JP2000061596A

JP2000061596A - 鋼の連続鋳造方法

Info

Publication number: JP2000061596A
Application number: JP10237538A
Authority: JP
Inventors: Makoto Suzuki; 真鈴木; Masayuki Nakada; 正之中田; Noriko Kubo; 典子久保
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 1998-08-24
Filing date: 1998-08-24
Publication date: 2000-02-29

Abstract

(57)【要約】【課題】連続鋳造用タンディッシュ内において安価で
且つ効率良く介在物を除去し、清浄性の優れた鋼を鋳造
する。【解決手段】取鍋２から受鋼点６に注入された溶鋼１
２を、流出孔７から鋳型３に中継供給するタンディッシ
ュ１を用いた鋼の連続鋳造方法において、前記受鋼点と
前記流出孔との中間位置よりも受鋼点側で、タンディッ
シュの厚み方向に貫通する静磁場８を溶鋼に印加すると
共に、静磁場が印加される位置近傍のタンディッシュ底
面若しくはタンディッシュ側壁面に設けたガス吹き込み
部材１０から不活性ガスを溶鋼中に吹き込む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、タンディッシュ内
で溶鋼中の非金属介在物を効率良く除去し、清浄性の優
れた鋼を鋳造することができる鋼の連続鋳造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】鋼中の非金属介在物（以下、「介在物」
と記す）は、最終製品における表面疵等欠陥の発生原因
となるので、極力除去する必要があり、そのため、最終
製品の品質に直接関与する連続鋳造工程では、清浄性の
優れた鋳片を得る手段として種々の介在物低減対策が実
施されてきた。そして、生産性向上のために鋳片引抜き
速度を高速度化させた最近の操業形態では、鋳型内での
介在物の分離・除去に限界があり、更に、近年の要求さ
れる品質の厳格化も加味され、溶鋼を鋳型に供給する以
前のタンディッシュにおける清浄性向上対策が特に重要
となっている。

【０００３】タンディッシュ内で介在物を除去する方法
としては、不活性ガスを溶鋼中に吹き込み、介在物を不
活性ガス気泡で捕捉させ、介在物を気泡と共に浮上・分
離させる方法が有効であるが、気泡が大きいと介在物捕
捉の効果が少ないだけでなく、気泡が溶鋼表面から離脱
する際に溶滓を巻込んだり、空気による溶鋼の酸化の原
因となるため、微細化した気泡を吹き込む方法が数多く
提案されている。

【０００４】例えば、特開平８−１１７９３９号公報
（以下、「先行技術１」と記す）には、タンディッシュ
内の溶鋼の流れの方向に凹凸を有する通路を設けて溶鋼
を通過させ、凸部分よりガスを吹き込む方法が開示され
ている。先行技術１によれば、凸部分では溶鋼流速が速
くなり、この溶鋼流により剪断力が働いて気泡の離脱が
促進され、直径が２ｍｍ以下の微細な気泡を安定して吹
き込むことが可能としている。しかし、先行技術１で
は、凹凸の通路を有する堰をタンディッシュ内に設ける
必要があり、タンディッシュ耐火物の施工を複雑化して
製造コストの上昇を招くと共に、タンディッシュを熱間
で再使用する場合には、鋳造後に残った溶鋼や溶滓をタ
ンディッシュ外に排出する際、堰の存在により十分な排
出ができず、次鋳造の品質劣化を招く。

【０００５】又、特開昭５８−５８９６５号公報（以
下、「先行技術２」と記す）には、タンディッシュの下
部に設けた電磁攪拌装置によりポーラス煉瓦の表面近傍
の溶鋼を２０〜８０ｃｍ／ｓｅｃの流速で攪拌しつつ、
ポーラス煉瓦から不活性ガスを吹き込む方法が開示され
ている。先行技術２によれば、溶鋼流により気泡の離脱
が促進され、直径１０ｍｍ以下の気泡を吹き込むことが
できるとしている。しかし、先行技術２では、電磁攪拌
装置でタンディッシュ底部の溶鋼を攪拌するので、例え
ば上流側から下流側に攪拌する場合には、取鍋からの受
鋼点から、鋳型への流出孔へと向かう短絡流を形成し、
介在物の浮上・分離にとって必ずしも適切な流動状態に
はならず、介在物の除去は十分とはいえない。

【０００６】一方、タンディッシュ内の溶鋼に静磁場を
印加し、溶鋼流速を制御して介在物を低減する方法も幾
つか提案されている。例えば、特開昭６３−１４０７４
５号公報（以下、「先行技術３」と記す）には、取鍋か
らの受鋼点と鋳型への流出孔との間に静磁場を印加し、
静磁場により溶鋼の流れを制動しつつ鋳造する方法が開
示されている。先行技術３によれば、取鍋からの落下流
に伴って生じた乱流は静磁場により鎮静されて層流とな
り、溶鋼中の介在物の浮上・分離が促進するとしている
が、溶鋼を制動するのみでは介在物は十分には除去され
ない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
タンディッシュにおけるガス吹き込みや静磁場印加によ
る介在物の除去方法は、安価で且つ十分に介在物を除去
する点において、未だ十分とはいえず改善する余地があ
る。

【０００８】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、その目的とするところは、タンディッシュ内にお
いて安価で且つ効率良く介在物を除去し、清浄性の優れ
た鋼を鋳造することのできる連続鋳造方法を提供するこ
とである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】第１の発明による鋼の連
続鋳造方法は、取鍋から受鋼点に注入された溶鋼を、流
出孔から鋳型に中継供給するタンディッシュを用いた鋼
の連続鋳造方法において、前記受鋼点と前記流出孔との
中間位置よりも受鋼点側で、タンディッシュの厚み方向
に貫通する静磁場を溶鋼に印加すると共に、静磁場が印
加される位置近傍のタンディッシュ底面若しくはタンデ
ィッシュ側壁面から不活性ガスを溶鋼中に吹き込むこと
を特徴とするものである。

【００１０】第２の発明による鋼の連続鋳造方法は、第
１の発明において、受鋼点から静磁場印加位置までの水
平方向距離を、受鋼点から流出孔までの水平方向距離の
２／５以下とすることを特徴とするものである。

【００１１】第３の発明による鋼の連続鋳造方法は、第
１の発明又は第２の発明において、静磁場の鉛直方向の
磁束密度分布を、溶鋼深さの１／２よりも浅い位置が最
大値となるようにすることを特徴とするものである。

【００１２】第４の発明による鋼の連続鋳造方法は、第
１の発明乃至第３の発明の何れかの発明において、タン
ディッシュの側壁下部に、静磁場に対する遮蔽材を設け
て静磁場を印加することを特徴とするものである。

【００１３】第５の発明による鋼の連続鋳造方法は、第
１の発明乃至第４の発明の何れかの発明において、静磁
場印加位置と不活性ガス吹き込み位置との水平方向距離
を、１．０ｍ以下とすることを特徴とするものである。

【００１４】第６の発明による鋼の連続鋳造方法は、第
１の発明乃至第５の発明の何れかの発明において、その
内径が取鍋の排出孔内径以下である注入管を用いて取鍋
から注入することを特徴とするものである。

【００１５】本発明者等はタンディッシュにおける介在
物の挙動を検討した結果、タンディッシュ内で介在物を
効率良く除去するためには、溶鋼中の介在物同士を凝集
合体させて大型化することと、吹き込む不活性ガス気泡
を微細化することの２点が重要であることを見出した。
即ち、介在物を大型化することと気泡を微細化すること
とで、介在物の浮上速度が速くなると共に、介在物が気
泡に捕捉される確率が高くなり、介在物が効率良く除去
されるからである。この介在物同士の凝集合体は、溶鋼
の攪拌強度に比例して発生することが知られている。

【００１６】本発明では、取鍋からタンディッシュへ注
入される溶鋼の落下エネルギーを利用して溶鋼を強攪拌
し、介在物同士を凝集合体させる。落下エネルギーを利
用して溶鋼を攪拌する場合、攪拌される溶鋼量が少ない
ほど攪拌強度が増加するので、本発明では、取鍋からの
受鋼点と鋳型への流出孔との中間位置よりも受鋼点側で
溶鋼にタンディッシュの厚み方向に貫通する静磁場を印
加し、落下エネルギーにより攪拌される領域を静磁場が
印加される位置の上流側の狭い範囲に封じ込める。静磁
場を印加することで、静磁場を通過する溶鋼の流速が減
速されると同時に、あたかも静磁場が遮蔽物のように作
用して、溶鋼が静磁場に沿うように流れるため、溶鋼の
攪拌される範囲が静磁場の上流側に限定されるからであ
る。

【００１７】そして、静磁場が印加される位置は受鋼点
に近いので、静磁場印加位置の近傍では、タンディッシ
ュ底面に衝突した取鍋からの注入流がタンディッシュ底
面及び側壁面に沿って速い速度で流れている。そのた
め、静磁場印加位置近傍のタンディッシュ底面若しくは
側壁面から不活性ガスを溶鋼中に吹き込むと、底面及び
側壁面に沿って流れる溶鋼により不活性ガス気泡の離脱
が促進され、気泡は微細化する。

【００１８】このようにして、溶鋼の落下エネルギーに
より凝集合体した介在物は、微細な気泡に捕捉され、気
泡と共に迅速に浮上して除去され、溶鋼の清浄性が向上
する。更に、静磁場を通過する溶鋼は、所謂電磁ブレー
キ効果により減速され、静磁場の下流側では溶鋼流速が
均一化された層流となるので、介在物の浮上が一層促進
する。尚、層流となる理由は、静磁場印加では溶鋼流速
が速ければ速いほど減速されるので、溶鋼流速分布が均
一化されるからである。

【００１９】その際に、受鋼点から静磁場印加位置まで
の水平方向距離を、受鋼点から流出孔までの水平方向距
離の２／５以下とすることで、溶鋼の攪拌域が狭くなる
と共に、ガス吹き込み位置の溶鋼流速が確保され、図７
に示すように、介在物が安定して低減する。尚、図７は
後述の実施例で詳細に説明する。

【００２０】そして、静磁場の鉛直方向の磁束密度分布
を、図１に示すように、静磁場が印加される位置の溶鋼
深さの１／２よりも浅い位置で最大値となるようにする
と、タンディッシュ底面側の磁束密度は相対的に弱くな
る。又、タンディッシュ側壁下部に磁場に対する遮蔽材
を設けることで、図２に示すように、タンディッシュ底
面側の磁束密度は相対的に弱くなる。このようにして静
磁場の相対的に弱い領域をタンディッシュ底部に形成す
ると、この領域を溶鋼が集中的に流れ、その領域での溶
鋼流速は増加する。即ち、不活性ガスを吹き込むタンデ
ィッシュ底面の溶鋼流速が速くなり、気泡の微細化が促
進される。尚、図１は、磁束密度の最大値の位置を溶鋼
深さの１／２よりも浅くした場合の鉛直方向磁束密度の
例を示す概念図であり、又、図２は、タンディッシュ側
壁下部に磁場に対する遮蔽材を設置した場合の鉛直方向
磁束密度の例を示す概念図である。

【００２１】静磁場印加位置と不活性ガス吹き込み位置
との水平方向距離を１．０ｍ以下とすることで、ガス吹
き込み位置における注入流による溶鋼流速の減衰を抑
え、気泡を微細化することができる。又、タンディッシ
ュ底面側の磁束密度を相対的に弱くした場合には、静磁
場印加位置と不活性ガス吹き込み位置との水平方向距離
を１．０ｍ以下とすることで、図３に示すように、不活
性ガス吹き込み位置での溶鋼流速が上昇して気泡の微細
化が促進される。尚、図３は、後述の実施例１に示すタ
ンディッシュを用い、ガス吹き込み位置を静磁場印加位
置から０ｍ、０．５ｍ、１．０ｍ、１．５ｍ、及び２．
０ｍの５水準として浮上してくる気泡の大きさを観察
し、気泡の平均直径を求めた結果を示す図であり、静磁
場印加位置とガス吹き込み位置との距離を１．０ｍ以下
とすることで、２．０ｍｍ以下の気泡が安定して得られ
ることが分かる。

【００２２】一方、本発明では、介在物同士を凝集合体
させるために、タンディッシュへ注入される溶鋼の落下
エネルギーを利用する。取鍋からタンディッシュへ注入
管を用いて注入する際、注入管内での溶鋼流の乱れ等に
より落下エネルギーを損失するが、注入管内径を取鍋の
排出孔内径以下とすることで、注入管内は充満流に近い
状態になり、落下エネルギーの損失を減少させることが
できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づき説明
する。図４は、本発明の実施の形態の１例を示す連続鋳
造設備の概要図であり、図５は、図４における注入管の
取り付け構造の詳細図である。

【００２４】図４において、内面を耐火物で構築された
タンディッシュ１が、タンディッシュカー（図示せず）
に搭載されて鋳型３の上方所定位置に配置され、又、タ
ンディッシュ１の上方所定位置には溶鋼１２を収容した
取鍋２が配置されている。取鍋２の底部には、スライデ
ィングノズル１１とスライディングノズル１１の下面側
に接続する注入管４とが設けられており、取鍋２内の溶
鋼１２は、スライディングノズル１１及び注入管４を通
り、タンディッシュ１の短辺側底面の受鋼点６に向けて
注入される。又、受鋼点６の反対側の短辺側底部には、
鋳型３への流出孔７を形成する浸漬ノズル５が、タンデ
ィッシュ１の耐火物に嵌合して設けられており、タンデ
ィッシュ１に注入された溶鋼１２は、浸漬ノズル５を通
り、鋳型３内に鋳造される。

【００２５】そして、受鋼点６と流出孔７との中間位置
よりも受鋼点６側のタンディッシュ１の側壁背面に、異
極がタンディッシュ１を挟んで対向するように静磁場発
生装置８を設置する。静磁場発生装置８は、異極間でタ
ンディッシュ１の側壁を貫通する静磁場、即ち、タンデ
ィッシュ１の厚み方向に貫通する静磁場を発生する。
尚、受鋼点６から静磁場発生装置８までの水平方向距離
を、受鋼点６から流出孔７までの水平方向距離の２／５
以下とすることが好ましい。又、静磁場発生装置８は永
久磁石型でも良いが、磁束密度を調整することが可能な
直流電源に連結された直流電磁石型が望ましい。静磁場
発生装置８の磁束密度は最大０．４テスラ程度の工業的
に通常使用されているもので良い。

【００２６】その際、印加する静磁場の鉛直方向の磁束
密度分布を、タンディッシュ１の底部側が相対的に弱く
なるようにすることが好ましい。この磁束密度分布は、
以下に記す手段で得ることができる。１つの手段は、静
磁場発生装置８の鉛直方向中心位置を、静磁場発生装置
８を設置する位置の溶鋼深さＨの１／２以上の位置と
し、鉛直方向の磁束密度の最大値を溶鋼深さＨの１／２
よりも浅い位置とすることである。鉛直方向の磁束密度
分布は、通常正規分布となるので、このように配置する
ことで、前述の図１に示すように、タンディッシュ１の
底部側の磁束密度を相対的に弱くすることができる。他
の手段は、静磁場発生装置８とタンディッシュ１の側壁
との間のタンディッシュ１の下部側に、静磁場に対する
遮蔽材９を設けて静磁場を遮蔽することで、前述の図２
に示すように、タンディッシュ１の底部側の磁束密度を
相対的に弱くすることができる。静磁場は遮蔽材９によ
り遮断され、タンディッシュ１の底部側の磁束密度は相
対的に弱くなる。遮蔽材９は、磁気遮蔽効果に優れた、
例えば純鉄、磁性鋼、珪素鋼等の軟質磁性材料で構成す
れば良い。尚、当然ながら、上記２つの手段を組み合わ
せても良い。

【００２７】そして、静磁場発生装置８の近傍のタンデ
ィッシュ１の底面若しくは側壁面に、Ａｒガス等の不活
性ガスを溶鋼１２中に吹き込むことのできるガス吹き込
み部材１０を設ける。但し、側壁面に設置する場合に
は、溶鋼１２の攪拌領域を広げるために、溶鋼深さの１
／２以上深い位置に設置することが好ましい。ガス吹き
込み部材１０は慣用のポーラス煉瓦等とする。尚、静磁
場発生装置８とガス吹き込み部材１０との水平方向距離
を１．０ｍ以下とすることが好ましい。

【００２８】図５において、取鍋２の底部には、取鍋２
の排出孔を形成する上ノズル１４が、鉄皮１８を貫通
し、内張り煉瓦１９に嵌合して設置されている。そし
て、固定板１５、摺動板１６、及び整流ノズル１７から
成るスライディングノズル１１が上ノズル１４の下面側
と接続されており、整流ノズル１７の下面側に注入管４
が接続されている。注入管４の内径は、図５に示すよう
に、上端が上ノズル１４の内径Ｄ₀に等しく、下端が上
ノズル１４の内径Ｄ₀よりも小さい内径Ｄであり、上端
から下端に向けてテーパー状になっている。注入管４の
内径は上ノズル１４の内径Ｄ₀よりも大きくても良い
が、注入管４の内径を、例えば図５に示すように、上ノ
ズル１４の内径Ｄ₀以下とすることが好ましい。但し、
必ずしもテーパー状とする必要はない。

【００２９】このような構成の連続鋳造設備を用いて、
取鍋２内の溶鋼１２を受鋼点６に注入すると、タンディ
ッシュ１内の溶鋼１２は、静磁場発生装置８の設置位置
を境として、受鋼点６側では強攪拌されて介在物の凝集
合体が促進して大型化し、そして、静磁場発生装置８を
通過すると減速して縦断面方向の溶鋼流速が均一化す
る。又、ガス吹き込み部材１０から吹き込まれた不活性
ガスは、微細化された気泡となって溶鋼１２中の介在物
を捕捉し、タンディッシュ１内の溶鋼湯面に浮上する。
そのため、介在物は効率良く溶鋼１２から除去され、鋳
型３へは介在物の少ない清浄な溶鋼１２が鋳造される。
鋳型３内に鋳造された溶鋼１２は鋳型３内で冷却されて
凝固し、清浄性の優れた鋳片１３が鋳造される。

【００３０】尚、上記説明は単ストランド鋳造のタンデ
ィッシュ１における説明であるが、本発明は単ストラン
ド鋳造に限るものではなく、中央に受鋼点６が設置さ
れ、受鋼点６の左右に鋳型３が配置された多ストランド
鋳造であっても、受鋼点６の左右に静磁場発生装置８を
設置することで、本発明を適用することができる。又、
本発明における２点間の距離は中心点同士を結ぶ距離で
ある。

【００３１】

【実施例】［実施例１］図４に示す連続鋳造設備を用い
て静磁場印加位置を５水準に変更した試験（試験１〜
５）を実施し、鋼中介在物量に及ぼす静磁場印加位置の
影響を調査した。用いたタンディッシュは、定常鋳造時
のタンディッシュ内溶鋼の深さが、最も浅い受鋼点位置
で１．０ｍ、最も深い流出孔位置で２．０ｍであり、タ
ンディッシュの水平方向長さが約６．０ｍ、受鋼点から
流出孔までの水平方向距離が５．０ｍ、タンディッシュ
容量が６０トンである。又、用いた注入管は、上端内径
が上ノズルの内径と等しい６５ｍｍφで、下端内径が５
５ｍｍφである。

【００３２】静磁場発生装置として直流電磁石を用い、
試験１では受鋼点から水平方向に１．５ｍ離れた位置に
設置した。同様に、試験２では２．０ｍ、試験３では
２．５ｍ、試験４では３．０ｍ、試験５では３．５ｍと
した。各々の試験で、直流電磁石とタンディッシュ側壁
との間のタンディッシュ側壁下部に珪素鋼板を遮蔽材と
して設置し、又、直流電磁石から水平方向に０．５ｍ離
れた下流側のタンディッシュ底部に、ガス吹き込み部材
として幅が１００ｍｍ、長さが６０ｍｍのポーラス煉瓦
をタンディッシュの長さ方向と直角に設置した。そし
て、ポーラス煉瓦から高純度Ａｒガスを５リットル／ｍ
ｉｎで吹き込んだ。図６に直流電磁石の中心位置の鉛直
方向磁束密度を示すが、図６に示すように、磁束密度の
最大値は０．２テスラであった。

【００３３】そして、鋳片厚みが２５０ｍｍ、鋳片幅が
２０００ｍｍの鋳片を、鋳片引抜き速度１．８ｍ／ｍｉ
ｎで連続鋳造した。鋳造後、鋳片から試験片を切り出
し、溶解抽出法により介在物を抽出して鋼中の介在物量
を調査した。図７は、このようにして抽出した介在物量
を指数化して比較した図であるが、図７に示すように、
静磁場印加位置の違いにより鋼中の介在物量が変化して
おり、静磁場印加位置をタンディッシュの上流側とした
試験１から試験３では、介在物低減効果が発揮され、特
に、静磁場印加位置を受鋼点と流出孔との水平方向距離
の２／５以下とした試験１及び試験２では、顕著な低減
効果が見られた。試験３及び試験４では顕著な介在物低
減効果を期待できないことが分かった。尚、介在物量指
数は、値が小さいほど鋼中介在物量が少ないことを示し
ている。

【００３４】このように、受鋼点と流出孔との中間位置
よりも受鋼点側で静磁場を印加すると共に、静磁場印加
位置の近傍で不活性ガス吹き込みを行なうことで、清浄
性に優れた鋳片を製造できることが確認された。

【００３５】［実施例２］図４に示す連続鋳造設備を用
い、受鋼点から電磁石までの水平方向距離を１．５ｍの
１水準とし、その他の条件を実施例１と同一として鋳片
厚みが２５０ｍｍ、鋳片幅が２０００ｍｍの鋳片を、鋳
片引抜き速度１．８ｍ／ｍｉｎで連続鋳造した（実施例
２）。その際、一連の鋳造途中で、試験的に静磁場印加
を停止した鋳造（比較例１）、Ａｒガス吹き込みを停止
した鋳造（比較例２）、及び、静磁場印加とＡｒガス吹
き込みとを共に停止した鋳造（比較例３）も実施した。

【００３６】鋳造後、鋳片から試験片を切り出し、溶解
抽出法により介在物を抽出して鋼中の介在物量を調査し
た。図８は、このようにして抽出した介在物量を指数化
して比較した図であるが、図８に示すように、実施例２
では比較例３の約１／３に介在物量を低減することがで
き、清浄性の高い鋳片を得ることができた。ガス吹き込
み若しくは静磁場の印加を停止した比較例１及び比較例
２では、顕著な介在物低減効果が確認されなかった。

【００３７】［実施例３］図４に示す連続鋳造設備を用
いて注入管の内径を２水準に変更し、鋼中介在物量に及
ぼす注入管の影響を調査した。実施例３では、上端内径
が上ノズルの内径と等しい６５ｍｍφで、下端内径が５
５ｍｍφの注入管を用い、又、実施例４では、上端から
下端までの内径が１２０ｍｍφ一定の注入管を用いた。
そして、静磁場設置位置を受鋼点から１．０ｍの位置と
した以外は実施例１と同一のタンディッシュを用いて、
静磁場を印加しつつＡｒガス吹き込みを行いながら、鋳
片厚みが２５０ｍｍ、鋳片幅が２０００ｍｍの鋳片を、
鋳片引抜き速度１．８ｍ／ｍｉｎで連続鋳造した。又、
実施例３の鋳造途中で静磁場の印加を停止した鋳造（比
較例４）、及び実施例４の鋳造途中で静磁場の印加を停
止した鋳造（比較例５）も実施した。

【００３８】鋳造後、鋳片から試験片を切り出し、溶解
抽出法により介在物を抽出して鋼中の介在物量を調査し
た。図９は、このようにして抽出した介在物量を指数化
して比較した図であるが、図９に示すように、注入管の
内径を上ノズルの内径以下とした実施例３では顕著な介
在物低減効果が確認された。実施例４は、実施例３に比
べれば介在物低減効果が少ないが、介在物量指数が４０
以下の鋳片を得ることができた。比較例４及び比較例５
では、顕著な介在物低減効果が確認されなかった。

【００３９】

【発明の効果】本発明では、静磁場印加により溶鋼中介
在物を大型化し、大型化した介在物を微細化された気泡
により浮上・分離するので、安価で且つ効率良く清浄性
の優れた鋳片を製造することができる。又、堰を必要と
しないので熱間で再使用するタンディッシュにも適用可
能であり、工業的メリットは多大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁束密度の最大値の位置を溶鋼深さの１／２よ
りも浅くした場合の鉛直方向磁束密度の例を示す概念図
である。

【図２】タンディッシュ側壁下部に磁場に対する遮蔽材
を設置した場合の鉛直方向磁束密度の例を示す概念図で
ある。

【図３】生成されるガス気泡の大きさに及ぼす静磁場印
加位置とガス吹き込み位置との距離の影響を示す図であ
る。

【図４】本発明の実施の形態の１例を示す連続鋳造設備
の概要図である。

【図５】図４における注入管の取り付け構造の詳細図で
ある。

【図６】本発明の実施例で印加した静磁場の鉛直方向磁
束密度を示す図である。

【図７】鋼中介在物量に及ぼす静磁場印加位置の影響を
調査した結果を示す図である。

【図８】本発明の実施例と比較例とで、鋼中介在物量を
比較して示す図である。

【図９】本発明の実施例と比較例とで、鋼中介在物量を
比較して示す図である。

【符号の説明】

１タンディッシュ２取鍋３鋳型４注入管５浸漬ノズル６受鋼点７流出孔８静磁場発生装置９遮蔽材１０ガス吹き込み部材１１スライディングノズル１２溶鋼１３鋳片

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】取鍋から受鋼点に注入された溶鋼を、流
出孔から鋳型に中継供給するタンディッシュを用いた鋼
の連続鋳造方法において、前記受鋼点と前記流出孔との
中間位置よりも受鋼点側で、タンディッシュの厚み方向
に貫通する静磁場を溶鋼に印加すると共に、静磁場が印
加される位置近傍のタンディッシュ底面若しくはタンデ
ィッシュ側壁面から不活性ガスを溶鋼中に吹き込むこと
を特徴とする鋼の連続鋳造方法。
【請求項２】受鋼点から静磁場印加位置までの水平方
向距離を、受鋼点から流出孔までの水平方向距離の２／
５以下とすることを特徴とする請求項１に記載の鋼の連
続鋳造方法。
【請求項３】静磁場の鉛直方向の磁束密度分布を、溶
鋼深さの１／２よりも浅い位置が最大値となるようにす
ることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の鋼の
連続鋳造方法。
【請求項４】タンディッシュの側壁下部に、静磁場に
対する遮蔽材を設けて静磁場を印加することを特徴とす
る請求項１乃至請求項３の何れか１つに記載の鋼の連続
鋳造方法。
【請求項５】静磁場印加位置と不活性ガス吹き込み位
置との水平方向距離を、１．０ｍ以下とすることを特徴
とする請求項１乃至請求項４の何れか１つに記載の鋼の
連続鋳造方法。
【請求項６】その内径が取鍋の排出孔内径以下である
注入管を用いて取鍋から注入することを特徴とする請求
項１乃至請求項５の何れか１つに記載の鋼の連続鋳造方
法。