JP2000056297A - 液晶表示デバイス - Google Patents
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向膜と液晶との界面での反射率を抑制で
き、干渉縞の発生を抑えた液晶表示デバイスを提供す
る。 【解決手段】 液晶表示デバイス１の前ガラス基板２の
背面に光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／
２のＩＴＯでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成し
配向処理を施す。λは干渉縞の原因となる輝線の波長
で、複数ある場合は中間の値とする。前配向膜４を形成
するには、前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾
け、蒸着法により成膜する。また、後ガラス基板５側に
形成される後配向膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で
形成した。そして、両ガラス基板２，５を貼り合わせて
液晶９を封止する。このような構成としたことにより、
液晶９と前配向膜４との界面での反射率を０．５％以下
にすることができ、干渉縞が発生するのを抑制すること
ができる。
き、干渉縞の発生を抑えた液晶表示デバイスを提供す
る。 【解決手段】 液晶表示デバイス１の前ガラス基板２の
背面に光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／
２のＩＴＯでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成し
配向処理を施す。λは干渉縞の原因となる輝線の波長
で、複数ある場合は中間の値とする。前配向膜４を形成
するには、前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾
け、蒸着法により成膜する。また、後ガラス基板５側に
形成される後配向膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で
形成した。そして、両ガラス基板２，５を貼り合わせて
液晶９を封止する。このような構成としたことにより、
液晶９と前配向膜４との界面での反射率を０．５％以下
にすることができ、干渉縞が発生するのを抑制すること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示デバイスに
関し、特にビデオプロジェクタ等の大画面ディスプレイ
に用いられる液晶表示デバイスに関する。
関し、特にビデオプロジェクタ等の大画面ディスプレイ
に用いられる液晶表示デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】大画面を表示する装置として液晶プロジ
ェクタがあるが、近年、表示性能として重要な明るさを
改善するため、低消費電力で高輝度が得られる放電型の
光源が用いられている。このような光源の中には、メタ
ルハライドランプのように可視光域の特定の波長に輝線
を有するものがあり、これが原因で干渉が発生し表示不
良が起こることがある。例えば、液晶表示デバイスの液
晶層の厚さ寸法は数ミクロンと非常に薄いため、それを
挟み込んでいる透明基板側と液晶との界面に光反射があ
ると、わずかな厚みむらの存在が干渉縞となって現れる
ことがある。特に、基板の一方に反射板（もしくは反射
膜）が設けられている反射型の液晶表示デバイスでは、
透過型の液晶表示デバイスより干渉縞が目立ち易い。こ
の対処方法としては光源の輝線を除去する方法あるが、
反面、光量が減少するという不具合がある。また、液晶
層の厚みむらをなくせば原理的に干渉縞は発生しない
が、液晶表示デバイスの生産性が著しく低下する。
ェクタがあるが、近年、表示性能として重要な明るさを
改善するため、低消費電力で高輝度が得られる放電型の
光源が用いられている。このような光源の中には、メタ
ルハライドランプのように可視光域の特定の波長に輝線
を有するものがあり、これが原因で干渉が発生し表示不
良が起こることがある。例えば、液晶表示デバイスの液
晶層の厚さ寸法は数ミクロンと非常に薄いため、それを
挟み込んでいる透明基板側と液晶との界面に光反射があ
ると、わずかな厚みむらの存在が干渉縞となって現れる
ことがある。特に、基板の一方に反射板（もしくは反射
膜）が設けられている反射型の液晶表示デバイスでは、
透過型の液晶表示デバイスより干渉縞が目立ち易い。こ
の対処方法としては光源の輝線を除去する方法あるが、
反面、光量が減少するという不具合がある。また、液晶
層の厚みむらをなくせば原理的に干渉縞は発生しない
が、液晶表示デバイスの生産性が著しく低下する。
【０００３】例えば、上記したメタルハライドランプで
は、図４に示すように、可視光域には４４０ｎｍ、５４
０ｎｍ、５８０ｎｍのそれぞれの付近に強い輝線があ
る。従って、これらの領域の光を利用して表示を行う場
合は光源の輝線の位置における界面反射率が問題とな
る。
は、図４に示すように、可視光域には４４０ｎｍ、５４
０ｎｍ、５８０ｎｍのそれぞれの付近に強い輝線があ
る。従って、これらの領域の光を利用して表示を行う場
合は光源の輝線の位置における界面反射率が問題とな
る。
【０００４】ところで、液晶表示デバイスでは液晶を駆
動させるため、透明基板に透明導電膜を形成する。しか
し、ＩＴＯ（indium tin oxide）などの透明導電膜は屈
折率が高く、液晶との界面反射を大きくする問題があ
る。界面反射が大きいとデバイスのコントラスト比が悪
化することがあることは従来より指摘されており、例え
ば特開昭５８−７６８１３号公報には電極界面の反射改
善法が開示されている。
動させるため、透明基板に透明導電膜を形成する。しか
し、ＩＴＯ（indium tin oxide）などの透明導電膜は屈
折率が高く、液晶との界面反射を大きくする問題があ
る。界面反射が大きいとデバイスのコントラスト比が悪
化することがあることは従来より指摘されており、例え
ば特開昭５８−７６８１３号公報には電極界面の反射改
善法が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、コントラスト
比の改善に対する効果は、それほど厳密に界面反射の防
止を図らなくとも得ることができるものの、輝線による
干渉縞はわずかでも目立つため表示品質不良の原因とな
り、より厳密な反射防止対策が必要である。特に、ＴＮ
（ツイステッド・ネマティック）型や垂直配向型の液晶
表示デバイスでは透明電極のほかに配向膜を付与する必
要があり、単純に透明電極の反射防止をしただけでは十
分な効果が得られない。配向膜は、液晶を配向させると
いう重要な役割があり、適した材料や膜厚も限られてい
る。このため、配向特性を劣化させずに界面反射を防止
する必要がある。
比の改善に対する効果は、それほど厳密に界面反射の防
止を図らなくとも得ることができるものの、輝線による
干渉縞はわずかでも目立つため表示品質不良の原因とな
り、より厳密な反射防止対策が必要である。特に、ＴＮ
（ツイステッド・ネマティック）型や垂直配向型の液晶
表示デバイスでは透明電極のほかに配向膜を付与する必
要があり、単純に透明電極の反射防止をしただけでは十
分な効果が得られない。配向膜は、液晶を配向させると
いう重要な役割があり、適した材料や膜厚も限られてい
る。このため、配向特性を劣化させずに界面反射を防止
する必要がある。
【０００６】このような配向膜としては、一般的にポリ
イミド膜をラビング処理したものが用いられている。し
かし、この配向膜は単純な水平配向方式（ラビング方向
が基板面方向と略平行）には適しているが、垂直配向と
するのが困難であった。また、光学的に反射防止する場
合は、膜厚をある値に定める必要があるが、ポリイミド
膜では膜厚と特性とが目的の値をとるように制御するの
が難しいという問題がある。
イミド膜をラビング処理したものが用いられている。し
かし、この配向膜は単純な水平配向方式（ラビング方向
が基板面方向と略平行）には適しているが、垂直配向と
するのが困難であった。また、光学的に反射防止する場
合は、膜厚をある値に定める必要があるが、ポリイミド
膜では膜厚と特性とが目的の値をとるように制御するの
が難しいという問題がある。
【０００７】そこで、本発明は、上記事情を考慮し、干
渉縞の発生が抑制されて表示品質が高く、光効率の高い
光源を用いることができ、しかも生産性の高い液晶表示
デバイスを提供することを目的とする。
渉縞の発生が抑制されて表示品質が高く、光効率の高い
光源を用いることができ、しかも生産性の高い液晶表示
デバイスを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
相対向する一対の基板間に液晶が封止されてなり、可視
光域に輝線を有する光源を用いる液晶表示デバイスであ
って、少なくとも、前記光源からの光が入射する一方の
前記基板側に形成された前記液晶と接触する第１透明材
料膜の屈折率を、当該第１透明材料膜が接合する第２透
明材料膜の屈折率と、前記液晶の屈折率との中間の値に
なるように設定したことをを特徴としている。
相対向する一対の基板間に液晶が封止されてなり、可視
光域に輝線を有する光源を用いる液晶表示デバイスであ
って、少なくとも、前記光源からの光が入射する一方の
前記基板側に形成された前記液晶と接触する第１透明材
料膜の屈折率を、当該第１透明材料膜が接合する第２透
明材料膜の屈折率と、前記液晶の屈折率との中間の値に
なるように設定したことをを特徴としている。
【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の液
晶表示デバイスであって、前記第１透明材料膜と前記液
晶との界面の反射率は０．５％以下であることを特徴と
している。
晶表示デバイスであって、前記第１透明材料膜と前記液
晶との界面の反射率は０．５％以下であることを特徴と
している。
【００１０】請求項３記載の発明は、請求項１，請求項
２のいずれかに記載の液晶表示デバイスであって、前記
第１透明材料膜の厚さは、前記光源で発生する輝線の波
長又は複数の輝線の波長の中間値をλとした場合に光学
膜厚でλ／４に設定され、前記第２透明材料膜の厚さ
は、光学膜厚でλ／２に設定されていることを特徴とし
ている。
２のいずれかに記載の液晶表示デバイスであって、前記
第１透明材料膜の厚さは、前記光源で発生する輝線の波
長又は複数の輝線の波長の中間値をλとした場合に光学
膜厚でλ／４に設定され、前記第２透明材料膜の厚さ
は、光学膜厚でλ／２に設定されていることを特徴とし
ている。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示デバ
イスの詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。
なお、本実施形態は、液晶プロジェクタに用いられる、
画素電極が反射板（反射膜）としての機能を有する反射
型のアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示デバイス
に本発明を適用したものである。また、本実施形態では
画素電極が反射機能を有する構成としたが、画素電極を
透明材料で形成し、別途反射板（反射膜）を配置する構
成としてもよい。
イスの詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。
なお、本実施形態は、液晶プロジェクタに用いられる、
画素電極が反射板（反射膜）としての機能を有する反射
型のアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示デバイス
に本発明を適用したものである。また、本実施形態では
画素電極が反射機能を有する構成としたが、画素電極を
透明材料で形成し、別途反射板（反射膜）を配置する構
成としてもよい。
【００１２】図１は本実施形態の液晶表示デバイス（液
晶セル）の構成を示す要部断面説明図である。同図に示
すように、本実施形態の液晶表示デバイス１では、前面
側に位置する前ガラス基板２の背面の表示領域全体に、
例えばＩＴＯでなる第２透明材料膜としての透明電極
（共通電極）３が形成され、この透明電極の背面に第１
透明材料膜としての前配向膜４が形成されている。ま
た、前ガラス基板２に対向する後ガラス基板５の前面側
には、光反射性を有するメタルでなる画素電極６がマト
リクス状に配置され、画素電極６のそれぞれにはスイッ
チング素子としての薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと
いう）７が接続されている。なお、図１では画素電極６
とＴＦＴ７が後ガラス基板５の前面上で並ぶ構造として
示しているが、光源からの光によりＴＦＴ７の誤動作を
防止するため、ＴＦＴ７の上に遮光性をもつ画素電極６
で覆うように構成してもよい。
晶セル）の構成を示す要部断面説明図である。同図に示
すように、本実施形態の液晶表示デバイス１では、前面
側に位置する前ガラス基板２の背面の表示領域全体に、
例えばＩＴＯでなる第２透明材料膜としての透明電極
（共通電極）３が形成され、この透明電極の背面に第１
透明材料膜としての前配向膜４が形成されている。ま
た、前ガラス基板２に対向する後ガラス基板５の前面側
には、光反射性を有するメタルでなる画素電極６がマト
リクス状に配置され、画素電極６のそれぞれにはスイッ
チング素子としての薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと
いう）７が接続されている。なお、図１では画素電極６
とＴＦＴ７が後ガラス基板５の前面上で並ぶ構造として
示しているが、光源からの光によりＴＦＴ７の誤動作を
防止するため、ＴＦＴ７の上に遮光性をもつ画素電極６
で覆うように構成してもよい。
【００１３】これら画素電極６及びＴＦＴ７を含めた後
ガラス基板５の前面側には、表示領域全体を覆うように
後配向膜８が形成されている。そして、前ガラス基板２
側の前配向膜４と後ガラス基板５側の後配向膜８とが対
向するように配置されると共に、表示領域を周回するよ
うに形成されたシール材（図示省略する）で両ガラス基
板２，５は貼り合わされている。なお、前配向膜４と後
配向膜８の間には、所定のセルギャップを規定するため
のスペーサ（ギャップ材）が介在されている。そして、
前後配向膜４，８とシール材とで形成される間隙内に誘
電異方性が負のネマティック型の液晶９が封止されてい
る。本実施形態の液晶表示デバイス１は、反射型表示で
あるため、図１に示すように前ガラス基板２側から入射
した読みだし光Ｆ１は、液晶９の配向状態に応じて偏光
されつつ、前ガラス基板２、透明電極３、前配向膜４、
液晶９、後配向膜８を介して画素電極６で反射されて、
再度、液晶９、前配向膜４、透明電極３、前ガラス基板
２を通過して反射表示光Ｆ２として出射される。
ガラス基板５の前面側には、表示領域全体を覆うように
後配向膜８が形成されている。そして、前ガラス基板２
側の前配向膜４と後ガラス基板５側の後配向膜８とが対
向するように配置されると共に、表示領域を周回するよ
うに形成されたシール材（図示省略する）で両ガラス基
板２，５は貼り合わされている。なお、前配向膜４と後
配向膜８の間には、所定のセルギャップを規定するため
のスペーサ（ギャップ材）が介在されている。そして、
前後配向膜４，８とシール材とで形成される間隙内に誘
電異方性が負のネマティック型の液晶９が封止されてい
る。本実施形態の液晶表示デバイス１は、反射型表示で
あるため、図１に示すように前ガラス基板２側から入射
した読みだし光Ｆ１は、液晶９の配向状態に応じて偏光
されつつ、前ガラス基板２、透明電極３、前配向膜４、
液晶９、後配向膜８を介して画素電極６で反射されて、
再度、液晶９、前配向膜４、透明電極３、前ガラス基板
２を通過して反射表示光Ｆ２として出射される。
【００１４】このような液晶表示デバイス１において、
発明者らは液晶９と前配向膜４との界面反射率を０．５
％以下に抑えることにより、液晶９と前配向膜４との界
面反射に起因して干渉縞が生じるのを抑制できることを
見いだした。なお、同じ反射率でも表示画面の明るさや
色によって干渉縞の見え易さは変わるが、実用的には界
面反射は０．５％以下にする必要があることが確認され
た。特に、本実施形態では、配向膜の材料として、ＩＴ
Ｏでなる透明電極３の屈折率と液晶９の屈折率との間の
屈折率の値をもつＡｌ2Ｏ3を用いた。また、前ガラス基
板２と透明電極３との間にＡｌ2Ｏ3膜を介在させた。
発明者らは液晶９と前配向膜４との界面反射率を０．５
％以下に抑えることにより、液晶９と前配向膜４との界
面反射に起因して干渉縞が生じるのを抑制できることを
見いだした。なお、同じ反射率でも表示画面の明るさや
色によって干渉縞の見え易さは変わるが、実用的には界
面反射は０．５％以下にする必要があることが確認され
た。特に、本実施形態では、配向膜の材料として、ＩＴ
Ｏでなる透明電極３の屈折率と液晶９の屈折率との間の
屈折率の値をもつＡｌ2Ｏ3を用いた。また、前ガラス基
板２と透明電極３との間にＡｌ2Ｏ3膜を介在させた。
【００１５】次に、液晶表示デバイスとして、後述すよ
うな構成のＡｌ2Ｏ3を配向膜に用いた実施例１〜４と、
Ａｌ2Ｏ3を配向膜に用いない比較例１及び比較例２とを
用意して干渉縞の見え易さの評価を行った。なお、この
干渉縞の見え易さの評価の方法は、図２に示すように、
反射型の液晶表示デバイス１を、従来の投射型液晶プロ
ジェクタに組み込んで行った。この投射型液晶プロジェ
クタの構成を以下に簡単に説明する。図２に示すよう
に、メタルハライドランプ（本評価ではキセノンランプ
も用いている）でなる光源１０より出射された光は、偏
光子１１を通過し、一定方向の偏光光のみが取り出され
た後、ハーフミラー１２で光の進路を変更され、液晶表
示デバイス１に入射する。液晶表示デバイス１中の液晶
９には、駆動回路１３を介して所定駆動電圧が各画素に
印加され、この印加電圧に対応して液晶分子が駆動され
て所定の配向状態となる。液晶９を通過する光は、この
液晶分子の配向状態によりその偏光方向が規制される。
液晶表示デバイス１の画素電極６で反射された光は、再
度ハーフミラー１２を通過してもう一方の偏光子１４に
到達し、ここで所定方向の偏光光のみが選択され、さら
に光学レンズ１５を通して拡大され、スクリーン１６に
液晶表示デバイス１で表示された画像が投影される。
うな構成のＡｌ2Ｏ3を配向膜に用いた実施例１〜４と、
Ａｌ2Ｏ3を配向膜に用いない比較例１及び比較例２とを
用意して干渉縞の見え易さの評価を行った。なお、この
干渉縞の見え易さの評価の方法は、図２に示すように、
反射型の液晶表示デバイス１を、従来の投射型液晶プロ
ジェクタに組み込んで行った。この投射型液晶プロジェ
クタの構成を以下に簡単に説明する。図２に示すよう
に、メタルハライドランプ（本評価ではキセノンランプ
も用いている）でなる光源１０より出射された光は、偏
光子１１を通過し、一定方向の偏光光のみが取り出され
た後、ハーフミラー１２で光の進路を変更され、液晶表
示デバイス１に入射する。液晶表示デバイス１中の液晶
９には、駆動回路１３を介して所定駆動電圧が各画素に
印加され、この印加電圧に対応して液晶分子が駆動され
て所定の配向状態となる。液晶９を通過する光は、この
液晶分子の配向状態によりその偏光方向が規制される。
液晶表示デバイス１の画素電極６で反射された光は、再
度ハーフミラー１２を通過してもう一方の偏光子１４に
到達し、ここで所定方向の偏光光のみが選択され、さら
に光学レンズ１５を通して拡大され、スクリーン１６に
液晶表示デバイス１で表示された画像が投影される。
【００１６】（実施例１）前ガラス基板２の背面（後ガ
ラス基板５と対向する側の面）に、光学膜厚でλ／４の
Ａｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴＯでなる透明電極
３を、蒸着法で形成する。さらに、前配向膜４として光
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成し配向処理を施す。
ここで、λは干渉縞の原因となる輝線の波長で、複数あ
る場合は中間の値とする。前配向膜４を形成するには、
前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、蒸着法に
より成膜する。また、後ガラス基板５側に形成される後
配向膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。そ
して、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶９を封入
して液晶表示デバイスを作製した。
ラス基板５と対向する側の面）に、光学膜厚でλ／４の
Ａｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴＯでなる透明電極
３を、蒸着法で形成する。さらに、前配向膜４として光
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成し配向処理を施す。
ここで、λは干渉縞の原因となる輝線の波長で、複数あ
る場合は中間の値とする。前配向膜４を形成するには、
前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、蒸着法に
より成膜する。また、後ガラス基板５側に形成される後
配向膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。そ
して、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶９を封入
して液晶表示デバイスを作製した。
【００１７】（実施例２）前ガラス基板２の背面に、順
次、光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２
のＩＴＯでなる透明電極３を蒸着法で形成する。そし
て、透明電極３の上に、光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3で
なる前配向膜４を積層し、配向処理を施す。この実施例
２では、上記した実施例１の前配向膜４の斜め蒸着の際
に、酸素のイオンビームを照射を行った。また、後ガラ
ス基板５の後配向膜８も、前配向膜４と同様の条件で形
成した。そして、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液
晶９を封入して液晶表示デバイスを作製した。
次、光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２
のＩＴＯでなる透明電極３を蒸着法で形成する。そし
て、透明電極３の上に、光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3で
なる前配向膜４を積層し、配向処理を施す。この実施例
２では、上記した実施例１の前配向膜４の斜め蒸着の際
に、酸素のイオンビームを照射を行った。また、後ガラ
ス基板５の後配向膜８も、前配向膜４と同様の条件で形
成した。そして、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液
晶９を封入して液晶表示デバイスを作製した。
【００１８】（実施例３）前ガラス基板２の背面に、光
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成
し、配向処理を施す。前配向膜４を形成するには、前ガ
ラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、蒸着法により
成膜する。また、後ガラス基板５側に形成される後配向
膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。さら
に、前ガラス基板２側と後ガラス基板５側とを貼り合わ
せる前に、両ガラス基板２，５を１３０℃に加熱しなが
ら、高級アルコールであるオクタデカノールの蒸気に晒
した後、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶９を封
入して液晶表示デバイスを作製した。
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成
し、配向処理を施す。前配向膜４を形成するには、前ガ
ラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、蒸着法により
成膜する。また、後ガラス基板５側に形成される後配向
膜８も前配向膜４と同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。さら
に、前ガラス基板２側と後ガラス基板５側とを貼り合わ
せる前に、両ガラス基板２，５を１３０℃に加熱しなが
ら、高級アルコールであるオクタデカノールの蒸気に晒
した後、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶９を封
入して液晶表示デバイスを作製した。
【００１９】（実施例４）前ガラス基板２の背面に、光
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成
し、配向処理を施す。前配向膜４を形成するには、前ガ
ラス基板２を蒸着源に対して６５度傾けて酸素のイオン
ビームを照射しながら蒸着法により成膜する。また、後
ガラス基板５側に形成される後配向膜８も前配向膜４と
同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。さらに、前ガラス基板２側
と後ガラス基板５側とを貼り合わせる前に、両ガラス基
板２，５を１３０℃に加熱しながら、高級アルコールで
あるオクタデカノールの蒸気に晒した後、両ガラス基板
２，５を貼り合わせて液晶９を封入して液晶表示デバイ
スを作製した。
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜を形成
し、配向処理を施す。前配向膜４を形成するには、前ガ
ラス基板２を蒸着源に対して６５度傾けて酸素のイオン
ビームを照射しながら蒸着法により成膜する。また、後
ガラス基板５側に形成される後配向膜８も前配向膜４と
同様にＡｌ2Ｏ3で形成した。さらに、前ガラス基板２側
と後ガラス基板５側とを貼り合わせる前に、両ガラス基
板２，５を１３０℃に加熱しながら、高級アルコールで
あるオクタデカノールの蒸気に晒した後、両ガラス基板
２，５を貼り合わせて液晶９を封入して液晶表示デバイ
スを作製した。
【００２０】（比較例１）ガラス基板２の背面上に蒸着
法により、ＩＴＯでなる透明電極３を４００Åの膜厚に
成膜する。この透明電極３の上に、ＳｉＯでなる膜厚が
２５Åの前配向膜４を積層し、配向処理を施す。前配向
膜４の蒸着に際しては、前ガラス基板２を７０度傾けて
成膜する。また、後配向膜８も前配向膜４と同様に形成
する。その後、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶
９を封入して液晶表示デバイスを作製した。
法により、ＩＴＯでなる透明電極３を４００Åの膜厚に
成膜する。この透明電極３の上に、ＳｉＯでなる膜厚が
２５Åの前配向膜４を積層し、配向処理を施す。前配向
膜４の蒸着に際しては、前ガラス基板２を７０度傾けて
成膜する。また、後配向膜８も前配向膜４と同様に形成
する。その後、両ガラス基板２，５を貼り合わせて液晶
９を封入して液晶表示デバイスを作製した。
【００２１】（比較例２）前ガラス基板２の背面に、光
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／２のＳｉＯ2膜を酸素の
イオンビームを照射しながら形成し、配向処理を施す。
ここで、λは干渉縞の原因となる輝線の波長で、複数あ
る場合は中間の値とする。前配向膜４を形成するには、
前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、酸素のイ
オンビームを照射しながら蒸着法により成膜する。ま
た、後ガラス基板５側に形成される後配向膜８も前配向
膜４と同様にＳｉＯ2で形成した。そして、両ガラス基
板２，５を貼り合わせて液晶９を封入して液晶表示デバ
イスを作製した。
学膜厚でλ／４のＡｌ2Ｏ3膜、光学膜厚でλ／２のＩＴ
Ｏでなる透明電極３を、蒸着法で形成する。さらに、前
配向膜４として光学膜厚でλ／２のＳｉＯ2膜を酸素の
イオンビームを照射しながら形成し、配向処理を施す。
ここで、λは干渉縞の原因となる輝線の波長で、複数あ
る場合は中間の値とする。前配向膜４を形成するには、
前ガラス基板２を蒸着源に対して６５度傾け、酸素のイ
オンビームを照射しながら蒸着法により成膜する。ま
た、後ガラス基板５側に形成される後配向膜８も前配向
膜４と同様にＳｉＯ2で形成した。そして、両ガラス基
板２，５を貼り合わせて液晶９を封入して液晶表示デバ
イスを作製した。
【００２２】これら実施例１〜４、比較例１及び比較例
２を上記した液晶プロジェクタシステムに組み込んで、
干渉縞の見え易さの評価を行った結果を下の表１に示
す。なお、液晶表示デバイス１としては、各例において
配向性は良好であり、それぞれの例でセル厚分布が２０
％程度のものを選んで評価を行った。なお、表１中〇は
干渉縞がみえにくいことを、△は干渉縞がやや見えるこ
とを、×は干渉縞がはっきり見えることを表している。
２を上記した液晶プロジェクタシステムに組み込んで、
干渉縞の見え易さの評価を行った結果を下の表１に示
す。なお、液晶表示デバイス１としては、各例において
配向性は良好であり、それぞれの例でセル厚分布が２０
％程度のものを選んで評価を行った。なお、表１中〇は
干渉縞がみえにくいことを、△は干渉縞がやや見えるこ
とを、×は干渉縞がはっきり見えることを表している。
【００２３】
【表１】 光源 評価 実施例１ キセノンランプ 〇 実施例２ キセノンランプ 〇 実施例３ キセノンランプ 〇 実施例４ キセノンランプ 〇 比較例１ キセノンランプ △ 比較例２ キセノンランプ 〇 実施例１ メタルハライドランプ 〇 実施例２ メタルハライドランプ 〇 実施例３ メタルハライドランプ 〇 実施例４ メタルハライドランプ 〇 比較例１ メタルハライドランプ × 比較例２ メタルハライドランプ ×
【００２４】上記表１から判るように、キセノンランプ
を用いた液晶プロジェクタシステムでは、実施例１〜実
施例４及び比較例２では干渉縞は見えず、比較例１でわ
ずかに観察されるだけであった。しかし、メタルハライ
ドランプを用いた液晶プロジェクタシステムでは、実施
例１〜実施例４で干渉縞が見えず、比較例１，２で干渉
縞が観察され、実施例と比較例との間に明確な違いが得
られた。
を用いた液晶プロジェクタシステムでは、実施例１〜実
施例４及び比較例２では干渉縞は見えず、比較例１でわ
ずかに観察されるだけであった。しかし、メタルハライ
ドランプを用いた液晶プロジェクタシステムでは、実施
例１〜実施例４で干渉縞が見えず、比較例１，２で干渉
縞が観察され、実施例と比較例との間に明確な違いが得
られた。
【００２５】また、実施例１〜４、比較例１，２のそれ
ぞれにおける前配向膜４と液晶９との界面での分光反射
率を測定して図３のグラフに示すような結果が得られ
た。すなわち、実施例１〜実施例４では、メタルハライ
ドランプの輝線のある波長（４４０ｎｍ、５４０ｎｍ、
５８０ｎｍ）における反射率は、０．５％以下となり干
渉縞がほどんと観察されなかった。一方、比較例１で
は、はっきりした干渉縞が生じており全く実用に供せな
いレベルであった。また、比較例２では、輝線波長に対
する反射率は０．７％〜２％であるが、わずかながら干
渉縞が観察された。
ぞれにおける前配向膜４と液晶９との界面での分光反射
率を測定して図３のグラフに示すような結果が得られ
た。すなわち、実施例１〜実施例４では、メタルハライ
ドランプの輝線のある波長（４４０ｎｍ、５４０ｎｍ、
５８０ｎｍ）における反射率は、０．５％以下となり干
渉縞がほどんと観察されなかった。一方、比較例１で
は、はっきりした干渉縞が生じており全く実用に供せな
いレベルであった。また、比較例２では、輝線波長に対
する反射率は０．７％〜２％であるが、わずかながら干
渉縞が観察された。
【００２６】さらに、液晶配向の安定性を調べた結果、
周辺からの配向乱れの発生のし易さは、実施例１≧実施
例２≧実施例３＞実施例４であり、実施例４では配向乱
れは全く発生せず、歩留まりが大変よいことが判った。
周辺からの配向乱れの発生のし易さは、実施例１≧実施
例２≧実施例３＞実施例４であり、実施例４では配向乱
れは全く発生せず、歩留まりが大変よいことが判った。
【００２７】以上、実施形態について説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の変更が可能である。例えば、上記した実施形
態では、光源としてメタルハライドランプを用いる場合
について説明したが、可視光域に輝線を有する他の光源
にも本発明を適用することが可能である。また、上記し
た実施形態では、第１透明材料膜として前配向膜を適用
したが、液晶自体に初期配向を持たせる必要がない液晶
表示モードのとき、例えば高分子分散型液晶や強誘電性
液晶などを用いた液晶表示デバイスの場合は、第１透明
材料膜としてガラス基板側に形成された保護膜などを適
用することができる。
明はこれに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の変更が可能である。例えば、上記した実施形
態では、光源としてメタルハライドランプを用いる場合
について説明したが、可視光域に輝線を有する他の光源
にも本発明を適用することが可能である。また、上記し
た実施形態では、第１透明材料膜として前配向膜を適用
したが、液晶自体に初期配向を持たせる必要がない液晶
表示モードのとき、例えば高分子分散型液晶や強誘電性
液晶などを用いた液晶表示デバイスの場合は、第１透明
材料膜としてガラス基板側に形成された保護膜などを適
用することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１記載の発明によれば、光源からの光が入射する一方の
前記基板側に形成された前記液晶と接触する第１透明材
料膜の屈折率を、当該第１透明材料膜が接合する第２透
明材料膜の屈折率と、前記液晶の屈折率との中間の値に
なるように設定することにより、液晶と第１透明材料膜
との界面反射率を抑制する効果があり、干渉縞が見える
のを抑える効果がある。
１記載の発明によれば、光源からの光が入射する一方の
前記基板側に形成された前記液晶と接触する第１透明材
料膜の屈折率を、当該第１透明材料膜が接合する第２透
明材料膜の屈折率と、前記液晶の屈折率との中間の値に
なるように設定することにより、液晶と第１透明材料膜
との界面反射率を抑制する効果があり、干渉縞が見える
のを抑える効果がある。
【００２９】請求項２記載の発明によれば、第１透明材
料膜と液晶との界面の反射率は０．５％以下に設定する
ことで、液晶セルのギャップに多少のむらがあっても干
渉縞の発生を防止できるため表示品質の低下を回避でき
るという効果がある。また、干渉縞の発生を抑制できる
ため、液晶プロジェクタに液晶表示デバイスを適用した
場合に、例えばメタルハライドランプなどの光効率の高
い光源を使用できるという効果があり、液晶プロジェク
タの高輝度化を達成するという効果を奏する。
料膜と液晶との界面の反射率は０．５％以下に設定する
ことで、液晶セルのギャップに多少のむらがあっても干
渉縞の発生を防止できるため表示品質の低下を回避でき
るという効果がある。また、干渉縞の発生を抑制できる
ため、液晶プロジェクタに液晶表示デバイスを適用した
場合に、例えばメタルハライドランプなどの光効率の高
い光源を使用できるという効果があり、液晶プロジェク
タの高輝度化を達成するという効果を奏する。
【００３０】請求項３記載の発明によれば、第１透明材
料膜の厚さと第２透明材料膜の厚さを設定することによ
り、干渉縞の発生を抑えることができる。第１透明材料
膜をＡｌ2Ｏ3を蒸着して形成する場合には、ポリイミド
などの従来の樹脂膜に比較して膜厚の制御性を高めるこ
とができ、製造が容易に行えるという利点がある。
料膜の厚さと第２透明材料膜の厚さを設定することによ
り、干渉縞の発生を抑えることができる。第１透明材料
膜をＡｌ2Ｏ3を蒸着して形成する場合には、ポリイミド
などの従来の樹脂膜に比較して膜厚の制御性を高めるこ
とができ、製造が容易に行えるという利点がある。
【図１】本発明に係る実施形態の液晶表示デバイスを示
す断面説明図である。
す断面説明図である。
【図２】上記実施形態及び比較例の液晶表示デバイスを
適用する液晶プロジェクタシステムの説明図である。
適用する液晶プロジェクタシステムの説明図である。
【図３】上記実施形態と比較例とを液晶プロジェクタシ
ステムに適用した場合における波長と、配向膜と液晶と
の界面の反射率と、の関係を示すグラフである。
ステムに適用した場合における波長と、配向膜と液晶と
の界面の反射率と、の関係を示すグラフである。
【図４】メタルハライドランプの輝線の発生波長分布を
示すグラフである。
示すグラフである。
１ 液晶表示デバイス ２ 前ガラス基板 ３ 透明電極（第２透明材料膜） ４ 前配向膜（第１透明材料膜） ５ 後ガラス基板 ６ 画素電極 ７ ＴＦＴ ８ 後配向膜 ９ 液晶 １０ 光源 Ｆ１ 読み出し光 Ｆ２ 反射表示光
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 HB13Y HD04 KA05 KA11 KA14 LA04 LA20 2H091 FA37Y FB06 FC02 GA06 HA07 HA12 JA02 KA10 LA16 5C094 AA02 AA43 AA46 BA03 BA43 DA13 EA05 ED14 FB20 HA06 JA12 JA13 JA20
Claims (3)
- 【請求項１】 相対向する一対の基板間に液晶が封止さ
れてなり、可視光域に輝線を有する光源を用いる液晶表
示デバイスであって、 少なくとも、前記光源からの光が入射する一方の前記基
板側に形成された前記液晶と接触する第１透明材料膜の
屈折率を、当該第１透明材料膜が接合する第２透明材料
膜の屈折率と、前記液晶の屈折率との中間の値になるよ
うに設定したことをを特徴とする液晶表示デバイス。 - 【請求項２】 前記第１透明材料膜と前記液晶との界面
の反射率は０．５％以下であることを特徴とする請求項
１記載の液晶表示デバイス。 - 【請求項３】 前記第１透明材料膜の厚さは、前記光源
で発生する輝線の波長又は複数の輝線の波長の中間値を
λとした場合に光学膜厚でλ／４に設定され、前記第２
透明材料膜の厚さは、光学膜厚でλ／２に設定されてい
ることを特徴とする請求項１，請求項２のいずれかに記
載の液晶表示デバイス。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224813A JP2000056297A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 液晶表示デバイス |
| US09/315,407 US6414734B1 (en) | 1998-08-07 | 1999-05-20 | Liquid crystal display device and liquid crystal projector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224813A JP2000056297A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 液晶表示デバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000056297A true JP2000056297A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16819614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10224813A Pending JP2000056297A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 液晶表示デバイス |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6414734B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000056297A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100448042B1 (ko) * | 2000-12-01 | 2004-09-10 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사형 액정 표시 소자 |
| US9383602B2 (en) | 2011-11-02 | 2016-07-05 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device with antireflective structure and electronic apparatus |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW442688B (en) * | 1998-07-15 | 2001-06-23 | Hitachi Ltd | Reflective liquid crystal display device and its manufacture |
| US6902277B1 (en) | 2004-01-06 | 2005-06-07 | Eastman Kodak Company | Housing for a spatial light modulator |
| CN101512388B (zh) * | 2006-08-30 | 2012-09-05 | 日本电气硝子株式会社 | 多层膜 |
| WO2014021644A1 (ko) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 주식회사 엘지화학 | 유기전자소자용 기판 |
| JP2022062752A (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-21 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、液晶装置の製造方法、および電子機器 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4556288A (en) * | 1981-10-27 | 1985-12-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device with anti-reflection function in dielectric layer |
| JPS5876813A (ja) | 1981-10-30 | 1983-05-10 | Canon Inc | 液晶表示素子 |
| JPS63175827A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-20 | Nec Corp | 熱書込み液晶ライトバルブ |
| JPH07104524B2 (ja) | 1990-03-27 | 1995-11-13 | 日本ビクター株式会社 | 空間光変調素子 |
| JP3132193B2 (ja) | 1991-11-08 | 2001-02-05 | 日本ビクター株式会社 | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 |
| JP3144607B2 (ja) * | 1993-04-09 | 2001-03-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光スイッチング素子 |
| JP3881092B2 (ja) * | 1997-07-10 | 2007-02-14 | シチズン時計株式会社 | 液晶表示パネル |
| JPH1031425A (ja) * | 1996-07-17 | 1998-02-03 | Canon Inc | 投射型表示装置 |
| JP3289625B2 (ja) | 1996-11-29 | 2002-06-10 | 王子製紙株式会社 | 小判断裁紙堆積体用の易離解性防湿包装紙 |
-
1998
- 1998-08-07 JP JP10224813A patent/JP2000056297A/ja active Pending
-
1999
- 1999-05-20 US US09/315,407 patent/US6414734B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100448042B1 (ko) * | 2000-12-01 | 2004-09-10 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사형 액정 표시 소자 |
| US9383602B2 (en) | 2011-11-02 | 2016-07-05 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device with antireflective structure and electronic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6414734B1 (en) | 2002-07-02 |
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