に形成された配線層と、 を有することを特徴とする配線基板。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記樹脂層と前記接着層は、同質の樹脂材料からなるこ
    とを特徴とする配線基板。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2において、 前記樹脂層を2層備えることを特徴とする配線基板。
  4. 【請求項4】 請求項3において、 曲折されて用いられる曲折部をさらに有し、該曲折部に
    おいては前記樹脂層を1層のみ備えることを特徴とする
    配線基板。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし請求項4に記載のいずれ
    かの配線基板と、 液晶パネルと、 を有することを特徴とする液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 可撓性を持つ樹脂層の片面に配線パター
    ンを持つ片面配線基板を複数形成する工程と、 前記片面配線基板を貼り合わせる工程と、 を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
JP23331798A 1998-08-19 1998-08-19 液晶表示装置 Expired - Fee Related JP3719335B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23331798A JP3719335B2 (ja) 1998-08-19 1998-08-19 液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23331798A JP3719335B2 (ja) 1998-08-19 1998-08-19 液晶表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000068612A true JP2000068612A (ja) 2000-03-03
JP3719335B2 JP3719335B2 (ja) 2005-11-24

Family

ID=16953247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23331798A Expired - Fee Related JP3719335B2 (ja) 1998-08-19 1998-08-19 液晶表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3719335B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003198070A (ja) * 2001-12-26 2003-07-11 Iwaki Electronics Corp フレキシブルプリント配線板
JP2009088044A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Casio Comput Co Ltd フレキシブル配線基板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003198070A (ja) * 2001-12-26 2003-07-11 Iwaki Electronics Corp フレキシブルプリント配線板
JP2009088044A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Casio Comput Co Ltd フレキシブル配線基板

Also Published As

Publication number Publication date
JP3719335B2 (ja) 2005-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7698811B2 (en) Method for manufacturing multilayer printed circuit boards using inner substrate
JP2004061715A (ja) 表示装置
EP2073613B1 (en) Flexible film and display device comprising the same
JP3895697B2 (ja) フレキシブル配線回路基板
JP2002359471A (ja) 多層配線基板の製造方法及び配線基板形成用金属板
JPH05152693A (ja) 補強部付フレキシブルプリント基板およびその製法
JP2001119120A (ja) フレキシブル配線板パッケージ及びその製造方法
JP4409137B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JP3719335B2 (ja) 液晶表示装置
JP3509573B2 (ja) フレキシブル基板用テープ材、フレキシブル基板の製造方法、半導体装置の製造方法及び液晶装置の製造方法
JP4760866B2 (ja) Cof基板
JP2009224358A (ja) 可撓性を有するプリント配線板および光送受信モジュール
JP4721651B2 (ja) 表示装置
JP3968890B2 (ja) 電子部品実装体の製造方法
JPS60216573A (ja) フレキシブル印刷配線板の製造方法
US20070285905A1 (en) Electronic device, display apparatus, flexible circuit board and fabrication method thereof
JPH05145205A (ja) 電磁シールド層付きフレキシブル回路基板およびその製法
JP2002033554A (ja) 180度折り曲げ可能なフレキシブルプリント配線板
JPH02237142A (ja) 半導体搭載用基板の製造方法
JPH11288002A (ja) 液晶駆動回路モジュールおよび該モジュールを用いた液晶表示装置
JP3490940B2 (ja) 回路板の製造方法
JP4473847B2 (ja) フレキシブル配線回路基板およびその製造方法
KR101097418B1 (ko) 연성 인쇄회로기판 및 그 제조방법
JPH06349898A (ja) Tab用フィルムキャリア及びその製造方法
JP2002314216A (ja) フレキシブルプリント配線板

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050607

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050725

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050817

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050830

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110916

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120916

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130916

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees